JP2750349B2 - 特にガスレーザーのｘ線‐前期電離のためのプラズマｘ線管、このｘ線管によるｘ線放射の発生方法および用途 - Google Patents

特にガスレーザーのｘ線‐前期電離のためのプラズマｘ線管、このｘ線管によるｘ線放射の発生方法および用途

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特にガスレーザーのＸ線−前期電離のため
の高い電子流密度を有するプラズマＸ線管に関するもの
である。
電子銃を、高電圧放電によりポンプされるレーザーチ
ャンバに取付けまたはフランジ固定され得る構成ユニッ
トとして構成することは公知であり、その際に電子ビー
ムは電子銃の構成ユニットの体積をレーザーチャンバの
それから隔離する箔に衝突し、またその際に薄い金属箔
への電子の衝突によりレリーズされる制動放射がレーザ
ーチャンバの放電体積の前期電離の役割をする。これに
ついてはアプライド・フィジックス・レターズ34
（８）、1979年４月15日、第505〜508頁、エス．リンお
よびジェイ．アイ．レヴァッター著“放電レーザーのた
めのＸ線前期電離”を参照されたい。
本発明は下記の課題設定から出発する。すなわちパル
ス化ガス放電の前期電離のためのＸ線制動放射の発生の
際に、たとえば450×40×56mm3の大きい放電体積を有す
る高出力レーザーの特別な場合には、非常に高い作動信
頼性が重要である。相応の大面積の放射断面積を制動ま
たはＸ線放射の際に生じさせるために、大面積の放射断
面積に高い電子流密度が発生されなければならない。Ｘ
線前期電離ユニットは高い信頼性をもって高い反復速度
を有する作動を保証しなければならず、またターゲット
から放射されるＸ線放射の強度は、電極の間のレーザー
ガス中の均等な高圧グロー放電に対する必要な高い出発
電子密度を準備するために十分でなければならない。こ
の出発電子密度の準備はレーザー主放電の点弧の前に狭
い時間的窓のなかで行われなければならない。電界放射
管は、その寿命が連続作動および高い反復速度の際に制
限されているかぎり、この要求を満足しない（刃状の電
極の丸まり、それによるＸ線放射の強く変動する強度分
布）。電界放射陰極の熱的負荷は前記のように刃の丸ま
りの原因となるスパッタープロセスに通ずる。
本発明の課題は、冒頭に記載した種類のプラズマＸ線
管であって、電界放射管に比較して著しく長くされた寿
命を有し、また特にガスレーザーのＸ線前期電離のため
に大面積の放射断面積において高い電子流密度の準備を
可能にし、またこのことを特にパルス作動に対して可能
にし、その際に非常に短い時間中に十分に高い電荷担体
密度をプラズマＸ線管の放電空間のなかに存在させ得る
プラズマＸ線管を提供することにある。特にプラズマＸ
線管はTEレーザー（横方向励起）におけるパルス作動、
ここではなかんずくエキシマーレーザーに適していなけ
ればならない。
本発明によれば、この課題は冒頭に記載した種類のプ
ラズマＸ線管において請求項１の特徴部分ａ〜ｄにより
解決される。有利な実施態様は請求項１ないし８に記載
されている。
本発明は、請求項９の特徴部分に記載されているよう
に、Ｘ線放射の発生、特にガスレーザーのＸ線−前期電
離のため方法をも対象としている。この方法の有利な実
施態様は請求項10に記載されている。
さらに本発明は、出口窓の形態でのＸ線装置の相応の
電子透過性の形態における電子銃としての請求項１ない
し８によるプラズマＸ線管の使用をも対象としている。
本発明により得られる利点はなかんずくＸ線制動放射
の高い強度と、Ｘ線窓およびレーザーガス中の吸収比を
も考慮に入れた放射分布の良好な均等性とにあり、従っ
て十分な前期電離密度が達成され得る。これらの値は請
求項９に従って最適化され得る。パルス作動の際には、
請求項10に従って、Ｘ線パルスの継続時間は約50nsFWHM
（FWHM＝最大値の半分の値の継続時間）である。その制
動が高い次数の材料中でＸ線制動放射の放出に通ずるパ
ルス化された電子放射の電流密度は最大で60ないし120k
Vの加速電圧においてたとえば５ないし10A/cm2であり、
またこれらのデータは主として管に給電する高電圧発生
器の特性により与えられている。電界放射と対照的に本
発明の対象物では陰極表面の熱的負荷ははるかにわずか
であり、また電子発生の物理的原理に寿命を制限する影
響をほとんど有していない。さらに、前記のように、ガ
ス圧力およびプラズマ密度を介して管特性に影響を及ぼ
す可能性が考えられる。
米国特許第3,970,892号明細書から、プラズマチャン
バ内の電荷担体の発生のために点弧ワイヤーおよび中空
陰極放電により動作するイオンプラズマ−電子銃は公知
である。しかし、ここでは中空陰極陽極が絶縁されて取
付けられた格子として構成されており、この格子が加速
陽極格子に追加的に電子放射の断面積を覆っている。こ
の配置は二重格子配置により電子流密度に関して望まし
くない。さらに、絶縁されて配置された中空陰極陽極格
子は電気的かつ機械的に高価なものとなる。
以下に本発明によるプラズマＸ線管、その作用の仕方
およびこのようなＸ線管によるＸ線放射の発生方法を図
面に示されている実施例により一層詳細に説明する。
図面は簡単化された概要図であり、 第１図はたとえば（紙面に対して垂直に）0.5mの長さ
を有しているプラズマＸ線管の断面図、 第２図は時間ｔを横軸にとって点弧ワイヤーにおける
電圧UZをkVで、また中空陰極電流IHKをkAで示す図であ
り、 第３図は１つの時間区分で時間ｔを横軸にとって中空
陰極電流IHKをkAで、また加速電圧UBをkVで示す図であ
り、 第４図は時間ｔを横軸にとって加速電圧UBおよびＸ線
振幅UXをkVで示す図である。
原理的な幾何学的な構成では、第１図に示されている
Ｘ線管は高透過性の格子９により互いに隔てられた２つ
のチャンバ、すなわちプラズマ空間１および加速空間２
から成っている。
第１のチャンバであるプラズマ空間１のなかで低い部
分圧力においてガス放電が点弧され、それによりプラズ
マが生ずる。中空陰極放電の放電形態は高い電流密度を
許し、またそれによって低い圧力範囲内での大きい電荷
担体密度の準備を可能にする。中空陰極１′は第１のチ
ャンバの内面1.1ないし1.4の全体および1.5の大部分で
あり（内面1.5の陽極付近の範囲は例外）、それによっ
て近似的に空間角全体を囲んでいる。陽極３は側面から
陰極空間１のなかに入れられている。それは陰極壁５の
なかの絶縁導入部４を介して給電される。その周囲の壁
に対する間隔は、この範囲内にフラッシオーバが起こら
ないように選定されている。陽極３のこの特別な配置
は、陽極が格子として加速格子に前置されている米国特
許第3,970,892号明細書による公知の配置（その第２図
を参照）に比較して主要な利点をなす。中空陰極１′の
内部の陽極３の側面配置およびその中実な構造により −二次側に発生される電子放射の陽極格子の影響下の減
衰が避けられるので、効率がより高く、 −中実な構造の耐熱力がより高く、 −機械的な構造がより簡単である という利点が生ずる。
予め定められたジオメトリにおいて中空陰極放電の確
実な点弧と陰極表面全体への電流密度のできるかぎり均
等な分布とを保証するため、電荷担体の初期濃度が必要
である。この開始プラズマは、中空陰極１′の内部に張
られており絶縁された導入部（図示せず）を介して給電
される細いワイヤー６の放電により準備される。この点
弧ワイヤー放電も中空陰極もパルス化されて行われる。
第２のチャンバである加速空間２のなかでは電荷担体
の加速過程が高エネルギーの電子放射の発生に通ずる。
長く延びている電極７に、壁5aを通して導かれている高
電圧絶縁された導入部８を介して、高い負の電位が与え
られる。放電ポンプされるエキシマーレーザーの前期電
離に課せられている必要条件により予め定められて、電
荷担体の加速は（前記米国特許と異なり）パルス化され
て行なわれる。加速陰極７と加速格子９との間の間隔
は、管の低い作動圧力ではフラッシオーバが行われない
ように選定されている。加速陰極７の電界のなかに第１
のチャンバの低圧プラズマからのイオン10が高透過性の
格子９を通って到達し、陰極表面に向けて加速される。
その運動エネルギーに相応してイオンは陰極上への衝突
の際に二次電子11をレリーズする。二次的に発生された
電子はいま格子９に向けて加速され、またプラズマ空間
１を通ってＸ線ターゲット12に到達する。それらの平均
自由行程はケース寸法よりも大きいので、起こり得る衝
突プロセスによる強度およびエネルギーの損失は非常に
わずかである。断面が長方形の長く延びたケース５は側
壁5c、5d、ターゲット壁5bおよび陰極７を保持する壁5a
を有する。ターゲートおよびＸ線窓12の層厚は、吸収に
よるＸ線強度の損失が小さく保たれ、また大気圧または
レーザー内の圧力にくらべての圧力差を考慮に入れるよ
うに選定されている。5e、5fにより、側壁5cまたは5dか
ら内方に延びている遮蔽壁が示されており、これらの遮
蔽壁は、陰極７のヘッドの基本面に相応する格子９の面
範囲を除いて、プラズマ空間１を加速空間２から遮蔽す
る。5b1および5b2は部分壁である。実験の結果、図示の
作用原理によるＸ線管はエキシマーレーザーの前期電離
のために有意義であることが判明している。管の空間的
広がりは電離すべき体積のディメンジョンに適合されて
いる。Ｘ線制動放射の強度およびスペクトルエネルギー
分布はレーザーガス中に十分な前期電離密度が得られる
ように選定されている。ターゲット表面にわたる強度分
布は能動的レーザー体積の均等な前期電離の必要条件を
満たす。
時間的順序での電流および電圧経過の図示（第２図〜
第４図）は管の作用の仕方を明らかにする。すなわち第
２図は時間ｔを横軸にとって点弧ワイヤーにおける電圧
UZをkVで、また中空陰極電流IHKをkAで示す図である。
正の電圧の印加の際にワイヤーの周りに電界が生ずる。
その影響のもとに周囲放射の前に存在する電子に基づい
て長い行程が強制される。ガス原子の電離の確率が高く
なる。電子なだれが生じ、ワイヤー放電の点弧に通ず
る。点弧遅れ時間は主として電界強度およびガス圧力に
関係する。
中空陰極放電の電気的駆動に対する時点は電子的制御
ユニットにより、点弧ワイヤー放電があらゆる場合に既
に行われているように選定されている。中空陰極放電の
放電電流強度は点弧ワイヤー放電のそれよりもはるかに
大きい。
第３図は時間ｔを横軸にとって中空陰極電流IHKをkA
で、また加速電圧UBをkVで示す図である。加速電圧の開
始に対する時点は同じく電子的制御を介して予め定めら
れ得る。それはレーザー放電の点弧時点と密な関係にあ
る。電子放射に対する加速電圧は約５ないし10A/cm2の
電流密度において例えば60kvと120kVとの間にある。Ｘ
線パルスの半値幅は50ないし100nsである。これについ
ては、時間ｔを横軸にとって加速電圧UBおよびＸ線振幅
UXをkVで示す第４図を参照されたい。
プラズマＸ線管は電界放射管と比較可能なＸ線強度を
供給するが、はるかに長い耐用時間において極めて一定
な作動条件を有する。
作用の仕方は、要約すると、下記のとおりである。点
弧ワイヤー６への正の電圧パルスの印加の後に、ガス体
積中に位置している自由電子が細いワイヤーに向かって
スパイラル軌道13で飛ぶ。その巻かれた飛行軌道上で電
子は衝突電離に対する平均自由行程よりも長い行程を進
み、こうして追加的な電荷担体を発生する。中空陰極陽
極３に当てられる高電圧パルスは放電容器またはケース
５の金属壁1.1〜1.5との交互作用で中空陰極空間のプラ
ズマ中の電荷担体密度を高める。中実の広げられた加速
陰極への負の高電圧パルスは格子９により正のイオン10
を中空陰極空間１から吸引し、これらのイオンが陰極７
への衝突の際に電子を金属からたたき出す。電子は陰極
７から放射され、格子９へ向けて加速され、またドリフ
ト空間１を通ってＸ線ターゲット12へ向けて射出され
る。Ｘ線管Ｒのなかのガス圧力は、加速された電子がそ
の直線的軌道上で追加的な衝突プロセスを受けず、また
Ｘ線ターゲット12へのそれらの衝突の際に加速電圧に対
して特性的な制動放射を放射するように設定されてい
る。
なお言及すべきこととして、加速空間２の内部での電
荷担体の加速は加速陰極７のヘッドと格子９との間の部
分空間のなかでのみ行われる。しかし、図面を見易くす
るため、壁部5a、5c、5e、5f、5dおよび格子９の内部の
加速陰極７を包囲するすべての空間が加速空間として示
されている。格子９はたとえば75％の透過性を有する細
かい網状のワイヤー格子である。それはモリブデンから
成っていてよい。中空陰極１′に対する適当な金属はニ
ッケルまたはアルミニウムである。一般に中空陰極１′
および加速空間２の壁は、壁内面にニッケルから成る被
覆を設けられているアルミニウムから成っていてよい。
加速陰極に対してはアルミニウムおよび（または）ニッ
ケルおよび（または）CuBeの金属または合金の使用が考
えられる。加速陰極７のヘッドと格子９との間の望まし
い間隔は２〜3cmである。プラズマ空間、従ってまたそ
れと連通する加速空間に対する好ましい圧力範囲は約２
ないし10Pa（約20〜80mTorrに相当）である。この低圧
において動作ガスとしてヘリウムが満たされる。Neまた
はH2のような他のガスも動作ガスとして使用され得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 バウムガルトル、ルードルフ ドイツ連邦共和国 Ｄ‐8755 アルツエ ナウ‐ヘルシユタイン アムカペレンプ ラツツ 10 (72)発明者 ツユムツツラー、マチアス ドイツ連邦共和国 Ｄ‐8551 レツテン バツハ シユールシユトラーセ 15 (56)参考文献 特開 平１−235144（ＪＰ，Ａ) 特公 昭55−2902（ＪＰ，Ｂ２) 特公 平４−49216（ＪＰ，Ｂ２) 特許2539207（ＪＰ，Ｂ２)

Claims (11)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】特にガスレーザーのＸ線−前期電離のため
    の高い電子流密度を有するプラズマＸ線管において、 ａ）好ましくは接地電位にある金属の中空陰極（１′）
    により形成されており、互いに間隔をおいて向かい合う
    内側および外側の境界壁（5e、5f;5b）を有し、そのう
    ち外側の境界壁（5b）がＸ線ターゲット（12）として薄
    い金属箔または蒸着された層を有し、また内側の境界壁
    （5e、5f）がＸ線ターゲット（12）と一直線上の少なく
    とも１つの金属の加速格子（９）を有するプラズマ空間
    （１）と、 ｂ）中空陰極（１′）に対して相対的に正の電位にある
    細いワイヤー（６）の形態でプラズマ空間（１）のなか
    へ突出している少なくとも１つの点弧電極と、 ｃ）たとえば中空陰極（１′）の側壁（5c）のなかに、
    Ｘ線ターゲット（12）と加速格子（９）とを結ぶ線に対
    して側方に、絶縁されかつ気密に保持されており、また
    中空陰極（１′）に対して相対的に同じく正の電位にあ
    る少なくとも１つの陽極（３）と、 ｄ）プラズマ空間（１）に続いており、これと加速格子
    （９）を介して連通しており、また中空陰極（１′）の
    境界壁と気密にかつ電気的に接続されている金属の壁
    （5a、5c〜5f）により包囲されている加速空間とを含ん
    でおり、その際にＸ線ターゲット（12）と加速格子
    （９）とを結ぶ線と一直線上に後者から間隔をおいて加
    速電極（７）のヘッドが配置されており、その軸が絶縁
    性の気密の導入部（８）によりたとえば加速格子（９）
    と向かい合う壁（5a）のなかに保持されており、またそ
    の際に加速電極（７）が格子（９）に対して相対的に高
    い負電位にある ことを特徴とするプラズマＸ線管。
  2. 【請求項２】プラズマ空間（１）および加速空間（２）
    が全面が金属製の接地されたケース（５）により形成さ
    れていることを特徴とする請求項１記載のプラズマＸ線
    管。
  3. 【請求項３】中空陰極（１′）がニッケルから成ってい
    ることを特徴とする請求項１または２記載のプラズマＸ
    線管。
  4. 【請求項４】中空陰極（１′）がアルミニウムから成っ
    ていることを特徴とする請求項１または２記載のプラズ
    マＸ線管。
  5. 【請求項５】中空陰極（１′）がニッケルおよびアルミ
    ニウム、特に内面をニッケルで被覆されているアルミニ
    ウム壁から成っていることを特徴とする請求項１または
    ２記載のプラズマＸ線管。
  6. 【請求項６】加速陰極（７）に対する材料としてAlおよ
    び（または）Niおよび（または）CuBeの群からの材料が
    選定されていることを特徴とする請求項１ないし５の１
    つに記載のプラズマＸ線管。
  7. 【請求項７】約２ないし10Paの範囲内のガス圧力におい
    てヘリウムのほかにたとえばネオンおよび（または）H2
    のような他のガスも動作ガス成分として選定されている
    ことを特徴とする請求項１ないし６の１つに記載のプラ
    ズマＸ線管。
  8. 【請求項８】Ｘ線ターゲット（12）が高い次数を有する
    材料、たとえば金またはウランから成る薄い層または箔
    から成っていることを特徴とする請求項１ないし６の１
    つに記載のプラズマＸ線管。
  9. 【請求項９】中空陰極電流およびガス圧力の変更によ
    り、その電気的励起データを変更することなく、加速電
    圧および電流が変更されることを特徴とする請求項１な
    いし８の１つによるプラズマＸ線管により特にガスレー
    ザーのＸ線−前期電離のためのＸ線放射を発生するため
    の方法。
  10. 【請求項１０】低圧ガス放電（点弧ワイヤー放電、中空
    陰極放電）も電荷担体の加速もパルス作動で行われるこ
    とを特徴とする請求項９記載の方法。
  11. 【請求項１１】出口窓（12）を相応に電子透過性に構成
    した電子銃としての請求項１ないし８の１つによるプラ
    ズマＸ線管の用途。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI782418B (zh) * 2021-02-09 2022-11-01 能資國際股份有限公司 高壓電子放射管正負極脈衝驅動方法與裝置

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5561696A (en) * 1987-10-30 1996-10-01 Hewlett-Packard Company Method and apparatus for inspecting electrical connections
US5621811A (en) * 1987-10-30 1997-04-15 Hewlett-Packard Co. Learning method and apparatus for detecting and controlling solder defects
EP0398995B1 (de) * 1988-04-08 1993-06-23 Siemens Aktiengesellschaft Plasma-röntgenröhre, insbesondere zur röntgen-vorionisierung von gaslasern, und verwendung als elektronenkanone
US5202910A (en) * 1990-08-28 1993-04-13 North American Philips Corporation Anode for arc discharge devices
JP2576278B2 (ja) * 1990-08-31 1997-01-29 株式会社島津製作所 Ｘ線発生装置
DE4108472C2 (de) * 1991-03-15 1995-10-05 Lambda Physik Forschung Vorrichtung zum Vorionisieren von Gas in einem gepulsten Gaslaser
DE4113241C2 (de) * 1991-04-23 1994-08-11 Lambda Physik Forschung Gepulster Gasentladungslaser
US5583904A (en) * 1995-04-11 1996-12-10 Hewlett-Packard Co. Continuous linear scan laminography system and method
US5687209A (en) * 1995-04-11 1997-11-11 Hewlett-Packard Co. Automatic warp compensation for laminographic circuit board inspection
KR20000052855A (ko) * 1996-11-01 2000-08-25 죠지 에이치 밀레이 조율가능한 엑스레이 소스로서의 구형의 관성 정전 억류 장치
GB2346007B (en) 1999-01-21 2004-03-03 Imaging & Sensing Tech Corp Getter flash shield
US8891583B2 (en) 2000-11-15 2014-11-18 Ati Properties, Inc. Refining and casting apparatus and method
US6496529B1 (en) 2000-11-15 2002-12-17 Ati Properties, Inc. Refining and casting apparatus and method
US6765987B2 (en) 2001-03-15 2004-07-20 Safe Food Technologies, Inc. Resonant plasma x-ray source
JP5098126B2 (ja) * 2001-08-07 2012-12-12 株式会社ニコン Ｘ線発生装置、露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
DE10209642A1 (de) * 2002-03-05 2003-09-18 Philips Intellectual Property Lichtquelle
US7803211B2 (en) * 2005-09-22 2010-09-28 Ati Properties, Inc. Method and apparatus for producing large diameter superalloy ingots
US7803212B2 (en) 2005-09-22 2010-09-28 Ati Properties, Inc. Apparatus and method for clean, rapidly solidified alloys
US7578960B2 (en) 2005-09-22 2009-08-25 Ati Properties, Inc. Apparatus and method for clean, rapidly solidified alloys
KR101433415B1 (ko) 2007-03-30 2014-08-26 에이티아이 프로퍼티즈, 인코퍼레이티드 와이어­방전 이온 플라즈마 전자 방출기를 포함하는 용융 퍼니스
US8748773B2 (en) 2007-03-30 2014-06-10 Ati Properties, Inc. Ion plasma electron emitters for a melting furnace
US7798199B2 (en) 2007-12-04 2010-09-21 Ati Properties, Inc. Casting apparatus and method
DE602008002138D1 (de) * 2008-01-11 2010-09-23 Excico Group N V Vorrichtung und Verfahren zur Stromversorgung einer Elektronenquelle und Elektronenquelle mit Sekundäremission unter Ionenbombardierung
US8747956B2 (en) 2011-08-11 2014-06-10 Ati Properties, Inc. Processes, systems, and apparatus for forming products from atomized metals and alloys
GB201303517D0 (en) * 2013-02-27 2013-04-10 Enxray Ltd Apparatus for the generation of low-energy x-rays
EP3196918B1 (en) 2016-01-19 2019-02-27 Laser Systems and Solutions of Europe Pulsed x-ray source comprising a low pressure wire ion plasma discharge source
TWI651748B (zh) * 2017-07-10 2019-02-21 法商歐洲雷射系統與方案解決公司 低壓佈線離子電漿放電源，及其用於具有二次發射之電子源的應用
CN113027621B (zh) * 2021-03-31 2022-09-23 潍柴动力股份有限公司 一种发动机转速控制方法和相关装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2204882B1 (ja) * 1972-10-30 1976-10-29 Onera (Off Nat Aerospatiale)
US3970892A (en) * 1975-05-19 1976-07-20 Hughes Aircraft Company Ion plasma electron gun
US4025818A (en) * 1976-04-20 1977-05-24 Hughes Aircraft Company Wire ion plasma electron gun
US4694222A (en) * 1984-04-02 1987-09-15 Rpc Industries Ion plasma electron gun

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI782418B (zh) * 2021-02-09 2022-11-01 能資國際股份有限公司 高壓電子放射管正負極脈衝驅動方法與裝置

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