JP2769760B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JP2769760B2
JP2769760B2 JP16481092A JP16481092A JP2769760B2 JP 2769760 B2 JP2769760 B2 JP 2769760B2 JP 16481092 A JP16481092 A JP 16481092A JP 16481092 A JP16481092 A JP 16481092A JP 2769760 B2 JP2769760 B2 JP 2769760B2
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memory cell
sense amplifier
signal
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address decoder
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省三 城田
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【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ソース電位を共有する
メモリセルトランジスタを持つ各メモリセルからの読出
し特性の均一化を可能としたEPROM ,EEPROM等の半導体
記憶装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device such as an EPROM or an EEPROM which can make the read characteristics from each memory cell having a memory cell transistor sharing a source potential uniform.

【0002】[0002]

【従来の技術】図1は従来におけるEPROM を備えた半導
体記憶装置を示すブロック図であり、図中1はメモリセ
ルアレイ、2は列アドレスデコーダ、3はセンスアン
プ、4は行アドレスデコーダを示している。メモリセル
アレイ1は多数のメモリセルをマトリックス状に配列し
て構成されており、同一のビット線BLに連なる各メモリ
セルトランジスタQM を構成するnチャネルMOS トラン
ジスタのドレインは列アドレスデコーダ2により、操作
される図示しないスイッチング素子を介してセンスアン
プ3に接続され、またソースはポリシリコン製の共有の
ソース電位供給ライン5に接続され、またこのソース電
位供給ライン5はその両端部を夫々アルミ製のVSSライ
ン6,6を介して図示しない電圧源に接続されている。
2. Description of the Related Art FIG. 1 is a block diagram showing a conventional semiconductor memory device having an EPROM. In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a memory cell array, 2 denotes a column address decoder, 3 denotes a sense amplifier, and 4 denotes a row address decoder. I have. Memory cell array 1 is constructed by arranging a plurality of memory cells in a matrix, the drain of the n-channel MOS transistor constituting each memory cell transistor Q M leading to the same bit line BL by the column address decoder 2, the operation The source is connected to a common source potential supply line 5 made of polysilicon, and both ends of the source potential supply line 5 are made of aluminum . It is connected to a voltage source (not shown) via V SS lines 6 and 6.

【0003】次にこのような従来の半導体記憶装置の動
作を説明する。この種のEPROM を有するメモリセルにあ
っては、通常データの書込みがない状態ではメモリセル
を構成するトランジスタのフローティングゲートに電荷
が注入されていない「1」の状態に保持され、またデー
タが書込まれるとそのメモリセルを構成するトランジス
タのフローティングゲートに電荷が注入されて「0」の
状態となり、この注入された電荷によってメモリセルの
閾値が変調、例えば大きくなり、この変化がセンスアン
プによって検出され、データが読み出されることとな
る。
Next, the operation of such a conventional semiconductor memory device will be described. In a memory cell having this type of EPROM, in a state where no data is normally written, a state of “1” where no charge is injected into a floating gate of a transistor constituting the memory cell is held, and data is written. Charge is injected into the floating gate of the transistor constituting the memory cell, and the state becomes "0". The threshold value of the memory cell is modulated, for example, increased by the injected charge, and this change is detected by the sense amplifier. And the data is read.

【0004】即ち、行アドレスデコーダ4にて所定のワ
ードラインWLが選択されると、これにゲートが接続され
ているメモリセルトランジスタのゲートがアクティブ状
態となり、ゲート電圧が閾値に達したメモリセルトラン
ジスタからはVSSライン6,6、共有のソース電位供給
ライン5を通じてソース電位がビットラインBLに供給さ
れる。列アドレスデコーダ2にてビットラインBLが選択
され、選択されたビットラインBLのデータがセンスアン
プ3で増幅され出力される。
That is, when a predetermined word line WL is selected by the row address decoder 4, the gate of the memory cell transistor whose gate is connected to the selected word line WL becomes active, and the memory cell transistor whose gate voltage reaches the threshold value is activated. V SS line 6,6 from the source potential is supplied to the bit line BL via the source potential supply line 5 of the share. The bit line BL is selected by the column address decoder 2, and the data of the selected bit line BL is amplified by the sense amplifier 3 and output.

【0005】図2はVSSライン6,6の近くに位置する
メモリセルとVSSライン6,6から遠く位置するメモリ
セルとにおけるメモリセルの閾値と電源電圧VCCとの関
係を示すグラフであり、横軸に電源電圧VCCを、また縦
軸に閾値をとって示してある。グラフ中実線はVSSライ
ン6,6の近くに位置するメモリセルの、また破線は遠
く位置するメモリセルの各閾値を示している。
[0005] Figure 2 is a graph showing the relationship between the threshold value and the power supply voltage V CC of the memory cell in a memory cell located furthest from the memory cell and V SS line 6,6 which is located near V SS line 6,6 The power supply voltage V CC is shown on the horizontal axis, and the threshold value is shown on the vertical axis. The solid line in the graph of memory cells located near the V SS line 6,6 and the broken line indicates the threshold values of the memory cells distant position.

【0006】このグラフから明らかな如く、VSSライン
6,6の近くに位置するメモリセルの閾値は高く、遠く
に位置するメモリセルの閾値は低くなっていることが解
る。このような差が生じる原因は、このメモリセルの閾
値はデータを書込むデータプログラム時間にも依存する
が、前述した如くメモリセルトランジスタのソースが共
有のソース電位供給ライン5に接続されている場合、V
SSライン6,6からの距離が各メモリセル夫々によって
異なっているため、ソース抵抗値もこれに対応して異な
ることによるものであって、この結果VSSライン6,6
に近いメモリセルとVSSライン6,6から遠いメモリセ
ルとでは夫々の閾値, アクセスタイムが異なってくるこ
とによる。
As is apparent from this graph, the threshold value of the memory cells located near the V SS lines 6 and 6 is high, and the threshold value of the memory cells located far away is low. The reason why such a difference occurs is that the threshold value of the memory cell also depends on the data programming time for writing data. However, as described above, when the source of the memory cell transistor is connected to the shared source potential supply line 5, , V
The distance from the SS line 6,6 is different by people each memory cell husband, be by different Correspondingly also the source resistance, the result V SS line 6,6
Due to the fact that each of the threshold, the access time becomes different in the distant memory cell from near the memory cell and V SS line 6, 6 to.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる事情に
鑑みなされたものであって、その目的とするところはソ
ース電位を共有するメモリセルトランジスタを持つメモ
リセルからのデータの読み出しを行う場合も、VSSライ
ンから各メモリセル迄の距離の差に起因してソース電位
に差が存在していても均一な読出し特性が設けられ、信
頼性を大幅に高める半導体記憶装置を提供するにある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to read data from a memory cell having a memory cell transistor sharing a source potential. , though there is a difference in source potential due to the difference in distance to each memory cell from the V SS line provided uniform reading characteristics is to provide a semiconductor memory device greatly improve the reliability.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】第1の本発明に係る半導
体記憶装置は、電圧源に接続された共有のソース電位供
給ラインに夫々ビット線を介してソースを接続されたメ
モリセルを構成するトランジスタを備え、アドレスデコ
ーダの選択に基づき前記メモリセルのデータをセンスア
ンプを通じて読み出すようにした半導体記憶装置におい
て、ソース電位を供給する線から各メモリセルまでの距
離に対応した前記アドレスデコーダから出力される信号
を補正信号としてセンスアンプにてデータ信号を基準信
号と一致するよう補正することを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device having memory cells each having a source connected to a common source potential supply line connected to a voltage source via a bit line. In a semiconductor memory device including a transistor and reading data of the memory cell through a sense amplifier based on selection of an address decoder, a distance from a line supplying a source potential to each memory cell is provided.
Signal output from the address decoder corresponding to the separation
Data signal as reference signal with sense amplifier as correction signal
And wherein the correction child to match items.

【0009】第2の本発明に係る半導体記憶装置は、電
圧源に接続された共有のソース電位供給ラインに夫々ビ
ット線を介してソースを接続されたメモリセルを構成す
るトランジスタを備え、アドレスデコーダの選択に基づ
き前記メモリセルのデータをセンスアンプを通じて読み
出すようにした半導体記憶装置において、メモリセルに
接続されるビット線を選択する前記アドレスデコーダか
ら出力されるアドレス信号をこれに対応したアナログ
信号に変換するD/A 変換器と、該D/A 変換器から出力さ
れるアナログ信号に基づきセンスアンプにおける電流検
出用トランジスタの利得係数を前記ソース電位を供給
する線から各メモリセルに至る距離に対応して調整する
ことを特徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor memory device including a transistor constituting a memory cell having a source connected via a bit line to a common source potential supply line connected to a voltage source, and an address decoder. In a semiconductor memory device in which data of the memory cell is read through a sense amplifier based on the selection of
Whether the address decoder selects the bit line to be connected
It is output an address signal et output, a D / A converter for converting the analog signal corresponding thereto, from the D / A converter
Is the gain factor of the current detecting transistor in the sense amplifier based on an analog signal, supplying the source potential
It is characterized in that the adjustment is made according to the distance from the line to the memory cell to each memory cell.

【0010】[0010]

【作用】第1の本発明にあっては、ソース電位を供給す
る線メモリセルとの間の距離に応じてアドレスデコ
ーダから出力される信号を補正信号としてソース電位の
の如何に拘らずセンスアンプによりデータ信号が基準
信号と一致するよう補正されることとなる。第2の本発
明にあっては、アドレスデコーダからのメモリセルに接
続されるビット線選択のためのアドレス信号をアナログ
信号に変換し、このアナログ信号に基づき、センスアン
プにおける電流検出用トランジスタの利得係数をソース
電位を供給する線と各メモリセルとの距離に対応して微
調整することが可能となる。
According to the first aspect of the present invention, a source potential is supplied.
Address deco according to the distance between the line and each memory cell.
The data signal is referenced by the sense amplifier regardless of the source potential difference , using the signal output from the
It will be corrected to match the signal . According to the second aspect of the present invention, the memory cell from the address decoder is connected.
Address signal for selecting the bit line to be connected is analog
Signal, and based on this analog signal, sense
The source of the gain coefficient of the current detecting transistor definitive in-flops
Fine adjustment can be made in accordance with the distance between the line supplying the potential and each memory cell.

【0011】[0011]

【実施例】以下本発明をその実施例を示す図面に基づき
具体的に説明する。図3は本発明に係る半導体記憶装置
の模式図であり、図中1はメモリセルアレイ、2は列ア
ドレスデコーダ、3はセンスアンプ、4は行アドレスデ
コーダを夫々を示している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be specifically described below with reference to the drawings showing the embodiments. FIG. 3 is a schematic diagram of a semiconductor memory device according to the present invention. In the figure, reference numeral 1 denotes a memory cell array, 2 denotes a column address decoder, 3 denotes a sense amplifier, and 4 denotes a row address decoder.

【0012】メモリセルアレイ1は、例えばEPROM で構
成されるメモリセルトランジスタを持つ多数のメモリセ
ルをm行, n列のマトリックス状に配列して構成されて
おり、同じ行のメモリセルトランジスタQM はそのゲー
トをワード線WLを介して行アドレスデコーダ4に、また
ソースはポリシリコンからなる共有のソース電位供給ラ
イン5を介してメモリセルアレイ1の両側に沿って配設
したVSSライン6, 6に、更にドレインは途中に列アド
レスデコーダ2にて制御されるセレクト用トランジスタ
1 〜Qn を介装させたビット線BLを介してセンスアン
プ3に接続されている。そして列アドレスデコーダ2か
らセンスアンプ3にはソース電位差を補正するためのセ
ンスアンプ補正信号が出力されるようになっている。
こにセンスアンプ補正信号とは、列アドレスデコーダ2
から出力される列アドレス信号、換言すればビット線BL
を選択するセレクト信号である。このセレクト信号はV
SS ライン6, 6とメモリセルとの距離に対応しているか
ら、この信号がセンスアンプ3に入力されるとセンスア
ンプ3においてソース電位差を補正するためのセンスア
ンプ補正信号として扱えることとなる。
[0012] The memory cell array 1, for example, m rows the number of memory cells having memory cell transistors composed of EPROM, and arranged in a matrix of n columns are configured, the memory cell transistor Q M of the same line The gate is connected to a row address decoder 4 via a word line WL, and the source is connected to V SS lines 6, 6 arranged along both sides of the memory cell array 1 via a shared source potential supply line 5 made of polysilicon. are further drain connected to the sense amplifier 3 through the bit line BL is interposed select transistor Q 1 to Q n are controlled by the column address decoder 2 on the way. Then, a sense amplifier correction signal for correcting a source potential difference is output from the column address decoder 2 to the sense amplifier 3. This
Here, the sense amplifier correction signal refers to the column address decoder 2
Column address signal output from the bit line BL
Is a select signal for selecting. This select signal is V
Does it correspond to the distance between the SS line 6, 6 and the memory cell?
When this signal is input to the sense amplifier 3, the sense
The sense amplifier for correcting the source potential difference in the amplifier 3
It can be handled as a pump correction signal.

【0013】図4はセンスアンプ3におけるソース電位
の補正回路の具体的構成を示す回路図であり、図4にお
いて11はカレントミラー回路で構成される動作アンプ、
12は閾値変更回路を示している。動作アンプ11には図示
しないリファレンス用メモリセルからのリファレンス信
号Ref が入力され、またメモリセルトランジスタQM
構成するnチャネルMOS トランジスタのドレインは途中
にnチャネルMOS トランジスタ21〜23を介在させたビッ
ト線BLにて動作アンプ11に接続され、また動作アンプ11
には閾値変更回路12及び電源電圧VCCが途中にpチャネ
ルMOS トランジスタ24を介在させて接続され、閾値変更
回路12は電源電位VCCに直列接続したpチャネルMOS ト
ランジスタ25,26 を備えており、pチャネルMOS トラン
ジスタ25のゲートは前記列アドレスデコーダ2に接続さ
れ、ここに列アドレスデコーダ2からセンスアンプ補正
信号が入力され、またpチャネルMOS トランジスタ26の
ゲートはそのソース側に夫々接続されている。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a specific configuration of a source potential correction circuit in the sense amplifier 3. In FIG. 4, reference numeral 11 denotes an operation amplifier constituted by a current mirror circuit,
Reference numeral 12 denotes a threshold value changing circuit. Operation to the amplifier 11 is input a reference signal Ref from the memory cell for reference, not shown, also bit drain which is interposed n-channel MOS transistors 21 to 23 in the middle of the n-channel MOS transistor constituting the memory cell transistor Q M The line BL is connected to the operational amplifier 11 and the operational amplifier 11
Is connected to a threshold changing circuit 12 and a power supply voltage V CC via a p-channel MOS transistor 24 in the middle, and the threshold changing circuit 12 includes p-channel MOS transistors 25 and 26 connected in series to the power supply potential V CC. , The gate of the p-channel MOS transistor 25 is connected to the column address decoder 2, to which a sense amplifier correction signal is input from the column address decoder 2, and the gate of the p-channel MOS transistor 26 is connected to its source side. I have.

【0014】動作アンプ11には前記メモリセルトランジ
スタQM を構成するnチャネルMOSトランジスタからデ
ータ信号が、また閾値変更回路12から閾値補正信号が、
更にリファレンス用メモリセルトランジスタからのリフ
ァレンス信号Ref が夫々入力されており、これらに基づ
いてメモリセルトランジスタQM からのデータ信号が基
準トランジスタのリファレンス信号Ref と等しくなるよ
う補正して出力するようになっている。
The operation amplifier 11 receives a data signal from the n-channel MOS transistor constituting the memory cell transistor Q M , a threshold correction signal from the threshold changing circuit 12,
Further reference signal Ref from the memory cell transistor for reference are respectively input, and the correction so that the data signal from the memory cell transistor Q M is equal to the reference signal Ref of the reference transistor adapted to output on the basis of these ing.

【0015】このような本発明に係る半導体記憶装置の
動作について具体的に説明する。図3に示すVSSライン
6,6の近くに位置するメモリセルQM が選択された場
合にはセンスアンプ補正信号はローレベル「L」とな
り、pチャネルMOS トランジスタ25の利得係数βを大き
くし、図2に実線で示す閾値と等しい読み出し特性が得
られる。またVSSライン6,6から遠くに位置するメモ
リセルが選択されたときはセンスアンプ補正信号がハイ
レベル「H」となって閾値変更回路12がインアクティブ
状態となり、pチャネルMOS トランジスタ全体のインピ
ーダンスが大きく、即ち利得係数βが小さくなり、その
結果、閾値は図2に破線で示す閾値よりも高くなり、実
線で示す閾値に接近した特性を示すこととなる。VSS
イン6,6からどれだけ遠くなったメモリセルに対して
センスアンプ補正信号をハイレベル「H」とするかは、
必要に応じて設定すればよい。
The operation of the semiconductor memory device according to the present invention will be specifically described. When the memory cell Q M located near the V SS lines 6 and 6 shown in FIG. 3 is selected, the sense amplifier correction signal becomes low level “L” , and the gain coefficient β of the p-channel MOS transistor 25 is increased. 2, a read characteristic equal to the threshold value indicated by the solid line is obtained. The threshold value changing circuit 12 becomes inactive the sense amplifier correction signal becomes the high level "H" when the memory cell located far from the V SS line 6,6 is selected, p-channel MOS transistor total impedance Is large, that is, the gain coefficient β is small. As a result, the threshold value is higher than the threshold value indicated by the broken line in FIG. 2, and the characteristic is close to the threshold value indicated by the solid line. Whether the sense amplifier correction signal to the high level "H" to the just how far away it was the memory cell from the V SS line 6,6,
It can be set as needed.

【0016】図5は本発明におけるセンスアンプ3の他
の増幅回路を示す回路図である。この回路においては閾
値変更回路12におけるpチャネルMOS トランジスタ25の
ゲートにディジタル・アナログ(D/A) 変換器28を設け、
該D/A 変換器28のディジタル信号入力端に列アドレスデ
コーダ2からのセンスアンプ補正信号が入力されるよう
にしてある。
FIG. 5 is a circuit diagram showing another amplifier circuit of the sense amplifier 3 according to the present invention. In this circuit, a digital / analog (D / A) converter 28 is provided at the gate of the p-channel MOS transistor 25 in the threshold value changing circuit 12,
The sense amplifier correction signal from the column address decoder 2 is input to the digital signal input terminal of the D / A converter 28.

【0017】D/A 変換器28に列アドレスデコーダ2から
センスアンプ補正信号が入力されると、夫々に対応した
アナログ信号に変換されてpチャネルMOS トランジスタ
25のゲートに印加され、pチャネルMOS トランジスタ25
の利得係数βをVSSライン6,6に近く位置するメモリ
セルから遠くなるに従ってその距離に対応して利得係数
を小さくすべくアナログ的に微調整するようになってい
る。
When a sense amplifier correction signal is input from the column address decoder 2 to the D / A converter 28, the signal is converted into an analog signal corresponding to each of the signals and is converted into a p-channel MOS transistor.
25 is applied to the gate of p-channel MOS transistor 25
Is finely adjusted in an analog manner so as to decrease the gain coefficient in accordance with the distance from the memory cell located closer to the V SS lines 6 and 6.

【0018】これによって動作アンプ11からの出力はV
SSライン6,6から各メモリセル迄の距離の差の如何に
かかわらず、ソース電位差が略均一に補正されることと
なる。他の構成及び動作は図4に示す実施例と実質的に
同じであり、対応する部分に同じ番号を付して説明を省
略する。
As a result, the output from the operational amplifier 11 becomes V
Regardless of the difference in the distance from the SS lines 6 and 6 to each memory cell, the source potential difference is corrected substantially uniformly. Other configurations and operations are substantially the same as those of the embodiment shown in FIG. 4, and corresponding portions are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上の如く第1の本発明にあってはソー
ス電位を供給する線から各メモリセル迄の距離に対応し
アドレスデコーダから出力される信号を補正信号とし
メモリセルからのデータ信号を基準信号と一致するよ
補正することとしているから、メモリセル数を増大し
てもその閾値,アクセスタイム等の読出し特性が変わら
ず、読出しデータの信頼性を大幅に向上し得る優れた効
果を奏するものである。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the saw
The signal output from the address decoder corresponding to the distance from the line supplying the potential to each memory cell is used as a correction signal.
Coincides with the reference signal a data signal from a memory cell Te
Because they were decided to cormorants correction, by increasing the number of memory cells may not change its threshold, it reads characteristics such as access time, in which excellent effects that can greatly improve the reliability of the read data.

【0020】第2の本発明にあってはアドレスデコーダ
から出力される、メモリセルに接続されるビット線を選
択するアドレス信号を、D/A 変換器によりアナログ信号
に変換し、これに基づいてセンスアンプにおける電流検
出用トランジスタの利得係数を、ソース電位を供給する
線とメモリセルとの距離に対応して微調整することが可
能となり、より精細な読出し特性の均一化が図れ、信頼
性を一層高め得る等本発明は優れた効果を奏するもので
ある。
According to a second aspect of the present invention, an address decoder
Select the bit line connected to the memory cell output from
Select the address signal to be converted to an analog signal by the D / A converter.
, And based on this, the current
Supply the gain factor of the output transistor and the source potential
Fine adjustment to enables isosamples corresponds to the distance between the line and the memory cell, and more Hakare the uniformity of the fine reading characteristics, etc. The present invention, which may further increase the reliability are those excellent effects.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】従来装置のブロック図である。FIG. 1 is a block diagram of a conventional device.

【図2】電源電圧とメモリセルの閾値との関係を示すグ
ラフである。
FIG. 2 is a graph showing a relationship between a power supply voltage and a threshold value of a memory cell.

【図3】本発明に係る半導体記憶装置の模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.

【図4】本発明に係る半導体記憶装置におけるセンスア
ンプの増幅回路図である。
FIG. 4 is an amplifier circuit diagram of a sense amplifier in the semiconductor memory device according to the present invention.

【図5】本発明に係る半導体記憶装置におけるセンスア
ンプの他の増幅回路図である。
FIG. 5 is another amplifier circuit diagram of the sense amplifier in the semiconductor memory device according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2 列アドレスデコーダ 3 センスアンプ 4 行アドレスデコーダ 5 ソース電位供給ライン 6 VSSライン 11 動作アンプ 12 閾値変更回路 QM メモリセルトランジスタ 21〜23 nチャネルMOS トランジスタ 24〜26 pチャネルMOS トランジスタ1 memory cell array 2 column address decoder 3 sense amplifier 4 row address decoder 5 a source potential supply line 6 V SS line 11 operation amplifier 12 threshold changing circuit Q M memory cell transistors 21 to 23 n-channel MOS transistors 24 to 26 p-channel MOS transistor

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 電圧源に接続された共有のソース電位供
給ラインに夫々ビット線を介してソースを接続されたメ
モリセルを構成するトランジスタを備え、アドレスデコ
ーダの選択に基づき前記メモリセルのデータをセンスア
ンプを通じて読み出すようにした半導体記憶装置におい
て、ソース電位を供給する線から各メモリセルまでの距離に
対応した前記アドレスデコーダから出力される信号を補
正信号として センスアンプにてデータ信号を基準信号と
一致するよう補正することを特徴とする半導体記憶装
置。
1. A transistor comprising a memory cell having a source connected via a bit line to a common source potential supply line connected to a voltage source, and based on selection of an address decoder, data of the memory cell is provided. In a semiconductor memory device that reads data through a sense amplifier, the distance from the line supplying the source potential to each memory cell
Complements the signal output from the corresponding address decoder.
The data signal is used as the positive signal by the sense amplifier as the reference signal.
The semiconductor memory device comprising a correction child to match.
【請求項2】 電圧源に接続された共有のソース電位供
給ラインに夫々ビット線を介してソースを接続されたメ
モリセルを構成するトランジスタを備え、アドレスデコ
ーダの選択に基づき前記メモリセルのデータをセンスア
ンプを通じて読み出すようにした半導体記憶装置におい
て、メモリセルに接続されるビット線を選択する前記アドレ
スデコーダから出力されるアドレス 信号をこれに対応
たアナログ信号に変換するD/A 変換器と、該D/A 変換
器から出力されるアナログ信号に基づきセンスアンプに
おける電流検出用トランジスタの利得係数を前記ソー
ス電位を供給する線から各メモリセルに至る距離に対応
して調整することを特徴とする半導体記憶装置。
2. A semiconductor device comprising transistors forming memory cells each having a source connected via a bit line to a common source potential supply line connected to a voltage source, and transferring data of the memory cells based on selection of an address decoder. In a semiconductor memory device which reads data through a sense amplifier, the address for selecting a bit line connected to a memory cell is provided.
The address signal output from the Sudekoda, a D / A converter for converting the analog signal corresponding <br/> thereto, the D / A converter
The gain factor of the current detecting transistor in the sense amplifier based on the analog signal output from the vessel, the saw
A semiconductor memory device that adjusts according to a distance from a line supplying a potential to each memory cell.
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