JP2750694B2 - 気体の清浄方法及びその装置 - Google Patents

気体の清浄方法及びその装置

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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、 電子工業、薬品工業、食品工業、農林産業、医療、
精密機械工業等におけるクリーンルーム、クリーンブー
ス、クリーントンネル、クリーンベンチ、安全キヤビネ
ツト、無菌室、バスボツクス、無菌エアカーテン、クリ
ーンチユーブ等における空気、酸素、窒素等の気体の清
浄化方法。
煙道排ガスや自動車排ガスの様な各種工業産業から
排出れる気体の清浄化方法。
家庭、事業所、病院等における空気清浄方法。
並びに、,及び記載の方法を実施するための装
置。
に関する。
〔従来の技術及びその問題点〕
従来の室内の空気清浄方法或いはその装置を大別する
と、 (1) 機械的ろ過方式(例えばHEPAフイルター) (2) 静電的に微粒子の捕集を行なう高電圧による荷
電及び導電性フイルターによるろ過方式(例えばMESAフ
イルター)があるが、これらの方式には夫々次のような
欠点があつた。
即ち、機械的ろ過方式においては、空気の清浄度(ク
ラス)をあげるためには目の細かいフイルターを使用す
る必要があるが、この場合圧損が高い。また、微粒子濃
度が高いと微粒子捕集により目づまりによる圧損の増加
も著るしく、フイルターの寿命も短かく、フイルターの
維持、管理或いは交換が面倒であるばかりでなく、フイ
ルターの交換を行う場合、その間作業をストツプする必
要があり、復帰までには長時間を要しており、生産能率
が悪いという欠点があつた。
また、従来のフイルターによる方法は微粒子の除去だ
けを目的としているので、工業用クリーンルーム用とし
ては使用できるが、フイルターには必ずと言つてよい程
ピンホールがあり、汚染空気の一部がリークするため
(微細な微生物、細菌類がリークしやすい)、バイオロ
ジカルクリーンルームでの使用には限界があつた。又、
フイルター上に捕集された微生物、細菌類はフイルター
上で増殖する場合があり課題であつた。一方、フイルタ
ーの長所は、比較的大きい微粒子から微細な微粒子、低
濃度から高濃度の微粒子の捕集において、夫々要望に好
適なフイルターが任意に選択出来ることである。
また、静電的に微粒子の捕集を行う方式においては、
予備荷電部に例えば15〜70kVという高電圧を必要とする
ため、装置が大型となり、また安全性、維持管理の面で
問題があつた。
これらの問題点を解決するために本発明者は紫外線照
射、又は放射線照射による空気清浄方法を提案した(特
開昭61−178050、特願昭62−244459号)。
これらの方式は適用分野によつては有効であるが、特
定の分野、用途においては改善の余地がある。改善する
に際しては、実用性が一層向上し実用的により有利な方
式となる様行なう必要がある。例えば、紫外線照射法は
停電等の緊急時には捕集できず、微粒子が流出する恐れ
がある等信頼性に改善の余地がある。
実用性を増すためには、微粒子の捕集、除去を効率良
くかつ、効果的に行なうことや、バイオテクノロジー分
野の如く微生物類の存在が問題となる分野では微生物類
の殺菌を完全に行なう必要がある。
〔発明の目的〕
本発明は、光電子放出材に紫外線又は放射線照射を行
ない放出された光電子で気体中の粒子を荷電した後該粒
子を除去する空気等の気体の清浄方法及び装置に関し、
これらの課題に対し該方法による気体の清浄方法とPRE
−HEPA,HEPA,ULPA法又は超ULPA法よりなる機械的ろ過方
法による気体の清浄方法の双方の気体の清浄方法を用い
ることにより微粒子の捕集を効率良く、効果的に行ない
又、適宜、機械的ろ過部又はその近傍を加熱することに
より、紫外線エネルギーあるいは放射線エネルギーに加
えて熱エネルギーにより機械的ろ過部の微生物類の殺菌
を行ない、殺菌をも完全に行うものである。
第1図に基いて紫外線照射法を用いたクリーンルーム
におけるクリーンベンチ併用方式、即ち作業領域の1部
のみを高清浄度に保つ方式の空気清浄法について説明す
る。
クリーンルーム1内には、配管2から導入される外気
の粗粒子をプレフイルター3でろ過した後、クリーンル
ーム1の空気取出し口4から取り出された空気と共にフ
アン5を介して空気調和装置6にて温度及び湿度を調節
しかつHEPAフイルター7により微粒子を除去した空気が
循環供給されており、清浄度(クラス)10,000程度に保
持されている。
一方、クリーンルーム1内のフアン部8、紫外線照射
部9、フイルター101,102を設けたクリーンベンチ11内
の作業台13上は、高清浄度(クラス10)の無菌雰囲気に
保持される。
即ち、クリーンベンチ11においては、クリーンルーム
1内の清浄度(クラス)10,000程度の空気がフアン部8
のフアンにより吸引され、紫外線照射部9で紫外線を照
射することにより空気中の微粒子は荷電されると共に、
ウイルス、バクテリヤ、酵母、かび等の微生物が殺菌さ
れた後、静電フイルター101で荷電された微粒子を除去
すると共に、後方の加熱されたULPAフイルター102でリ
ークした微細な微粒子を捕集除去することにより、作業
台13上は高清浄度に保持される。
クリーンベンチ11内の作業台13への器具、製品等の出
し入れは、クリーンベンチ11に設けた可動シヤツター12
により行う。
本発明の特徴である空気流中微粒子の荷電による除去
と機械的ろ過による微細な微粒子の除去及び微生物類の
殺菌が行なわれる紫外線照射部9及び微粒子捕集部101,
102は、第2図にその概要が示されている。
即ち、フアン部8のフアンにより吸引された微生物を
含む空気20は、プレフイルター21で粗粒子がろ過された
後、光電子放出材22及び紫外線ランプ23及び電極24から
成る紫外線照射部9において空気中の微粒子が荷電され
た後、微粒子捕集部10において先づ荷電微粒子捕集フイ
ルター25(静電フイルター)で荷電微粒子が捕集され、
更に後流の加熱された機械的ろ過フイルター26(加熱さ
れたULPAフイルター等)で、フイルター25よりリークし
てきた微細な微粒子(主に0.05μm以下の微粒子)が捕
集され清浄な空気27が得られる。
紫外線照射部9では、光電子放出材22に紫外線ランプ
23より紫外線が照射される。ここでは、電極24と光電子
放出材22との間に電圧供給部(図示せず)より電圧を付
加し、電場を形成することにより光電子放出材22からの
光電子の放出が促進され、該光電子により、微粒子を含
む空気28中の微粒子が効率良く荷電される。
ウイルス、バクテリヤ、酵母、細菌、かび等の微生物
類は、紫外線照射部9における紫外線エネルギーに加え
て、ULPAフイルターに加熱ヒータを組込んで加熱された
機械的ろ過フイルター26により殺菌される。
ここでの殺菌作用は、紫外線エネルギーと熱エネルギ
ーによるので微生物の特性によらずあらゆる微生物類が
完全に殺菌される。
加熱された機械的ろ過フイルターは、機械的ろ過フイ
ルターと加熱用ヒータから成る。加熱用ヒータは、後述
の機械的ろ過フイルター又はその近傍を加熱出来るもの
であれば何れでも良く、周知のものがその種類、形状等
により適宜使用出来る。
例えば、平板状、曲面状、棒状、糸状の加熱ヒータ
(例.ニクロム線、タングステン線)を機械的ろ過フイ
ルターに内蔵させたり、表面あるいは表面近傍に付設す
ることにより実施される。
又、加熱ヒータを気体の流路の外部に設置し、反射面
を利用して機械的ろ過フイルター又はその近傍を加熱し
ても良い。
機械的ろ過フイルターは、機械的捕集機構(通常フイ
ルター方式)により微粒子を捕集出来るものであれば何
れも良い。通常PREPHEPA,HEPA,ULPA,超ULPAフイルター
のいずれか1種類以上の使用が好ましく、装置の種類、
対象分野、規模、作業形態、効果、経済性等により適宜
決めることが出来る。
1例として、紫外線照射後、静電フイルターにより、
主に0.05μm以上の微粒子を荷電し、捕集を行い、ULPA
フイルターで主に0.05μm以下の微細な微粒子を機械的
ろ過により捕集を行うことにより、広範囲の粒径の微粒
子を効果的に捕集するものである。又、適宜ULPAフイル
ターを加熱することによりフイルター上及びその近傍の
殺菌を行ない、殺菌効果を高めたものである。
機械的ろ過フイルターの加熱は、低温で長時間行う方
法、あるいは断続的に比較的高温で加熱する方法、又は
両者の中間で行う方法等である。加熱温度は50〜600
℃,通常80〜200℃であるが、これらは装置の種類、対
象分野(微生物の種類;濃度)、規模、作業形態、効
果、経済性等により予備試験等で適宜決めることが出来
る。
機械的ろ過フイルターを加熱するか否かは、装置の種
類、対象分野(微生物の種類,濃度)規模、作業形態、
効果、経済性等により適宜決めることが出来る。
光電子放出材は、紫外線照射により光電子を放出する
ものであれば何れでも良く、光電的な付事関数の小さい
もの程好ましい。効果や経済性の面から、Ba,Sr,Ca,Y,G
d,La,Ce,Nd,Th,Pr,Be,Zr,Fe,Ni,Zn,Cu,Ag,Pt,Cd,Pb,Al,
C,Mg,Au,In,Bi,Nb,Si,Ti,Ta,Sn,Pのいずれか又はこれら
の化合物又は合金又は混合物が好ましく、これらは単独
で又は二種以上を複合して用いられる。複合材として
は、アマルガムの如く物理的な複合材も用いうる。
例えば、化合物としては酸化物、ほう化物、炭化物で
あり、酸化物にはBaO,SrO,CaO,Y2O5,Gd2O3,Nd2O3,ThO2,
ZrO2,Fe2O3,ZnO,CuO,Ag2O,PtO,PbO,Al2O3,MgO,In2O3,Bi
O,NbO,BeOなどがあり、またほう化物にはYB6,GdB6,La
B6,CeB6,PrB6,ZrB2などがあり、さらに炭化物としてはZ
rC,TaC,TiC,NbCなどがある。
また、合金としては黄銅、青銅、リン青銅、AgとMgと
の合金(Mgが2〜20wt%)、CuとBeとの合金(Beが1〜
10wt%)及びBaとAlとの合金を用いることができ、上記
AgとMgとの合金、CuとBeとの合金及びBaとAlとの合金が
好ましい。酸化物は金属表面のみを空気中で加熱した
り、或いは薬品で酸化することによつても得ることがで
きる。
さらに他の方法としては使用前に加熱し、表面に酸化
層を形成して長期にわたつて安定な酸化層を得ることも
できる。この例としてはMgとAgとの合金を水蒸気中で30
0〜400℃の温度の条件下でその表面に酸化薄膜を形成さ
せることができ、この酸化薄膜は長期間にわたつて安定
なものである。
これらの材料の使用形状は、板状、プリーツ状、曲面
状、網状等何れの形状でもよいが、紫外線の照射面積及
び空気との接触面積の大きな形状のものが好ましく、こ
のような観点からは網状のものが好ましい。
光電子放出材の使用の形状は装置の形状、構造あるい
は希望する効率等により異なる。
電極24と光電子放出材22の距離は、装置の形状にもよ
るが、一般的には2〜20cmが好ましく、特に3〜10cmが
好ましい。
電極24の材料と、その構造は通常の荷電装置に使用さ
れているものでよい。通常タングステン線が用いられて
いる。
印加する電圧は、0.1〜10kV、好ましくは0.1〜5kV、
より好ましくは0.1〜3kVであるが、該電圧は装置の形
状、使用する電極或いは光電子放出材の材質、構造等に
より異なる。
紫外線又は放射線の種類は、その照射により光電子放
出材が光電子を放出しうるものであれば何れでもよい
が、バイオロジカル分野においては殺菌作用も持つもの
が好ましい。
紫外線の光源は、水銀灯、水素放電管、キセノン放電
管、ライマン放電管などを適宜1種又は2種以上を組合
せて利用することが出来る。
放射線としてはα線,β線,γ線などが用いられ、照
射手段としてコバルト60,セシウム137,ストロンチウム9
0などの放射性同位元素、又は原子炉内で作られる放射
性廃棄物及びこれに適当な処理加工した放射性物質を線
源として用いる方法、原子炉を直接線源として用いる方
法、電子線加速器などの粒子加速器を用いる方法などを
利用する。
加速器で電子線照射を行う場合は、低出力で行うこと
で、高密度な照射が出来、効果的となる。加速電圧は、
500kV以下、好ましくは、50kV〜300kVである。
荷電された微粒子の捕集は、何れでも良い。通常の荷
電装置における集じん板(集じん電極)や静電フイルタ
ー方式が一般的であるが、スチールウール電極としたよ
うな捕集部自体が電極を構成する構造のものも有効であ
る。
又、本発明者がすでに提案したイオン交換フイルター
を用いて捕集する方法も有効である。捕集は、これらの
捕集方法を単独で、又はこれらの方法を2種類以上組合
せて適宜用いることが出来る。
静電フイルターを用いる方式が高効率で、かつ確実に
荷電微粒子の捕集を行なうことができるので好都合であ
る。フイルター方式は取り扱いが容易であることや、性
能、経済性の点で有効であるが、一定期間使用すると目
詰まりを生ずるので、必要に応じカートリツジ構造と
し、圧力損失の検出により交換するようにすることによ
り長期間にわたつて安定した運転が可能となる。
空気中の微粒子への荷電方式として、比較的高電圧を
印加した電場の存在下に、光電子放出材金属面に放射線
を照射し光電子を放出させて行う方式について説明した
が、電場を形成することなく光電子放出材料に放射線を
照射することにより、空気中の微粒子に荷電させること
ができる。この場合には、第2図の実施例において、電
場発生手段は省略することができる。
尚、本発明におけるフアン、紫外線、又は放射線源、
電場、光電子放出材料、荷電微粒子捕集部、機械的ろ過
部の位置関係は、空気清浄方式の種類や規模、気流の方
法などにより異なり、限定されるものではない。
機械的ろ過部の設置は、紫外線及び/又は放射線照射
による空気清浄部の前方と後方のいずれか又は両方で適
宜行うことが出来る。
本実施例(第2図)における光電子放出材22及び紫外
線ランプ23の位置は、空気流に対して直角の位置である
が、空気流に対して平行の位置においてもよく、又、紫
外線ランプ23をクリーンベンチ11の空気流の外側に設置
してもよい。
又、光電子放出材22への紫外線の照射は、スポツト
(絞り込んで)照射あるいは前面照射を装置構造、分
野、規模、光電子放出材の材質、形状、効果、経済性等
により適宜選択して使用できる。
又、光電子放出材22からの光電子放出は、本発明者が
すでに提案した様に、反射面を利用して行なうことも出
来る。
〔発明の効果〕
1. 紫外線及び/又は放射線照射による気体の清浄方法
と、機械的ろ過による気体の清浄方法の双方の清浄方法
を組合せて行うことにより、 気体中の微粒子を1つの装置で広範囲な粒径にわた
り高効率で捕集、除去することが出来る。
夫々の気体の清浄方法の特性を生かした実用的によ
り有用な微粒子の捕集、除去が出来る。
−1 機械的ろ過方法による捕集例えばHEPA,ULPAフ
イルターは、フイルター材質や構成により一般に0.05〜
0.2μm程度の領域の粒径の微粒子に対しては性能が悪
い。一方、紫外線及び/又は放射線照射法による捕集
は、一般におよそ0.05μm以上の領域の粒径の微粒子に
対しては、効率が良い。従つて、両方法を組合せて用い
ると上記,の効果を生ずる。
−2 前方に機械的ろ過による浄化(A法)を、後方
に紫外線及び/又は放射線照射による浄化(B法)を設
置することにより、B法での消化の負担が減少する。
−3 前方にB法、後方にA法を設置することによ
り、(特に停電等の緊急時等で)捕集されず流出する微
粒子がある場合、後方で捕集されるので、安全性が高ま
る。粒子濃度が高い場合、前方で大まかに捕集されるの
で、後方のフイルターの負担が減少し、圧損が少なく、
フイルターの交換頻度が減少し、維持簡易が容易であ
る。
−4 A法は、捕集出来る粒径範囲や捕集効率が最適
なフイルターを選択出来るので、これとB法とを組合せ
ることで、適用分野、装置の種類、効果、経済性等に好
適な装置が出来る。
2. 機械的ろ過部を加熱することにより、 紫外線及び/又は放射線エネルギに、熱エネルギが
加わるので、微生物、細菌類の殺菌効果が高まる。
機械的ろ過部又は、その近傍の微生物、細菌類は熱エ
ネルギーにより殺菌される。従つて機械的ろ過部での微
生物、細菌類の増殖がなくなる。
紫外線及び/又は放射線エネルギー、と熱エネルギー
の2種類の特性の異なる方法で殺菌されるので、殺菌効
果は完全となる。
ガス流中の微粒子は後流への流れが実質的に無視で
きる位置効率で捕集され、殺菌された超高清浄度のガス
流が得られる。
各分野、用途への適用が可能であり、特に従来法で
は限界があり、かつ、困難であつたクリーンルーム関連
の、なかでもバイオテクノロジー関連の如く微生物の存
在が特に影響を及ぼす分野に特に有効な設備を提供でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図及び第2図は本発明方法及び装置を説明するため
の概略図である。 1……クリーンルーム、3……プレフイルター、5……
フアン、6……空気調和装置、7……HEPAフイルター、
8……フアン部、9……紫外線照射部、101,102……フ
イルター、11……クリーンベンチ、21……プレフイルタ
ー、22……光電子放出材、23……紫外線ランプ、25……
静電フイルター、26……加熱されたフイルター

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】光電子放出材に紫外線及び/又は放射線を
    照射することにより光電子を放出せしめ、該光電子によ
    り気体中に含まれている微粒子を荷電させた後、荷電し
    た微粒子を気体より除去する気体の清浄方法とPRE−HEP
    A,HEPA,ULPA法又は超ULPA法よりなる機械的ろ過方法に
    よる気体の浄化方法の両者を作業空間の直前において任
    意の順序に組み合わせて実施することを特徴とする気体
    の清浄方法。
  2. 【請求項2】電場の存在下に、前記光電子放出材に紫外
    線を照射することにより発生する光電子により、前記気
    体中の微粒子を荷電させる、請求項1記載の気体の清浄
    方法。
  3. 【請求項3】光電子放出材として網条のものを用いる請
    求項1又は2記載の気体の清浄方法。
  4. 【請求項4】電場電圧が、0.1〜10KV、好ましくは0.1〜
    5KV、より好ましくは0.1〜3KVである請求項3記載の気
    体の清浄方法。
  5. 【請求項5】機械的ろ過部又はその近傍を加熱用ヒータ
    で加熱する、請求項1乃至4の何れかの1つに記載の気
    体の清浄方法。
  6. 【請求項6】気体の吸入口から気体排出口までの気体流
    路上に、紫外線又は放射線照射部、光電子放出部、及び
    作業空間の直前に荷電微粒子捕集部とPRE−HEPA,HEPA,U
    LPA法又は超ULPA法よりなる機械的ろ過部を設けてなる
    気体の清浄装置。
  7. 【請求項7】光電子放出部に更に電場発生手段を設けて
    なる請求項6記載の気体の清浄装置。
  8. 【請求項8】機械的ろ過部或いはその近傍に加熱器を設
    けてなる請求項7記載の気体の清浄装置。
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