JP2790850B2 - Cellulose thin film for pellicle - Google Patents
Cellulose thin film for pellicleInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、フォトリソグラフィ技術におけるフォト
マスク、ならびにレチクルの保護に使用されるペリクル
用薄膜に関するものである。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photomask in a photolithography technique, and a pellicle thin film used for protecting a reticle.
(従来の技術) 薄くて透明なフィルムからなるペリクルは、フォトマ
スクとレチクルの保護のために使用されており、半導体
装置の製造工程中におけるフォトリソグラフィにおける
生産性の向上に役立っている。一般に使用されているペ
リクルは、フォトリソグラフィのマスクに固着され、該
マスクとは、所定の距離をおいてマスク上に位置してい
る。したがって、フォトリソグラフィの操作中におい
て、こまかなダスト粒子が、ペリクルに付着しても、ワ
ーク表面に結像されない。したがって、マスクあるい
は、レチクルをペリクルで保護することにより、ダスト
粒子によるシリコンウェハーへの悪影響を防ぐことがで
き、集積回路チップの製造歩留りが向上し、マスクのク
リーニング回数が減少して、その寿命を伸ばすなどの効
果がある。(Prior Art) A pellicle made of a thin and transparent film is used for protecting a photomask and a reticle, and is useful for improving productivity in photolithography during a manufacturing process of a semiconductor device. A commonly used pellicle is fixed to a photolithography mask, and is located on the mask at a predetermined distance from the mask. Therefore, during the photolithography operation, fine dust particles do not form an image on the work surface even if they adhere to the pellicle. Therefore, by protecting the mask or reticle with the pellicle, it is possible to prevent the dust particles from adversely affecting the silicon wafer, improve the production yield of the integrated circuit chip, reduce the number of times of cleaning of the mask, and shorten the life of the mask. There are effects such as stretching.
現在一般に市販使用されているペリクルには、0.8μ
m〜7μmの厚さのニトロセルロースからなる薄膜であ
る。この様なニトロセルロース薄膜からなるペリクル
は、現在のg線(436mm)におけるフォトリソグラフィ
ー技術においては、一応満足されている。Currently, commercially available pellicles have 0.8μ
It is a thin film made of nitrocellulose having a thickness of m to 7 μm. A pellicle made of such a nitrocellulose thin film is satisfactorily satisfied with the current g-line (436 mm) photolithography technology.
(発明が解決しようとする課題) 半導体工業における最近の進歩に伴い、集積回路の高
密度、高集積化の傾向があり、ウェハー上への投影パタ
ーンの線幅、線間隔共に小さくなって来ている。その
為、露光光源として、g線(436mm)よりも波長が短
く、エネルギーの大きいh線(406mm)、i線(365mm)
が使用される様になって来た。(Problems to be Solved by the Invention) With the recent progress in the semiconductor industry, there is a tendency for integrated circuits to have higher densities and higher integration, and both the line width and the line interval of the projected pattern on the wafer have become smaller. I have. Therefore, as an exposure light source, h-line (406 mm) and i-line (365 mm), which have shorter wavelength and higher energy than g-line (436 mm)
Has come to be used.
ニトロセルロース薄膜からなるペリクルは、g線にお
いては、耐光性も良く、一応満足できるものであるが、
エネルギーの大きいh線、i線になるとニトロセルロー
スでは、劣化が起こり、使用する事ができない。そこで
現在ニトロセルロースに代わる素材として、セルロース
誘導体が研究されている。セルロース誘導体としては、
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレー
ト、セルロースアセテートプロピオネート等があり、こ
れらの素材は、ニトロセルロースに比較して耐光性は良
いが、それからなる薄膜の難点は、高湿度の環境に置く
と、たるみや、しわが発生し、緊張状態に保つ事が難し
い事である。本発明は、h線、i線においても、耐光性
が良く、高湿度の環境でも、たるみや、しわが発生しな
いペリクル用薄膜を提供する事である。The pellicle composed of a nitrocellulose thin film has good light resistance at g-line and is satisfactory for the time being.
Nitrocellulose degrades when it comes to high energy h-line or i-line, and cannot be used. Therefore, cellulose derivatives are currently being studied as a material to replace nitrocellulose. As cellulose derivatives,
There are cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, etc., and these materials have better light resistance than nitrocellulose, but the disadvantage of a thin film made of it is that when it is placed in a high humidity environment, it will sag. It is difficult to keep in tension because wrinkles occur. An object of the present invention is to provide a pellicle thin film which has good light fastness even in h-line and i-line and does not generate slack or wrinkles even in a high humidity environment.
(課題を解決するための手段) 本発明は、ニトロセルロース10〜50wt%とセルロース
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネートの少なくとも一種90〜50
wt%とからなる組成物よりなるペリクル用薄膜、を提供
する。(Means for Solving the Problems) The present invention relates to a nitrocellulose of 10 to 50 wt% and at least one of cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate of 90 to 50%.
a pellicle thin film comprising a composition consisting of wt%.
本発明のペリクル用薄膜は、高湿度の環境において
も、たるみやしわの発生が無く、かつh線、i線に対す
る耐光性がニトロセルロースのみからなる薄膜よりはる
かに良い。The pellicle thin film of the present invention has no sagging or wrinkles even in a high-humidity environment, and has much better light resistance to h-line and i-line than a thin film composed of only nitrocellulose.
本発明について更に詳細に説明する。ニトロセルロー
スからなるペリクル用薄膜は、g線(436mm)の光にお
いては劣化せず、光透過性も良いが、365mm以下の短い
波長の光においては、はなはだしく劣化する。最近の半
導体のフォトリソグラフィの技術は、集積回路の高密
度、高集積化の傾向があり、ウェハー上への投影パター
ンの線幅、線間隔共に小さくなって来ている。その為、
露光光源としても、より短波長の光が使われる様になっ
てきた。そこで、各ペリクルメーカーは、短波長におい
ても光透過性が良く、耐光性のあるペリクル素材とし
て、各種セルロース誘導体を使用したペリクルを考案し
ている。短波長における耐光性のあるセルロース誘導体
として、セルロースアセテートや、セルロースアセテー
トブチレート、あるいはセルロースアセテートプロピオ
ネートからなるペリクルが考案されているが、これらの
セルロース誘導体からなる薄膜を使用したペリクルは、
いずれも、高湿度において、形状保持性が劣る。すなわ
ち高湿度において薄膜にたるみやしわが発生する。半導
体のフォトリソグラフィーを行う工程では、静電気によ
り微細粉塵が、機器や、生産物等へ付着するのを避ける
ため、室内の相対湿度をやや高めに維持する傾向がある
為、この様な薄膜は、実用上使用できない。The present invention will be described in more detail. The pellicle thin film made of nitrocellulose does not degrade at g-line (436 mm) light and has good light transmittance, but degrades remarkably at light having a short wavelength of 365 mm or less. In recent semiconductor photolithography techniques, there is a tendency for integrated circuits to have high density and high integration, and both the line width and line interval of a projection pattern on a wafer have become smaller. For that reason,
Shorter wavelength light has come to be used as an exposure light source. Therefore, each pellicle maker has devised a pellicle using various cellulose derivatives as a pellicle material having good light transmittance even at a short wavelength and having light resistance. As a cellulose derivative having light resistance at short wavelengths, a pellicle made of cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, or cellulose acetate propionate has been devised, but a pellicle using a thin film made of these cellulose derivatives has been proposed.
In any case, the shape retention is poor at high humidity. That is, sagging and wrinkling occur in the thin film at high humidity. In the process of photolithography of semiconductors, fine dust due to static electricity, to avoid adherence to equipment, products, etc., tends to maintain a relatively high relative humidity in the room, such a thin film, Not practical.
本発明の薄膜からなるペリクルは、この様な高湿度の
環境においてもたるみや、しわの発生が無く、又、h線
や、i線の低波長における耐光性も良く、実用に耐える
ペリクルである。The pellicle made of the thin film of the present invention is a pellicle which is free from sagging and wrinkles even in such a high-humidity environment, has good light resistance at low wavelengths of h-line and i-line, and can withstand practical use. .
セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレ
ート、セルロースアセテートプロピオネートなどのニト
ロセルロース以外のセルロース誘導体に混合するニトロ
セルロースは、高分子量のものほど薄膜の形状保持力が
大きい為好ましく、且つその硝化度は、10〜13%好まし
くは11〜12%である。このような材料としては旭化成工
業(株)から市販されており、その硝化度は10.7〜12.2
%である。この市販品は、各種塗料、インキ、接着剤、
コーティング材等、多くの用途の幅広く使われているも
のである。Nitrocellulose to be mixed with cellulose derivatives other than nitrocellulose such as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate is preferred because the higher the molecular weight, the greater the shape retention of the thin film, and the degree of nitrification is preferably 10%. 1313%, preferably 11-12%. Such a material is commercially available from Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd. and has a nitrification degree of 10.7-12.2.
%. This commercial product contains various paints, inks, adhesives,
It is widely used for many applications such as coating materials.
かかるニトロセルロースと混合して用いるニトロセル
ロース以外のセルロース誘導体としては、ニトロセルロ
ースと混合して0.5〜15μm好ましくは0.8〜10μmに製
膜可能であり、かつ、得られた膜が365mmの光において
吸収散乱が5%以下好ましくは2%以下となるセルロー
ス誘導体であれば使用可能である。As a cellulose derivative other than nitrocellulose used by mixing with such nitrocellulose, it can be mixed with nitrocellulose to form a film of 0.5 to 15 μm, preferably 0.8 to 10 μm, and the obtained film absorbs light of 365 mm. Any cellulose derivative can be used as long as the scattering is 5% or less, preferably 2% or less.
このような条件を満足するものは、セルロースアセテ
ート、セルロースアセテートブチレート、セルロースア
セテートプロピオネートである。Those satisfying such conditions are cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and cellulose acetate propionate.
これらのセルロース誘導体のうちセルロースアセテー
トとしては、酢化度20〜55%好ましくは40〜55%の物が
好ましく使用される。イーストマン・コダック社から市
販されているものを用い得るが、これは酢化度が55%前
後のものである。Among these cellulose derivatives, those having a degree of acetylation of 20 to 55%, preferably 40 to 55%, are preferably used as cellulose acetate. Commercially available products from Eastman Kodak Company can be used, which have a degree of acetylation of around 55%.
又、セルロースアセテートプロピオネートとしては、
プロピオニル含量が10〜46%好ましくは40〜46%の物が
使用され得る。Also, as cellulose acetate propionate,
Those having a propionyl content of 10-46%, preferably 40-46%, can be used.
セルロースアセテートブチレートは、これらのセルロ
ース誘導体の中では、特に効用が大きく、更にそのブチ
リル含量が高いものほど、且つその分子量が高いほど好
ましい。セルロースアセテートブチレートの好ましい組
成の一例は、ブチリル含量が40〜55wt%、好ましくは50
〜55wt%、数平均分子量が40,000〜100,000のものが、
良好である。この材料は、イーストマンコダック社から
市販され数平均分子量40,000〜70,000のものが容易に得
られる。Among these cellulose derivatives, cellulose acetate butyrate has particularly high utility, and it is preferable that the cellulose derivative has a higher butyryl content and a higher molecular weight. One example of a preferred composition of cellulose acetate butyrate has a butyryl content of 40-55 wt%, preferably 50-55 wt%.
~ 55wt%, number average molecular weight 40,000 ~ 100,000
Good. This material is commercially available from Eastman Kodak Company and can easily be obtained with a number average molecular weight of 40,000 to 70,000.
本発明においては、セルロースアセテートブチレート
と、ニトロセルロースとの混合物が最も好ましい。本発
明においてニトロセルロースの混合割合は、10〜50wt%
が良好である。ニトロセルロースの混合割合が10wt%未
満では高湿度の環境における薄膜形状保持性に殆んど効
果が無く、又、ニトロセルロースの混合割合が50wt%を
超えると薄膜形状保持性においては、非常に効果がある
が、h線、i線における耐光性は、ニトロセルロースよ
りも若干良いが短時間で劣化する。In the present invention, a mixture of cellulose acetate butyrate and nitrocellulose is most preferred. In the present invention, the mixing ratio of nitrocellulose is 10 to 50% by weight.
Is good. When the mixing ratio of nitrocellulose is less than 10 wt%, there is almost no effect on the thin film shape retention in a high humidity environment, and when the mixing ratio of nitrocellulose exceeds 50 wt%, the thin film shape retention is extremely effective. Although light resistance at h-line and i-line is slightly better than nitrocellulose, it deteriorates in a short time.
長期間の薄膜形状保持性、及び、h線、i線における
耐光性を考慮すると、ニトロセルロースの混合割合は、
20〜40wt%が好ましい。Considering the long-term thin film shape retention and light resistance at h-line and i-line, the mixing ratio of nitrocellulose is
20-40 wt% is preferred.
ニトロセルロースは、セルロースアセテート、セルロ
ースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロ
ピオネートなどと同じセルロース系である為、相溶性は
非常に良好である。Since nitrocellulose is the same cellulosic system as cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, etc., the compatibility is very good.
ペリクルは露光装置の光源と光学レンズ系の間に光路
に設置されて使用される。その故に、ペリクルの薄膜は
膜面内で光線透過率が均一でなければならないと同時
に、薄膜の屈折率によって生じるであろう露光々線の進
路のズレに対して実質的に影響を及ぼさない程度の均一
な薄さでなければならない。又、膜は、画像を歪みな
く、乱れなく透過させる必要があり、膜厚みの均一性と
共に、ゴミ、キズのないこと、内部歪みのないことが要
求される。The pellicle is used by being installed in an optical path between a light source of an exposure apparatus and an optical lens system. Therefore, the thin film of the pellicle must have uniform light transmittance in the plane of the film, and at the same time, does not substantially affect the deviation of the path of the exposure line that may be caused by the refractive index of the thin film. Must be of uniform thickness. Further, the film is required to transmit an image without distortion and without disturbance, and it is required that the film has uniform thickness, no dust and scratches, and no internal distortion.
ニトロセルロースとセルロースアセテート、セルロー
スアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピ
オネートの少なくとも一種との混合組成物からなる本発
明のペリクル用薄膜の膜厚は、0.5〜15μmの範囲、好
ましくは0.8〜10μmである。これより膜厚を薄くする
と、機械的強度が低下し、かかるペリクルを取扱うにあ
たり十分な注意を必要とする。また、これより厚い膜厚
では、膜表面の微小な荒れによって、その光線透過率は
低下してしまう傾向がある。The film thickness of the pellicle thin film of the present invention comprising a mixed composition of nitrocellulose and cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, and at least one of cellulose acetate propionate is in the range of 0.5 to 15 μm, preferably 0.8 to 10 μm. . If the film thickness is made thinner than this, the mechanical strength is reduced, and sufficient care must be taken in handling such a pellicle. If the film thickness is larger than this, the light transmittance tends to decrease due to minute roughness of the film surface.
本発明の薄膜の製造は、いかなる方法によっても構わ
ないが、ニトロセルロースが熱可塑性でないため、溶液
にしてキャストする方法が通常用いられる。又、本目的
とするペリクルにあっては、膜厚みが0.5μm〜15μm
と薄く、かつ膜厚みの均一性が重要であるため、その製
造方法としては、回転塗布法(スピンコーター法)、ナ
イフコーター法、浸漬引上げ法、流体表面上への流延法
等が適しているが、特にスピンコーター法が好適であ
る。The thin film of the present invention may be produced by any method. However, since nitrocellulose is not thermoplastic, a method of casting in a solution is usually used. Further, in the pellicle of the present purpose, the film thickness is 0.5 μm to 15 μm
The spin coating method (spin coater method), knife coater method, dip-pulling method, casting method on the fluid surface, etc. are suitable for the production method because thinness is important and uniformity of the film thickness is important. However, the spin coater method is particularly preferable.
かかる均一な厚さの薄膜は、ニトロセルロースとセル
ロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、
セルロースアセテートプロピオネートの少なくとも一種
とを所定混合比、及び濃度になるように、乳酸エチル
や、シクロヘキサノン等の溶剤に溶かし、濾過した後、
スピンコーター法等により、ガラス基板等の平滑基板上
に流延して作る事ができる。Such a thin film of uniform thickness, nitrocellulose and cellulose acetate, cellulose acetate butyrate,
At least one of cellulose acetate propionate and a predetermined mixing ratio, and so as to have a concentration, dissolved in a solvent such as ethyl lactate and cyclohexanone, and filtered,
It can be made by casting on a smooth substrate such as a glass substrate by a spin coater method or the like.
ただし本発明の薄膜を得るスピンコーティングの条件
は、溶液の流動性、溶液の溶媒の揮発性、スピンコータ
ー周囲の温度、湿度、スピン回転数、スピン時間など多
くの影響因子が絡むので、本発明の目的を達成するため
に正しく選択する。However, the spin coating conditions for obtaining the thin film of the present invention involve many influential factors such as the fluidity of the solution, the volatility of the solvent of the solution, the temperature around the spin coater, the humidity, the spin speed, and the spin time. Choose the right to achieve the goal.
ガラス基板等の上に形成された薄膜は、該基板から剥
がされ、金属枠等にぴんと張られて、エポキシ系などの
接着剤で固着される。The thin film formed on the glass substrate or the like is peeled off from the substrate, stretched over a metal frame or the like, and fixed with an epoxy-based adhesive or the like.
この様にして製造されたペリクル形状での薄膜は、高
湿度環境においても、薄膜形状保持性は良好で、たるみ
や、しわ等の発生が無いばかりか、短波長光線のh線
や、i線に対しても、充分な光透過性を有し、充分実用
に耐えるものである。The thin film in the pellicle shape manufactured in this manner has a good thin film shape retention property even in a high humidity environment, and has no sagging or wrinkles, as well as short-wavelength light h-line or i-line. Has sufficient light transmittance and is sufficiently practical.
以上、本発明は、ニトロセルロースとセルロースアセ
テート、セルロースアセテートブチレート、セルロース
アセテートプロピオネートの少なくとも一種とを混合す
る事により、高湿度における、たるみや、しわの発生を
防止すると共に、短波長における耐光性をも向上した事
を特徴とするペリクル用薄膜に関するものである。ま
た、例えば、特公昭63−22576号公報の記載などにみら
れるポリマーコーティングによる反射防止も可能であ
る。As described above, the present invention, by mixing nitrocellulose and cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, at least one of cellulose acetate propionate, in high humidity, sagging and preventing the occurrence of wrinkles, at a short wavelength The present invention relates to a pellicle thin film characterized in that light resistance is also improved. Further, for example, it is also possible to prevent reflection by a polymer coating as described in JP-B-63-22576.
(実施例) 以下に実施例をあげて本発明を説明するが、本発明
は、これにより限定されるものではない。(Example) Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
実施例1 セルロースアセテートブチレート(CABと略す。イー
ストマンコダック社製531−1,ブチリル含量,50%)8.0g
とニトロセルロース(NCと略す。旭化成工業製,H−100
0,硝化度12.0%)2.0gを酢酸エチルセロソルブに溶解
し、固型分濃度5.0wt%の溶液を調整した。スピンコー
ター(回転塗布機)にシリコンウェハーをセットして、
調整したCAB/NC溶液を20cc滴下し、その後、シリコンウ
ェハーを900rpmで30秒間回転させ、シリコンウェハー上
に、CAB/NC薄膜を形成せしめ、ホットプレートにより溶
媒を蒸発せしめ、2.8μmの薄膜を作り、シリコンウェ
ハーより、薄膜を剥離し、120×98mmの長方形アルミフ
レームに、ぴんと張り、エポキシ系接着剤で固着した。
この薄膜を水を張った、湿度100%のデシケーター中に
放置したが、たるみや、しわの発生は、まったくなかっ
た。又、1ケ月経過後においても、まったく異常は、見
られなかった。Example 1 8.0 g of cellulose acetate butyrate (abbreviated as CAB; 531-1 manufactured by Eastman Kodak Co., butyryl content, 50%)
And nitrocellulose (abbreviated as NC; H-100 manufactured by Asahi Kasei Corporation)
2.0 g (degree of nitrification: 12.0%) was dissolved in ethyl acetate cellosolve to prepare a solution having a solid content of 5.0 wt%. Set the silicon wafer on the spin coater (rotary coating machine)
20 cc of the prepared CAB / NC solution was dropped, and then the silicon wafer was rotated at 900 rpm for 30 seconds. Then, the thin film was peeled off from the silicon wafer, stretched tightly on a rectangular aluminum frame of 120 × 98 mm, and fixed with an epoxy adhesive.
The thin film was left in a watered desiccator at a humidity of 100%, and showed no sagging or wrinkling. No abnormality was found even after one month.
実施例2 セルロースアセテート(CAと略す。ダイセル製,L−40
F,酢化度55%),5gとニトロセルロース(旭化成工業製,
H−1000,硝化度12.0%)5gを、乳酸エチルに溶解し、固
型分濃度2wt%の溶液を調整した。実施例1と同じ方法
で、スピンコーターにて膜厚1.0μmの薄膜を作り、120
×98mmの長方形アルミフレームに、ぴんと張りエポキシ
系接着剤で固着した。この薄膜を水を張った湿度100%
のデシケーター中に放置したが、たるみや、しわの発生
は、まったくなかった。又、1ケ月経過後においても、
まったく異常は、見られなかった。Example 2 Cellulose acetate (abbreviated as CA; manufactured by Daicel, L-40)
F, acetylation degree 55%), 5g and nitrocellulose (Asahi Kasei Kogyo,
H-1000, nitrification degree 12.0%) was dissolved in ethyl lactate to prepare a solution having a solid content of 2 wt%. In the same manner as in Example 1, a thin film having a thickness of 1.0 μm was formed using a spin coater.
It was firmly attached to a rectangular aluminum frame of × 98 mm with an epoxy adhesive. 100% humidity with water on this thin film
It was left in the desiccator, but no sagging or wrinkling occurred. Also, after one month,
No anomalies were seen.
実施例3 セルロースアセテートプロピオネート(CAPと略す。
イーストマン・コダック社製,482−20,プロピオニル含
量,46%)7.0gとニトロセルロース(旭化成工業製H−1
000,硝化度12.0%)3.0gを乳酸エチルに溶解し、固型分
濃度5wt%の溶液を作り、実施例1と同じスピンコータ
ー法で、膜厚1.7μmの薄膜を作り、120×98mmの長方形
アルミフレームに、ぴんと張りエポキシ系接着剤で固着
した。この薄膜を水を張った湿度100%でデシケーター
中に放置したが、たるみや、しわの発生は、まったくな
かった。参考迄に、この薄膜の分光特性を第1図に示
す。Example 3 Cellulose acetate propionate (abbreviated as CAP)
7.0 g of Eastman Kodak Co., Ltd., 482-20, propionyl content, 46%) and nitrocellulose (H-1 manufactured by Asahi Kasei Corporation)
3.0 g was dissolved in ethyl lactate to prepare a solution having a solid content of 5 wt%, and the same spin coater method as in Example 1 was used to form a thin film having a thickness of 1.7 μm. It was firmly attached to a rectangular aluminum frame with an epoxy adhesive. This thin film was left in a desiccator at a humidity of 100% with water, and no sagging or wrinkling occurred. For reference, the spectral characteristics of this thin film are shown in FIG.
実施例4 セルロースアセテートブチレート(イーストマンコダ
ック社製381−20,ブチリル含量,37%)とニトロセルロ
ース(旭化成工業製,H−120)について下記割合につい
て各々の溶液を作り、実施例1と同じ方法において各組
成の薄膜を作り、アルミフレームに固着して水を張った
湿度100%のデシケーター中に放置した。CAB100%の薄
膜は、しわが発生し、ニトロセルロース10wt%含有する
薄膜は、若干微小なしわの発生が見られたが、 ニトロセルロース20wt%以上含有するCABの薄膜は、い
ずれもたるみや、しわの発生は、まったくなかった。Example 4 Each solution was prepared for cellulose acetate butyrate (381-20, manufactured by Eastman Kodak Company, butyryl content, 37%) and nitrocellulose (H-120, manufactured by Asahi Kasei Kogyo Co., Ltd.) at the following ratios, and the same as in Example 1. In the method, a thin film of each composition was prepared, fixed to an aluminum frame, and left in a desiccator of 100% humidity with water. CAB 100% thin film wrinkled, nitrocellulose 10 wt% thin film slightly wrinkled, The CAB thin film containing nitrocellulose of 20 wt% or more did not have any sagging or wrinkling.
実施例5 セルロースアセテートブチレート(イーストマン・コ
ダック社製531−1,ブチリル含量,50%)7.0gとニトロセ
ルロース(旭化成工業製,H−500,硝化度12.0%)5gを酢
酸エチルセロソルブに溶解し、固型分濃度6.0wt%の溶
液を調整した。又、含フッ素メタアクリレート樹脂(屈
折率,n=1365)を、パーフロロトリブチルアミンに溶解
し、0.8wt%の溶液を調整した。Example 5 7.0 g of cellulose acetate butyrate (531-1, manufactured by Eastman Kodak Company, butyryl content, 50%) and 5 g of nitrocellulose (H-500, manufactured by Asahi Kasei Kogyo, nitrification degree 12.0%) were dissolved in ethyl acetate cellosolve. Then, a solution having a solid content concentration of 6.0 wt% was prepared. A fluorinated methacrylate resin (refractive index, n = 1365) was dissolved in perfluorotributylamine to prepare a 0.8 wt% solution.
スピンコーターにシリコンウェハーをセットして、CA
B/NCの混合溶液を20cc滴下し、900rpm30秒間回転させる
事により、シリコンウェハー上にCAB/NCの薄膜を形成せ
しめ、ホットプレートにより溶媒を蒸発せしめた。次い
で、この上に、含フッ素メタアクリレート溶液を3cc滴
下し、600rpmで30秒間回転させ、乾燥させた。そして、
二層構造の薄膜を形成させた。Set the silicon wafer on the spin coater, CA
By dropping 20 cc of the mixed solution of B / NC and rotating at 900 rpm for 30 seconds, a thin film of CAB / NC was formed on the silicon wafer, and the solvent was evaporated using a hot plate. Next, 3 cc of the fluorine-containing methacrylate solution was dropped on this, rotated at 600 rpm for 30 seconds, and dried. And
A thin film having a two-layer structure was formed.
一方、アルミフレーム(外径120×98mm)の端面に、
エポキシ接着剤を塗布しこれを上記薄膜の含フッ素メタ
アクリレート層側に重ね合せ、エポキシを硬化させる事
により、フレームと膜を接着させた。このものを、水の
中に浸し、30分間放置後ウェハーと膜を分離し、膜付フ
レームを水中から取り出し、風乾させ、再度スピンコー
ターに、膜面が上になる様セットし、含フッ素メタアク
リレート塗膜を形成させることにより、目的とする三層
構造の多層膜を有する厚さ3.1μmの非反射性ペリクル
を得た。On the other hand, on the end face of aluminum frame (outer diameter 120 × 98mm)
An epoxy adhesive was applied, and this was superimposed on the fluorine-containing methacrylate layer side of the thin film, and the epoxy was cured to bond the frame and the film. This is immersed in water, left for 30 minutes to separate the wafer and the film, the frame with the film is taken out of the water, air-dried, and set again on a spin coater so that the film surface faces up. By forming an acrylate coating film, a 3.1 μm-thick non-reflective pellicle having a target multilayer film having a three-layer structure was obtained.
このペリクルの分光特性は、第2図に示す如く365mm
での光線透過率は、95%〜99.5%であり平均透過率も9
7.25%と高いものであった。この薄膜を水を張った湿度
100%のデシケーター中に放置したが、たるみや、しわ
の発生は、まったくなかった。The spectral characteristics of this pellicle are 365 mm as shown in FIG.
Light transmittance is 95% ~ 99.5% and the average transmittance is 9
It was as high as 7.25%. Humidity when this film is watered
When placed in a 100% dessicator, there was no sagging or wrinkling.
比較例 実施例1,2,3,で使用した、セルロースアセテート、セ
ルロースアセテートブチレート、セルロースアセテート
プロピオネート及びニトロセルロースのそれぞれ単体か
ら薄膜を作り、耐湿性、及び耐光性について比較した。
耐湿性は、湿度100%中での薄膜保持性(たるみや、し
わの発生)で判定し、耐光性はi線(365mm)照射によ
る転写の発生する迄の時間で比較した。転写とは、光を
照射した部分と未照射部分の薄膜の色に差が生じる現象
である。すなわち光学距離=膜厚×屈折率、の変化であ
る。比較結果を表−1に示す。転写の測定は、薄膜の半
分をアルミニウム箔で覆い、ワコム社製、UVソーラーシ
ュミレーターで、365mm、50mw/cm2の光を照射し、照射
部とアルミ箔で覆った非照射部の薄膜の色に差が出る迄
の時間を転写発生迄の時間とした。Comparative Example A thin film was formed from each of cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate, and nitrocellulose used in Examples 1, 2, and 3, and their moisture resistance and light resistance were compared.
The moisture resistance was determined by the thin film retention property (the occurrence of sagging and wrinkling) in a humidity of 100%, and the light resistance was compared by the time until transfer by i-ray (365 mm) irradiation occurred. The transfer is a phenomenon in which a difference occurs in the color of a thin film between a portion irradiated with light and a portion not irradiated with light. That is, optical distance = film thickness × refractive index. Table 1 shows the comparison results. Measurement of transcription, a half of the film covered with aluminum foil, Wacom Co., a UV solar simulator, 365 mm, irradiated with light of 50 mw / cm 2, the color of a thin film of non-irradiated portion covered by the irradiation portion and the aluminum foil The time until the difference appeared was defined as the time until transfer occurred.
この比較例を見てもわかる様に本発明の薄膜は、高湿
度での形状保持性が良く、又、転写発生迄の時間も、ニ
トロセルロース単体に比べ、長くなっており耐久性に優
れていることが判かる。 As can be seen from this comparative example, the thin film of the present invention has good shape retention at high humidity, and has a longer time to transfer, compared to nitrocellulose alone, and has excellent durability. It turns out that there is.
(発明の効果) 以上の様に本発明では、均一で欠陥のない薄膜が容易
に製造可能であるとともに、該薄膜は、近紫外から遠紫
外の広い波長領域において、透明性、耐久性が極めて良
好であり、かつ、高湿度環境においても、たるみや、し
わ等の発生がなく、しかもその性能が安定して維持され
半導体集積回路の生産性向上に有用である。(Effects of the Invention) As described above, according to the present invention, a uniform and defect-free thin film can be easily produced, and the thin film has extremely high transparency and durability in a wide wavelength range from near ultraviolet to far ultraviolet. It is good and has no sagging or wrinkles even in a high humidity environment, and its performance is stably maintained, which is useful for improving the productivity of semiconductor integrated circuits.
第1図は、実施例3で製造した、セルロースアセテート
プロピオネートとニトロセルロースからなる薄膜の波長
(nm)と光線透過率(%)の関係を示すグラフ、第2図
は、実施例5で製造した、セルロースアセテートブチレ
ートとニトロセルロースからなる薄膜に反射防止コート
をした3層構造を有する薄膜の波長(nm)と光線透過率
(%)の関係を示すグラフである。FIG. 1 is a graph showing the relationship between the wavelength (nm) and the light transmittance (%) of the thin film composed of cellulose acetate propionate and nitrocellulose produced in Example 3, and FIG. 4 is a graph showing the relationship between the wavelength (nm) and the light transmittance (%) of a manufactured thin film having a three-layer structure in which an antireflection coating is applied to a thin film made of cellulose acetate butyrate and nitrocellulose.
Claims (1)
アセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロ
ースアセテートプロピオネートの少なくとも一種90〜50
wt%とからなる組成物よりなるペリクル用薄膜。1. A nitrocellulose of 10 to 50% by weight and at least one of cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate.
A thin film for a pellicle comprising a composition consisting of wt%.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11514789A JP2790850B2 (en) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | Cellulose thin film for pellicle |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11514789A JP2790850B2 (en) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | Cellulose thin film for pellicle |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02294645A JPH02294645A (en) | 1990-12-05 |
JP2790850B2 true JP2790850B2 (en) | 1998-08-27 |
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---|---|---|---|---|
KR101970059B1 (en) * | 2016-04-05 | 2019-04-17 | 아사히 가세이 가부시키가이샤 | Pellicle |
-
1989
- 1989-05-10 JP JP11514789A patent/JP2790850B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
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JPH02294645A (en) | 1990-12-05 |
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