JP2760093B2 - Circuit board manufacturing method - Google Patents

Circuit board manufacturing method

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は絶縁基材上に形成された回路パターンの各端
子部間が導電性ペーストよりなるジャンパで短絡されて
いる回路基板の製造方法に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board in which terminals of a circuit pattern formed on an insulating base material are short-circuited by a jumper made of a conductive paste. Things.

[従来の技術] 従来、回路パターンが形成された絶縁基材の面と反対
側から各端子部に対応する部分の絶縁基材のみを加熱蒸
発して各端子部の導電性金属が露出した凹部を形成する
手段として、CO2レーザ、YAGレーザが提案されている。
[Related Art] Conventionally, only a portion of an insulating base material corresponding to each terminal portion is heated and evaporated from a side opposite to a surface of the insulating base material on which a circuit pattern is formed, and a conductive metal of each terminal portion is exposed. As a means for forming, a CO 2 laser and a YAG laser have been proposed.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、YAGレーザは加工時にフレキシブル基
板の絶縁基材に使用される透明ポリエステル膜への吸収
率がほとんど0に近く、又、回路パターンを形成する導
電材(銅膜)に多少吸収されたレーザにより発生した熱
で加工される程度で加工効率は悪い。さらに、熱によっ
てポリエステル膜を蒸発させて凹部を加工するため、露
出すべき導電材の表面からポリエステル膜を完全に除去
できないという問題がある。さらに、凹部の周辺に熱変
形により盛り上り部が形成され、導電性ペーストの印刷
上、あるいは凹部へのペーストの充填面でも問題があっ
た。
[Problems to be Solved by the Invention] However, a YAG laser has an absorptivity of almost zero to a transparent polyester film used as an insulating base material of a flexible substrate during processing, and a conductive material (copper) for forming a circuit pattern. The processing efficiency is poor to the extent that the film is processed by the heat generated by the laser slightly absorbed by the film. Furthermore, since the polyester film is evaporated by heat to process the concave portion, there is a problem that the polyester film cannot be completely removed from the surface of the conductive material to be exposed. Furthermore, a raised portion is formed around the concave portion due to thermal deformation, and there is a problem in printing the conductive paste or in filling the concave portion with the paste.

一方、CO2レーザにおいては、ポリエステル膜へのレ
ーザの吸収率は50%以上で高く加工効率は良いが、やは
り熱加工のためポリエステル膜の溶融により導電材の表
面に薄い膜が形成され易く、絶縁材としてのポリエステ
ル膜を完全に再現性良く除去することは不可能であっ
た。
On the other hand, in the CO 2 laser, the laser absorptivity to the polyester film is higher than 50% and the processing efficiency is high, but the thin film is easily formed on the surface of the conductive material due to the melting of the polyester film due to thermal processing. It was impossible to completely remove the polyester film as an insulating material with good reproducibility.

本発明は、上述した問題点を解決するためになされた
ものであり、絶縁基材を形成するポリエステルなどの高
分子絶縁材料を、回路パターンを形成する導電材の表面
が露出するように完全に除去して、凹部を正確に形成す
ることができる回路基板の製造方法を提供することを目
的としている。
The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and a polymer insulating material such as polyester forming an insulating base material is completely formed so that the surface of a conductive material forming a circuit pattern is exposed. It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a circuit board that can be removed to form a concave portion accurately.

[課題を解決するための手段] この目的を達成するために、本発明は回路基板の製造
方法において、絶縁基材として高分子絶縁材料を用い、
回路パターンが形成された絶縁基材の面と反対側から各
端子部に対応する部分の絶縁基材に対し、紫外線領域の
光を発生させる波長λが250nm以下のエキシマレーザを
照射して、絶縁基材をアブレーション作用により除去す
ることにより、各端子部の導電性金属が露出した凹部を
形成し、前記各凹部内に導電性ペーストを充填するとと
もに、各凹部間に塗布することにより前記ジャンパを形
成するという方法をとっている。
[Means for Solving the Problems] To achieve this object, the present invention provides a method for manufacturing a circuit board, wherein a polymer insulating material is used as an insulating base material,
An excimer laser with a wavelength λ of 250 nm or less for generating light in the ultraviolet region is irradiated on the insulating base material corresponding to each terminal from the side opposite to the surface of the insulating base material on which the circuit pattern is formed, and is insulated. By removing the base material by an ablation action, a concave portion where the conductive metal of each terminal portion is exposed is formed, and the conductive paste is filled in each concave portion, and the jumper is applied by applying between the concave portions. We take the method of forming.

[作 用] 上記の構成を有する本発明は、紫外線領域に属する非
常にエネルギーレベルの高いレーザを利用し、高分子を
形成している分子結合を分断し、その後、分断された分
子を飛散させるアブレーション現象を利用して凹部を形
成するため、回路パターン材である導電性表面の絶縁材
が確実に除去されて該表面が完全に露出され、又、凹部
も適性形状に加工される。
[Operation] The present invention having the above-described configuration uses a laser having an extremely high energy level belonging to the ultraviolet region to break molecular bonds forming a polymer, and then scatters the broken molecules. Since the concave portion is formed using the ablation phenomenon, the insulating material on the conductive surface, which is a circuit pattern material, is reliably removed to completely expose the surface, and the concave portion is also processed into an appropriate shape.

[実施例] 以下、本発明を具体化した一実施例を図面を参照して
説明する。
[Embodiment] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

最初に、第3図及び第4図により、この発明の製造方
法により得られた回路基板の一例を説明する。
First, an example of a circuit board obtained by the manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIGS.

絶縁基材1はポリエステル膜からなり、これにエッチ
ング等の方法によって例えば銅などの導電材よりなる回
路パターン2,3が形成されている。この回路パターン2,3
は電気的に異なる回路パターンであって、回路パターン
3の先端には端子部4が形成され、その端子部4の中央
部下方が後述するエキシマレーザを絶縁基材1に照射し
た時のアブレーション現象により飛散除去されて凹部5
が形成されており、凹部5の底面には端子部4下面の導
電材が露出し、導電面4aが形成され、そこに導電性ペー
ストを充填してジャンパ6を形成し、端子部4が電気的
に導通されている。
The insulating base 1 is made of a polyester film, and circuit patterns 2 and 3 made of a conductive material such as copper are formed on the polyester film by a method such as etching. This circuit pattern 2,3
Is an electrically different circuit pattern, a terminal portion 4 is formed at the tip of the circuit pattern 3, and an ablation phenomenon occurs when an excimer laser, which will be described later, is irradiated on the insulating base 1 below a central portion of the terminal portion 4. Scattered and removed by the recess 5
The conductive material on the lower surface of the terminal portion 4 is exposed on the bottom surface of the concave portion 5 to form a conductive surface 4a. A conductive paste is filled into the conductive surface 4a to form a jumper 6, and the terminal portion 4 is electrically connected. Is electrically conductive.

次に、第5図を参照して、本発明の製造方法に使用さ
れるレーザ発生装置の概略を説明する。
Next, with reference to FIG. 5, an outline of a laser generator used in the manufacturing method of the present invention will be described.

エキシマレーザ発振器11より出力されたレーザ12は、
アパーチャー13を介して中心部の良好なレーザのみが摘
出される。次に、前記良好なレーザ12はベンドミラー14
により垂直に変向され、加工レンズ15に入光し、被加工
部である絶縁基材1の一点に集光される。又、加工時は
蒸発させた分子を飛ばすためアルゴン(Ar)などの不活
性ガス16を側方から供給するようにしている。
The laser 12 output from the excimer laser oscillator 11 is
Only a good laser at the center is extracted through the aperture 13. Next, the good laser 12 is
As a result, the light is deflected vertically, enters the processing lens 15, and is condensed on one point of the insulating base material 1, which is the portion to be processed. Also, during processing, an inert gas 16 such as argon (Ar) is supplied from the side in order to skip evaporated molecules.

次に、前記レーザ発生装置により第3,4図に示した回
路基板の製造方法を、第6図及び第7図に基づいて説明
する。
Next, a method of manufacturing the circuit board shown in FIGS. 3 and 4 by the laser generator will be described with reference to FIGS.

第6図はレーザ加工する前の回路基板で、絶縁基材1
の表面に回路パターン2,3が形成されている。この絶縁
基材1の回路パターン3の端子部4と反対側面に対し、
レーザ発生装置からレーザ12を照射すると、第7図に示
すように端子部4の下部にある絶縁基材1を形成するポ
リエステル膜(膜厚100μm)に凹部5が形成される。
なお、この凹部5の径は通常1mm程度である。この加工
によって、端子部4を形成する導電性金属が露出して導
電面4aが形成される。
FIG. 6 shows a circuit board before laser processing.
Have circuit patterns 2 and 3 formed on the surface thereof. With respect to the side surface of the insulating base 1 opposite to the terminal portion 4 of the circuit pattern 3,
When the laser 12 is irradiated from the laser generator, the concave portion 5 is formed in the polyester film (100 μm thick) which forms the insulating base 1 below the terminal portion 4 as shown in FIG.
The diameter of the recess 5 is usually about 1 mm. By this processing, the conductive metal forming the terminal portion 4 is exposed, and the conductive surface 4a is formed.

そして、各凹部5内に導電性ペーストを充填するとと
もに、回路ターン端子部4の形成された面の反対側の面
上を経由して各凹部5間に導電性ペーストを塗布するこ
とにより、ジャンパ6が形成され、第3,4図に示す回路
基板が製造される。導電性ペーストとしてはバインダ
ー、溶剤などの中に導電性フィラーとして銀粉などの導
電性金属が混入されたものを使用する。
Each of the recesses 5 is filled with the conductive paste, and the conductive paste is applied between the recesses 5 on the surface opposite to the surface on which the circuit turn terminal portion 4 is formed, so that the jumper is formed. 6 are formed, and the circuit board shown in FIGS. 3 and 4 is manufactured. As the conductive paste, a paste in which a conductive metal such as silver powder is mixed as a conductive filler in a binder, a solvent, or the like is used.

ここで、絶縁基材1の成分であるポリエステルの結合
エネルギー、エキシマレーザの波長、及びレーザの種類
などの関係を考察したところ、次のようなことが判っ
た。
Here, when the relationship between the binding energy of the polyester, which is a component of the insulating base material 1, the wavelength of the excimer laser, and the type of laser, was examined, the following was found.

ポリエステルの化学式は、次のように表される。 The chemical formula of the polyester is represented as follows:

上記結合でエネルギーが最も高いものは、炭素と酸素
の二重結合(C=0)であり、173Kcal/mo10゜Kであ
る。
The bond having the highest energy in the above bond is a double bond of carbon and oxygen (C = 0), which is 173 Kcal / mo10 ゜ K.

一方、第2図はエキシマレーザの波長λと結合エネル
ギーとの関係を示す。この第2図から明らかなよう、ポ
リエステルの結合エネルギーが最高の173Kcal/mo10゜K
の前記二重結合(C=0)を切るためには、波長λが15
7nmのF2エキシマレーザ以上の短波長で加工する必要が
あるが、レーザ12を照射した場合、多少加熱され励起さ
れるため、実際は波長λが249nmのKrFエキシマレーザで
も加工は可能となる。しかし、波長λ=1060nmのYAGレ
ーザあるいは波長λ=1060nmのCO2レーザでは上記分子
の結合エネルギーを切ることは不可能であり、熱加工に
なってしまい問題がある。
FIG. 2 shows the relationship between the wavelength λ of the excimer laser and the binding energy. As is clear from FIG. 2, the highest binding energy of polyester is 173Kcal / mo10 ゜ K.
To break the double bond (C = 0)
It is necessary to work with F 2 excimer laser or short-wavelength 7 nm, when the laser 12, since it is a somewhat heated excitation, in fact is the wavelength λ also processing possible with KrF excimer laser of 249 nm. However, with a YAG laser having a wavelength of λ = 1060 nm or a CO 2 laser having a wavelength of λ = 1060 nm, it is impossible to cut off the binding energy of the above molecules, resulting in a problem of thermal processing.

さらに、第1図はエキシマレーザの種類とその波長
λ、及びポリエステル膜の除去量との関係を示すもので
ある。
FIG. 1 shows the relationship between the type of excimer laser, its wavelength λ, and the amount of removal of the polyester film.

この第1図から明らかなように、エネルギー密度が1J
/cm2での各エキシマレーザにおけるポリエステル膜100
μmのアブレーションによる除去量は、パルスショット
数を100パルスとして測定した結果、波長λが250nm以下
のArF及びKyFでは100μmと完全であったが、波長λが3
08nmのXeClではレーザエネルギーが低いため十分に分子
の結合が切れず、除去効率は悪いということが分かっ
た。
As is clear from FIG. 1, the energy density is 1J
polyester film 100 in each excimer laser at / cm 2
The removal amount by ablation of μm was measured assuming that the number of pulse shots was 100 pulses. As a result, ArF and KyF having a wavelength λ of 250 nm or less were completely 100 μm, but the wavelength λ was 3 μm.
It was found that the bonding efficiency of molecules was not sufficiently cut due to the low laser energy of XeCl of 08 nm, and the removal efficiency was poor.

以上のようにエキシマレーザ加工により、絶縁基材1
に形成された凹部5の底面に露出される端子部4の導電
面の露出度を測定したところ次のようになった。
As described above, the insulating base material 1 is formed by excimer laser processing.
The degree of exposure of the conductive surface of the terminal portion 4 exposed on the bottom surface of the concave portion 5 formed as described above was as follows.

ポリエステル膜をエキシマレーザ加工したSEM参考写
真からは、端子部4の導電面4aがレーザ12により損傷を
受けていることが分かり、露出度が優れているといえ
る。なお、使用したエキシマレーザは波長λが249nmのK
rFエキシマレーザで、エネルギー密度は1J/cm2、パルス
ショット数は180パルスである。又、凹部5の径はほぼ1
mmである。
From an SEM reference photograph in which the polyester film was processed by excimer laser, it was found that the conductive surface 4a of the terminal portion 4 was damaged by the laser 12, and it can be said that the degree of exposure was excellent. The excimer laser used had a wavelength λ of 249 nm.
An rF excimer laser has an energy density of 1 J / cm 2 and a pulse shot count of 180 pulses. The diameter of the recess 5 is approximately 1
mm.

参考写真の凹部5について完全に端子部4の導電面4a
が表面に露出しているかどうか、さらに、EPMA分析によ
り確認した。第8図は凹部5の円周より0.1mm程度内側
の端位置2点と、中央における導電面4aの分析結果であ
る。各点においてCuKr線のX線強度のピークが存在し明
確に銅の存在が分かる。
The conductive surface 4a of the terminal portion 4 is completely formed in the concave portion 5 of the reference photograph
Was exposed on the surface and further confirmed by EPMA analysis. FIG. 8 shows the results of analysis of two end positions about 0.1 mm inside the circumference of the recess 5 and the conductive surface 4a at the center. At each point, the peak of the X-ray intensity of the CuKr line is present, and the presence of copper is clearly seen.

第9図はポリエステルの成分である酵素について前述
した第8図と同様に前記3点について分析したが、X線
強度のピークが存在しないため酵素の存在はなく、従っ
て、ポリエステルの残存はほぼゼロといえる。
FIG. 9 shows an analysis of the enzyme as a component of the polyester at the three points in the same manner as in FIG. 8 described above. However, since no peak of the X-ray intensity was present, the enzyme was not present, and therefore, the residual polyester was almost zero. It can be said that.

以上の測定結果により絶縁基材1を形成するポリエス
テル膜は、波長λがほぼ250nm以下のエキシマレーザの
照射により完全に除去でき、その凹部5に導電性ペース
トを充填して端子部4間の電気的導通を測定したところ
完全であった。
Based on the above measurement results, the polyester film forming the insulating base material 1 can be completely removed by irradiation with an excimer laser having a wavelength λ of about 250 nm or less. The electrical conduction was measured and found to be complete.

なお、前述したエキシマレーザの照射時のパルスショ
ット数は、多ければ多いほど1パルス当りのエネルギー
が低くおさえられるため、熱加工が生じ難くなるので望
ましく、最低でも100パルス以上必要である。
The number of pulse shots at the time of excimer laser irradiation described above is desirably set as the energy per pulse is reduced as the number increases, so that thermal processing is less likely to occur. At least 100 pulses or more are required.

[発明の効果] 以上詳述したことから明らかなように、本発明によれ
ば、波長λがほぼ250nm以下のエキシマレーザを利用す
ることにより、高分子絶縁材料よりなる回路基板の絶縁
基材を完全に除去して、端子部の導電面が完全に露出し
た適正形状の凹部を形成することができ、端子部間の電
気的導通を確実にすることができる効果がある。
[Effects of the Invention] As is clear from the above description, according to the present invention, by using an excimer laser having a wavelength λ of approximately 250 nm or less, the insulating base material of a circuit board made of a polymer insulating material is used. It is possible to form an appropriately shaped concave portion in which the conductive surface of the terminal portion is completely exposed by completely removing the terminal portion, and there is an effect that electrical conduction between the terminal portions can be ensured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明に使用されるエキシマレーザの波長と、
ポリエステルの除去量との関係を示すグラフ、第2図は
エキシマレーザの波長と、結合エネルギーとの関係を示
すグラフ、第3図はこの発明の製造方法により製造した
回路基板の一例を示す平面図、第4図は第3図のA−A
線断面図、第5図はエキシマレーザ加工装置を示す略体
正面図、第6図は加工前の絶縁基材を示す断面図、第7
図はポリエステル膜をエキシマレーザで加工した凹部を
有する断面図、第8図は凹部に導電材(銅)が露出して
いるかどうかをEPMAで分析した結果を示すグラフ、第9
図は凹部に絶縁材としてのポリエステルが残存している
かどうかを確認するためにEPMAで酸素分析した結果を示
すグラフである。 1……絶縁基材、2,3……回路パターン、4……端子
部、4a……導電面、5……凹部、6……ジャンパ、11…
…エキシマレーザ発振器、12……レーザ。
FIG. 1 shows the wavelength of the excimer laser used in the present invention,
2 is a graph showing the relationship between the wavelength of the excimer laser and the binding energy, and FIG. 3 is a plan view showing an example of a circuit board manufactured by the manufacturing method of the present invention. , FIG. 4 is AA of FIG.
FIG. 5 is a schematic front view showing an excimer laser processing apparatus, FIG. 6 is a cross-sectional view showing an insulating base material before processing, FIG.
FIG. 8 is a cross-sectional view having a concave portion obtained by processing a polyester film with an excimer laser. FIG. 8 is a graph showing the result of EPMA analysis on whether or not a conductive material (copper) is exposed in the concave portion.
The figure is a graph showing the results of oxygen analysis by EPMA to confirm whether polyester as an insulating material remains in the concave portions. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating base material, 2,3 ... Circuit pattern, 4 ... Terminal part, 4a ... Conductive surface, 5 ... Concave part, 6 ... Jumper, 11 ...
... excimer laser oscillator, 12 ... laser.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−120096(JP,A) 国際公開89/1842(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H05K 3/40,3/00────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-62-120096 (JP, A) WO 89/1842 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H05K 3 / 40,3 / 00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】絶縁基材の一面に形成された導電性金属よ
りなる所定の回路パターンと、 前記回路パターンに設けられ、回路パターンの一部を間
に介在せしめて相互に短絡される少なくとも一対の端子
部と、 導電性ペーストが塗布されてなり前記各端子部間を短絡
するジャンパと、 を有する回路基板の製造方法において、 前記絶縁基材として高分子絶縁材料を用い、前記回路パ
ターンが形成された絶縁基材の面と反対側から各端子部
に対応する部分の絶縁基材に対し、紫外線領域の光を発
生させる波長λが250nm以下のエキシマレーザを照射し
て、絶縁基材をアブレーション作用により除去すること
により、各端子部の導電性金属が露出した凹部を形成
し、前記各凹部内に導電性ペーストを充填するととも
に、各凹部間に塗布することにより前記ジャンパを形成
することを特徴とする回路基板の製造方法。
1. A predetermined circuit pattern made of a conductive metal formed on one surface of an insulating substrate, and at least one pair provided on the circuit pattern and short-circuited to each other with a part of the circuit pattern interposed therebetween. And a jumper coated with a conductive paste and short-circuiting between the terminal portions, wherein the circuit pattern is formed by using a polymer insulating material as the insulating base material. Above the insulating substrate of the part corresponding to each terminal part from the opposite side of the surface of the insulating substrate that was irradiated with an excimer laser with a wavelength λ of 250 nm or less that generates light in the ultraviolet region, ablation of the insulating substrate By removing by action, a concave portion where the conductive metal of each terminal portion is exposed is formed, and a conductive paste is filled in each concave portion, and the conductive paste is applied between the concave portions to thereby form a conductive paste. Method of manufacturing a circuit board, which comprises forming a jumper.
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