JP2805851B2 - 電子ビーム発生装置 - Google Patents
電子ビーム発生装置Info
- Publication number
- JP2805851B2 JP2805851B2 JP1160682A JP16068289A JP2805851B2 JP 2805851 B2 JP2805851 B2 JP 2805851B2 JP 1160682 A JP1160682 A JP 1160682A JP 16068289 A JP16068289 A JP 16068289A JP 2805851 B2 JP2805851 B2 JP 2805851B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anode
- passage
- electron beam
- diameter
- vacuum vessel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims description 10
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は金属溶解等に使用される電子ビーム発生装
置に関する。
置に関する。
第2図は従来のこの種の電子ビーム発生装置を示した
ものである。同図において、1は真空容器であって、通
電により熱電子を発生する熱電子発生ユニット2と加速
用電極(アノード)3を収納する加速室Aと収束レンズ
4により取り巻かれる金属筒からなる通路部5、中間室
B、収束レンズ6により取り巻かれる金属筒からなる通
路部7および処理室(例えば、金属溶解室)Cに区画さ
れている。8は偏向コイル、9はルツボ、10は被処理物
である。熱電子発生ユニット2は熱電子発生部2Aと配管
・配線を収納した支持部2Bを有し、上方退避可能に真空
容器1に吊下げ支持して固定される。
ものである。同図において、1は真空容器であって、通
電により熱電子を発生する熱電子発生ユニット2と加速
用電極(アノード)3を収納する加速室Aと収束レンズ
4により取り巻かれる金属筒からなる通路部5、中間室
B、収束レンズ6により取り巻かれる金属筒からなる通
路部7および処理室(例えば、金属溶解室)Cに区画さ
れている。8は偏向コイル、9はルツボ、10は被処理物
である。熱電子発生ユニット2は熱電子発生部2Aと配管
・配線を収納した支持部2Bを有し、上方退避可能に真空
容器1に吊下げ支持して固定される。
この構成において、熱電子発生ユニット2の熱電子発
生部2Aに電流を流して熱電子を発生させると、発生した
熱電子は熱電子発生部2Aとアノード3間の電界によりア
ノード3側へ加速され、収束レンズ4による収束作用を
受けて、ビーム通路R1から中間室Bに向かい、通路部7
のビーム通路R2を通過し、偏向コイル8により被処理部
10へ指向されて処理室C内の該被処理物(この例では、
溶解金属)10に照射される。
生部2Aに電流を流して熱電子を発生させると、発生した
熱電子は熱電子発生部2Aとアノード3間の電界によりア
ノード3側へ加速され、収束レンズ4による収束作用を
受けて、ビーム通路R1から中間室Bに向かい、通路部7
のビーム通路R2を通過し、偏向コイル8により被処理部
10へ指向されて処理室C内の該被処理物(この例では、
溶解金属)10に照射される。
この電子ビーム発生装置では、そのアノード3の通路
孔3aの径は、一般に、熱電子発生ユニット2の熱電子放
出面の径よりは小さくし、ビーム通路R1、R2の内径は通
路孔3aとほぼ同一径を持たせる。
孔3aの径は、一般に、熱電子発生ユニット2の熱電子放
出面の径よりは小さくし、ビーム通路R1、R2の内径は通
路孔3aとほぼ同一径を持たせる。
熱電子発生ユニット2から放出された熱電子の流れ
(電子ビーム)11がアノード3や通路部5の内壁に衝突
して加熱しないように、熱電子放出面の中心、アノード
3の通路3aの中心、通路部5の中心、通路部7の中心は
同一軸線上にあるように調整して組み立てるが、この調
整に際しては、熱電子ユニット2を上方へ退避させたの
ち、通路孔3a、通路部5、7の内面に摺接する所定径の
調整用ロッドを上からこの通路孔3a、通路部5、7に差
し込んで行う。
(電子ビーム)11がアノード3や通路部5の内壁に衝突
して加熱しないように、熱電子放出面の中心、アノード
3の通路3aの中心、通路部5の中心、通路部7の中心は
同一軸線上にあるように調整して組み立てるが、この調
整に際しては、熱電子ユニット2を上方へ退避させたの
ち、通路孔3a、通路部5、7の内面に摺接する所定径の
調整用ロッドを上からこの通路孔3a、通路部5、7に差
し込んで行う。
ところが、金属溶解等の用途で大容量(大出力)にな
ると、第3図に示す如く、ビーム11の周辺にフレア(符
号Fで示す)が発生するので、このフレアFによる通路
部R1の加熱を防ぐために、第3図に示す如く、通路部5
の内径をアノード3の通路孔3aの内径すなわち電子ビー
ム11のビーム径より大きくする。
ると、第3図に示す如く、ビーム11の周辺にフレア(符
号Fで示す)が発生するので、このフレアFによる通路
部R1の加熱を防ぐために、第3図に示す如く、通路部5
の内径をアノード3の通路孔3aの内径すなわち電子ビー
ム11のビーム径より大きくする。
このため、アノード3を取り外して上記調整を行なお
うとすると、アノードを冷却する水が通常でてくるため
後の始末が大変であることもあり、上記調整用ロッドに
よる調整方法は用いることができず、真空容器の軸心の
調整が面倒になるという問題があった。
うとすると、アノードを冷却する水が通常でてくるため
後の始末が大変であることもあり、上記調整用ロッドに
よる調整方法は用いることができず、真空容器の軸心の
調整が面倒になるという問題があった。
この発明は上記問題を解決するためになされたもの
で、大容量機においても、真空容器の軸心調整を簡単に
行うことができる電子ビーム発生装置を提供することを
目的とする。
で、大容量機においても、真空容器の軸心調整を簡単に
行うことができる電子ビーム発生装置を提供することを
目的とする。
この発明は上記目的を達成するため、アノードが、通
路孔を有するアノード本体部と、内径が通路部の内径よ
り小さくなく上記アノード本体と結合されるアノード周
辺部とからなる分割体であって、上記アノード周辺部は
上記真空容器の固定部に着脱可能に固定される構成とし
たものである。
路孔を有するアノード本体部と、内径が通路部の内径よ
り小さくなく上記アノード本体と結合されるアノード周
辺部とからなる分割体であって、上記アノード周辺部は
上記真空容器の固定部に着脱可能に固定される構成とし
たものである。
〔作用〕 この発明では、アノードのアノード周辺部を真空容器
に仮り止めして、該アノード周辺部から通路部内へ調整
用ロッドを差し込むことにより、両者の軸心を一致させ
ることができ、両者の軸心調整後に、アノード本体部を
アノード周辺部に結合することにより、アノード本体部
の軸心も自動的に調整される。
に仮り止めして、該アノード周辺部から通路部内へ調整
用ロッドを差し込むことにより、両者の軸心を一致させ
ることができ、両者の軸心調整後に、アノード本体部を
アノード周辺部に結合することにより、アノード本体部
の軸心も自動的に調整される。
以下、この発明の1実施例を図面を参照して説明す
る。
る。
第1図において、30はアノードであって、アノード本
体部31とアノード周辺部32とに分割されている。
体部31とアノード周辺部32とに分割されている。
アノード本体部31は下向きに突出する筒部31Aを有
し、この筒部31Aは、その外周面がねじ面であり、その
内径は通路部5の内径と同一内径となっている。アノー
ド周辺部32は内径が通路部5の内径と同一である段付き
孔32Aを有し、所定深さの段孔32aは上記アノード本体31
の筒部31Aが螺合する嵌合孔である。このアノード周辺
部32は真空容器1の加速室Aの底壁1Aにボルト34で固定
される。他の構成は第2図、第3図のものと同じであ
る。
し、この筒部31Aは、その外周面がねじ面であり、その
内径は通路部5の内径と同一内径となっている。アノー
ド周辺部32は内径が通路部5の内径と同一である段付き
孔32Aを有し、所定深さの段孔32aは上記アノード本体31
の筒部31Aが螺合する嵌合孔である。このアノード周辺
部32は真空容器1の加速室Aの底壁1Aにボルト34で固定
される。他の構成は第2図、第3図のものと同じであ
る。
この構成において、アノード30のアノード周辺部32は
底壁33に取り付け、アノード本体部31はアノード周辺部
32から外した状態で、通路部5のビーム通路R1、ビーム
通路R2に嵌合状に差し込み可能な調整用ロッドをアノー
ド周辺部31から通路部5、更に、通路部7へ差し通すこ
とにより、アノード周辺部32と通路部5、7の軸心を一
致させることができる。従って、この調整を終え、通路
部5、7とアノード周辺部32の位置決めを終えたのち、
アノード本体部31の筒部31Aをアノード周辺部32の段孔3
2aに螺着すれば、アノード30の通路孔31aの位置決めを
行うことができる。
底壁33に取り付け、アノード本体部31はアノード周辺部
32から外した状態で、通路部5のビーム通路R1、ビーム
通路R2に嵌合状に差し込み可能な調整用ロッドをアノー
ド周辺部31から通路部5、更に、通路部7へ差し通すこ
とにより、アノード周辺部32と通路部5、7の軸心を一
致させることができる。従って、この調整を終え、通路
部5、7とアノード周辺部32の位置決めを終えたのち、
アノード本体部31の筒部31Aをアノード周辺部32の段孔3
2aに螺着すれば、アノード30の通路孔31aの位置決めを
行うことができる。
この発明は以上説明した通り、アノードを分割体とし
たので、ビーム通路の径がアノードの通路孔の孔径より
大きくする大容量機の場合にも、軸心調整は従来から用
いている簡単を方法で行うことができる。
たので、ビーム通路の径がアノードの通路孔の孔径より
大きくする大容量機の場合にも、軸心調整は従来から用
いている簡単を方法で行うことができる。
第1図この発明の実施例の要部を示す断面図、第2図は
従来の電子ビーム発生装置を示す断面図、第3図は上記
従来例の問題点を説明するための部分拡大図である。 2……熱電子発生ユニット、30……アノード、31……ア
ノード本体部、31A……筒部、31a……通路孔、32……ア
ノード周辺部、32A……段付き孔、32a……段孔。
従来の電子ビーム発生装置を示す断面図、第3図は上記
従来例の問題点を説明するための部分拡大図である。 2……熱電子発生ユニット、30……アノード、31……ア
ノード本体部、31A……筒部、31a……通路孔、32……ア
ノード周辺部、32A……段付き孔、32a……段孔。
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01J 37/04 H01J 37/06 - 37/07
Claims (1)
- 【請求項1】上方退避可能に支持された熱電子発生ユニ
ットとアノードを収納した加速室、この加速室の下流に
あって収束レンズにより取り巻かれる通路部、この通路
部を介して上記加速室と連通する下流側室とを有する真
空容器を備え、上記アノードの通路孔が上記通路部の内
径より小径である電子ビーム発生装置において、上記ア
ノードが、上記通路孔を有するアノード本体部と、内径
が上記通路部の内径より小さくなく上記アノード本体と
結合されるアノード周辺部とからなる分割体であって上
記アノード周辺部は上記真空容器の固定部に着脱可能に
固定されることを特徴とする電子ビーム発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1160682A JP2805851B2 (ja) | 1989-06-26 | 1989-06-26 | 電子ビーム発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1160682A JP2805851B2 (ja) | 1989-06-26 | 1989-06-26 | 電子ビーム発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0329252A JPH0329252A (ja) | 1991-02-07 |
JP2805851B2 true JP2805851B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=15720190
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1160682A Expired - Lifetime JP2805851B2 (ja) | 1989-06-26 | 1989-06-26 | 電子ビーム発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2805851B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103035555B (zh) * | 2012-12-27 | 2015-07-22 | 无锡先导自动化设备股份有限公司 | 用于pecvd设备的硅片自动上下料装置 |
-
1989
- 1989-06-26 JP JP1160682A patent/JP2805851B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0329252A (ja) | 1991-02-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2995388B2 (ja) | イオン注入機に使用するイオン発生装置とその方法 | |
EP1096543B1 (en) | X-ray tube | |
JP4200656B2 (ja) | 荷電粒子ビームに関する改善 | |
JP2828247B2 (ja) | イオンビーム発生装置 | |
US4714860A (en) | Ion beam generating apparatus | |
JPH103872A (ja) | X線管用の電子を集束させるカソード、電子ビームを集束させるカソード・アセンブリ、及び電子ビームの焦点の寸法を変化させる方法 | |
JP2002540581A (ja) | X線ターゲットの寿命を長引かせる方法及び装置 | |
US3751701A (en) | Convergent flow hollow beam x-ray gun with high average power | |
US6229876B1 (en) | X-ray tube | |
IL24630A (en) | Annular hollow cathode discharge apparatus | |
EP0289577B1 (en) | Dynamic electron emitter | |
EP1133784B1 (en) | X-ray tube providing variable imaging spot size | |
JP2805851B2 (ja) | 電子ビーム発生装置 | |
WO2002015220A1 (en) | Integral cathode | |
EP0439852B1 (en) | X-ray tube comprising an exit window | |
JP2000277042A (ja) | X線管 | |
US3286187A (en) | Ion source utilizing a spherically converging electric field | |
US4020387A (en) | Field emission electron gun | |
US6775354B1 (en) | Method and apparatus for reducing high voltage breakdown events in X-ray tubes | |
JPH0917365A (ja) | 電界放射型電子銃 | |
JP3143016B2 (ja) | プラズマ発生装置 | |
JP2805850B2 (ja) | 電子ビーム発生装置 | |
CN114718830B (zh) | 一种无工质环形热丝阴极 | |
JPH0192360A (ja) | ホロ−カソ−ド型イオン源 | |
JP3498405B2 (ja) | イオン源 |