JP2750500B2 - Pre-processing method and apparatus for electronic component manufacturing frame and electronic component manufacturing method - Google Patents

Pre-processing method and apparatus for electronic component manufacturing frame and electronic component manufacturing method

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JP2750500B2
JP2750500B2 JP6050338A JP5033894A JP2750500B2 JP 2750500 B2 JP2750500 B2 JP 2750500B2 JP 6050338 A JP6050338 A JP 6050338A JP 5033894 A JP5033894 A JP 5033894A JP 2750500 B2 JP2750500 B2 JP 2750500B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【産業上の利用分野】本願発明は、電子部品製造用フレ
ームの前処理方法および装置、ならびに電子部品製造方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for pretreating a frame for manufacturing an electronic component, and a method for manufacturing an electronic component.

【0001】[0001]

【従来の技術】ICやLSI等の半導体装置に代表され
る樹脂パッケージ型の電子部品は、リードフレームと呼
ばれる製造用フレームを用いて製造される。
2. Description of the Related Art A resin package type electronic component represented by a semiconductor device such as an IC or an LSI is manufactured using a manufacturing frame called a lead frame.

【0002】かかる半導体装置の高集積化が進むにつ
れ、外部リードの多端子化、およびファインピッチ化が
進んできている。このようなファインピッチ化が進んだ
半導体装置のための製造用フレームFの一例を図15な
いし図18に示す。図15から明らかなように、樹脂パ
ッケージングされるべき領域を画定する四辺のダムバー
aのそれぞれについて、互いのピッチ間間隔が狭められ
た外部リードbと、内部リードcとが一体延出形成され
ている。上記四辺のダムバーによって画定される領域の
中央部には、半導体チップがボンディングされるべきア
イランドdが、サポートフレームhによって支持される
ようにして形成されている。
As the degree of integration of such semiconductor devices has increased, the number of external leads has been increased and the pitch of fine leads has been increased. FIGS. 15 to 18 show an example of a manufacturing frame F for a semiconductor device in which such fine pitch has been advanced. As is apparent from FIG. 15, for each of the four side dam bars a defining the region to be resin-packaged, the external lead b and the internal lead c, each of which has a narrow interval between the pitches, are integrally formed to extend. ing. At the center of the area defined by the four dam bars, an island d to which a semiconductor chip is to be bonded is formed so as to be supported by the support frame h.

【0003】この図から明らかなように、上記ダムバー
aから内方に延びる内部リードcは、その先端が上記ア
イランドdの各辺に集められており、したがって、この
内部リードcの内端における相互の間隔は、さらに小さ
なものとなっている。
As can be seen from FIG. 1, the inner leads c extending inward from the dam bar a have their tips gathered on the respective sides of the island d. Are even smaller.

【0004】上記の製造用フレームFに対し、次のよう
な各工程処理を施すことによって、半導体装置が製造さ
れる。まず、上記アイランドd上に半導体チップ(図示
略)がボンディングされる。そして、こうしてボンディ
ングされたチップの上面上の端子パッドと上記各内部リ
ードcの先端との間がワイヤボンディングによってつな
がれる。次に、上記ダムバーaで画定される矩形の領域
が樹脂モールドパッケージングされる。そして、上記ダ
ムバーの不用部分を打ち抜いて各リードを独立させると
ともに、外部リードをフレームから切断するとともに、
所定のリードフォーミングが行われる。もちろん、この
間、リードフレームに対するハンダメッキ処理や、樹脂
パッケージに対する標印、ないしは所定の検査工程が行
われる。
A semiconductor device is manufactured by subjecting the above-described manufacturing frame F to the following processes. First, a semiconductor chip (not shown) is bonded on the island d. Then, the terminal pads on the upper surface of the chip thus bonded and the tips of the internal leads c are connected by wire bonding. Next, a rectangular area defined by the dam bar a is resin-molded and packaged. And, while punching out unnecessary parts of the dam bar to make each lead independent, and cutting the external lead from the frame,
Predetermined lead forming is performed. Of course, during this time, a solder plating process on the lead frame, a mark on the resin package, or a predetermined inspection process is performed.

【0005】ところで、上記したように、リード端子の
ファインピッチ化が進むにつれ、特に、その内部リード
cの先端の間隔がきわめて小さくなり、そのゆえに、こ
の内部リードcが外力によって変形しやすい。内部リー
ドcが変形すると、チップとのワイヤボンディングが適
正に行われなくなるばかりか、隣合う内部リードどうし
が接触して短絡不良を起こす。
By the way, as described above, as the pitch of the lead terminals becomes finer, the interval between the tips of the internal leads c becomes extremely small. Therefore, the internal leads c are easily deformed by an external force. When the internal lead c is deformed, not only wire bonding to the chip is not properly performed, but also adjacent internal leads come into contact with each other to cause a short circuit failure.

【0006】そのために、上記製造用フレームFを用い
た半導体装置の製造過程において、次のような対処方法
が従来行われている。すなわち、各内部リードcの先端
部どうしを、図16に詳示するように連結バーeによっ
てつなげておき、そして、同じく図16に示すように各
内部リードの中間部分を樹脂テープf等によって拘束
し、しかる後に、上記の先端連結部分を切り落として図
18に示すように各内部リードを独立させるのである。
Therefore, the following countermeasures have conventionally been taken in the process of manufacturing a semiconductor device using the manufacturing frame F. That is, the tips of the internal leads c are connected to each other by a connecting bar e as shown in detail in FIG. 16, and the intermediate portion of each internal lead is also restrained by a resin tape f or the like as shown in FIG. Then, after that, the above-mentioned leading end connecting portion is cut off to make each internal lead independent as shown in FIG.

【0007】そうすると、各内部リードcは、樹脂テー
プfによって互いの間隔が規定されることになるため、
内部リードcの先端の変形をある程度防止することがで
きる。
[0007] Then, the distance between the internal leads c is defined by the resin tape f.
The deformation of the tip of the internal lead c can be prevented to some extent.

【0008】しかしながら、上記のような手法を採用し
たとしても、なお次のような問題が残っている。
[0008] However, even if the above method is adopted, the following problem still remains.

【0009】上記のようなファインピッチ化された半導
体装置を製造するためのフレームFは、厚み0.2mm
程度の導電性金属薄板をプレスによって打ち抜くことに
より製造するか、金属薄板にエッチング処理を施すこと
によって製造するかのいずれかの手法によって製造する
のが一般である。コスト面および効率面からいえば、プ
レス打ち抜きによる製造手法が有利であることは明らか
である。しかしながら、プレス打ち抜きによる製造用フ
レームは、特に上記のようなファインピッチ化された半
導体装置用のものである場合、次のような重大な問題が
指摘されてきている。
A frame F for manufacturing a semiconductor device having a fine pitch as described above has a thickness of 0.2 mm.
Generally, it is manufactured by either a method of manufacturing by punching out a conductive metal sheet of a degree by a press or a method of manufacturing by etching the metal sheet. It is clear that the production method by press punching is advantageous in terms of cost and efficiency. However, the following serious problems have been pointed out, especially when a manufacturing frame formed by press punching is used for a semiconductor device having a fine pitch as described above.

【0010】すなわち、プレス打ち抜き加工をする際、
ダイスとポンチから与えられる外力により、とりわけ上
記内部リード部分に残留応力が残ってしまう。そして、
図17に詳示するように、リードに、打ち抜きによって
生じた返りあるいはバリgが必然的に生じる。
That is, when press stamping is performed,
Due to the external force applied from the die and the punch, a residual stress remains particularly at the internal lead portion. And
As shown in detail in FIG. 17, a return or burr g inevitably occurs in the lead due to punching.

【0011】残留応力は、リードフレームF全体に緊張
を与え、べこつきが生じる場合があるとともに、上記し
たように、各内部リードcを樹脂テープfでつないた後
に先端間を連結する部分を切除したときに、残留応力が
解放されて内部リードcの先端に変位が生じることがあ
る。
Residual stress may give tension to the entire lead frame F and cause sticking. In addition, as described above, after connecting the internal leads c with the resin tape f, a portion connecting the tips is connected. When cut, the residual stress is released, and the tip of the internal lead c may be displaced.

【0012】そうすると、上記のように樹脂テープを用
いた内部リードの変形防止策を講じたとしても、最終的
に各内部リードの先端に変位が生じてワイヤボンディン
グでの不都合を起こしたり、内部リードの先端どうしの
接触による短絡不良を起こしたりしてしまうのである。
[0012] Then, even if the measures for preventing deformation of the internal leads using the resin tape are taken as described above, finally the tip of each internal lead is displaced to cause inconvenience in wire bonding, Or short-circuit failure due to contact between the tips of the two.

【0013】多数の内部リードのうち、一つでも上記の
ような短絡不良を起こすと、全体が製品不良となってし
まうのであり、このことによる歩留りの低下が著しかっ
たのである。
[0013] If any one of a large number of internal leads causes a short circuit as described above, the entire product becomes defective, and the yield is significantly reduced due to this.

【0014】さらに、上記のように打ち抜きによって生
じる返りやバリを何らの対処もなく残したまま後工程を
行っていたため、リードフレームに対するハンダメッキ
を行おうとする場合、ハンダが平均的になじまず、ハン
ダ不良を起こしたり、バリや返りの部分から水分が樹脂
モールドパッケージ内に侵入したりするという不具合を
起こすこともあった。
Further, since the post-process is performed while leaving the return and burrs generated by the punching without any countermeasure as described above, when the soldering is performed on the lead frame, the solder does not averagely adapt. In some cases, a solder defect may occur or moisture may enter the resin mold package from burrs or return portions.

【0015】フレームをエッチングによって作製する場
合には、上記のような諸問題は発生しないが、前述した
ように、かかるエッチングによるフレーム製造は、時間
とコストがかかってしまうという別の不具合がある。
When the frame is manufactured by etching, the above-mentioned problems do not occur. However, as described above, the manufacturing of the frame by the etching has another disadvantage that it takes time and costs.

【0016】本願発明は、上記のような事情のもとで考
え出されたものであって、ファインピッチ化された外部
リードおよび内部リードをもつ電子部品をプレス打ち抜
きされた製造用フレームを用いて製造する場合におい
て、プレス打ち抜き加工時に生じる残留応力に起因する
諸問題を解消するとともに、プレス打ち抜き加工時に生
じる返りやバリに起因して生じる諸問題をも一挙に解消
することをその課題とするものである。
The present invention has been conceived in view of the above circumstances, and uses a manufacturing frame obtained by press-punching an electronic component having an external lead and an internal lead having a fine pitch. In manufacturing, it is an object of the present invention to eliminate various problems caused by residual stress generated at the time of press punching, and at the same time to eliminate various problems caused by return and burrs generated at the time of press punching. It is.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本願発明では次の各技術的手段を講じている。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention employs the following technical means.

【0018】本願の請求項1に記載した発明は、プレス
打ち抜き成形による電子部品製造用フレームの前処理方
法であって、上記製造用フレームに対し、100μm以
下、好ましくは50μm以下の平均粒径の球体または粒
体を高速空気流に乗せて吹きつけることを特徴としてい
る。
The invention described in claim 1 of the present application is a method for pre-treating a frame for manufacturing an electronic component by press punching, wherein the frame for manufacturing an electronic component has an average particle size of 100 μm or less, preferably 50 μm or less. It is characterized in that spheres or granules are blown on a high-speed air stream.

【0019】上記高速空気流は、低圧ブロア等によって
得られる低圧大流量の空気流であることが好ましく(請
求項2)、かかる低圧ブロアによって得られる空気流
は、100m/秒あるいはそれ以上の流速を達成するこ
とが可能であり、条件によっては、200m/秒に到達
させることも不可能ではない(請求項3)。
The high-speed air flow is preferably a low-pressure large-flow air flow obtained by a low-pressure blower or the like (claim 2). The air flow obtained by the low-pressure blower has a flow velocity of 100 m / sec or more. Can be achieved, and depending on the conditions, it is not impossible to reach 200 m / sec (claim 3).

【0020】上記のように、粒径が100μm以下、さ
らには、50μm以下の非常に小さな球体として現状に
おいて入手可能な最適なものとしては、ガラスビーズが
ある(請求項4)。
As described above, glass beads are the most suitable spheres that are currently available as very small spheres having a particle size of 100 μm or less, and even 50 μm or less (claim 4).

【0021】本願の請求項5に記載した発明は、上記の
ようにして前処理された製造用フレームを用いて電子部
品の製造を行う方法である。かかる製造方法には、チッ
プボンディング、ワイヤボンディング、樹脂モールディ
ング等の工程処理が含まれる。
The invention described in claim 5 of the present application is a method for manufacturing an electronic component using the manufacturing frame pretreated as described above. Such a manufacturing method includes processing steps such as chip bonding, wire bonding, and resin molding.

【0022】請求項6に記載した発明は、上記の前処理
方法をブラスト装置を利用して行うことを規定したもの
である。ブラスト装置には、内部にブラストノズルが配
置されたブラスト室をもつという基本的構成をもつ。た
だし、本願発明においては、ブラストノズルから高速空
気流に乗せて噴射するべき研掃材として、100μm以
下、好ましくは50μm以下のガラスビーズ等の球体ま
たは粒体をプレス打ち抜き成形による電子部品製造用フ
レームに対して吹きつけるのである。
According to a sixth aspect of the present invention, it is specified that the above-mentioned pre-processing method is performed using a blast device. The blast device has a basic configuration in which it has a blast chamber in which a blast nozzle is disposed. However, in the invention of the present application, as a polishing material to be sprayed on a high-speed air flow from a blast nozzle, a sphere or a particle such as a glass bead of 100 μm or less, preferably 50 μm or less is used for a frame for electronic component production by press punching. It blows against.

【0023】上記ブラストノズルから噴射させられる低
圧高速の空気流は、好ましくは低圧ブロアによって発生
させられるのであり、その吐出圧は0.3ないし0.6
気圧(ゲージ圧)という、低圧に設定される(請求項
7)。なお、このような低圧高速の空気流は、コンプレ
ッサによって発生させられる高圧の圧縮空気を0.3な
いし0.6気圧に減圧したものを用いることもできる
(請求項8)。
The low-pressure, high-speed air flow injected from the blast nozzle is preferably generated by a low-pressure blower, and its discharge pressure is 0.3 to 0.6.
Atmospheric pressure (gauge pressure) is set to a low pressure (claim 7). The low-pressure, high-speed air flow may be obtained by reducing high-pressure compressed air generated by a compressor to 0.3 to 0.6 atm.

【0024】この場合においても、上記の低圧ブロアに
よって空気流を発生する場合、ブラストノズルから10
0m/秒以上の高速で空気を噴射することができる(請
求項9)。
Also in this case, when an air flow is generated by the low-pressure blower, a 10-
Air can be injected at a high speed of 0 m / sec or more (claim 9).

【0025】さらに、請求項10に記載した発明は、上
記した各前処理方法を行うための前処理装置であり、ブ
ラスト装置を利用し、100μm以下、好ましくは50
μm以下の平均粒径の球体または粒体を低圧高速の空気
流に乗せてブラストノズルから噴射し、これを搬送機構
によって搬送される電子部品製造用フレームに対して連
続的に当てるように構成したものである。かかる構成を
採用することにより、製造用フレームに対する前処理を
自動的に行うことが可能である。
Further, the invention according to claim 10 is a pretreatment apparatus for performing each of the above pretreatment methods, and utilizes a blast apparatus, and is 100 μm or less, preferably 50 μm or less.
A sphere or particle having an average particle diameter of μm or less is put on a low-pressure, high-speed air flow and jetted from a blast nozzle, and is continuously applied to an electronic component manufacturing frame conveyed by a conveying mechanism. Things. By adopting such a configuration, it is possible to automatically perform pre-processing on the manufacturing frame.

【0026】この場合においても、上記球体として適当
なものはガラスビーズがある(請求項11)。
Also in this case, glass beads are suitable as the sphere (claim 11).

【0027】請求項10の電子部品製造用フレームの前
処理装置において、搬送される製造用フレームの表裏両
面を処理するべく、少なくとも二つのブラストノズルを
備えるのが望ましい(請求項12)。
In the pretreatment apparatus for a frame for manufacturing an electronic component according to the present invention, it is preferable to provide at least two blast nozzles for processing both front and back surfaces of the manufacturing frame to be conveyed.

【0028】[0028]

【発明の作用および効果】本願発明は要するに、電子部
品製造用フレーム、とりわけ、ファインピッチ化が進ん
だ電子部品のための製造用フレームをプレス打ち抜きに
よって形成する場合において、プレス打ち抜き時に付与
されてしまう残留応力の影響と、バリや返りの影響を無
くすようにチップボンディング前のフレームに対して適
正な前処理を行う新たな方法を提供しようとするもので
ある。そのために、本願発明では、基本的にエアブラス
トによる処理が採用されている。
In short, the present invention is applied at the time of press punching when a frame for manufacturing an electronic component, particularly a frame for manufacturing an electronic component with a finer pitch is formed by press punching. It is an object of the present invention to provide a new method for performing an appropriate pre-process on a frame before chip bonding so as to eliminate the influence of residual stress and the effects of burrs and return. Therefore, in the present invention, processing by air blast is basically adopted.

【0029】エアブラストを採用するに際し、本願発明
は、その研掃材として、きわめて小さな粒径をもつ球体
(ビーズ)または粒体を高速空気流に乗せて吹きつける
ということに基本的に特徴づけられる。研掃材として球
体を用いるものとしては、従来、鋼球を圧縮空気によっ
て吹き飛ばしてワークに当てつけるという、いわゆるシ
ョットピーニングがあるが、本願発明の方法は、かかる
従前のいわゆるショットピーニングとは次の点で圧倒的
に異なる。
In adopting air blast, the present invention is basically characterized in that spheres (beads) or particles having an extremely small particle size are blown on a high-speed air flow as the abrasive. Can be As a method using a sphere as an abrasive material, conventionally, there is a so-called shot peening, in which a steel ball is blown off by compressed air and applied to a work, but the method of the present invention employs the following so-called shot peening. The difference is overwhelming.

【0030】第一に、用いるべき研掃材としての球体の
粒径は、100μm以下、好ましくは50μm以下の、
きわめて小さな粒径のものであるという点、第二に、圧
縮空気流ではなく、低圧の高速空気流に乗せてかかる小
さな粒径の球体または粒体を吹きつけるようにしている
点である。
First, the particle diameter of the sphere as the abrasive to be used is 100 μm or less, preferably 50 μm or less.
Secondly, they are of a very small particle size, and secondly, the small-sized spheres or particles are blown not by a compressed air flow but by a low-pressure high-speed air flow.

【0031】高速空気流を発生するための手法として
は、本願発明では、低圧ブロアが好適に用いられる。低
圧ブロアの例としては、ルーツブロアがあり、かかるブ
ロアによって発生させられる空気流は、コンプレッサに
よって発生させられるものが高圧小流量の空気流である
のに対し、低圧大流量の空気流であるという点において
大きく異なる。また、空気流の速度も、ノズル先端にお
いて100m/秒以上とすることが容易であり、条件に
よっては、空気流の流速を200m/秒のきわめて高速
なものとすることが容易である。なお、この高速空気流
は、コンプレッサによって発生させられる高圧小流量の
空気流を、二次空気を導入するなどして減圧するととも
に、高速大流量の空気流れに変換して得ることも可能で
ある。
As a method for generating a high-speed airflow, a low-pressure blower is preferably used in the present invention. An example of a low-pressure blower is a Roots blower, in which the airflow generated by such a blower is a low-pressure, large-flow airflow while that generated by the compressor is a high-pressure, small-flow airflow. Greatly differ. Further, the speed of the air flow can easily be 100 m / sec or more at the tip of the nozzle, and depending on the conditions, it is easy to make the flow speed of the air flow as high as 200 m / sec. This high-speed air flow can be obtained by converting a high-pressure small-flow air flow generated by a compressor into a high-speed large-flow air flow while reducing the pressure by introducing secondary air or the like. .

【0032】さらに、研掃材としての球体は、上記のよ
うな粒径のきわめて小さなものであることに加え、球体
としては、鋼球に比較して比重の小さいガラスビーズが
好適に用いられる。
Furthermore, in addition to the extremely small particle size as described above, glass beads having a smaller specific gravity than steel balls are preferably used as the spheres.

【0033】上記の研掃材としての粒径および材質は前
処理をするべき電子部品製造用フレームの厚みに応じて
適当に選択される。ファインピッチ化された電子部品の
ための製造用フレームは、たとえば厚みが0.2mmと
比較的薄状であり、ピッチ間間隔がたとえば、0.5m
mである場合には、その内部リードの先端部間の間隔
は、さらに狭ピッチとなる。このような場合には、たと
えば現状の技術において作製可能な最小粒径のガラスビ
ーズ、より詳しくは、30μm程度の粒径をもつガラス
ビーズが好適に採用される。
The particle size and material as the above-mentioned abrasive material are appropriately selected according to the thickness of the electronic component manufacturing frame to be pretreated. A manufacturing frame for an electronic component having a fine pitch has a relatively thin shape of, for example, 0.2 mm, and a pitch interval of, for example, 0.5 m.
In the case of m, the interval between the tips of the internal leads has a smaller pitch. In such a case, for example, glass beads having a minimum particle size that can be produced by the current technology, more specifically, glass beads having a particle size of about 30 μm are suitably adopted.

【0034】従来、一般的なショットピーニングにおい
て高圧空気流を用いることに比較し、本願発明のように
低圧大流量の高速空気を用いる場合には、ノズルの断面
を大きくして研掃材混じりの空気流断面積を拡大するこ
とができるので、広範囲の面積を平均的に処理するのに
適している。すなわち、ブラスティングによって上記の
ようなファインピッチ用の製造用フレームであっても、
これにダメージを与えることが少ないのである。
Compared to using a high-pressure air flow in conventional shot peening, when a high-pressure air with a low pressure and a large flow rate is used as in the present invention, the cross section of the nozzle is enlarged to mix the abrasive material. Since the air flow cross-sectional area can be enlarged, it is suitable for treating a wide area on average. That is, even if it is a manufacturing frame for fine pitch as described above by blasting,
It is less likely to damage it.

【0035】上記のように、きわめて粒径の小さい大量
のガラスビーズを100m/秒以上の高速で流れの断面
を大きくして製造用フレームに対して噴射する場合、次
のような作用により、残留応力の影響を無くすととも
に、好適にバリや返りを取り除くことができる。
As described above, when a large amount of glass beads having an extremely small particle diameter are jetted onto a manufacturing frame at a high speed of 100 m / sec or more and the flow cross section is enlarged, residual glass is produced by the following action. The effects of stress can be eliminated, and burrs and return can be suitably removed.

【0036】まず、第一に、比重が小さく、しかもきわ
めて小さい粒径のガラスビーズ等の球体または粒体を高
速でフレームに対して当てることにより、フレームにダ
メージを与えることなく、いわゆるピーニング効果を与
えることができる。すなわち、細かいガラスビーズが高
速でフレーム表面に当たることにより、フレーム内の残
留応力を解放しつつ表面に適度な加工硬化を起こさせる
ことができ、これによってプレス成形時に内部に発生し
ていた残留応力を実質的に除去することができる。そう
すると、ファインピッチ用の製造用フレームであって
も、その内部リードの先端が残留応力が解放されること
によって変形し、短絡不良やワイヤボンディング不良を
惹起することを効果的に回避することができる。
First, the so-called peening effect can be obtained without damaging the frame by applying a sphere or a particle such as glass beads having a small specific gravity and an extremely small particle diameter to the frame at high speed. Can be given. In other words, the fine glass beads hit the frame surface at high speed, so that the surface can be moderately hardened while releasing the residual stress in the frame, thereby reducing the residual stress generated inside during press molding. It can be substantially removed. Then, even in the case of a manufacturing frame for fine pitch, it is possible to effectively prevent the tip of the internal lead from being deformed due to the release of the residual stress and causing short-circuit failure and wire bonding failure. .

【0037】また、上記のようなピーニング効果に加
え、研掃効果を期待することができる。その理由は、研
掃材としてビーズが用いられてはいるが、これがきわめ
て高速でフレームに当てつけられることからフレームに
打ち抜きによって形成されたバリや返りを都合よく削り
取ることができるのである。この点につき、ビーズの材
質により、これがフレームに対する衝突を繰り返す間に
適度に破砕し、鋭利な破砕面をもつようになることか
ら、これが上記の研掃効果を助成することにもなる。
Further, in addition to the peening effect as described above, a polishing effect can be expected. The reason is that although beads are used as an abrasive, they are applied to the frame at a very high speed, so that burrs and returns formed by punching the frame can be conveniently removed. In this regard, the bead material, which is appropriately crushed during repeated collisions with the frame and has a sharp crushed surface, also helps the above-mentioned cleaning effect.

【0038】以上のことから、本願発明によれば、プレ
ス打ち抜きされて残留応力が残る電子部品製造用フレー
ムにおいて、上記残留応力が実質的に除去されることに
なり、しかも、プレス打ち抜きによって必然的に生じる
バリやエッジも除去される。
As described above, according to the present invention, the above-mentioned residual stress is substantially removed in the frame for manufacturing an electronic component in which the residual stress remains after the press punching, and the press punching inevitably causes the residual stress. Also, burrs and edges generated on the surface are removed.

【0039】これにより、とりわけファインピッチ化さ
れた電子部品に対応する製造用フレームをプレス打ち抜
きによって作製する場合において、残留応力の影響によ
り内部リードが変形して短絡不良を起こしたり、ボンデ
ィング不良を起こしたりという事態を有効に回避するこ
とができ、ファインピッチ、多端子の樹脂パッケージ型
電子部品の歩留りが著しく向上させられる。このように
して、安価に製造できるプレス打ち抜きによる製造用フ
レームが問題なく使用できるようになることから、電子
部品製造のコストが総合的に低減される。
In particular, when a manufacturing frame corresponding to a fine-pitch electronic component is manufactured by press punching, internal leads are deformed due to the influence of residual stress to cause short-circuiting or bonding failure. Such a situation can be effectively avoided, and the yield of a fine-pitch, multi-terminal resin packaged electronic component can be significantly improved. In this way, a manufacturing frame formed by press punching, which can be manufactured at low cost, can be used without any problem, and the cost of manufacturing electronic components can be reduced overall.

【0040】加えて、リードに形成されたバリや返りが
除去されることから、リードにハンダメッキを施す場合
において馴染み良くハンダが乗り、回路基板に対する実
装においてハンダ付け不良を起こしたりするということ
は軽減される。
In addition, since the burrs and return formed on the leads are removed, the solder is well-familiar when the leads are plated with solder, which may result in poor soldering when mounted on a circuit board. It is reduced.

【0041】さらに、表面がクリーニングされるので、
製造用フレームに対してハンダあるいはその他の被覆層
をメッキによって形成する場合において、従前において
必須であった脱脂処理を省略することも可能となり、か
かるメッキ処理が簡略化される。
Further, since the surface is cleaned,
In the case where a solder or other coating layer is formed on a manufacturing frame by plating, it is possible to omit the degreasing process which has been required in the past, and this plating process is simplified.

【0042】[0042]

【実施例の説明】以下、本願発明の好ましい実施例を、
図面を参照しつつ具体的に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below.
This will be specifically described with reference to the drawings.

【0043】本願発明の電子部品製造用フレームの前処
理方法は、ブラスト装置1の構成を援用することによっ
て実施することができる。図1ないし図12に、ブラス
ト装置を援用した本願発明の電子部品製造用フレームの
前処理装置を示す。この装置1は、基本的に、ブラスト
室2において搬送機構3によって水平方向または略水平
方向に搬送される製造用フレームFに対し、ブラストノ
ズル4から低圧高速大流量の空気流に乗せて噴射される
小粒径の球体または粒体を当てるように構成したもので
ある。
The pretreatment method for a frame for manufacturing an electronic component according to the present invention can be carried out by using the structure of the blast device 1. FIGS. 1 to 12 show a pretreatment device for a frame for manufacturing an electronic component according to the present invention using a blast device. This apparatus 1 is basically sprayed from a blast nozzle 4 onto a manufacturing frame F which is conveyed in a blast chamber 2 in a horizontal direction or a substantially horizontal direction by a conveying mechanism 3 with a low-pressure, high-speed, large-flow airflow. The spheres or granules having a small particle diameter are applied.

【0044】上記ブラスト室2内において、上述のよう
に搬送機構3によって水平方向に搬送される製造用フレ
ームFを向くようにして、上下にそれぞれ複数個のブラ
ストノズル4が配置されている。ブラスト室2の上部に
は、ルーツブロア等の低圧空気発生源(図示略)から送
られた空気が供給される空気供給管5が配置されてお
り、この空気供給管5から分岐させられた空気供給ホー
ス5aが、それぞれ、上記各ブラストノズル4の基端部
に接続されている。各ブラストノズル4の基端部にはま
た、研掃材供給ホース6が接続されている。
In the blast chamber 2, a plurality of blast nozzles 4 are arranged vertically so as to face the manufacturing frame F which is transported in the horizontal direction by the transport mechanism 3 as described above. An air supply pipe 5 to which air sent from a low-pressure air generation source (not shown) such as a roots blower is supplied is disposed above the blast chamber 2. The air supply pipe 5 branched from the air supply pipe 5 is provided. The hoses 5a are connected to the base ends of the blast nozzles 4, respectively. A polishing material supply hose 6 is connected to the base end of each blast nozzle 4.

【0045】ブラストノズル4は、上記空気供給ホース
5aから送られてブラストノズル内孔を高速で通過する
空気流に吸引されるようにして、上記研掃材供給ホース
6から送られる研掃材が混入されるように構成されたも
のを用いることができる。なお、このブラストノズル4
の具体的構成については、さらに後述する。
The blast nozzle 4 is supplied from the air supply hose 5a and sucked by an air flow passing through the inner hole of the blast nozzle at a high speed. Those configured to be mixed can be used. The blast nozzle 4
The specific configuration of will be described later.

【0046】上記ブラスト室2の上部には、傘状の集塵
フード7が配置されており、この集塵フード7の上部
は、集塵管8を介して、ブラスト室2の外部にこれと隣
接して配置された集塵装置9(図2)に接続されてい
る。この集塵装置9は、集塵管10の上部に設置された
吸引ブロア11によって吸引力を発生させ、この吸引力
によって集塵管8から集塵管10内に導入された粉塵混
じり空気から、フィルタによって粉塵を除去するように
構成された公知ものを用いることができる。
An umbrella-shaped dust collecting hood 7 is disposed above the blast chamber 2. The upper portion of the dust collecting hood 7 is connected to the outside of the blast chamber 2 via a dust collecting pipe 8. It is connected to a dust collection device 9 (FIG. 2) arranged adjacently. The dust collecting device 9 generates a suction force by a suction blower 11 installed at an upper portion of the dust collection tube 10, and the dust-mixed air is introduced from the dust collection tube 8 into the dust collection tube 10 by the suction force. A well-known device configured to remove dust by a filter can be used.

【0047】一方、ブラスト室2の下部は、ホッパ状に
縮径させられており、このホッパ部12の下方には、研
掃材回収容器13が接続されている。本実施例の装置に
おいては、上記ブラスト室2の下部に接続された研掃材
回収容器13内に溜まった研掃材Sを、次のようにして
研掃材供給ホース6を介して各ブラストノズル4に送
り、研掃材Sを循環使用できるようにしている。
On the other hand, the lower part of the blast chamber 2 is reduced in diameter like a hopper, and a polishing material collection container 13 is connected below the hopper 12. In the apparatus of the present embodiment, the abrasive material S accumulated in the abrasive material collecting container 13 connected to the lower part of the blast chamber 2 is blasted through the abrasive material supply hose 6 as follows. The cleaning material S is sent to the nozzle 4 so that it can be recycled.

【0048】すなわち、図3および図4によく表れてい
るように、上記研掃材回収容器13の一側壁13aに研
掃材吸引パイプ14を貫通支持させる一方、上記回収容
器13の他側壁13bには、上記各吸引パイプ14と同
一軸線をもつようにして送気管15が貫通状に支持され
ており、上記各吸引パイプ14の外端を研掃材供給ホー
ス6を介して上記のように各ブラストノズル4の基端部
に連結するとともに、上記各送気管15の基端側は、送
風手段16に連結されている。
That is, as shown in FIGS. 3 and 4, one side wall 13a of the blasting material collecting container 13 has the blasting material suction pipe 14 penetrated and supported, while the other side wall 13b of the collecting container 13 has An air supply pipe 15 is supported in a penetrating manner so as to have the same axis as each of the suction pipes 14, and the outer end of each of the suction pipes 14 is connected to the outer end of the suction pipe 14 through the abrasive supply hose 6 as described above. The blast nozzle 4 is connected to the base end of the blast nozzle 4, and the base end side of each of the air supply pipes 15 is connected to a blowing unit 16.

【0049】本実施例において上記各吸引パイプ14
は、回収容器13の一側壁に貫通形成されたボス部17
に対して水平方向にスライド位置調整できるようになっ
ており、調整後の位置は、上記ボス部17の側壁から螺
合された止めネジ18によって保持されるようにしてあ
る。
In this embodiment, each of the suction pipes 14
Is a boss 17 formed through one side wall of the collection container 13.
The position after the adjustment can be held by a set screw 18 screwed from the side wall of the boss 17.

【0050】また、上記各送気管15もまた、上記回収
容器13の他側壁に支持されたボス部19内を水平方向
にスライド位置調節可能に通挿支持されており、ボス部
19に螺合した止めネジ20により、各送気管15の軸
方向への調節後の位置が保持されるようにしてある。
Further, each of the air supply pipes 15 is also inserted and supported in a boss portion 19 supported on the other side wall of the collection container 13 so as to be able to adjust the sliding position in the horizontal direction. The position of each air supply pipe 15 after adjustment in the axial direction is held by the set screw 20.

【0051】上記のようにすることにより、各吸引パイ
プ14と各送気管15のいずれか一方または双方の軸方
向位置を調節することによって、上記吸引パイプ14の
内端開口と、上記送気管15の先端部との間の環状隙間
21の大きさおよび軸方向長さを適宜調節しうる。
By adjusting the axial position of one or both of the suction pipes 14 and the air supply pipes 15 as described above, the inner end opening of the suction pipes 14 and the air supply pipes 15 are adjusted. The size and the axial length of the annular gap 21 between the tip and the end of the annular gap 21 can be appropriately adjusted.

【0052】上述したように、各送気管15の基端側
は、送風手段16に連結されるのであるが、本実施例に
おいては、図2に示されるように、上記各送気管15の
外端を、ホース22を介してサージタンク23に連結
し、かつこのサージタンク23をブロア24に連結して
いる。したがって、各送気管15には、ブロア24から
の空気がサージタンク23ないし各ホース22を介して
送り込まれる。
As described above, the base end side of each air supply pipe 15 is connected to the air supply means 16, but in this embodiment, as shown in FIG. The end is connected to a surge tank 23 via a hose 22, and the surge tank 23 is connected to a blower 24. Therefore, the air from the blower 24 is sent into each air supply pipe 15 through the surge tank 23 or each hose 22.

【0053】上記の装置が作動状態にあるとき、集塵装
置9が作動状態にあってブラスト室2の上部の集塵フー
ド7には吸引力が作用させられている。そして、図示し
ないルーツブロア等の空気発生源からの空気が空気供給
管5を介して各ブラストノズル4に送られている。そう
して、上記のように、研掃材回収容器13において、各
送気管15に、ブロア24からの空気が各吸引パイプ1
4の内端開口に向けて送り込まれる。
When the above-described apparatus is in the operating state, the dust collecting device 9 is in the operating state, and the suction force is applied to the dust collecting hood 7 above the blast chamber 2. Then, air from an air source such as a roots blower (not shown) is sent to each blast nozzle 4 via an air supply pipe 5. Then, as described above, in the cleaning material collection container 13, air from the blower 24 is supplied to each air supply pipe 15 by each suction pipe 1.
4 is fed toward the inner end opening.

【0054】回収容器13において、各送気管15を介
して各吸引パイプ14内に空気が送り込まれると、この
空気流に引き寄せられるようにして、回収容器13の下
部に溜まった研掃材Sが、上記各吸引パイプ14と上記
送気管15との環状隙間21を介して吸引パイプ14内
に引き込まれる。こうして吸引パイプ14に引き込まれ
た研掃材は、上記送気管15からの空気流れによる動圧
が与えられるとともに、各ブラストノズル4内に空気供
給管5を介して流れる高速空気によって発生させられる
負圧の作用により、研掃材供給ホース6を介して各ブラ
ストノズル4に送られ、そうしてブラストノズル4内に
おいて上記高速空気流に混入されて再び噴射される。換
言すると、上記吸引パイプ14内に引き込まれた研掃材
は、送気管15からの空気流れによるポンピング力と、
ブラストノズル4内に発生する負圧との相乗作用によ
り、位置的に高いブラストノズル4まで研掃材供給ホー
ス6を介して都合よく搬送されるのである。
When air is sent into each suction pipe 14 through each air supply pipe 15 in the collection container 13, the abrasive material S collected in the lower portion of the collection container 13 is drawn by the air flow. The suction pipe 14 is drawn into the suction pipe 14 through the annular gap 21 between the suction pipe 14 and the air supply pipe 15. The abrasive material thus drawn into the suction pipe 14 is given a dynamic pressure by the air flow from the air supply pipe 15, and generates a negative pressure generated by high-speed air flowing through the air supply pipe 5 into each blast nozzle 4. Due to the action of the pressure, it is sent to each blast nozzle 4 via the abrasive supply hose 6 and then mixed with the high-speed air flow in the blast nozzle 4 and jetted again. In other words, the abrasive material drawn into the suction pipe 14 has a pumping force due to an air flow from the air supply pipe 15,
By the synergistic action with the negative pressure generated in the blast nozzle 4, the blast nozzle 4 is conveniently transported to the blast nozzle 4 at a higher position through the abrasive supply hose 6.

【0055】しかも、上記吸引パイプ14と上記送気管
15がなす環状の隙間21の大きさおよび軸方向長さを
調節することにより、使用される研掃材の粒径あるいは
比重に応じて、吸引パイプ14および研掃材供給ホース
6を介してブラストノズル4に送られて循環使用される
研掃材の量が適宜調節することができる。
Further, by adjusting the size and the axial length of the annular gap 21 formed by the suction pipe 14 and the air supply pipe 15, suction can be performed according to the particle size or specific gravity of the abrasive used. The amount of the abrasive material sent to the blast nozzle 4 through the pipe 14 and the abrasive material supply hose 6 and circulated and used can be appropriately adjusted.

【0056】一方、製造用フレームFを上記のブラスト
室2を貫通するようにして水平方向に搬送することがで
きる上記搬送機構3は、基本的に、搬送方向に対して左
右に配置された二組の無端ベルト25,26を備える。
各無端ベルト25,26は、ブラスト室2の前後方向対
向側壁にそれぞれ形成された入口部27および出口部2
8に水平軸周りに回転可能に取付けられたベルトプーリ
29a,29bに掛け回される。
On the other hand, the transport mechanism 3 capable of transporting the manufacturing frame F in the horizontal direction so as to penetrate the blast chamber 2 basically has two transfer mechanisms disposed on the left and right with respect to the transport direction. It comprises a set of endless belts 25,26.
Each of the endless belts 25 and 26 has an inlet portion 27 and an outlet portion 2 formed on the front and rear facing side walls of the blast chamber 2.
8 is wrapped around belt pulleys 29a and 29b rotatably mounted about a horizontal axis.

【0057】図12に示すように、上記搬送機構3にお
いて用いられる左右一対の無端ベルト25,26は、外
周に複数のV溝が形成されたベルトプーリに掛け回して
動力を伝達するべく用いられる無端ベルトを、内外を反
転させて用いている。すなわち、本来V溝付のベルトプ
ーリに掛け回されるべきV溝が形成された方を外側に向
け、本来外側に位置するべき平坦部分を内側にして平ベ
ルト用のプーリ29a,29bに掛け回している。この
ような一対のベルトを対向させることにより、図12に
示すように、ベルトのV溝に製造用フレームFの両側縁
を係止するようにして、ベルト走行にともなって、上記
製造用フレームFを都合よく搬送することができるので
ある。
As shown in FIG. 12, a pair of left and right endless belts 25 and 26 used in the transport mechanism 3 are used to transmit power by being wrapped around a belt pulley having a plurality of V-grooves formed on the outer periphery. The endless belt is used with its inside and outside reversed. That is, the direction in which the V-groove which should be looped around the belt pulley with the V-groove is formed is turned outward, and the flat portion which should be positioned on the outer side is looped around the flat belt pulleys 29a and 29b. ing. By making such a pair of belts face each other, as shown in FIG. 12, both side edges of the manufacturing frame F are locked in the V-grooves of the belt. Can be conveniently transported.

【0058】上記各ベルト25,26は、出口側のベル
トプーリ29bを回転駆動することにより走行させられ
るようになっており、かつ、入口側の両ベルトプーリ2
9a,29a間の間隔、および、出口側の両ベルトプー
リ29b,29b間の間隔を調整することにより、上記
のように、製造用フレームFの両側縁を係止するべきベ
ルト走行部分の間隔を変更できるようにしてある。
Each of the belts 25 and 26 is adapted to run by rotating an outlet belt pulley 29b, and to drive both belt pulleys 2b on the inlet side.
By adjusting the gap between the belt pulleys 29a and 29b and the gap between the belt pulleys 29b and 29b on the outlet side, the gap between the belt running portions to which the both side edges of the manufacturing frame F are to be locked is adjusted as described above. It can be changed.

【0059】上記のようなベルトを用いて製造用フレー
ムFを搬送する場合、ベルト25,26は通常ゴムで形
成されていることから、搬送するべき製造用フレームF
が薄板状であったとしても、これに不用意にダメージを
与えるということを有効に回避することができる。そし
て、後述するように、こうして両側縁を左右一対のベル
ト25,26のV溝に係止されながら水平方向に搬送さ
れる製造用フレームFには、ブラストノズルからの研掃
材による処理を受けるが、ベルトそれ自体が研掃材によ
る研掃作用を受けることがないので、ブラスト室内にお
ける搬送機構として、寿命の長いきわめて適正なものと
なる。
When the manufacturing frame F is transported by using the belt as described above, since the belts 25 and 26 are usually formed of rubber, the manufacturing frame F to be transported is transported.
Even if is a thin plate, it is possible to effectively avoid inadvertently damaging it. As described later, the manufacturing frame F conveyed in the horizontal direction while the side edges are locked by the V-grooves of the pair of left and right belts 25 and 26 in this manner is subjected to the processing by the abrasive material from the blast nozzle. However, since the belt itself is not subjected to the blasting action by the blasting material, it becomes a very suitable long-life transport mechanism in the blast chamber.

【0060】上記無端ベルト25,26の掛け回し構造
を、入口側27と出口側28とに分けて以下に説明す
る。
The structure in which the endless belts 25 and 26 are wound will be described below by dividing the structure into an inlet side 27 and an outlet side 28.

【0061】図5ないし図7は、左右の無端ベルト2
5,26の入口側における支持構造を示している。上記
ベルトプーリ29a,29aを上端に取付けた支軸3
0,30は、それぞれ、搬送方向に対して左右方向にス
ライド移動しうる支持部材31,31に対して垂直状に
支持されている。上記各支持部材31,31は、図6に
表れているように、入口部容器27a内において前後に
配置されたガイド部材32,32に係合して、各別に左
右方向にスライド移動可能となっている。そして、上記
各支持部材31,31には、左右方向の貫通孔33,3
3が設けられている。
FIGS. 5 to 7 show the left and right endless belts 2.
5 shows a support structure at the entrance side of the fifth and the 26th. A spindle 3 having the belt pulleys 29a, 29a attached to the upper end.
Reference numerals 0 and 30 are vertically supported by support members 31 and 31 that can slide in the left and right directions with respect to the transport direction. As shown in FIG. 6, each of the support members 31, 31 is engaged with guide members 32, 32 arranged in the front and rear in the inlet container 27a, so that they can be individually slid in the left-right direction. ing. Each of the support members 31, 31 has a through hole 33, 3 in the left-right direction.
3 are provided.

【0062】一方、入口容器27aの側壁に取付けられ
た雌ネジ部材34(図7)には、回転軸35に形成され
た雄ネジ部35aが螺合させられている。そして、この
回転軸35の内方小径部35bが上記支持部材31の左
右方向の貫通孔33に通挿させられており、かつこの回
転軸35の内端部には、大径部35cが形成されてい
る。さらに、上記回転軸35の外端部35aには、工具
係合手段35dが形成されている。
On the other hand, a male screw portion 35a formed on the rotating shaft 35 is screwed to the female screw member 34 (FIG. 7) attached to the side wall of the inlet container 27a. The inner small diameter portion 35b of the rotating shaft 35 is inserted through the through hole 33 in the left-right direction of the support member 31, and a large diameter portion 35c is formed at the inner end of the rotating shaft 35. Have been. Further, a tool engaging means 35d is formed on the outer end 35a of the rotating shaft 35.

【0063】したがって、上記回転軸35を、その外端
工具係合手段に適当な工具を作用させて回転させると、
上記雌ネジ部材34に対する回転軸35の雄ネジ部35
aの回転によるネジ送り作用により、この回転軸35は
その軸方向に往復移動する。そうすると、この回転軸3
5の小径部35bが挿通される上記支持部材31,31
が上記回転軸35の軸方向移動にともなって左右方向移
動させられる。
Therefore, when the rotating shaft 35 is rotated by applying an appropriate tool to the outer end tool engaging means,
Male screw portion 35 of rotating shaft 35 with respect to female screw member 34
The rotary shaft 35 reciprocates in the axial direction due to the screw feed action due to the rotation of a. Then, this rotating shaft 3
The supporting members 31, 31 through which the small-diameter portion 35b is inserted.
Are moved in the left-right direction with the axial movement of the rotary shaft 35.

【0064】左右の無端ベルト25,26に対応する入
口側各ベルトプーリ29a,29aは、各独立の支持部
材31,31に対して上記のようにして支持されてお
り、回転軸35による左右方向の位置調整機構も、左右
それぞれに対して設けられている。したがって、左右の
無端ベルト25,26の入口部を支持する各ベルトプー
リ29a,29aの間隔は、上記のようにして各支持部
材31,31を左右方向に移動させることにより、調節
することができる。
The belt pulleys 29a, 29a on the inlet side corresponding to the left and right endless belts 25, 26 are supported by the independent supporting members 31, 31 as described above. Are also provided for each of the left and right. Therefore, the interval between the belt pulleys 29a, 29a supporting the entrances of the left and right endless belts 25, 26 can be adjusted by moving the support members 31, 31 in the left-right direction as described above. .

【0065】なお、図5および図6において符号36で
示すのは、製造用フレームFを上記左右の無端ベルト2
5,26の間に導入するための導入ガイドである。
In FIGS. 5 and 6, reference numeral 36 indicates that the manufacturing frame F is attached to the left and right endless belts 2.
It is an introduction guide for introducing between 5 and 26.

【0066】図8ないし図11は、左右の無端ベルト2
5,26の出口側28での支持構造を示している。各無
端ベルト25,26の出口部が掛け回されるベルトプー
リ29b,29bを上端に取付けた垂直状の支軸37,
37は、出口容器28a内において左右方向に位置調整
可能に支持された支持部材38,38に対して回転可能
に取付けられている。
FIGS. 8 to 11 show the left and right endless belts 2.
5 shows the support structure at the outlet side 28 of 26. A vertical support shaft 37 having belt pulleys 29b, 29b at the upper ends thereof around which the outlet portions of the endless belts 25, 26 are looped,
37 is rotatably mounted on support members 38, 38 which are supported in the outlet container 28a so as to be position-adjustable in the left-right direction.

【0067】上記の各支持部材38,38は、各独立に
左右方向に位置調節可能としてあり、かかる位置調節可
能とするための機構は、前述の入口部側各ベルトプーリ
のための調節機構と同様である。
The positions of the support members 38, 38 can be independently adjusted in the left-right direction. The mechanism for enabling the position adjustment is the same as the above-described adjustment mechanism for the belt pulley on the inlet side. The same is true.

【0068】すなわち、上記支持部材38,38には左
右方向に貫通する貫通孔39,39が設けられており、
この貫通孔39,39には、出口容器28aの側壁に螺
進退可能に貫通支持された回転軸40の内方小径部40
bが挿通されており、この小径部40bの内端には、抜
け止め大径部40cが形成されている。したがって、こ
の回転軸40を回転させて出口容器28aの側壁に対し
て左右方向に螺進退させることにより、上記支持部材3
8,38ないしこれに垂直軸37,37を介して支持さ
れる上記各ベルトプーリ29b,29b間の間隔を適宜
調節することができる。
That is, the supporting members 38, 38 are provided with through holes 39, 39 penetrating in the left-right direction.
In the through holes 39, 39, an inner small diameter portion 40 of a rotary shaft 40 supported so as to be capable of screwing and retracting on the side wall of the outlet container 28a.
The small diameter part 40b is formed at the inner end of the small diameter part 40b. Therefore, by rotating the rotary shaft 40 to reciprocate in the left-right direction with respect to the side wall of the outlet container 28a, the support member 3
The distance between the belt pulleys 29b, 29b supported by the vertical shafts 37, 37 can be adjusted as appropriate.

【0069】ところで、本実施例においては、各無端ベ
ルト25,26は、その出口側が掛け回されるベルトプ
ーリ29b,29bを回転駆動することにより走行させ
られる。また、両ベルトプーリ29b,29bは、等速
で反対方向に同期回転させられる必要があり、本実施例
においては、これを次のように構成している。
In this embodiment, the endless belts 25, 26 are run by rotating belt pulleys 29b, 29b around which the outlets are wound. Further, both belt pulleys 29b, 29b need to be synchronously rotated in the opposite direction at a constant speed, and in the present embodiment, this is configured as follows.

【0070】図8および図11に表れているように、上
記無端ベルト25,26を掛け回すベルトプーリ29
b,29bを上端に取付けた支軸37,37の下端部
に、それぞれ従動スプロケット41,41が取付けられ
る。もちろん、両支軸に取付けられるべき従動スプロケ
ット41,41の径は、互いに同一である。
As shown in FIGS. 8 and 11, a belt pulley 29 around which the endless belts 25 and 26 are wound
Driven sprockets 41, 41 are attached to the lower ends of the spindles 37, 37 with the upper ends b, 29b attached. Of course, the diameters of the driven sprockets 41, 41 to be attached to both support shafts are the same.

【0071】一方、出口容器28a内の静止部材42に
は、前後二つのスプロケット43,44が回転可能に取
付けられており、そのうちの一方(図9によって右側)
のスプロケット44を減速機構付モータ45によって回
転駆動するようにしている。このように前後方向に配置
されるべき二つのスプロケット43,44は、上記各従
動スプロケット41,41と同一高さ位置に配置されて
おり、かつこれら四つのスプロケット41,41,4
3,44には、駆動用無端チエン46が掛け回されてい
る。
On the other hand, the front and rear two sprockets 43 and 44 are rotatably mounted on the stationary member 42 in the outlet container 28a, and one of them (the right side in FIG. 9).
Is driven to rotate by a motor 45 with a speed reduction mechanism. As described above, the two sprockets 43, 44 to be arranged in the front-rear direction are arranged at the same height position as the driven sprockets 41, 41, and these four sprockets 41, 41, 4
A driving endless chain 46 is wrapped around 3,44.

【0072】ただし、この駆動用無端チエン46の走行
によって上記各従動スプロケット41,41が逆方向に
回転する必要があるため、駆動用無端チエン46は、図
11に表れているように掛け回される。このようにする
ことにより、モータ45の支軸に取付けられたスプロケ
ット44が図11の矢印方向に回転駆動させられると、
駆動用無端チエン46が図11の矢印方向に走行し、こ
れにより、左右の従動スプロケット41,41が互いに
逆方向に回転駆動させられる。その結果、左右の無端ベ
ルト25,26の互いに平行に走行する部分25a,2
6aは、等速で入口側から出口側へ引っ張られるように
して同期走行させられることになる。
However, since the driven sprockets 41 need to rotate in the reverse direction due to the travel of the driving endless chain 46, the driving endless chain 46 is wound around as shown in FIG. You. By doing so, when the sprocket 44 attached to the spindle of the motor 45 is driven to rotate in the direction of the arrow in FIG.
The driving endless chain 46 travels in the direction of the arrow in FIG. 11, whereby the left and right driven sprockets 41 are rotationally driven in opposite directions. As a result, the left and right endless belts 25, 26 run parallel to each other.
6a is driven synchronously by being pulled from the entrance side to the exit side at a constant speed.

【0073】なお、左右の無端ベルト25,26の平行
状走行部分25a,26aに適度の張力を作用させてそ
の直線走行性を達成するために、入口側の支持部材3
1,31および出口側支持部材38,38間を掛けわた
すようにして配置されるガイド50,50に、テンショ
ンプーリ49,49が取付けられている。
In order to achieve a straight running property by applying an appropriate tension to the parallel running portions 25a and 26a of the left and right endless belts 25 and 26, the support member 3 on the entrance side is required.
Tension pulleys 49, 49 are attached to guides 50, 50 which are arranged so as to span between the support members 1, 31, and the outlet side support members 38, 38.

【0074】また、上記ガイド50,50には、搬送方
向の適部において、上記各無端ベルト25,26間に両
側縁を係合支持されて搬送される製造用フレームFをバ
ックアップするバックアップガイド48,48が固定状
に取付けられる。より具体的には、前述したように、ブ
ラスト室2内には、上記のようにして搬送される製造用
フレームFの上面を向くブラストノズル4と、下面を向
くブラストノズル4が好ましくは搬送方向について交互
に配置されるが、上面を向くブラストノズル4が配置さ
れる部位においては、上記製造用フレームFの裏面をバ
ックアップするバックアップガイド48を設け、下面を
向くブラストノズル4が配置される部位においては、製
造用フレームFの上面をバックアップするバックアップ
ガイド48を設けるのである。
Further, the guides 50, 50 are provided with backup guides 48 for backing up the manufacturing frame F which is conveyed with the both side edges engaged and supported between the endless belts 25, 26 at an appropriate portion in the conveying direction. , 48 are fixedly mounted. More specifically, as described above, in the blast chamber 2, the blast nozzle 4 facing the upper surface of the manufacturing frame F transported as described above and the blast nozzle 4 facing the lower surface are preferably in the transport direction. Are alternately arranged, but at a portion where the blast nozzle 4 facing the upper surface is arranged, a backup guide 48 for backing up the back surface of the manufacturing frame F is provided, and at a portion where the blast nozzle 4 facing the lower surface is arranged. Is to provide a backup guide 48 for backing up the upper surface of the manufacturing frame F.

【0075】このバックアップガイド48,48は、好
ましくはゴム等の弾性部材を表面に貼着しておくのが望
ましい。その理由は、研掃材としてのガラスビーズがバ
ックアップガイドに衝突して無駄な破砕を起こすことを
防止することと、研掃材による研掃効果を適度に緩和し
て、薄状の製造用フレームFに対して処理を行う場合に
この製造用フレームに無駄なダメージを与えることを防
止するためである。
The backup guides 48, 48 preferably have an elastic member such as rubber adhered to the surface thereof. The reason for this is to prevent the glass beads as the abrasive material from colliding with the backup guide and causing unnecessary crushing, and to moderate the abrasive effect of the abrasive material to reduce the thin manufacturing frame. This is to prevent unnecessary damage to the manufacturing frame when processing is performed on F.

【0076】入口側投入ガイド36から投入されたチッ
プボンディング工程前の電子部品製造用フレームFは、
互いに平行状に走行する左右の無端ベルト25,26の
対向するV溝内に両側縁が係合支持されるようにして、
ベルト走行にともない、出口に向けて水平状に搬送され
る。
The electronic component manufacturing frame F before the chip bonding step, which is input from the inlet side input guide 36,
Both edges are engaged and supported in opposed V-grooves of the left and right endless belts 25 and 26 running parallel to each other,
As the belt runs, it is conveyed horizontally toward the exit.

【0077】上記ブラストノズル4は、図13および図
14に示すように、その内部において、空気供給ホース
6から導入された低圧高速大流量の空気流れに、研掃材
供給管5から導入された研掃材を混入してノズル端部か
ら噴射するものであるが、本実施例においては、端部ノ
ズル孔が図13および図14に示すように長孔状となっ
たノズルピース47を先端部に取付けている。そして、
このノズルピース47は、図12に示すように長軸が上
記のようにして搬送される製造用フレームFの搬送方向
と直交するように向けられる。このようにする理由は、
一定の幅をもつ製造用フレームFの全幅の領域を、平均
的に処理することができるようにするためである。
As shown in FIG. 13 and FIG. 14, the blast nozzle 4 has a low-pressure, high-speed, large-flow air flow introduced from an air supply hose 6 and an abrasive material supply pipe 5 inside. In this embodiment, the abrasive is mixed with the abrasive material and injected from the end of the nozzle. In the present embodiment, the nozzle piece 47 whose end nozzle hole has a long hole shape as shown in FIGS. It is attached to. And
As shown in FIG. 12, the nozzle piece 47 is oriented such that the major axis is orthogonal to the transport direction of the manufacturing frame F transported as described above. The reason for doing this is
This is because the entire width region of the manufacturing frame F having a certain width can be averagely processed.

【0078】ノズルピース47は、その基端部に二次空
気導入孔51,51が開口しており、これにより、ノズ
ル本体から前方に向けて流れる空気流れに減速が生じる
ことなく、勢いよく研掃材混じりの空気流が噴射できる
ようにしてある。
The nozzle piece 47 has secondary air introduction holes 51, 51 formed at the base end thereof, so that the air flow flowing forward from the nozzle body does not decelerate, and is vigorously sharpened. The air flow mixed with the cleaning material can be jetted.

【0079】なお、このノズルピース47としては、ゴ
ム等の弾性部材を主材料として形成することが、研掃材
による磨耗を防止する上で望ましい。
It is desirable that the nozzle piece 47 be formed of an elastic member such as rubber as a main material in order to prevent abrasion by the abrasive material.

【0080】さて、本願発明の電子部品製造用フレーム
の前処理方法および装置においては、上記のようにして
ブラストノズル4から高速空気流に乗せて噴射するべき
研掃材として、特に、粒径が200μm以下、好ましく
は100μm以下、さらに好ましくは50μm以下の球
体または粒体を採用している。そして、この球体として
は、ガラスビーズが、その比重が金属に比べて小さいた
めに、薄板状の製造用フレームFを処理する上で望まし
いことが判明している。
In the pretreatment method and apparatus for a frame for manufacturing an electronic component according to the present invention, the abrasive material to be jetted from the blast nozzle 4 in a high-speed air stream as described above, A sphere or particle of 200 μm or less, preferably 100 μm or less, more preferably 50 μm or less is employed. It has been found that glass beads are desirable for processing the thin manufacturing frame F because the specific gravity of the sphere is smaller than that of metal.

【0081】ガラスビーズの場合、その比重は一般的に
は2ないし4程度であり、表面のビッカース硬度は50
0ないし700Kg/mm2 程度である。上記ガラスビ
ーズの粒経としては、できるだけ小さい方が望ましいと
考えられるが、現時点においては、約30μm(ほぼ4
00メッシュに相当)のものが容易に入手可能である。
かかるガラスビーズの粒経は、処理するべき電子部品製
造用フレームの、特に厚みや、ファインピッチ化の程度
によって適当に選択すればよい。
In the case of glass beads, the specific gravity is generally about 2 to 4, and the Vickers hardness of the surface is 50.
It is about 0 to 700 kg / mm 2 . It is considered that the particle size of the glass beads is desirably as small as possible, but at present, it is about 30 μm (about 4 μm).
(Equivalent to 00 mesh) is readily available.
The particle size of the glass beads may be appropriately selected depending on the thickness of the electronic component manufacturing frame to be processed, particularly, the degree of fine pitch.

【0082】以下に、本願発明方法によって製造用フレ
ームFを処理した試験例を参考のために示す。製造用フ
レームFとしては、短辺が49mm、長辺が164mm
の、リードパターンが図15に示すようなものを用い
た。フレームの厚みは0.2mmであり、外部リードの
ピッチは、0.5mmである。ブラストノズル4のノズ
ルピース47は、4×30mmのものを用いた。また、
研掃材としてのガラスビーズとしては、約400メッシ
ュ相当、すなわち、平均粒径が38μmのものを用い
た。搬送機構の搬送スピードは、上記長辺が164mm
の製造用フレームが、3秒で通過するように設定した。
空気発生装置としてのルーツブロアの吐出圧力が0.3
5kg・f/cm2 となるように、ブロアの出力を設定
した。この場合、ブラストノズル4から噴射される空気
流の速度は、理論上200m/秒にも及ぶが、研掃材混
入によるエネルギロスを考慮に入れても、少なくとも1
00m/秒に及ぶ。また、ブラストノズルのノズルピー
ス端部から搬送機構によって搬送される製造用フレーム
Fまでの距離を200mmに設定した。このような条件
により、製造用フレームFの表面側と、裏面側とをそれ
ぞれ1回づつ処理したところ、製造用フレームFの所見
は、次のとおりであった。
Hereinafter, a test example in which the manufacturing frame F was processed by the method of the present invention will be shown for reference. As the manufacturing frame F, the short side is 49 mm and the long side is 164 mm
The lead pattern shown in FIG. 15 was used. The thickness of the frame is 0.2 mm, and the pitch of the external leads is 0.5 mm. A 4 × 30 mm nozzle piece 47 of the blast nozzle 4 was used. Also,
Glass beads equivalent to about 400 mesh, that is, those having an average particle diameter of 38 μm were used as the abrasive material. The transport speed of the transport mechanism is 164 mm for the long side.
Was set to pass in 3 seconds.
Discharge pressure of Roots blower as air generator is 0.3
The output of the blower was set so as to be 5 kg · f / cm 2 . In this case, the velocity of the air flow injected from the blast nozzle 4 is theoretically as high as 200 m / sec.
00 m / s. The distance from the end of the nozzle piece of the blast nozzle to the manufacturing frame F transported by the transport mechanism was set to 200 mm. Under these conditions, the front side and the back side of the manufacturing frame F were processed once each, and the findings of the manufacturing frame F were as follows.

【0083】フレームの表面は、細かな梨地状となって
いた。処理前においては、若干のべこつき傾向があった
が、処理後においてはかかるべこつき傾向は消失してい
た。内部リードの先端どうしをつなぐ連結バーを切断し
たところ、各内部リードの変形は、ほとんど見られなか
った。処理前においては、裏面にプレス打ち抜きによっ
てバリあるいは返りが存在していたが、かかるバリある
いは返りは、きれいに消失していた。
The surface of the frame had a fine satin finish. Before the treatment, there was a slight stickiness tendency, but after the treatment, the stickiness tendency disappeared. When the connecting bar connecting the tips of the internal leads was cut, almost no deformation of each internal lead was observed. Before the treatment, burrs or returns were present on the back surface by press punching, but such burrs or returns had disappeared cleanly.

【0084】また、ガラスビーズとして、粒径50μ
m、および100μmのものに変更して同様の試験をし
たところ、上記粒径38μmのガラスビーズを用いる場
合には及ばないにせよ、相当の効果があった。これによ
り、ガラスビーズの粒径をさらに小さくすると、より好
ましい結果が得られると考えられる。
As glass beads, a particle diameter of 50 μm was used.
When the same test was conducted by changing the diameter to m and 100 μm, a considerable effect was obtained even if the glass beads having the particle diameter of 38 μm were not used. Thus, it is considered that more preferable results can be obtained by further reducing the particle size of the glass beads.

【0085】以上のことから、上記のような条件によっ
て本願発明による処理を行ったところ、プレス打ち抜き
によって各リードの内部に残留していた応力は、実質的
に消失させられたということができる。その理由として
は、比較的比重の小さい細かなガラスビーズがきわめて
高速で衝突させられることにより、リードの表面がいわ
ゆるピーニング効果によって、内部応力を放出しつつ表
面が加工硬化させられ、内部応力が実質的に消失させら
れたと考えられることと、バリや返りがきれいに消失し
ていることとの相乗的な作用によるものと想像される。
また、上記の返りやバリの消失は、研掃材が球状のビー
ズであるにもかかわらず、これがきわめて粒経が小さ
く、かつきわめて高速で打ちつけられているがために、
研掃効果を発揮しているためであると考えられる。
From the above, it can be said that, when the treatment according to the present invention was performed under the above conditions, the stress remaining inside each lead due to press punching was substantially eliminated. The reason for this is that fine glass beads having a relatively small specific gravity collide at an extremely high speed, so that the surface of the lead is work-hardened while releasing internal stress due to the so-called peening effect, and the internal stress is substantially reduced. It is supposed that this is due to a synergistic effect between the fact that it was considered that the burr and the return had been neglected.
In addition, the above-mentioned return and the disappearance of burrs are caused because, although the abrasive material is spherical beads, it has a very small particle diameter and is driven at an extremely high speed,
It is considered that this is because the cleaning effect was exhibited.

【0086】このように、本願発明によれば、ファイン
ピッチ化された電子部品に対応した製造用フレームをプ
レス打ち抜きによって作製しても、これに対して本願発
明の前処理を行えば、プレス打ち抜き時に残留する内部
応力を実質的に除去して、内部リードの変形を防止し、
短絡不良やワイヤボンディング不良が発生することを効
果的に防止することができ、電子部品の歩留りが著しく
向上させられるとともに、その製造コストが低減させら
れる。
As described above, according to the present invention, even if a manufacturing frame corresponding to an electronic component having a fine pitch is manufactured by press punching, if the pretreatment of the present invention is performed, press punching is performed. The internal stress that sometimes remains is substantially removed to prevent deformation of the internal lead,
The occurrence of short-circuit failure and wire bonding failure can be effectively prevented, the yield of electronic components can be significantly improved, and the manufacturing cost can be reduced.

【0087】また、従来、図15に示すような製造用フ
レームFを用いる場合、内部リードの先端をつなぐタイ
バーを切断して各内部リードを独立させる前に、内部リ
ードの中間部分を非導電性の樹脂テープ等によって連結
しておくという操作が必須であったが、本願発明の処理
を行うのであれば、かかる面倒な処理を省略することも
可能となる。ただし、打ち抜き成形時においてはフレー
ム内に残留応力が生じるので、ファインピッチ対応のフ
レームにおいては、各内部リードcの先端間をつなぐ連
結バーを形成しておくことがやはり必要であると考えら
れる。
Conventionally, when a manufacturing frame F as shown in FIG. 15 is used, before cutting the tie bars connecting the tips of the internal leads to make each internal lead independent, the intermediate portion of the internal lead is electrically nonconductive. However, if the processing of the present invention is performed, such complicated processing can be omitted. However, since residual stress is generated in the frame at the time of punching and forming, it is considered that it is still necessary to form a connecting bar connecting the tips of the internal leads c in a frame corresponding to fine pitch.

【0088】また、本願発明によれば、上記のように製
造用フレームの内部応力を実質的に除去することができ
る他、プレス打ち抜きによって形成されるバリや返りが
都合よく消失させられるので、リードに対するハンダメ
ッキ、あるいは回路基板に対するハンダ実装時に、ハン
ダ不良を起こすことを効果的に回避することができる。
Further, according to the present invention, the internal stress of the manufacturing frame can be substantially removed as described above, and the burrs and the return formed by press punching can be eliminated conveniently, so that the lead It is possible to effectively prevent the occurrence of a solder failure at the time of solder plating on a substrate or at the time of solder mounting on a circuit board.

【0089】さらに、リードのバリが消去されているの
で、樹脂モールドパッケージ内にバリの部分から水分が
内部に侵入して回路不良を起こすという従来の問題も都
合よく解消される。
Further, since the burrs of the leads have been eliminated, the conventional problem that water enters into the resin mold package from the burrs and causes a circuit failure can be solved conveniently.

【0090】さらに、表面が梨地状に下地形成されるの
で、ハンダ等のメッキ処理を行うに際し、脱脂処理を省
略することも可能となり、メッキ処理工程が簡略化さ
れ、これによるコストダウンが期待できるという付随的
な効果もある。
Further, since the surface is formed with a matte surface, it is possible to omit the degreasing process when plating with solder or the like, thereby simplifying the plating process and expecting cost reduction. There is an additional effect.

【0091】もちろん、本願発明の範囲は上述した実施
例に限定されるものではない。ブラスト装置の構成とし
て、ブラストノズルから研掃材混じりの高速空気を噴射
する手法としては、実施例のような手法に限定されな
い。高速空気としては、ルーツブロア等の低圧空気発生
源によって発生された低圧大流量の空気を高速で噴射す
ることが求められる。ただし、コンプレッサによって発
生させられる圧縮空気を減圧して低圧大流量の高速空気
流を得、これを用いることも可能である。また、ブラス
トノズルの数も、フレームの搬送機構の搬送速度とのか
ねあいで、適当数に設定すればよい。すなわち、図面に
示した実施例では、上に2本下に2本、計4本のブラス
トノズルを設けているが、搬送速度の速度をさらに上げ
るのであれば、ブラストノズル数を増やせばよい。
Of course, the scope of the present invention is not limited to the embodiment described above. As a configuration of the blast device, a method of injecting high-speed air mixed with the abrasive material from the blast nozzle is not limited to the method as in the embodiment. As high-speed air, it is required to inject high-pressure, low-pressure air generated by a low-pressure air source such as a roots blower at a high speed. However, it is also possible to reduce the pressure of the compressed air generated by the compressor to obtain a high-speed airflow with a low pressure and a large flow rate, and use this. Also, the number of blast nozzles may be set to an appropriate number depending on the transfer speed of the frame transfer mechanism. That is, in the embodiment shown in the drawings, four blast nozzles are provided, two on the upper side and two on the lower side, but if the conveying speed is further increased, the number of blast nozzles may be increased.

【0092】また、製造用フレームを搬送する機構とし
ても、上記のような左右一対のベルトを備えるものとす
る他、本願の出願人によってすでに出願されている特願
平4−265045号に記載されている搬送機構、ある
いは、同じく特願平4−17785号に記載されている
フレームの搬送機構を採用することができる。また、製
造用フレームをプレス打ち抜きによって形成する場合に
は、このプレス打ち抜き装置から搬送される製造用フレ
ームを連続して本願発明の前処理装置に搬入するように
すると、半導体装置の製造ラインがさらに連続化され、
半導体装置製造の効率がさらに高まると考えられる。
The mechanism for transporting the manufacturing frame also includes a pair of left and right belts as described above, and is described in Japanese Patent Application No. 4-265545 already filed by the applicant of the present invention. Or a frame transport mechanism also described in Japanese Patent Application No. 4-17785. Further, when the manufacturing frame is formed by press punching, the manufacturing frame conveyed from the press punching apparatus is continuously loaded into the pretreatment device of the present invention, so that the semiconductor device manufacturing line is further increased. Serialized,
It is considered that the efficiency of semiconductor device manufacturing is further improved.

【0093】さらに、図に示した実施例では、左右の無
端ベルトの間に、製造用フレームを水平状に保持するよ
うにしているが、無端ベルトを上下に配置し、リードフ
レームが垂直状に搬送されるようにしてもよい。もちろ
ん、この場合、こうして搬送される製造用フレームに対
して研掃材混じりの高速空気を吹きつけるべきブラスト
ノズルは、その両側方に配置されることになる。
Further, in the embodiment shown in the figure, the manufacturing frame is held horizontally between the left and right endless belts. However, the endless belts are arranged vertically and the lead frame is vertically You may make it convey. Needless to say, in this case, the blast nozzles for blowing the high-speed air mixed with the abrasive material to the manufacturing frame conveyed in this way are arranged on both sides thereof.

【0094】また、製造用フレームとしては、短冊状の
リードフレームのほか、これを長手方向に連続させたよ
うなフープ状フレームもあり、いずれのフレームに対し
ても本願発明を適用することができる。
Further, as a manufacturing frame, besides a strip-shaped lead frame, there is also a hoop-shaped frame in which this is connected in the longitudinal direction, and the present invention can be applied to any frame. .

【0095】さらに、上述した実施例では、ファインピ
ッチ化された電子部品のための製造用フレームを前提と
しているが、本願発明を適用するべき製造用フレームと
しては、これに限られることはない。
Further, in the above-described embodiment, a manufacturing frame for an electronic component having a fine pitch is assumed, but the manufacturing frame to which the present invention is applied is not limited to this.

【0096】さらに、高速空気流にのせて電子部品製造
用フレームに吹きつけるべき球体または粒体としても、
ガラスビーズに限らず、技術が進展することによって、
粒径100μm以下、好ましくは50μm以下の樹脂ビ
ーズ(球体)が製造可能となれば、もちろん、かかる樹
脂ビーズを用いることも、本願発明の範囲に含まれるこ
とになる。
Further, as a sphere or a particle to be blown on a frame for manufacturing electronic parts by being placed in a high-speed air flow,
Not only glass beads, but as technology advances,
As long as resin beads (spheres) having a particle diameter of 100 μm or less, preferably 50 μm or less can be produced, use of such resin beads is also included in the scope of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本願発明方法を実施するための装置の一実施例
の全体概略構成を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing an overall schematic configuration of an embodiment of an apparatus for carrying out a method of the present invention.

【図2】図1のII−II線に沿う断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II in FIG.

【図3】図2のIII −III 線に沿う断面図である。FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG. 2;

【図4】図3のIV−IV線に沿う断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG. 3;

【図5】図1の装置のフレーム搬送機構の入口部の構成
を示す略示平面図である。
FIG. 5 is a schematic plan view showing a configuration of an entrance of a frame transport mechanism of the apparatus of FIG. 1;

【図6】図5のVI−VI線に沿う断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along the line VI-VI in FIG. 5;

【図7】図6のVII −VII 線に沿う断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along line VII-VII in FIG. 6;

【図8】図1の装置のフレーム搬送機構の出口部の構成
を示す略示平面図である。
FIG. 8 is a schematic plan view showing a configuration of an outlet of a frame transport mechanism of the apparatus shown in FIG. 1;

【図9】図8のIX−IX線に沿う断面図である。FIG. 9 is a sectional view taken along line IX-IX in FIG. 8;

【図10】図9のX−X線に沿う断面図である。FIG. 10 is a sectional view taken along line XX of FIG. 9;

【図11】図9のXI−XI方向矢視図である。11 is a view in the direction of arrows XI-XI in FIG. 9;

【図12】図1のXII −XII 線に沿う拡大断面図であ
る。
FIG. 12 is an enlarged sectional view taken along line XII-XII of FIG. 1;

【図13】ブラストノズルの一例の縦断面図である。FIG. 13 is a longitudinal sectional view of an example of a blast nozzle.

【図14】図13のXIV 方向矢視図である。FIG. 14 is a view as seen in the direction of the arrow XIV in FIG. 13;

【図15】本願発明方法で処理する電子部品製造用フレ
ームの一例の部分拡大平面図である。
FIG. 15 is a partially enlarged plan view of an example of an electronic component manufacturing frame processed by the method of the present invention.

【図16】図15に示されるフレームの一部をさらに拡
大して示す平面図である。
16 is a plan view showing a part of the frame shown in FIG. 15 in a further enlarged manner.

【図17】図16のXVII−XVII線に沿う拡大断面図であ
り、リードの裏面にプレス打ち抜き時に生じるバリある
いは返りが示されている。
FIG. 17 is an enlarged sectional view taken along line XVII-XVII of FIG. 16, showing burrs or return generated at the time of press punching on the back surface of the lead.

【図18】図16に示す状態から各内部リードの先端を
つなぐ連結バーをの除去した状態を示す平面図である。
FIG. 18 is a plan view showing a state in which a connecting bar connecting the tips of the internal leads has been removed from the state shown in FIG. 16;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 電子部品製造用フレームの前処理装置 2 ブラスト室 3 搬送機構 4 ブラストノズル F 電子部品製造用フレーム b 外部リード c 内部リード g バリ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pre-processing apparatus of electronic component manufacturing frame 2 Blast chamber 3 Transport mechanism 4 Blast nozzle F Electronic component manufacturing frame b External lead c Internal lead g Burr

Claims (12)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 プレス打ち抜き成形による電子部品製造
用フレームに対し、100μm以下、好ましくは50μ
m以下の平均粒径の球体または粒体を高速空気流に乗せ
て吹きつけることを特徴とする、電子部品製造用フレー
ムの前処理方法。
1. An electronic component manufacturing frame formed by press punching is formed in a thickness of 100 μm or less, preferably 50 μm or less.
A method for pre-treating a frame for manufacturing electronic components, wherein a sphere or a particle having an average particle diameter of not more than m is blown on a high-speed air stream.
【請求項2】 上記高速空気流は、低圧ブロアによって
発生させられる、またはコンプレッサによって発生させ
られる圧縮空気を減圧して得られる低圧大流量の空気流
である、請求項1の方法。
2. The method of claim 1, wherein the high-speed airflow is a low-pressure, high-flow airflow generated by a low-pressure blower or obtained by decompressing compressed air generated by a compressor.
【請求項3】 上記高速空気流の流速は、100m/秒
以上である、請求項2の方法。
3. The method according to claim 2, wherein the flow velocity of the high-speed air flow is 100 m / sec or more.
【請求項4】 上記球体は、ガラスビーズである、請求
項1ないし3のいずれかの方法。
4. The method according to claim 1, wherein the sphere is a glass bead.
【請求項5】 請求項1ないし4のいずれかの方法によ
って前処理された電子部品製造用フレームを用い、チッ
プボンディング、ワイヤボンディング、樹脂モールディ
ングを含む各工程処理を行うことを特徴とする、電子部
品の製造方法。
5. An electronic device, comprising: performing a process including chip bonding, wire bonding, and resin molding using an electronic component manufacturing frame preprocessed by the method according to claim 1. The method of manufacturing the part.
【請求項6】 ブラスト室と、このブラスト室内に配置
されたブラストノズルと、を備えるブラスト装置を用
い、上記ブラスト室内に導入したプレス打ち抜き成形に
よる電子部品製造用フレームに対し、上記ブラストノズ
ルから、100μm以下、好ましくは50μm以下の平
均粒径の球体または粒体を低圧高速の空気流に乗せて吹
きつけることを特徴とする、電子部品製造用フレームの
前処理方法。
6. A blasting apparatus comprising a blast chamber and a blast nozzle disposed in the blast chamber, wherein the blast nozzle is used to press an electronic component manufacturing frame by press punching and introduced into the blast chamber. A method for pre-treating a frame for manufacturing electronic components, wherein a sphere or a particle having an average particle diameter of 100 μm or less, preferably 50 μm or less is blown on a low-pressure high-speed air flow.
【請求項7】 上記低圧高速の空気流は、低圧ブロアに
よって吐出圧が0.3ないし0.6気圧で生成される空
気流である、請求項6の方法。
7. The method of claim 6, wherein said low pressure, high speed air flow is an air flow generated by a low pressure blower at a discharge pressure of 0.3 to 0.6 atmospheres.
【請求項8】 上記低圧高速の空気流は、コンプレッサ
によって発生させられる圧縮空気を0.3ないし0.6
気圧に減圧して得られる空気流である、請求項6の方
法。
8. The low pressure, high speed air flow comprises compressed air generated by a compressor of 0.3 to 0.6.
7. The method of claim 6, wherein the air stream is obtained by reducing the pressure to atmospheric pressure.
【請求項9】 上記ブラストノズルから噴射される空気
流の流体は、100m/秒以上である、請求項7または
8の方法。
9. The method according to claim 7, wherein the air stream fluid ejected from the blast nozzle has a flow rate of 100 m / sec or more.
【請求項10】 ブラスト室と、このブラスト室内に配
置され、100μm以下、好ましくは50μm以下の平
均粒径の球体または粒体を低圧高速の空気流に乗せて吹
きつけるブラストノズルと、電子部品製造用フレームを
上記ブラスト室内に導入する搬送機構と、を備え、上記
ブラストノズルから噴射される高速空気に混入する大量
の上記球体または粒体を、上記搬入機構によって搬送さ
れる電子部品製造用フレームに対して連続的に当てるよ
うにしたことを特徴とする、電子部品製造用フレームの
前処理装置。
10. A blast chamber, a blast nozzle disposed in the blast chamber and blowing a sphere or a particle having an average particle diameter of 100 μm or less, preferably 50 μm or less on a low-pressure high-speed air flow, and electronic component manufacturing. And a transfer mechanism for introducing the frame into the blast chamber, and a large amount of the spheres or granules mixed into the high-speed air injected from the blast nozzle, into the electronic component manufacturing frame transferred by the loading mechanism. A pretreatment device for a frame for manufacturing an electronic component, wherein the pretreatment device is continuously applied to the frame.
【請求項11】 上記球体は、ガラスビーズである、請
求項10の装置。
11. The apparatus of claim 10, wherein said sphere is a glass bead.
【請求項12】 上記搬送機構によって搬送される上記
製造用フレームの一面を向くノズルと、他面を向くノズ
ルとを備える、請求項10の装置。
12. The apparatus according to claim 10, further comprising a nozzle facing one surface of the manufacturing frame transported by the transport mechanism and a nozzle facing the other surface.
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