JP2789432B2 - Method and apparatus for collecting gas for analysis - Google Patents
Method and apparatus for collecting gas for analysisInfo
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Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、分析用ガスの採取方法
及び装置に関し、例えば、ステンレス鋼の真空脱ガスを
行う真空脱ガス炉等のように、内部圧力が大きく変動す
る機器における槽内のガス組成を分析するための分析用
ガスの採取方法及び装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for collecting a gas for analysis, and more particularly to a method and an apparatus for collecting gas for analysis, such as a vacuum degassing furnace for vacuum degassing stainless steel, which is used in a device whose internal pressure fluctuates greatly. The present invention relates to a method and an apparatus for collecting an analysis gas for analyzing a gas composition of a gas.
【０００２】[0002]
【従来の技術】多くの工業プロセスでは、低圧容器内で
化学的又は物理的反応を行わせる工程が行われている。
例えば、ステンレス鋼等の高級鋼を製造するプロセスで
は、主として溶湯の脱ガスを目的とした工程で真空脱ガ
ス炉を用いている。2. Description of the Related Art In many industrial processes, a step of performing a chemical or physical reaction in a low-pressure vessel is performed.
For example, in a process for producing high-grade steel such as stainless steel, a vacuum degassing furnace is used mainly in a process for degassing molten metal.
【０００３】上記真空脱ガス炉を用いたステンレス鋼の
真空脱ガス処理は、図２に示すように、真空脱ガス炉１
の底部にステンレス鋼の溶湯を入れた取鍋２を真空シー
ルを施して固定し、真空脱ガス炉１内をエジェクターポ
ンプ３で約１０Ｔｏｒｒに減圧しながら、真空脱ガス炉
１の上部に設けたガス導入管４から加熱ガス（主に空気
又はアルゴン、時には酸素）と共に雰囲気ガス（二酸化
炭素，一酸化炭素，窒素）を吹き込み、溶融ステンレス
材料中に溶融している酸素，水素，窒素等を除去して精
製するものである。As shown in FIG. 2, vacuum degassing of stainless steel using the above vacuum degassing furnace is performed by vacuum degassing furnace 1.
A ladle 2 containing a stainless steel melt was fixed at the bottom of the vacuum degassing furnace 1 by vacuum sealing, and the vacuum degassing furnace 1 was provided at the top of the vacuum degassing furnace 1 while the pressure in the vacuum degassing furnace 1 was reduced to about 10 Torr by an ejector pump 3. Atmospheric gases (carbon dioxide, carbon monoxide, nitrogen) are blown from the gas inlet pipe 4 together with a heating gas (mainly air or argon, sometimes oxygen) to remove oxygen, hydrogen, nitrogen, etc., which are melted in the molten stainless steel material. And purify it.
【０００４】したがって、真空脱ガス炉１内のガス組成
は、得られる製品の品位を決定する主要な条件であり、
ガス組成を常時監視し、各種ガスの吹き込みなどの運転
操作にフィードバックすることが望ましい。Therefore, the gas composition in the vacuum degassing furnace 1 is a major condition for determining the quality of the obtained product.
It is desirable to constantly monitor the gas composition and feed it back to driving operations such as blowing various gases.
【０００５】このため、図２に示すように、真空脱ガス
炉１内のガスを吸引してガス分析装置５に供給するガス
採取系統６を設け、炉内のガス組成を分析することが行
われている。このガス採取系統６は、通常、真空脱ガス
炉１内のガスをフィルター７及び弁８を介して真空ポン
プ９で吸引採取し、該採取したガスを分析用ガスとして
ガス分析装置５に供給するように構成されている。For this reason, as shown in FIG. 2, a gas sampling system 6 for sucking the gas in the vacuum degassing furnace 1 and supplying the gas to the gas analyzer 5 is provided to analyze the gas composition in the furnace. Have been done. The gas sampling system 6 usually sucks and samples the gas in the vacuum degassing furnace 1 via a filter 7 and a valve 8 with a vacuum pump 9 and supplies the sampled gas to the gas analyzer 5 as an analysis gas. It is configured as follows.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、真空脱
ガス炉内は、運転開始とともに減圧状態になるので、分
析するのに必要な量のガスを採取するのが困難なため、
常時分析を行うことができなかった。さらに、通常のガ
ス分析装置で分析する場合、必要量のガスを採取するの
に時間がかかるため、分析結果は、ある時間内の平均値
としてのデータに過ぎず、分析結果を運転操作に反映す
ることができなかった。また、仮に、少量のガスでも分
析できるガス分析装置を使うにしても、特殊なガス分析
装置を用いなければならず、この場合でも、真空脱ガス
炉内の圧力変動に対応させることは困難であった。However, since the inside of the vacuum degassing furnace is depressurized at the start of operation, it is difficult to collect an amount of gas necessary for analysis.
The analysis could not always be performed. Furthermore, when analyzing with a normal gas analyzer, it takes time to collect the required amount of gas, so the analysis result is only an average value within a certain time, and the analysis result is reflected in the driving operation I couldn't. Even if a gas analyzer that can analyze even a small amount of gas is used, a special gas analyzer must be used, and even in this case, it is difficult to cope with the pressure fluctuation in the vacuum degassing furnace. there were.
【０００７】そこで本発明は、上記真空脱ガス炉のよう
に、減圧下で運転され、しかも、圧力変動も大きな槽内
のガスを連続的に安定してガス分析装置に供給すること
ができる分析用ガスの採取方法及び装置を提供すること
を目的としている。Accordingly, the present invention provides an analysis system which operates under reduced pressure and can continuously and stably supply gas in a tank having a large pressure fluctuation to a gas analyzer as in the above-mentioned vacuum degassing furnace. It is an object of the present invention to provide a method and an apparatus for collecting a utility gas.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明の分析用ガスの採取方法は、圧力が変動す
る槽内のガスを真空ポンプで吸引採取し、該採取したガ
スを分析用ガスとしてガス分析装置に供給するにあた
り、前記真空ポンプより下流側の分析用ガス採取系統内
に不活性ガスを導入し、前記ガス分析装置に供給するガ
スを所定圧力又は所定流量に制御することを特徴として
いる。In order to achieve the above-mentioned object, a method for collecting a gas for analysis according to the present invention is characterized in that a gas in a tank whose pressure fluctuates is suctioned and collected by a vacuum pump, and the collected gas is analyzed. When supplying the gas to the gas analyzer as an operating gas, an inert gas is introduced into an analysis gas sampling system downstream of the vacuum pump, and the gas supplied to the gas analyzer is controlled at a predetermined pressure or a predetermined flow rate. It is characterized by.
【０００９】また、本発明の分析用ガスの採取装置は、
前記槽内のガスを吸引する真空ポンプからガス分析装置
に至る間の配管系統に、該配管系統内に不活性ガスを導
入して該配管系統内を所定圧力又は所定流量に保つため
の不活性ガス導入手段を設けたことを特徴としている。Further, the apparatus for collecting gas for analysis according to the present invention comprises:
An inert gas for introducing an inert gas into the piping system and maintaining the inside of the piping system at a predetermined pressure or a predetermined flow rate into a piping system from the vacuum pump that sucks the gas in the tank to the gas analyzer. A gas introduction means is provided.
【００１０】[0010]
【作 用】上記構成によれば、ガス分析装置に必要な量
のガスを安定して供給できるので、槽内のガス組成を常
時分析することが可能となる。なお、分析対象ガス成分
が不活性ガスにより希釈されることになるが、極微量の
成分を分析するとき以外は、ほとんど問題になることは
ない。[Operation] According to the above configuration, a required amount of gas can be stably supplied to the gas analyzer, so that the gas composition in the tank can be constantly analyzed. Note that the gas component to be analyzed is diluted by the inert gas, but there is almost no problem except when a very small amount of component is analyzed.
【００１１】[0011]
【実施例】以下、本発明を、図面に示す一実施例に基づ
いてさらに詳細に説明する。図１は、本発明の分析用ガ
スの採取装置の一実施例を示す系統図であって、前記同
様に真空脱ガス炉１内のガス組成を分析するものであ
る。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in more detail with reference to an embodiment shown in the drawings. FIG. 1 is a system diagram showing one embodiment of an analytical gas sampling apparatus according to the present invention, in which the gas composition in a vacuum degassing furnace 1 is analyzed in the same manner as described above.
【００１２】真空脱ガス炉１内のガスをガス分析装置５
に供給する分析用ガス採取装置１０は、真空脱ガス炉１
にフィルター１１及び主弁１２を介して接続された配管
１３と、分析用ガス送出用真空ポンプ１４及び流量計１
５を介してガス分析装置５に接続する配管１６との間に
設けられるもので、真空ポンプ１７を有する主系統１８
と、該主系統１８の真空ポンプ１７の下流側に設けられ
た不活性ガス導入系統１９と、排気系統２０とにより構
成されている。The gas in the vacuum degassing furnace 1 is supplied to a gas analyzer 5
Analysis gas sampling device 10 to be supplied to vacuum degassing furnace 1
, A pipe 13 connected via a filter 11 and a main valve 12, a vacuum pump 14 for gas delivery for analysis, and a flow meter 1
A main system 18 having a vacuum pump 17 and provided between a pipe 16 connected to the gas analyzer 5 through the
And an inert gas introduction system 19 provided on the downstream side of the vacuum pump 17 of the main system 18, and an exhaust system 20.
【００１３】上記主系統１８は、前記真空脱ガス炉側の
配管１３に接続する上流側から順に、第１真空計２１，
３個の口径の異なる弁２２ａ，２２ｂ，２２ｃからなる
流量制御部２２，第２真空計２３，前記真空ポンプ１
７，圧力スイッチ２４，分析弁２５及び流量計（マスフ
ローメーター）２６を備えており、該分析弁２５及びマ
スフローメーター２６の下流側の配管２７が前記ガス分
析装置側の配管１６に接続されている。The main system 18 includes a first vacuum gauge 21 and a first vacuum gauge 21 in order from an upstream side connected to the pipe 13 on the vacuum degassing furnace side.
A flow rate control unit 22 including three valves 22a, 22b, and 22c having different diameters, a second vacuum gauge 23, and the vacuum pump 1;
7, a pressure switch 24, an analysis valve 25, and a flow meter (mass flow meter) 26, and a pipe 27 on the downstream side of the analysis valve 25 and the mass flow meter 26 is connected to the pipe 16 on the gas analyzer side. .
【００１４】前記不活性ガス導入系統１９は、不活性ガ
ス導入手段として、図示しない不活性ガス供給源、例え
ばアルゴンガスボンベ等から前記分析弁２５の下流側配
管２７に至る配管系２８に、減圧弁２９及び元弁３０
と、前記マスフローメーター２６により制御される流量
調節器（マスフローコントローラー）３１を設けたもの
で、マスフローメーター２６の検出流量に応じてマスフ
ローコントローラー３１が作動し、所定量の不活性ガス
を前記配管１６内に導入するように構成されている。The inert gas introducing system 19 is provided with a pressure reducing valve as an inert gas introducing means to a piping system 28 from an unillustrated inert gas supply source, for example, an argon gas cylinder or the like, to a downstream piping 27 of the analysis valve 25. 29 and main valve 30
And a flow controller (mass flow controller) 31 controlled by the mass flow meter 26. The mass flow controller 31 operates according to the detected flow rate of the mass flow meter 26, and a predetermined amount of inert gas is supplied to the pipe 16 It is configured to be introduced into.
【００１５】また、前記排気系統２０は、前記分析弁２
５の上流側から分岐する配管３２及び排気弁３３からな
るもので、主系統１８を流れるガス量が多いとき、すな
わち系統内の圧力が高いときに、真空計２１，２３や圧
力スイッチ２４の検出値に従って排気弁３３が開き、余
分なガスを系外に排出するように構成されている。The exhaust system 20 is connected to the analysis valve 2.
5 comprises a pipe 32 branching from the upstream side and an exhaust valve 33. When the amount of gas flowing through the main system 18 is large, that is, when the pressure in the system is high, detection of the vacuum gauges 21 and 23 and the pressure switch 24 is performed. The exhaust valve 33 is opened according to the value, and an extra gas is discharged outside the system.
【００１６】なお、前記フィルター１１と主弁１２との
間には、フィルター１１を逆洗するためのガスを導入す
る配管３４が設けられており、フィルター１１が目詰ま
り状態になった場合には、主弁１２を閉じて配管３４の
弁３５を開き、該配管３５から導入されるガスをフィル
ター１１に逆方向に流すことにより、フィルター１１を
取り外すことなく簡易的にフィルター１１の清掃を行う
ことができる。A pipe 34 for introducing a gas for backwashing the filter 11 is provided between the filter 11 and the main valve 12. If the filter 11 is clogged, The main valve 12 is closed, the valve 35 of the pipe 34 is opened, and the gas introduced from the pipe 35 is caused to flow in the reverse direction to the filter 11 so that the filter 11 can be easily cleaned without removing the filter 11. Can be.
【００１７】次に、上記構成の分析用ガス採取装置１０
を用いて真空脱ガス炉１内のガスをガス分析装置５に供
給する方法を説明する。まず、真空脱ガス炉１では、エ
ジェクターポンプ３が起動し（エジェクターポンプ主弁
は閉）、エジェクターポンプ３のウォーミングアップが
行われる。また、取鍋２が脱ガス炉１の底部に装着され
る。Next, the analyzing gas sampling apparatus 10 having the above-described configuration is described.
A method of supplying the gas in the vacuum degassing furnace 1 to the gas analyzer 5 using the method will be described. First, in the vacuum degassing furnace 1, the ejector pump 3 is started (the ejector pump main valve is closed), and the ejector pump 3 is warmed up. Further, the ladle 2 is attached to the bottom of the degassing furnace 1.
【００１８】このとき、真空脱ガス炉１内は大気圧であ
り、分析用ガス採取装置１０の系内も大気圧である。ま
た、流量制御部２２の各弁２２ａ，２２ｂ，２２ｃは閉
じられており、真空脱ガス炉１と分析用ガス採取装置１
０とは、遮断された状態になっている。なお、主弁１２
は、常時開でもよいが、閉じられていた場合は、開とす
る。この状態で真空ポンプ１７，分析用ガス送出用真空
ポンプ１４及びガス分析装置５を起動するとともに、排
気弁３３を開く。これにより、分析用ガス採取装置１０
内のガスは、排気系統２０あるいはガス分析装置５を介
して排出される。At this time, the inside of the vacuum degassing furnace 1 is at atmospheric pressure, and the inside of the system of the analytical gas sampling device 10 is also at atmospheric pressure. The valves 22a, 22b and 22c of the flow control unit 22 are closed, and the vacuum degassing furnace 1 and the analytical gas sampling device 1 are closed.
0 is in a state of being cut off. The main valve 12
May be normally open, but if closed, it is opened. In this state, the vacuum pump 17, the analysis gas delivery vacuum pump 14, and the gas analyzer 5 are started, and the exhaust valve 33 is opened. Thereby, the gas sampling device for analysis 10
The gas inside is exhausted via the exhaust system 20 or the gas analyzer 5.
【００１９】第２真空計２３の指示値が所定の真空度、
例えば５×１０-2Ｔｏｒｒになると、流量制御部２２に
おける小口径の弁２２ａが開き、該弁２２ａを通って真
空脱ガス炉１内のガスが吸引され、排気系統２０から排
出されてガス浄化設備に送られる。The indicated value of the second vacuum gauge 23 is a predetermined degree of vacuum,
For example, when the pressure becomes 5 × 10 −2 Torr, the small-diameter valve 22 a in the flow rate control unit 22 opens, and the gas in the vacuum degassing furnace 1 is sucked through the valve 22 a and discharged from the exhaust system 20 to purify the gas. Sent to equipment.
【００２０】そして、予告なくエジェクターポンプ主弁
が開いてエジェクターポンプ３による真空脱ガス炉１内
のガスの排出が始まるので、これに合わせて、分析用ガ
ス採取装置１０では、分析弁２５を開いてガス分析装置
５へのガスの供給を開始し、分析を開始する。このと
き、真空脱ガス炉１内の圧力が高く、十分な量のガスを
ガス分析装置５に供給できる間は、排気弁３３は開状態
を継続し、分析に必要な量以上のガスは排気系統２０か
ら排出される。Then, the main valve of the ejector pump is opened without notice and the discharge of the gas in the vacuum degassing furnace 1 by the ejector pump 3 is started. In accordance with this, the analysis valve 25 is opened in the gas sampling apparatus 10 for analysis. To start the gas supply to the gas analyzer 5 to start the analysis. At this time, as long as the pressure in the vacuum degassing furnace 1 is high and a sufficient amount of gas can be supplied to the gas analyzer 5, the exhaust valve 33 is kept open, and gas in excess of the amount required for analysis is exhausted. It is discharged from the system 20.
【００２１】真空脱ガス炉１内の圧力降下、すなわち、
第１真空計２１の指示値の低下に伴い流量制御部２２で
は、小口径の弁２２ａから中口径の弁２２ｂ，大口径の
弁２２ｃに自動的に切換えられ、以後、真空脱ガス炉１
内の圧力の状況によって各弁２２ａ，２２ｂ，２２ｃが
自動的に切換えられる。The pressure drop in the vacuum degassing furnace 1, ie,
As the indicated value of the first vacuum gauge 21 decreases, the flow control unit 22 automatically switches from the small-diameter valve 22a to the medium-diameter valve 22b and the large-diameter valve 22c.
Each of the valves 22a, 22b, 22c is automatically switched according to the state of the internal pressure.
【００２２】真空脱ガス炉１内の圧力が低下し、大口径
の弁２２ｃが開いた状態になると、排気弁３３が閉じら
れ、真空脱ガス炉１から真空ポンプ１７により吸引され
たガスは、全量がガス分析装置５に供給される状態とな
る。このガス分析装置５に供給されるガスの流量は、分
析弁２５に併設されたマスフローメーター２６によって
監視されており、該流量が所定値以下、例えば毎分２リ
ットル以下になると、マスフローメーター２６からの信
号によりマスフローコントローラー３１が作動し、不活
性ガス導入系統１９から所定量の不活性ガスが導入さ
れ、ガス分析装置５に供給するガスの全流量を毎分２リ
ットルに保つようにする。When the pressure in the vacuum degassing furnace 1 decreases and the large-diameter valve 22c is opened, the exhaust valve 33 is closed, and the gas sucked from the vacuum degassing furnace 1 by the vacuum pump 17 is The whole amount is supplied to the gas analyzer 5. The flow rate of the gas supplied to the gas analyzer 5 is monitored by a mass flow meter 26 attached to the analysis valve 25, and when the flow rate becomes a predetermined value or less, for example, 2 liters per minute or less, the mass flow meter 26 The mass flow controller 31 is activated by the signal of the above, a predetermined amount of inert gas is introduced from the inert gas introduction system 19, and the total flow rate of the gas supplied to the gas analyzer 5 is maintained at 2 liters per minute.
【００２３】また、真空脱ガス炉１では、種々のガスが
吹き込まれるため、炉内の圧力が大幅に変動するが、前
記第１真空計２１で検出した圧力に基づいて各弁を適宜
開閉することにより対応することができる。なお、真空
ポンプ１７の下流側の圧力が何らかの原因で上昇した場
合は、圧力スイッチ２４が作動して所定の安全対策を施
す。In the vacuum degassing furnace 1, since various gases are blown, the pressure inside the furnace fluctuates greatly, but each valve is appropriately opened and closed based on the pressure detected by the first vacuum gauge 21. This can be dealt with. If the pressure on the downstream side of the vacuum pump 17 rises for some reason, the pressure switch 24 operates to take a predetermined safety measure.
【００２４】上記のように、種々のガスの吹込みにより
内部圧力が変動する真空脱ガス炉１内のガス組成を分析
するにあたり、ガス分析装置５に供給するガスを所定の
流量に保つようにすることにより、ガス分析装置５にお
いてリアルタイムで分析を行うことができ、真空脱ガス
炉１内の状態を迅速に把握することができる。これによ
り、真空脱ガス炉１内に吹込むガスの種類や流量を適確
に制御することが可能となり、真空脱ガス処理の効率向
上が図れる。As described above, when analyzing the gas composition in the vacuum degassing furnace 1 in which the internal pressure fluctuates due to the injection of various gases, the gas supplied to the gas analyzer 5 is maintained at a predetermined flow rate. By doing so, the analysis can be performed in real time in the gas analyzer 5, and the state in the vacuum degassing furnace 1 can be quickly grasped. Thereby, the type and flow rate of the gas blown into the vacuum degassing furnace 1 can be accurately controlled, and the efficiency of the vacuum degassing process can be improved.
【００２５】上記実施例では、真空ポンプ１７の下流側
の流量を検出し、該流量を所定流量、すなわち、ガス分
析装置５の必要流量以上に制御するようにしているが、
真空ポンプ１７の下流側の圧力を検出して圧力を所定圧
力以上に制御するようにしてもよい。また、流量制御部
２２は、真空ポンプ１７が吸込むガスの流量を制御する
ものであり、上記口径の異なる複数の弁に代えて、開口
径を調節できる１個の弁を設けるようにしてもよく、吸
入圧力の変動幅が小さい場合等は省略することもでき
る。In the above embodiment, the flow rate on the downstream side of the vacuum pump 17 is detected, and the flow rate is controlled to a predetermined flow rate, that is, a flow rate higher than the required flow rate of the gas analyzer 5.
The pressure on the downstream side of the vacuum pump 17 may be detected to control the pressure to a predetermined pressure or more. Further, the flow control unit 22 controls the flow rate of the gas sucked by the vacuum pump 17, and a single valve whose opening diameter can be adjusted may be provided instead of the plurality of valves having different diameters. Alternatively, when the fluctuation range of the suction pressure is small, it can be omitted.
【００２６】さらに、上記実施例では、分析弁２５とマ
スフローメーター２６とを並列に設けているが、直列に
設置してもよく、ガス分析装置５が分析弁２５に相当す
る弁等を備えている場合は、分析弁２５を省略すること
ができる。加えて、真空ポンプ１７だけで十分な量の分
析用ガスをガス分析装置５に供給できる場合は、分析用
ガス送出用真空ポンプ１４を省略できるが、この分析用
ガス送出用真空ポンプ１４を設けることにより、真空ポ
ンプ１７の負担を軽減することができる。Further, in the above embodiment, the analysis valve 25 and the mass flow meter 26 are provided in parallel. However, they may be provided in series, and the gas analyzer 5 is provided with a valve or the like corresponding to the analysis valve 25. If there is, the analysis valve 25 can be omitted. In addition, when a sufficient amount of analysis gas can be supplied to the gas analyzer 5 by the vacuum pump 17 alone, the analysis gas delivery vacuum pump 14 can be omitted, but the analysis gas delivery vacuum pump 14 is provided. Thus, the load on the vacuum pump 17 can be reduced.
【００２７】なお、ガス分析装置５に供給されるガスが
不活性ガスにより希釈されるが、極微量の成分を分析す
るとき以外はほとんど問題になることがなく、組成比を
求めるだけの場合は、特定成分に対する比率を求めれば
よいので希釈量に関係なく求めることができる。特定成
分の含有量を正確に知りたい場合には、主系統１８を流
れるガス量と、不活性ガス導入系統１９から導入される
ガス量とを測定し、これらのガス量に基づいてガス分析
装置５の分析結果を補正すればよい。The gas supplied to the gas analyzer 5 is diluted with an inert gas. However, there is almost no problem except when a very small amount of components is analyzed. Since the ratio to the specific component may be determined, the ratio can be determined regardless of the dilution amount. When it is desired to accurately know the content of the specific component, the amount of gas flowing through the main system 18 and the amount of gas introduced from the inert gas introduction system 19 are measured, and based on these gas amounts, the gas analyzer is used. What is necessary is just to correct the analysis result of 5.
【００２８】また、上記実施例では、真空脱ガス炉内の
ガスを分析する例を挙げたが、本発明は、真空脱ガス炉
以外のものにも適用することが可能であり、真空に近い
状態の容器内で材料を反応させたり、処理したりする各
種分野に本発明を適用することにより、これらの操作性
を大幅に向上させることができる。Further, in the above embodiment, an example in which gas in the vacuum degassing furnace is analyzed has been described. However, the present invention can be applied to other than a vacuum degassing furnace, and is close to a vacuum. By applying the present invention to various fields in which a material is reacted or processed in a container in a state, the operability thereof can be significantly improved.
【００２９】[0029]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
内部圧力が大きく変動する機器における槽内のガス組成
を常時分析することが可能になるので、分析結果をフィ
ードバックして、槽内を所望のガス組成に制御すること
により、製品等の品質の安定化や向上を図ることができ
る。As described above, according to the present invention,
It is possible to constantly analyze the gas composition in the tank in equipment with large fluctuations in the internal pressure. By feeding back the analysis results and controlling the inside of the tank to the desired gas composition, the quality of products, etc. can be stabilized. And improvement can be achieved.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図１】 本発明装置の一実施例を示す系統図である。FIG. 1 is a system diagram showing one embodiment of the device of the present invention.
【図２】 従来の分析用ガス採取装置の一例を示す系統
図である。FIG. 2 is a system diagram showing an example of a conventional analytical gas sampling device.
１…真空脱ガス炉、５…ガス分析装置、１０…分析用ガ
ス採取装置、１７…真空ポンプ、１８…主系統、１９…
不活性ガス導入系統、２０…排気系統、２１…第１真空
計、２２…流量制御部、２３…第２真空計、２４…圧力
スイッチ、２５…分析弁、２６…マスフローメーター、
２９…減圧弁、３０…元弁、３１…マスフローコントロ
ーラー、３３…排気弁DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Vacuum degassing furnace, 5 ... Gas analyzer, 10 ... Gas sampling device for analysis, 17 ... Vacuum pump, 18 ... Main system, 19 ...
Inert gas introduction system, 20 exhaust system, 21 first vacuum gauge, 22 flow rate control unit, 23 second vacuum gauge, 24 pressure switch, 25 analysis valve, 26 mass flow meter,
29: pressure reducing valve, 30: main valve, 31: mass flow controller, 33: exhaust valve
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−133852（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−73336（ＪＰ，Ａ) 実開 平１−120645（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01N 1/00 101 G01N 1/22 G01N 1/24 C21C 7/10──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (56) References JP-A-5-133852 (JP, A) JP-A-60-73336 (JP, A) JP-A 1-120645 (JP, U) (58) Survey Field (Int.Cl. 6 , DB name) G01N 1/00 101 G01N 1/22 G01N 1/24 C21C 7/10
Claims (2)
で吸引採取し、該採取したガスを分析用ガスとしてガス
分析装置に供給するにあたり、前記真空ポンプより下流
側の分析用ガス採取系統内に不活性ガスを導入し、前記
ガス分析装置に供給するガスを所定圧力又は所定流量に
制御することを特徴とする分析用ガスの採取方法。1. A gas sampling system which is located downstream of the vacuum pump when a gas in a tank whose pressure fluctuates is suctioned and collected by a vacuum pump and the collected gas is supplied to a gas analyzer as a gas for analysis. An inert gas is introduced into the gas analyzer, and the gas supplied to the gas analyzer is controlled to a predetermined pressure or a predetermined flow rate.
で吸引採取し、該採取したガスを分析用ガスとしてガス
分析装置に供給する分析用ガスの採取装置において、前
記槽内のガスを吸引する真空ポンプから前記ガス分析装
置に至る間の配管系統に、該配管系統内に不活性ガスを
導入して該配管系統内を所定圧力又は所定流量に保つた
めの不活性ガス導入手段を設けたことを特徴とする分析
用ガスの採取装置。2. A gas sampling apparatus for collecting a gas in a tank whose pressure fluctuates by a vacuum pump and supplying the collected gas as a gas for analysis to a gas analyzer. In a piping system between the vacuum pump to be sucked and the gas analyzer, an inert gas introducing means for introducing an inert gas into the piping system and maintaining the inside of the piping system at a predetermined pressure or a predetermined flow rate is provided. An apparatus for collecting gas for analysis.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24756894A JP2789432B2 (en) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | Method and apparatus for collecting gas for analysis |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP24756894A JP2789432B2 (en) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | Method and apparatus for collecting gas for analysis |
Publications (2)
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| JP2789432B2 true JP2789432B2 (en) | 1998-08-20 |
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ID=17165436
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP24756894A Expired - Fee Related JP2789432B2 (en) | 1994-10-13 | 1994-10-13 | Method and apparatus for collecting gas for analysis |
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| CN104807681B (en) * | 2014-01-24 | 2019-07-16 | 重庆地质矿产研究院 | Automatic vacuum degassing instrument for coal bed gas or shale gas and corresponding vacuum degassing method |
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-
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- 1994-10-13 JP JP24756894A patent/JP2789432B2/en not_active Expired - Fee Related
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