JP2806748B2 - Wafer inspection method - Google Patents

Wafer inspection method

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JP2806748B2 JP5181335A JP18133593A JP2806748B2 JP 2806748 B2 JP2806748 B2 JP 2806748B2 JP 5181335 A JP5181335 A JP 5181335A JP 18133593 A JP18133593 A JP 18133593A JP 2806748 B2 JP2806748 B2 JP 2806748B2
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    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路素子の検
査方法に関し、特にウエハの検査方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for inspecting a semiconductor integrated circuit device, and more particularly, to a method for inspecting a wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来ウエハの検査においては、複数枚の
ウエハで構成されるテストロットのなかの所定枚数のウ
エハについて全てのチップの検査を行い、残り大部分の
枚数のウエハについては上の検査結果から検査対称とす
るチップをチップの配置された位置によって選択して行
われていた。例えば図4に示すようにX枚のウエハから
なるテストロットのうち1枚目からM枚目迄のウエハに
ついては全チップについて検査を行ない、その後M+1
枚目からX枚目までのウエハについては、先のM枚のウ
エハの検査で不良の結果が出たチップと同じ位置にある
チップについてのみ検査を行ない、全く不良とならなか
ったチップの位置にあるチップについては検査を省略し
ウエハロットの検査能率の向上をはかっていた。
2. Description of the Related Art In conventional wafer inspection, all chips are inspected for a predetermined number of wafers in a test lot composed of a plurality of wafers, and the above inspection is performed for most of the remaining wafers. From the results, a chip to be inspected was selected according to the position where the chip was arranged. For example, as shown in FIG. 4, inspection is performed on all chips for the first to Mth wafers in a test lot including X wafers, and thereafter, M + 1
For the wafers from the first wafer to the X-th wafer, the inspection is performed only for the chip located at the same position as the chip having a defective result in the inspection of the preceding M wafers. For some chips, inspection was omitted to improve the inspection efficiency of wafer lots.

【0003】また所定枚数のウエハの全てのチップにつ
いて検査を行う検査項目が複数の場合に、残り大部分の
枚数のウエハの全てのチップについては上の検査結果に
おいて全く不良とならなかった検査項目を省略し、残り
の検査項目についてのみ検査を行うこともあった。例え
ば図5に示すように、X枚のウエハからなるテストロッ
トのうち1枚目からM枚目までのウエハについては全チ
ップについて全検査項目の検査を行ない、その後M+1
枚目からX枚目までのウエハの全チップについては、先
のM枚のウエハの検査で全てのチップにおいて良となっ
た検査項目を省略し、少くともいくつかのチップにおい
て不良の結果が出た残りの検査項目のみの検査を行っ
た。
Further, when there are a plurality of inspection items for inspecting all the chips of a predetermined number of wafers, inspection items for which all the chips of the remaining most number of wafers have no defect in the above inspection result. Was omitted, and only the remaining inspection items were inspected. For example, as shown in FIG. 5, for the first to Mth wafers in a test lot including X wafers, all chips are inspected for all inspection items, and then M + 1
For all the chips of the wafers from the first wafer to the Xth wafer, the inspection items which were good in all the chips in the previous inspection of the M wafers were omitted, and a result of failure was obtained in at least some of the chips. Only the remaining inspection items were inspected.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のウエハ
検査方法は、ウエハロット中の数枚のウエハに対しその
全チップについて検査を行い、その結果から残り大部分
のウエハについて検査を行うべきチップもしくはテスト
項目を選択して検査を行うことにより、ウエハロット全
体としてのテスト効率の向上を目指していた。従ってウ
エハロット当りのウエハ枚数が十分に多くない場合に
は、最初の数枚のウエハについて全数検査をすることに
より検査能率が低下するなど、所期の効果が得られなく
なる。とりわけ、ウエハサイズの大型化による1ウエハ
内のチップ数の増加により、あるいはまたASIC等カ
スタムデバイスなどで要求されるウエハ枚数が少なく、
テスト対象のウエハ枚数が多くない場合に問題が生じる
ようになった。
In the above-described conventional wafer inspection method, several wafers in a wafer lot are inspected for all the chips, and from the result, the chips or the wafers to be inspected for most of the remaining wafers are inspected. By selecting test items and performing inspections, the aim was to improve the test efficiency of the entire wafer lot. Therefore, if the number of wafers per wafer lot is not sufficiently large, the expected effect cannot be obtained, such as lowering the inspection efficiency by performing the entire inspection on the first few wafers. In particular, the number of wafers required for a custom device such as an ASIC is small due to an increase in the number of chips in one wafer due to an increase in the wafer size.
A problem arises when the number of wafers to be tested is not large.

【0005】本発明の目的は、検査対象をウエハロット
よりウエハ個体に移し、ウエハロット全体としてのテス
ト効率の向上よりも個々のウエハ毎の検査効率を向上さ
せることを目指し、その結果ウエハロットとしても検査
効率が向上するようなウエハの検査方法を提供すること
である。
An object of the present invention is to shift the inspection target from a wafer lot to individual wafers, and to improve the inspection efficiency of each individual wafer rather than the test efficiency of the entire wafer lot. It is an object of the present invention to provide a method of inspecting a wafer that improves the wafer quality.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のウェハの検査方
法は、複数のチップを有するウェハの検査方法におい
て、1枚のウェハ上の一部分のチップについて所定の検
査項目の検査をする第1の検査工程と、前記ウェハ上の
残りのチップについては前記検査工程の検査結果により
選択した検査項目のみの検査をする第2の検査工程を
る。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of inspecting a wafer having a plurality of chips, wherein a predetermined inspection item is inspected for a part of chips on one wafer . Yes and inspection process, the remaining chips on the wafer a second inspection step to inspect only test item selected by the examination results of the inspection process
You.

【0007】[0007]

【作用】一枚のウエハ上のチップのうち、所定数のチッ
プについて全検査項目の検査を行い、その結果によって
残り大部分のチップについて行うべき検査項目を選択す
る。
The inspection of all the inspection items is performed for a predetermined number of the chips on one wafer, and the inspection items to be performed for most of the remaining chips are selected based on the inspection result.

【0008】[0008]

【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0009】図1(a)は本発明のウエハの検査方法
(テスト方法)の一実施例の処理手順を示すフローチャ
ートである。また図1(b)はウエハ上のチップのテス
ト状態を示す模式図である。ここで図1(b)に示すよ
うにウエハ内のチップの数Lを20、全テスト項目のテ
ストを行う所定のチップ数Pを8とする。なお、全テス
ト項目のテストを行うチップの数および配置位置は任意
に選択することができる。また、(1)、(2)、
(3)、(4)は4項目のテストの結果を蓄えるレジス
タを示しテスト結果が不良の場合に1がセットされる。
TTはテストチップ番号である。SQはフローのステッ
プを示すシーケンス番号である。
FIG. 1A is a flowchart showing a processing procedure of an embodiment of a wafer inspection method (test method) according to the present invention. FIG. 1B is a schematic diagram showing a test state of a chip on a wafer. Here, as shown in FIG. 1B, the number L of chips in the wafer is 20, and the predetermined number P of chips to be tested for all test items is 8. Note that the number of chips to be tested for all test items and the arrangement position can be arbitrarily selected. Also, (1), (2),
(3) and (4) indicate registers for storing the results of the four items of tests, and 1 is set when the test results are defective.
TT is a test chip number. SQ is a sequence number indicating a step in the flow.

【0010】図1において、最初にSQ1でTT=1と
セットされ、レジスタ(1)〜(4)がクリアされる。
次にSQ2でチップ番号TTが所定のチップ数Pと比較
される。この時、TT(=1)<P(=8)なので、S
Q3へ進み、第1のチップのテストを開始し、テスト1
を実行する。ここでテスト項目および所定数のチップに
おけるテスト結果を示す表1に示すように、チップ番号
1のチップについてテスト1がパス、テスト2がフェイ
ル、テスト3がパス、テスト4がパスという結果の場
合、テスト1ではパス(良)が確認され(SQ4)、レ
ジスタ(1)に1がセットされず(SQ5)、そのまま
SQ6へ進みテスト2を実行し、テスト結果がフェイル
のためレジスタ(2)に1がセットされる(SQ7、S
Q8)。次に、SQ9、SQ10に進みテスト3を実行
し、パスが確認され、SQ11ではレジスタ(3)に1
がセットされない。次に同様にテスト4を実行し(SQ
12、SQ13、SQ14)、第1のチップについて全
てのテストが実行され、チップ番号がインクリメントさ
れ(SQ15)、第2のチップのテストに進む。同様に
して8番目のチップまではSQ2〜SQ15を実行す
る。
In FIG. 1, TT = 1 is first set at SQ1, and the registers (1) to (4) are cleared.
Next, in SQ2, the chip number TT is compared with a predetermined chip number P. At this time, since TT (= 1) <P (= 8), S
Proceed to Q3, start testing the first chip, test 1
Execute Here, as shown in Table 1 showing the test items and the test results for a predetermined number of chips, for the chip of chip number 1, the test 1 passed, the test 2 failed, the test 3 passed, and the test 4 passed. In the test 1, a pass (good) is confirmed (SQ4), 1 is not set in the register (1) (SQ5), the process directly proceeds to SQ6, and the test 2 is executed. 1 is set (SQ7, S
Q8). Next, the process proceeds to SQ9 and SQ10 to execute test 3, the path is confirmed, and SQ11 stores 1 in the register (3).
Is not set. Next, test 4 is executed in the same manner (SQ
12, SQ13, SQ14), all tests are executed for the first chip, the chip number is incremented (SQ15), and the process proceeds to the test for the second chip. Similarly, SQ2 to SQ15 are executed up to the eighth chip.

【0011】以上で所定数Pまでのチップについて行う
全検査項目の検査工程が終了する。表1に示されたこれ
迄の検査結果によればテスト1の機能試験において3つ
のチップがフェイルとなりテスト2の入出力リークのテ
ストにおいて4つのチップがフェイルとなっているが、
テスト3の入出力レベルのテストおよびテスト4の遅延
時間のテストの結果は全てのチップについてパスとなっ
ている。従って次に開始するチップ番号9〜20のチッ
プについて行う第2の検査工程においてはテスト3およ
びテスト4の検査項目を省略し、テスト1およびテスト
2の検査項目のみのテストを行うことになる。
Thus, the inspection process for all the inspection items up to the predetermined number P of chips is completed. According to the test results so far shown in Table 1, three chips failed in the functional test of test 1 and four chips failed in the input / output leak test of test 2.
The results of the test of the input / output level of the test 3 and the test of the delay time of the test 4 are passed for all the chips. Therefore, in the second inspection process to be performed next on the chips of chip numbers 9 to 20, the inspection items of the test 3 and the test 4 are omitted, and the test of only the inspection items of the test 1 and the test 2 is performed.

【0012】[0012]

【表1】 すなわち、9番目のチップに進むとまずレジスタ(1)
に1がセットされているか否かを調らべ、1がセットさ
れているのでテスト1を実行し(SQ17、SQ1
8)、次にレジスタ(2)を調らべ同様にしてテスト2
を実行する(SQ19、SQ20)。次にレジスタ
(3)を調らべると0のままになっているのでテスト3
の実行を省略し(SQ21)、レジスタ(4)に進み、
レジスタ(4)も0のままであるのでテスト4を省略し
(SQ23)、9番目のチップのテストを完了して10
番目のチップのテストへ進む。以下同様にして20番目
のチップ迄のテストをテスト1およびテスト2について
のみ実行する。
[Table 1] That is, when proceeding to the ninth chip, first register (1)
It is checked whether or not 1 is set in Test No. 1. Since 1 is set, Test 1 is executed (SQ17, SQ1).
8) Then, check the register (2) and perform test 2 in the same manner.
(SQ19, SQ20). Next, when checking the register (3), it is 0, so test 3
Is omitted (SQ21), and the process proceeds to the register (4).
Since the register (4) is also kept at 0, the test 4 is omitted (SQ23), the test of the ninth chip is completed, and
Proceed to the test of the th chip. In the same manner, the test up to the twentieth chip is executed only for test 1 and test 2.

【0013】以上のようにして、所定のチップ数8まで
は4項目全てのテストを実施し、9番目から最後の20
番目のチップまでは、2項目のテストのみ実施するの
で、従来のテスト方法の場合のテスト数:20×4=8
0に比べ、実施例の方法の場合のテスト数:8×4+1
2×2=66となり約18%と大幅な時間短縮が計られ
ることになる。
As described above, up to the predetermined number of chips 8, all four items are tested, and the ninth to the last 20 are tested.
Until the second chip, only two tests are performed. Therefore, the number of tests in the case of the conventional test method: 20 × 4 = 8
Compared to 0, the number of tests in the case of the method of the embodiment: 8 × 4 + 1
2 × 2 = 66, which is a substantial time reduction of about 18%.

【0014】次に、複数のウエハを対象とする検査方法
の実施例について述べる。
Next, an embodiment of an inspection method for a plurality of wafers will be described.

【0015】図2(a)は上の実施例に於ける処理手順
を示すフローチャートである。また図2(b)は図2
(a)におけるウエハ1枚毎のテストのフローチャート
であり、内容的には図1(a)のフローチャートと全く
同様である。図3は各ウエハ上のチップのテスト状態を
示す模式図である。ここでウエハの枚数をX、ウエハ内
のチップの数をL、全検査項目のテストを行うべき所定
のチップ数をPとする。またテスト項目数をN、テスト
チップ番号をTTとし、さらに、(1)、(2)…
(N)はテスト項目毎のテスト結果を蓄えるレジスタを
示すものとする。
FIG. 2A is a flowchart showing a processing procedure in the above embodiment. FIG. 2B shows FIG.
FIG. 4A is a flowchart of a test for each wafer in FIG. 4A, and is exactly the same as the flowchart of FIG. FIG. 3 is a schematic diagram showing a test state of a chip on each wafer. Here, the number of wafers is X, the number of chips in the wafer is L, and the predetermined number of chips to be tested for all inspection items is P. Further, the number of test items is N, the test chip number is TT, and (1), (2).
(N) indicates a register for storing test results for each test item.

【0016】最初に1枚目のウエハのテストの前に各レ
ジスタを初期化しチップ番号を1にセットする。すなわ
ち(1)=0、(2)=0、…(N)=0、TT=1と
する(ステップ101)。そして、1枚目のウエハのテ
ストを開始し(ステップ102)、図2(b)に示すよ
うに(図1(a)と同様に)所定のチップ数PまではN
箇の全テスト項目をテストし、それ以降P+1番目から
L番目のチップについては、所定のP番目のチップまで
の全テスト項目についてのテストで不良発生のなかった
テスト項目を省略してテストを行う。そして、1枚目の
ウエハのテストが終了すると、再度、各レジスタを初期
化し、チップ番号を2にセットし(ステップ103)、
2枚目のウエハのテストに進み(ステップ104)、同
様にテストを繰り返す。そして、X枚のウエハのテスト
が完了するステップ202までテストを繰り返す。
First, before testing the first wafer, each register is initialized and the chip number is set to 1. That is, (1) = 0, (2) = 0,... (N) = 0, and TT = 1 (step 101). Then, the test of the first wafer is started (Step 102), and as shown in FIG. 2B (similar to FIG.
All the test items are tested, and thereafter, from the (P + 1) th chip to the Lth chip, the test is performed by omitting the test items in which no failure has occurred in the test for all the test items from the predetermined Pth chip. . When the test of the first wafer is completed, each register is initialized again, and the chip number is set to 2 (step 103).
Proceeding to the test of the second wafer (step 104), the test is repeated in the same manner. Then, the test is repeated until step 202 in which the test of the X wafers is completed.

【0017】以上のように個々のウエハ内の特性ばらつ
きに応じたテスト項目の選択をウエハ毎に繰り返し、テ
スト品質を損なうことなくテスト時間の短縮が計られ
る。
As described above, the selection of the test item according to the characteristic variation in each wafer is repeated for each wafer, and the test time can be reduced without deteriorating the test quality.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上詳述したように本発明は、ウエハ毎
に所定数のチップについて全項目の検査を行って得られ
る検査結果に基づいて、テストを行っていない残りのチ
ップの検査項目を選択することにより、ウエハ毎にテス
ト時間を短縮し、ウエハの検査を効率的に行うことがで
きる効果がある。
As described above, according to the present invention, the inspection items of the remaining chips that have not been tested are determined based on the inspection results obtained by performing the inspection of all the items for a predetermined number of chips for each wafer. The selection has an effect that the test time can be reduced for each wafer and the inspection of the wafer can be performed efficiently.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(a)は本発明のウエハの検査方法のー実施例
の処理手順を示すフローチャートである。(b)は図1
に示す実施例におけるウエハ上のチップのテスト状態を
示す模式図である。
FIG. 1A is a flowchart showing a processing procedure of an embodiment of a wafer inspection method according to the present invention. (B) is FIG.
FIG. 7 is a schematic diagram showing a test state of a chip on a wafer in the embodiment shown in FIG.

【図2】(a)は複数のウエハを対象とする本検査方法
のー実施例における処理手順を示すフローチャートであ
る。(b)は図2(a)におけるウエハ1枚毎のテスト
の処理手順を示すフローチャートである。
FIG. 2A is a flowchart showing a processing procedure in one embodiment of the present inspection method for a plurality of wafers. FIG. 2B is a flowchart illustrating a test processing procedure for each wafer in FIG.

【図3】図2に示す実施例におけるウエハ上のチップの
テスト状態を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing a test state of a chip on a wafer in the embodiment shown in FIG. 2;

【図4】従来のウエハの検査方法における各ウエハ毎の
チップのテスト状況を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a test situation of a chip for each wafer in a conventional wafer inspection method.

【図5】従来の今一つのウエハの検査方法における各ウ
エハ毎のチップのテスト状態を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing a test state of a chip for each wafer in another conventional wafer inspection method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

SQ シーケンス番号 TT チップ番号 (1),(2)…(N) テスト結果を記憶するレジ
スタ P 所定のチップ数 L ウエハ内のチップ数 N テスト項目番号 X ウエハロットのウエハ枚数 M 所定のウエハ枚数
SQ sequence number TT chip number (1), (2) ... (N) Register for storing test results P predetermined number of chips L number of chips in wafer N test item number X number of wafers in wafer lot M predetermined number of wafers

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平3−44949(JP,A) 特開 平4−71247(JP,A) 特開 昭60−226132(JP,A) 特開 昭59−211874(JP,A) 特開 昭64−36040(JP,A) 特開 平1−312845(JP,A) 特開 昭59−3371(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-3-44949 (JP, A) JP-A-4-71247 (JP, A) JP-A-60-226132 (JP, A) JP-A-59-1987 211874 (JP, A) JP-A-64-3640 (JP, A) JP-A-1-313845 (JP, A) JP-A-59-3337 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数のチップを有するウェハの検査方法
において、1枚のウェハ上の一部分のチップについて
定の検査項目の検査をする第1の検査工程と、前記ウェ
ハ上の残りのチップについては前記検査工程の検査結果
により選択した検査項目のみの検査をする第2の検査工
程を有することを特徴とするウェハの検査方法。
1. A method for inspecting a wafer having a plurality of chips, comprising: a first inspection step of inspecting a predetermined inspection item for a part of chips on one wafer; inspection method of a wafer, characterized in Rukoto that having a second inspection step to inspect only test item selected by the examination results of the inspection step for the remaining chips.
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