JP2761140B2 - 分光分析装置 - Google Patents
分光分析装置Info
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- JP2761140B2 JP2761140B2 JP2361292A JP2361292A JP2761140B2 JP 2761140 B2 JP2761140 B2 JP 2761140B2 JP 2361292 A JP2361292 A JP 2361292A JP 2361292 A JP2361292 A JP 2361292A JP 2761140 B2 JP2761140 B2 JP 2761140B2
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- Japan
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- optical path
- light beam
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、サンプル容器に収容さ
れた粒状体のサンプルに対して、測定用の光線束を照射
する光源部と、測定用の光線束のサンプルからの透過光
線束を分光分析する分光測定部とからなる分光分析装置
に関し、例えば、穀物に含まれる水分や蛋白質や澱粉等
の各種成分含有量を分析する分光分析装置に関する。
れた粒状体のサンプルに対して、測定用の光線束を照射
する光源部と、測定用の光線束のサンプルからの透過光
線束を分光分析する分光測定部とからなる分光分析装置
に関し、例えば、穀物に含まれる水分や蛋白質や澱粉等
の各種成分含有量を分析する分光分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の分光分析装置は、サンプル容器に
粒状体のサンプルを収容して、そのサンプルが静止状態
となるように、或いは均一密度を実現するため振動状態
となるように前記サンプル容器を保持する保持部を設け
て構成してあり、サンプルの透過光線束を分光測定する
サンプル測定モードと、前記サンプル容器からサンプル
を取り出した空の状態でそのサンプル容器を保持して透
過光線束を分光測定するレファレンス測定モードとの二
モードで用いるように構成してあり、レファレンス測定
モードのデータによりサンプル測定モードのデータを補
正することでサンプル容器の汚れや光源部の光量変動の
補正を行うように構成してあった。
粒状体のサンプルを収容して、そのサンプルが静止状態
となるように、或いは均一密度を実現するため振動状態
となるように前記サンプル容器を保持する保持部を設け
て構成してあり、サンプルの透過光線束を分光測定する
サンプル測定モードと、前記サンプル容器からサンプル
を取り出した空の状態でそのサンプル容器を保持して透
過光線束を分光測定するレファレンス測定モードとの二
モードで用いるように構成してあり、レファレンス測定
モードのデータによりサンプル測定モードのデータを補
正することでサンプル容器の汚れや光源部の光量変動の
補正を行うように構成してあった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述の従来技
術では、サンプル容器に粒状体のサンプルを収容して分
光測定するものであったので、サンプル容器内壁にサン
プルのカス等の付着が激しいこともあり、測定の都度、
サンプル容器に対してサンプルの挿入排出動作を行いサ
ンプル測定モードとレファレンス測定モードとを切替え
たり、頻繁にサンプル容器を清掃する必要が生じて作業
に手間取るという欠点があった。尚、レファレンス測定
モード時に分光測定部で計測可能な光量にまで減衰する
のに必要とされる光減衰機構のセット等の諸操作が煩わ
しいという欠点もあった。。本発明の目的は上述した従
来欠点を解消する点にある。
術では、サンプル容器に粒状体のサンプルを収容して分
光測定するものであったので、サンプル容器内壁にサン
プルのカス等の付着が激しいこともあり、測定の都度、
サンプル容器に対してサンプルの挿入排出動作を行いサ
ンプル測定モードとレファレンス測定モードとを切替え
たり、頻繁にサンプル容器を清掃する必要が生じて作業
に手間取るという欠点があった。尚、レファレンス測定
モード時に分光測定部で計測可能な光量にまで減衰する
のに必要とされる光減衰機構のセット等の諸操作が煩わ
しいという欠点もあった。。本発明の目的は上述した従
来欠点を解消する点にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明による分光分析装置の特徴構成は、透光性の回転
基板と、その回転基板上に粒状体のサンプルを一定高さ
で搭載するサンプル投入機構と、搭載された粒状体のサ
ンプルを前記回転基板上から除去するサンプル排出機構
とを、前記回転基板上でサンプル搭載領域とサンプル未
搭載領域とが分離形成されるように設けて構成されるサ
ンプル収容部と、前記回転基板の一端面側から他端面側
に向けて形成された透過光路と、その透過光路に沿って
測定用の光線束を照射する光源部と、前記透過光路を通
った光線束を分光分析する分光測定部とを設け、前記透
過光路を、前記サンプル搭載領域を透過する第一光路
と、前記サンプル未搭載領域を透過する第二光路とから
構成し、前記第一、第二光路に択一的に前記光源部から
の光線束を照射する切替え手段を設けてあることにあ
る。上述の構成において、前記第二光路に、前記測定用
の光線束を減衰する光減衰機構を設けてあることが好ま
しい。
本発明による分光分析装置の特徴構成は、透光性の回転
基板と、その回転基板上に粒状体のサンプルを一定高さ
で搭載するサンプル投入機構と、搭載された粒状体のサ
ンプルを前記回転基板上から除去するサンプル排出機構
とを、前記回転基板上でサンプル搭載領域とサンプル未
搭載領域とが分離形成されるように設けて構成されるサ
ンプル収容部と、前記回転基板の一端面側から他端面側
に向けて形成された透過光路と、その透過光路に沿って
測定用の光線束を照射する光源部と、前記透過光路を通
った光線束を分光分析する分光測定部とを設け、前記透
過光路を、前記サンプル搭載領域を透過する第一光路
と、前記サンプル未搭載領域を透過する第二光路とから
構成し、前記第一、第二光路に択一的に前記光源部から
の光線束を照射する切替え手段を設けてあることにあ
る。上述の構成において、前記第二光路に、前記測定用
の光線束を減衰する光減衰機構を設けてあることが好ま
しい。
【０００５】
【作用】サンプル投入機構により透光性の回転基板上に
一定高さで搭載されたサンプルは、基板の回転に伴い移
動した後サンプル排出機構により基板上から排出除去さ
れる。このとき、基板上、サンプル投入機構により投入
されてからサンプル排出機構により排出除去されるまで
の間をサンプル搭載領域、又、サンプル排出機構により
排出除去されてからサンプル投入機構により投入される
までをサンプル未搭載領域とすると、前記回転基板の一
端面側から他端面側に向けた透過光路を、サンプル搭載
領域を透過する第一光路と、前記サンプル未搭載領域を
透過する第二光路とで構成して、切替え手段によりそれ
ら透過光路に光源からの測定用光線束を択一的に切替え
照射することにより、サンプル測定モードとレファレン
ス測定モードとを交互に実現することができる。そのよ
うな第二光路に測定用の光線束を減衰する光減衰機構を
固定的に設けておけば、サンプル測定モードの度に光減
衰機構の光路に対する取付け取り外し操作をする必要が
なくなる。
一定高さで搭載されたサンプルは、基板の回転に伴い移
動した後サンプル排出機構により基板上から排出除去さ
れる。このとき、基板上、サンプル投入機構により投入
されてからサンプル排出機構により排出除去されるまで
の間をサンプル搭載領域、又、サンプル排出機構により
排出除去されてからサンプル投入機構により投入される
までをサンプル未搭載領域とすると、前記回転基板の一
端面側から他端面側に向けた透過光路を、サンプル搭載
領域を透過する第一光路と、前記サンプル未搭載領域を
透過する第二光路とで構成して、切替え手段によりそれ
ら透過光路に光源からの測定用光線束を択一的に切替え
照射することにより、サンプル測定モードとレファレン
ス測定モードとを交互に実現することができる。そのよ
うな第二光路に測定用の光線束を減衰する光減衰機構を
固定的に設けておけば、サンプル測定モードの度に光減
衰機構の光路に対する取付け取り外し操作をする必要が
なくなる。
【０００６】
【発明の効果】本発明によれば、サンプル測定モードと
レファレンス測定モードとを交互に切り替えることを容
易に実現しながら複数のサンプル群に対して連続的に測
定が行える測定効率のよい分光分析装置を提供できるよ
うになった。
レファレンス測定モードとを交互に切り替えることを容
易に実現しながら複数のサンプル群に対して連続的に測
定が行える測定効率のよい分光分析装置を提供できるよ
うになった。
【０００７】
【実施例】以下に実施例を説明する。図１及び図２に示
すように、分光分析装置は、硝子等で構成される透光性
の回転基板１と、その回転基板１上に粒状体のサンプル
Ｓを一定高さで搭載するサンプル投入機構２と、搭載さ
れた粒状体のサンプルＳを前記回転基板１上から除去す
るサンプル排出機構３とを、前記回転基板１上でサンプ
ル搭載領域Ｒ１とサンプル未搭載領域Ｒ２とが分離形成
されるように設けて構成されるサンプル収容部４と、前
記回転基板１の一端面側から他端面側に向けて形成され
た透過光路５と、その透過光路５に沿って近赤外の波長
を含む測定用の光線束を照射する光源部６と、前記透過
光路５を通った光線束を分光分析する近赤外分光測定部
７とを設け、前記透過光路５を、前記サンプル搭載領域
Ｒ１を透過する第一光路５ａと、前記サンプル未搭載領
域Ｒ２を透過する第二光路５ｂとから構成し、前記第
一、第二光路５ａ，５ｂに択一的に前記光源部１からの
光線束を照射する切替え手段８を設けて構成してある。
すように、分光分析装置は、硝子等で構成される透光性
の回転基板１と、その回転基板１上に粒状体のサンプル
Ｓを一定高さで搭載するサンプル投入機構２と、搭載さ
れた粒状体のサンプルＳを前記回転基板１上から除去す
るサンプル排出機構３とを、前記回転基板１上でサンプ
ル搭載領域Ｒ１とサンプル未搭載領域Ｒ２とが分離形成
されるように設けて構成されるサンプル収容部４と、前
記回転基板１の一端面側から他端面側に向けて形成され
た透過光路５と、その透過光路５に沿って近赤外の波長
を含む測定用の光線束を照射する光源部６と、前記透過
光路５を通った光線束を分光分析する近赤外分光測定部
７とを設け、前記透過光路５を、前記サンプル搭載領域
Ｒ１を透過する第一光路５ａと、前記サンプル未搭載領
域Ｒ２を透過する第二光路５ｂとから構成し、前記第
一、第二光路５ａ，５ｂに択一的に前記光源部１からの
光線束を照射する切替え手段８を設けて構成してある。
【０００８】前記サンプル投入機構２は、前記回転基板
１の回転中心から径方向に延設された投入ストッパー２
ａと、投入ストッパー２ａより回転方向側に測定サンプ
ルＳである籾米を投入する投入シュート２ｂと、投入さ
れたサンプルＳの積載高さを一定値に調整するブレード
２ｃとで構成してあり、前記回転基板１上に積載された
サンプルＳは、前記回転基板１の回転に伴い回転方向に
搬送され、ブレード２ｃにより積載高さ調節される。
１の回転中心から径方向に延設された投入ストッパー２
ａと、投入ストッパー２ａより回転方向側に測定サンプ
ルＳである籾米を投入する投入シュート２ｂと、投入さ
れたサンプルＳの積載高さを一定値に調整するブレード
２ｃとで構成してあり、前記回転基板１上に積載された
サンプルＳは、前記回転基板１の回転に伴い回転方向に
搬送され、ブレード２ｃにより積載高さ調節される。
【０００９】前記サンプル排出機構３は、前記投入スト
ッパー２ａより反回転方向側で前記回転基板１の回転中
心から径方向に前記回転基板１表面に摺動するように延
設された排出ストッパー３ａと、排出ストッパー３ａに
より除去された測定済みのサンプルＳを回転基板１上か
ら落下排出する排出シュート３ｂとから構成してある。
ッパー２ａより反回転方向側で前記回転基板１の回転中
心から径方向に前記回転基板１表面に摺動するように延
設された排出ストッパー３ａと、排出ストッパー３ａに
より除去された測定済みのサンプルＳを回転基板１上か
ら落下排出する排出シュート３ｂとから構成してある。
【００１０】前記回転基板１上であって、前記ブレード
２ｃ位置から前記排出ストッパー３ａ位置までがサンプ
ル搭載領域Ｒ１となり、前記回転基板１上であって、前
記排出ストッパー３ａ位置から前記投入ストッパー２ａ
位置までがサンプル未搭載領域Ｒ２となる。
２ｃ位置から前記排出ストッパー３ａ位置までがサンプ
ル搭載領域Ｒ１となり、前記回転基板１上であって、前
記排出ストッパー３ａ位置から前記投入ストッパー２ａ
位置までがサンプル未搭載領域Ｒ２となる。
【００１１】前記透過光路５は、前記回転基板１上方で
あって、前記回転基板１の面に平行に導かれた前記光源
部６からの測定光線束を前記回転基板１の上端面側から
下端面側に反射するミラーａ，ｂと、前記回転基板１の
上端面側から下端面側に透過した光線束を前記分光測定
部７に向けて前記回転基板１の面に平行な方向に反射す
るミラーｃ，ｄとで構成してある。前記ミラーａ，ｂ
は、前記回転基板１の上方側で前記光源部６からの直線
状の光路上であって、サンプル搭載領域Ｒ１及びサンプ
ル未搭載領域Ｒ２に対応する位置に設けてあり、前記ミ
ラーｃ，ｄは、前記回転基板１の下方側で前記分光測定
部７への直線状の光路上であって前記ミラーａ，ｂの直
下に設けてある。
あって、前記回転基板１の面に平行に導かれた前記光源
部６からの測定光線束を前記回転基板１の上端面側から
下端面側に反射するミラーａ，ｂと、前記回転基板１の
上端面側から下端面側に透過した光線束を前記分光測定
部７に向けて前記回転基板１の面に平行な方向に反射す
るミラーｃ，ｄとで構成してある。前記ミラーａ，ｂ
は、前記回転基板１の上方側で前記光源部６からの直線
状の光路上であって、サンプル搭載領域Ｒ１及びサンプ
ル未搭載領域Ｒ２に対応する位置に設けてあり、前記ミ
ラーｃ，ｄは、前記回転基板１の下方側で前記分光測定
部７への直線状の光路上であって前記ミラーａ，ｂの直
下に設けてある。
【００１２】前記ミラーａは上又は下方向に、且つ、前
記ミラーｃは下又は上方向に同時に作動させるように取
り付けてあり、以て前記切替え手段８を構成してある。
詳述すると、前記ミラーａ，ｃを光路から退避させるこ
とで測定光線束の進行する光源部６、ミラーｂ、ミラー
ｄ、分光測定部７でなる光路が前記第二光路５ｂとな
り、前記ミラーａ，ｃを光路内に配置避することで測定
光線束の進行する光源部６、ミラーａ、ミラーｃ、分光
測定部７でなる光路が前記第一光路５ａとなる。
記ミラーｃは下又は上方向に同時に作動させるように取
り付けてあり、以て前記切替え手段８を構成してある。
詳述すると、前記ミラーａ，ｃを光路から退避させるこ
とで測定光線束の進行する光源部６、ミラーｂ、ミラー
ｄ、分光測定部７でなる光路が前記第二光路５ｂとな
り、前記ミラーａ，ｃを光路内に配置避することで測定
光線束の進行する光源部６、ミラーａ、ミラーｃ、分光
測定部７でなる光路が前記第一光路５ａとなる。
【００１３】前記第二光路５ｂに、前記測定用の光線束
を減衰する光減衰機構９を設けてある。詳述すると、前
記光減衰機構９は、前記ミラーｂ，ｄの双方或いは何れ
か一方をすり硝子を用いて構成してある。
を減衰する光減衰機構９を設けてある。詳述すると、前
記光減衰機構９は、前記ミラーｂ，ｄの双方或いは何れ
か一方をすり硝子を用いて構成してある。
【００１４】前記第一光路５ａを用いた測定がサンプル
測定モードとなり、前記第二光路５ｂを用いた測定がレ
ファレンス測定モードとなる。サンプル測定モードでの
分光測定出力をＥS （λ）、レファレンス測定モードで
の分光測定出力をＥR （λ）とすると、 ＥS （λ）＝Ｓ（λ）ＳG （λ） ＥR （λ）＝Ｒ（λ）ＳG （λ） Ａ＝ｌｏｇ〔ＥR （λ）／ＥS （λ）〕＝ｌｏｇ〔Ｒ
（λ）／Ｓ（λ）〕 となり、前記回転基板１の表面の汚れの影響は除去でき
る。但し、Ｓ（λ）は汚れなき場合のサンプル測定出
力、Ｒ（λ）は汚れなき場合のレファレンス測定出力、
ＳG （λ）はサンプル流路の測定出力である。
測定モードとなり、前記第二光路５ｂを用いた測定がレ
ファレンス測定モードとなる。サンプル測定モードでの
分光測定出力をＥS （λ）、レファレンス測定モードで
の分光測定出力をＥR （λ）とすると、 ＥS （λ）＝Ｓ（λ）ＳG （λ） ＥR （λ）＝Ｒ（λ）ＳG （λ） Ａ＝ｌｏｇ〔ＥR （λ）／ＥS （λ）〕＝ｌｏｇ〔Ｒ
（λ）／Ｓ（λ）〕 となり、前記回転基板１の表面の汚れの影響は除去でき
る。但し、Ｓ（λ）は汚れなき場合のサンプル測定出
力、Ｒ（λ）は汚れなき場合のレファレンス測定出力、
ＳG （λ）はサンプル流路の測定出力である。
【００１５】以下に別実施例を説明する。先の実施例で
は、第一光路５ａを第二光路５ｂより光源部６側に配置
しているが、これに限定するものではなく第二光路５ｂ
を第一光路５ａより光源部６側に配置してもよい。この
場合には、ミラーｂ，ｄが切替え手段８により光路に対
して出退するように構成するとともに、サンプル搭載領
域Ｒ１及びサンプル未搭載領域Ｒ２も光源部６に対して
逆の配置構成となる。ミラーａ，ｃの光路に対する出退
方向は特に限定するものではない。光源部、分光測定部
の構成は特に限定するものではなく、近赤外線領域に対
応するものであれば任意である。先の実施例は、サンプ
ルとして籾米を用いた場合を説明したが、サンプルはこ
れに限定するものではなく任意の穀物、その他のものに
適用できる。
は、第一光路５ａを第二光路５ｂより光源部６側に配置
しているが、これに限定するものではなく第二光路５ｂ
を第一光路５ａより光源部６側に配置してもよい。この
場合には、ミラーｂ，ｄが切替え手段８により光路に対
して出退するように構成するとともに、サンプル搭載領
域Ｒ１及びサンプル未搭載領域Ｒ２も光源部６に対して
逆の配置構成となる。ミラーａ，ｃの光路に対する出退
方向は特に限定するものではない。光源部、分光測定部
の構成は特に限定するものではなく、近赤外線領域に対
応するものであれば任意である。先の実施例は、サンプ
ルとして籾米を用いた場合を説明したが、サンプルはこ
れに限定するものではなく任意の穀物、その他のものに
適用できる。
【００１６】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にする為に符号を記すが、該記入により本発明は添
付図面の構成に限定するものではない。
便利にする為に符号を記すが、該記入により本発明は添
付図面の構成に限定するものではない。
【図１】分光分析装置の平面図
【図２】分光分析装置の正面図
１ 回転基板２ サンプル投入機構 ３ サンプル排出機構 ４ サンプル収容部 ５ 透過光路 ５ａ 第一光路 ５ｂ 第二光路 ６ 光源部 ７ 分光測定部 ８ 切替え手段 Ｒ１ サンプル搭載領域 Ｒ２ サンプル未搭載領域 Ｓ サンプル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土山 俊博 兵庫県尼崎市浜１丁目１番１号 株式会 社クボタ 技術開発研究所内 (56)参考文献 特開 平３−269347（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−34651（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) G01N 21/00 - 21/61 G01N 21/84 - 21/90
Claims (2)
- 【請求項１】 透光性の回転基板（１）と、その回転基
板（１）上に粒状体のサンプル（Ｓ）を一定高さで搭載
するサンプル投入機構（２）と、搭載された粒状体のサ
ンプル（Ｓ）を前記回転基板（１）上から除去するサン
プル排出機構（３）とを、前記回転基板（１）上でサン
プル搭載領域（Ｒ１）とサンプル未搭載領域（Ｒ２）と
が分離形成されるように設けて構成されるサンプル収容
部（４）と、 前記回転基板（１）の一端面側から他端面側に向けて形
成された透過光路（５）と、その透過光路（５）に沿っ
て測定用の光線束を照射する光源部（６）と、前記透過
光路（５）を通った光線束を分光分析する分光測定部
（７）とを設け、 前記透過光路（５）を、前記サンプル搭載領域（Ｒ１）
を透過する第一光路（５ａ）と、前記サンプル未搭載領
域（Ｒ２）を透過する第二光路（５ｂ）とから構成し、
前記第一、第二光路（５ａ),（５ｂ）に択一的に前記光
源部（６）からの光線束を照射する切替え手段（８）を
設けてある分光分析装置。 - 【請求項２】 前記第二光路（５ｂ）に、前記測定用の
光線束を減衰する光減衰機構（９）を設けてある請求項
１記載の分光分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2361292A JP2761140B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | 分光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2361292A JP2761140B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | 分光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05223731A JPH05223731A (ja) | 1993-08-31 |
| JP2761140B2 true JP2761140B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=12115440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2361292A Expired - Lifetime JP2761140B2 (ja) | 1992-02-10 | 1992-02-10 | 分光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2761140B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4539628B2 (ja) * | 2006-09-15 | 2010-09-08 | 株式会社島津製作所 | ダブルビーム型分光光度計 |
-
1992
- 1992-02-10 JP JP2361292A patent/JP2761140B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05223731A (ja) | 1993-08-31 |
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