JP2793845B2 - 自動検反制御装置 - Google Patents

自動検反制御装置

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JP2793845B2 JP1159944A JP15994489A JP2793845B2 JP 2793845 B2 JP2793845 B2 JP 2793845B2 JP 1159944 A JP1159944 A JP 1159944A JP 15994489 A JP15994489 A JP 15994489A JP 2793845 B2 JP2793845 B2 JP 2793845B2
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    • D03WEAVING
    • D03JAUXILIARY WEAVING APPARATUS; WEAVERS' TOOLS; SHUTTLES
    • D03J1/00Auxiliary apparatus combined with or associated with looms
    • D03J1/007Fabric inspection on the loom and associated loom control

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  • Textile Engineering (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Auxiliary Weaving Apparatuses, Weavers' Tools, And Shuttles (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は、織布工場において、カメラ装置を有する
検反機を用いて、自動的に高能率に検反作業を実施する
ための自動検反制御装置に関する。
従来技術 織布工場においては、製織された織布の全長に亘って
布欠点の有無について検査を行ない、製品の品質の格付
けを行なうが、この工程は、一般に検反工程と称されて
いる重要工程である。
織布に含まれる布欠点は、発生原因によって各種のも
のが知られており、織布の全長に亘ってランダムに分布
するから、検反工は、これらの欠点を抽出するために極
めて精緻な連続作業を強いられる。そこで、このような
検反工の作業負担を軽減することを目的として、CCDイ
メージセンサのようなカメラ装置を使用した自動検反シ
ステムが提案されている(たとえば、特開昭60−119259
号公報)。
ここでは、適切な光源と組み合わせたカメラ装置を用
い、走行する織布の表面をスキャンすることによって、
織布上に存在する布欠点を適確に検出するためのデータ
処理システムが開示されている。
発明が解決しようとする課題 かかる従来技術によるときは、織布上に存在する布欠
点は、そのすべてを1台のカメラ装置によって検出する
ことができず、布欠点の種類に応じて複数のカメラ装置
を使用する必要があるから、システムが複雑高価になる
ばかりでなく、検反機そのものが小形化できないという
問題があった。すなわち、布欠点には、経糸・緯糸の緩
み、通し違い、筬筋などのように、いわゆる透し検反に
よって検出すべきもの、織段、モアレ、光沢むら等のよ
うに、いわゆる反射検反によって検出すべきもの、耳折
れ、耳くずれ等のように、いわゆる局部検反によって検
出すべきものがある。ただし、透し検反とは、織布の一
方の側に配設する平行線光源と、他方の側に配設するカ
メラ装置とを組み合わせて検反するものであり、反射検
反とは、織布の一方の側に配設する平行線光源とカメラ
装置とを組み合わせるもの、局部検反とは、スポット光
源とカメラ装置とを組み合わせるものをいう。そこで、
これらのすべての欠点を有効に検出するためには、これ
らの異なる検反方式ごとに異なるカメラ装置を用意する
必要がある。
そこで、この発明の目的は、かかる従来技術の実情に
鑑み、次に予測される布欠点に対応して検反機の検反条
件を選択制御することによって、1台のカメラ装置を使
用し、すべての布欠点を精度よく能率的に検出すること
ができる自動検反制御装置を提供することにある。
課題を解決するための手段 かかる目的を達成するためのこの発明の構成は、製織
中における織機の停止位置と停止原因とを含む製織デー
タを織布ビームごとに集積する製織データ集積手段と、
製織データ集積手段からの製織データを解析し、織布ビ
ーム中に予測される布欠点の種類と位置とを特定するデ
ータ解析手段と、データ解析手段からの解析データによ
り次に予測される布欠点に対応して検反機の検反条件を
選択決定し、検反機の光源、カメラ装置を検反条件に合
わせて自動設定する検反条件設定手段とを備えることを
その要旨とする。
また、準備工程における発生トラブルの内容と発生位
置とを含む経糸データを経糸ビームごとに集積する経糸
データ集積手段を付加し、経糸データ集積手段からの経
糸データをデータ解析手段に入力してもよく、さらに、
データ解析手段からの解析データにより検反機の走行速
度を制御する駆動制御手段を付加してもよい。
作 用 かかる発明の構成によるときは、織布ビームを検反機
に仕掛けるに際し、その織布ビームの製織中における製
織データが製織データ集積手段によって集積されている
から、データ解析手段は、それを解析することにより、
織布上に存在が予測される布欠点の種類とその位置とを
特定することができる。そこで、検反条件設定手段は、
次に予測される布欠点の種類に対応して検反機の検反条
件を選択決定し、検反条件に合わせて検反機の光源、カ
メラ装置を自動設定することにより、当該布欠点を適確
に検出することができる。ただし、検反条件とは、透し
検反、反射検反、局部検反を含む検反方式の別をいう。
また、検反機の光源とは、各検反条件において使用する
平行線光源やスポット光源の総称である。
経糸データ集積手段を付加すれば、その織布ビームに
使用した経糸ビームに関し、準備工程における経糸デー
タを集積することができるから、検反条件設定手段は、
この経糸データから予備される布欠点に対しても検反条
件の選択制御を行なうことができ、準備工程における発
生トラブルに基因する布欠点の検出が可能となる。
また、駆動制御手段を付加すれば、布欠点が予測され
ない部分に対して検反機を早送りすることができるか
ら、検反能率を格段に向上することができる。
実施例 以下、図面を以って実施例を説明する。
自動検反制御装置10は、製織データ集積手段11と、デ
ータ解析手段12と、検反条件設定手段13とを主要部材と
してなる(第1図)。
製織データ集積手段11は、稼動中の織機Li(i=1、
2…n)からの稼動情報信号SLを受信し、製織データD
11として集積した上、データ解析手段12に出力する。た
だし、稼動情報信号SLは、織機Liに搭載する図示しな
いモニタ装置から発信されるものとし、織機Liごとに、
少なくとも仕掛けられている経糸ビームを識別する経糸
ビーム識別符号、製織中の織布ビームを識別する織布ビ
ーム識別符号、織機が停止したときの製織長と停止原
因、織機が再起動するとき、停止原因の自動補修後の再
起動か手動補修後の再起動かの別等の情報を含むものと
する。また、製織データD11は、これらの情報を織布ビ
ームごとに整理したものであり、その内容は、稼動情報
信号SLと同一でよい。ただし、織機Liが停止したとき
の製織長は、製織データD11において、織布ビームの巻
終りから計測した布長に換算し、織機の停止位置として
表示するものとする。
データ解析手段12には、経糸データ集積手段15からの
経糸データD15が併せ入力されており、経糸データ集積
手段15は、準備機Pj(j=1、2…m)からの稼動情報
信号Spを受信する。準備機Pjは、たとえば経糸糊付機、
部分整経機、ビーム整経機、ビーム巻返し機等の一連の
準備機械群であって、織機Liに仕掛ける経糸ビームを調
整する。そこで、稼動情報信号Spは、準備機Pjの稼動中
における発生トラブルとその発生位置(経糸ビームの整
経長によって示す、以下同じ)を含むものとし、経糸デ
ータD15は、これを経糸ビームごとに集積して整理した
ものである。
データ解析手段12の出力は、検反条件設定手段13、駆
動制御手段14に分岐入力されており、後二者の出力は、
それぞれ検反制御信号Sc、駆動制御信号Sdとして検反機
20に入力されている。また、検反機20からは、布長信号
Swが検反条件設定手段13にフィードバックされている。
検反機20は、カメラ装置21と、2個の平行線光源22、
23と、スポット光源24とを備えている(第2図)。
カメラ装置21は、たとえばCCDイメージセンサを利用
するものであって、検査対象となる布Wに対向して設置
されている。カメラ装置21は、ズーム機能を有するとと
もに、案内軸21aに沿って布Wの幅方向に移動すること
ができ(同図の矢印K1方向)、また、その仰角を任意に
設定することができる(同図の矢印K2方向)。
平行線光源22は、たとえばフード付きの螢光灯光源で
あって、布Wに対し、カメラ装置21と同一の側に設置さ
れており、布Wを照射した反射光がカメラ装置21に入射
するようになっている。平行線光源23も同様の光源であ
り、布Wに対し、カメラ装置21と逆の側に配設されてい
る。平行線光源23からの光は、反射ミラー23aによって
反射され、布Wを透過してカメラ装置21に入射する。
スポット光源24は、フード付きの白熱電球光源であ
る。スポット光源24は、案内軸24aを介して布Wの幅方
向に移動可能であり(同図の矢印K3方向)、布Wに投射
された反射光がカメラ装置21に入射する。
カメラ装置21の布Wの幅方向の位置や、仰角、ズーム
倍率の設定、スポット光源24の布Wの幅方向の位置設
定、平行線光源22、23やスポット光源24の点消灯は、す
べて検反条件設定手段13からの検反制御信号Scによって
制御する。
布Wは、検反機20に仕掛けられた織布ビームWBから巻
き戻され、カメラ装置21の前面を走行して(同図の矢印
K方向)、巻取りロールWR上に巻き取られ、その間にお
いてカメラ装置21による検反が行なわれる。なお、巻取
りロールWRは、図示しない駆動源によって積極駆動され
ており、巻き取られる布Wに接して消極回転するメジャ
リングロールMRを設け、その軸端には、エンコーダWR1
が接続されている。エンコーダWR1は、布Wの走行長さ
を計測し、布長信号Swとして検反条件設定手段13に出力
する(第1図)。また、巻取りロールWRによる布Wの走
行速度は、駆動制御手段14により、駆動制御信号Sdを介
して設定制御される。なお、データ解析手段12には、た
とえば図示しないデータ入力装置を介し、検反機20に仕
掛ける織布ビームWBの識別符号Nwが入力される。
かかる構成の自動検反制御装置10の作動は、次のとお
りである。
検反すべき織布ビームWBを検反機20に仕掛け、その織
布ビームWBの識別符号Nwをデータ解析手段12に入力する
と、データ解析手段12は、製織データ集積手段11、経糸
データ集積手段15から供給される製織データD11、経糸
データD15を使用して、織布ビームWBの布Wに存在が予
測される布欠点の種類と、その位置とを特定する。すな
わち、製織データD11には、織布ビームWBを製織した織
機Liの製織中の停止原因と停止位置とが含まれているか
ら、データ解析手段12は、その停止原因に対応して予測
される布欠点の種類を特定することができ(第3図)、
また、その停止位置から布欠点の位置を特定することが
できる。ただし、製織データD11に含まれる停止位置
は、織布ビームWBの巻終りから計測した布長として表わ
されているから、このときの布欠点の位置は、そのまま
布Wの走行長さに一致する。
一方、第3図において、織機の停止原因が緯糸フィー
ラ停止であり、織機の再起動が手動補修後に行なわれた
ときに予測される布欠点は止め段であることが示されて
いる(同図の第1行目)。停止原因が緯糸フィーラ停止
であっても、緯糸補修装置による機械的な補修後、機械
再起動が自動的になされたときは、緯糸補修装置の作動
が一律であるために、緯糸の「ひけ」や「緩み」等が見
逃されて残るおそれがある(同第2行目)。
緯糸到達センサ停止とは(同第6行目)、緯入れされ
た緯糸の到達時期が所定の織機機械角の範囲から逸脱し
たことによる機械停止を示し、また、サイジングストッ
プとは(同第8行目)、織布ビームWBに使用された経糸
ビームの調整中における準備機Pjの起動停止動作をい
う。準備機Pjの起動停止動作は、準備工程中におけるト
ラブルの発生を示し、この事実は、その発生位置ととも
に経糸データD15に含まれている。そこで、データ解析
手段12は、経糸データD15を併せ解析することにより、
経糸の不良個所が布欠点として顕在化するものも含め
て、その種類と位置とを予測して特定することができ
る。ただし、データ解析手段12は、経糸データD15を使
用するときは、製織前の経糸長(整経長に一致する)と
製織後の布長(製織長に一致する)との縮み率を考慮
し、前者を後者に換算するものとする。
なお、織り始め位置とは(同第7行目)、織機に新た
な経糸ビームを仕掛けるとき、その製織開始から一定の
製織長の間を指す。織物の種類により、織布ビームの巻
始め部分に顕著なモアレが発生することがあり、これを
予測するために織機の停止原因に含めたものである。ち
なみに、このようなモアレは、エステル、タフタ、混織
糸等の織物に出現し易いことがわかっている。
データ解析手段12は、このようにして予測した布欠点
の種類と位置とに関する解析データD12を検反条件設定
手段13と駆動制御手段14とに出力する。そこで、駆動制
御手段14は、検反機20に駆動制御信号Sdを送り、検反機
20に仕掛けられている布Wの走行速度を制御することが
できる。すなわち、布欠点の存在が予測される位置の前
後の適当長さについては、所定の検反用の走行速度とな
るように検反機20の駆動源を制御し、布欠点が予測され
ないその他の部分については、布Wを早送りすることが
できる。
一方、検反条件設定手段13は、検反機20からフィード
バックされる布長信号Swによって、検反機20に仕掛けら
れている布Wの走行長さを検知することができる。そこ
で、検反条件設定手段13は、布Wの走行長さと、データ
解析手段12からの解析データD12とを比較することによ
り、次に予測される布欠点の種類に対応して検反機20に
検反制御信号Scを送出し、検反機20の検反条件を選択決
定することができる。すなわち、次に予測される布欠点
が止め段、モアレ、段、光沢むらであるときは、反射検
反を実現するために(第3図の第1、7、8行目)、平
行線光源22を点灯し、カメラ装置21を布Wのほぼ中間位
置に移動するとともに、平行線光源22から照射され、布
Wによって反射される反射光が適正に入射するように、
カメラ装置21の仰角を設定して待機する。また、カメラ
装置21のズーム倍率は、布Wの全幅を撮影可能なよう
に、小さく設定する。
予測される布欠点が通し違い、経糸緩み、経糸抜け、
緩み等であるときは、透し検反を実現するために、平行
線光源23を点灯し、カメラ装置21の仰角は、同光源に向
けて待機する(第3図の第3、4、6行目)。また、布
欠点が耳関係であるときは、局部検反のために、スポッ
ト光源24を点灯し、スポット光源24とカメラ装置21との
両者を布欠点が予測される側の布Wの端部に寄せて待機
する(同第5行目)。ただし、耳関係の停止では、製織
中の織布の両側端部に耳組センサ、糸端処理センサを配
設し、そのいずれの側のものが作動して停止したかの情
報が稼動情報信号SL、製織データD11に含まれるものと
する。
なお、製織データD11を解析した結果、布Wの同一位
置に2種以上の布欠点の存在が予測され、しかも、それ
らの布欠点に対して異なる検反条件を選択して実現しな
ければならない場合、検反条件設定手段13は、検反機20
に対し、その主要欠点(布の品質格付に最も大きな影響
を及ぼす布欠点をいう、以下同じ)に対応して検反条件
を選択すればよい。たとえば、第3図の第2行目に着目
すると、止め段・緯糸抜けに対して反射検反が選択さ
れ、ひけ・緩みに対して透し検反が選択されるべきであ
るが、この場合は後者に着目し、透し検反を選択するの
がよい。ただし、布Wの種類によっては、ひけ・緩みで
も反射検反によって容易に検出可能な形態に表われるこ
ともあり、その場合は、止め段・緯糸抜けを主要欠点を
みなし、反射検反を選択する方が好結果を与える。
以上の説明において、経糸データ集積手段15は、これ
を省略してもよいものとする。すなわち、経糸データ集
積手段15は、織布ビームWBに使用した経糸ビームの調整
に際し、準備機Pjに発生したトラブルに起因する布欠点
に着目するものであるから、この種の布欠点を無視して
よい場合には、製織データD11のみを解析の対象とすれ
ば十分である。
また、データ解析手段12の解析内容は、第3図以外
に、任意に定め得る。特に、経糸ビームの準備工程にお
ける発生トラブルの内容は、サイジングストップのみな
らず、たとえば糊付整経機における糊付量の変動、何ら
かの原因による準備機Pjの速度変更等のデータも停止原
因に含めてよい。
他の実施例 検反機20は、ガイドローラGR、GR…を用いて布Wを折
返し走行させるとともに、カメラ装置21、平行線光源2
2、23、スポット光源24の組を2群以上接続して配設し
てもよい(第4図)。同一位置に2種以上の布欠点が予
測されるとき、そのそれぞれについて異なる検反条件を
選択すべき場合、または、同一の検反条件であっても、
カメラ装置21のズーム倍率や、カメラ装置21、スポット
光源24の位置、平行線光源22、23の照度等の検反態様に
最適条件がある場合等において、異なる群に対し、それ
ぞれの布欠点に対応するように検反条件や検反態様を個
別に選択し、設定することができるので、一層厳密な自
動検反を実施することができる。なお、同図において、
透し検反に使用する平行線光源23は、反射ミラー23aの
反射角度を調節することにより、同図のA群とB群、B
群とC群等の相隣る2群に共用するようになっている
が、このものは、各群に専用のものを用意してもよい。
また、カメラ装置21等の群数は、同図に拘らず、任意に
定め得るものとする。
発明の効果 以上説明したように、この発明によれば、製織データ
集積手段と、データ解析手段と、検反条件設定手段とを
組み合わせることによって、検反条件設定手段は、次に
予測される布欠点に対応して検反機の検反条件を選択決
定し、検反機の光源、カメラ装置を自動設定することが
できるので、1台のカメラ装置を使用して、すべての布
欠点を適確に自動検出することができるという優れた効
果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図は実施例を示し、第1図は全体系統
図、第2図は検反機の構成概念図、第3図は停止原因、
布欠点、検反条件の対応表である。 第4図は他の実施例を示す第2図相当図である。 WB……織布ビーム Li(i=1、2…)……織機 D11……製織データ D12……解析データ D15……経糸データ 10……自動検反制御装置 11……製織データ集積手段 12……データ解析手段 13……検反条件設定手段 14……駆動制御手段 15……経糸データ集積手段 20……検反機 21……カメラ装置 22、23……平行線光源 24……スポット光源
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) D06H 3/00 - 3/08 D03D 51/00 D03J 1/06

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】製織中における織機の停止位置と停止原因
    とを含む製織データを織布ビームごとに集積する製織デ
    ータ集積手段と、該製織データ集積手段からの製織デー
    タを解析し、織布ビーム中に予測される布欠点の種類と
    位置とを特定するデータ解析手段と、該データ解析手段
    からの解析データにより次に予測される布欠点に対応し
    て検反機の検反条件を選択決定し、検反機の光源、カメ
    ラ装置を検反条件に合わせて自動設定する検反条件設定
    手段とを備えてなる自動検反制御装置。
  2. 【請求項2】準備工程における発生トラブルの内容と発
    生位置とを含む経糸データを経糸ビームごとに集積する
    経糸データ集積手段を付加し、該経糸データ集積手段か
    らの経糸データを前記データ解析手段に入力することを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の自動検反制御装
    置。
  3. 【請求項3】前記データ解析手段からの解析データによ
    り検反機の走行速度を制御する駆動制御手段を付加する
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2項記
    載の自動検反制御装置。
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