JP2749900B2 - 位置検出方法 - Google Patents
位置検出方法Info
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 title claims description 34
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 19
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、位置検出方法に関する。
[従来の技術] 精密機械の組立てや精密加工などに於いては、組立部
品や加工部品等に極めて高精度の位置調整が要求される
ことが多い。
品や加工部品等に極めて高精度の位置調整が要求される
ことが多い。
このため、可動物体である組立部品や加工部品の位置
を高精度で検出することが行われている。
を高精度で検出することが行われている。
[発明が解決しようとする課題] 本発明も、可動物体の位置検出を高精度で行い得る新
規な位置検出方法の提供を目的とする。
規な位置検出方法の提供を目的とする。
[課題を解決するための手段] 以下、本発明を説明する。
本発明は「直線上もしくは平面上で変位可能な可動物
体の位置を規準位置に対して検出する方法」であって、
「点光源と、結像反射系と、反射部材と、受光位置検出
部材と」を用いる。
体の位置を規準位置に対して検出する方法」であって、
「点光源と、結像反射系と、反射部材と、受光位置検出
部材と」を用いる。
点光源としては、例えば半導体レーザーを用いること
ができる。結像反射系は、反射機能と結像機能を持つ光
学系であり、例えば平面鏡と結像レンズの組合せや凹面
鏡である。反射部材としては平面鏡やハーフミラー、ビ
ームスプリッターを用い得る。また受光位置検出部材
は、その受光面に入射する光束の入射位置を検出できる
ものを使用でき、例えばラインセンサーやエリアセンサ
ー、あるいは半導体位置検出素子を用い得る。
ができる。結像反射系は、反射機能と結像機能を持つ光
学系であり、例えば平面鏡と結像レンズの組合せや凹面
鏡である。反射部材としては平面鏡やハーフミラー、ビ
ームスプリッターを用い得る。また受光位置検出部材
は、その受光面に入射する光束の入射位置を検出できる
ものを使用でき、例えばラインセンサーやエリアセンサ
ー、あるいは半導体位置検出素子を用い得る。
位置検出に当たっては「受光位置検出部材を規準態位
に保持する」とともに、「点光源と反射部材の組」を可
動物体に固定するか、もしくは結像反射系を可動物体に
固定する。
に保持する」とともに、「点光源と反射部材の組」を可
動物体に固定するか、もしくは結像反射系を可動物体に
固定する。
そして、点光源からの発散性の光束を反射部材を介し
て結像反射系に入射させるように、且つ上記点光源の反
射部材による虚像と、点光源の結像反射系による実像と
がともに受光位置検出部材の受光面上に位置するよう
に、点光源と結像反射系と反射部材と受光位置検出部材
との位置関係を定める。
て結像反射系に入射させるように、且つ上記点光源の反
射部材による虚像と、点光源の結像反射系による実像と
がともに受光位置検出部材の受光面上に位置するよう
に、点光源と結像反射系と反射部材と受光位置検出部材
との位置関係を定める。
そして点光源を発光させ、受光位置検出部材による上
記実像の位置検出に基づき可動物体の位置を検出する。
記実像の位置検出に基づき可動物体の位置を検出する。
[作用] 「点光源の虚像位置」と「結像反射系による実像」
は、ともに受光位置検出部材の受光面上に位置し、可動
物体の位置と実像位置とは対応関係にある。従って受光
位置検出部材の出力に基づき、可動物体に位置を検出で
きる。
は、ともに受光位置検出部材の受光面上に位置し、可動
物体の位置と実像位置とは対応関係にある。従って受光
位置検出部材の出力に基づき、可動物体に位置を検出で
きる。
[実施例] 以下、具体的な実施例に即して説明する。
第1図の実施例に於いて、符号10は可動物体、符号12
は受光位置検出部材としての半導体位置検出素子(以
下、単に検出素子12という)、符号14は点光源としての
半導体レーザー、符号16は反射部材としてのビームスプ
リッター、符号18は結像反射系としての凹面鏡をそれぞ
れ示している。
は受光位置検出部材としての半導体位置検出素子(以
下、単に検出素子12という)、符号14は点光源としての
半導体レーザー、符号16は反射部材としてのビームスプ
リッター、符号18は結像反射系としての凹面鏡をそれぞ
れ示している。
可動物体10は、第1図の左右方向と図面に直交する方
向の2次元平面上で可動である。
向の2次元平面上で可動である。
一方、検出素子12は、上記「2次元平面」と平行な平
面を規準面として、この規準面に受光面を合致させて配
備され、しかも配備位置は定位置に定められている。こ
の配備位置に配備されたときの検出素子12の態位を基準
態位と言う。
面を規準面として、この規準面に受光面を合致させて配
備され、しかも配備位置は定位置に定められている。こ
の配備位置に配備されたときの検出素子12の態位を基準
態位と言う。
検出素子12の近傍にはビームスプリッター16が配備さ
れ、ビームスプリッター16の側方には半導体レーザー14
が配備されている。
れ、ビームスプリッター16の側方には半導体レーザー14
が配備されている。
この実施例では、検出素子12とビームスプリッター16
と半導体レーザー14とは、図に示す相互的な位置関係を
保つように一体化されている。
と半導体レーザー14とは、図に示す相互的な位置関係を
保つように一体化されている。
そして、これら3者は一体として図の位置を占めると
ともに、この位置から退避することができるようになっ
ている。そして図の態位(検出態位という)を占めると
きは自動的に検出素子12が基準態位を占めるようになっ
ている。
ともに、この位置から退避することができるようになっ
ている。そして図の態位(検出態位という)を占めると
きは自動的に検出素子12が基準態位を占めるようになっ
ている。
半導体レーザー14の発光部は点光源であり、この点光
源からは発散性の光束が放射される。この光束は、その
一部がビームスプリッター16により反射される。このと
き反射拘束は恰もQ点からの光のように発散しつつ凹面
鏡18に入射する。
源からは発散性の光束が放射される。この光束は、その
一部がビームスプリッター16により反射される。このと
き反射拘束は恰もQ点からの光のように発散しつつ凹面
鏡18に入射する。
Q点は、ビームスプリッター16による点光源の虚像の
位置である。この虚像の位置は、半導体レーザー14とビ
ームスプリッター16の位置関係に応じて一義的に定ま
る。そして、図に示すように上記虚像の位置Qが検出素
子12の受光面上に位置するように、検出素子12、半導体
レーザー14、ビームスプリッター16の位置関係が定めら
れている。また、上述のように、これら3者の位置関係
は固定的であるから虚像の位置Qは定位置である。そこ
でこの実施例では、この虚像の位置Qを基準位置として
演算手段(図示されず)に予め記憶させて置く。
位置である。この虚像の位置は、半導体レーザー14とビ
ームスプリッター16の位置関係に応じて一義的に定ま
る。そして、図に示すように上記虚像の位置Qが検出素
子12の受光面上に位置するように、検出素子12、半導体
レーザー14、ビームスプリッター16の位置関係が定めら
れている。また、上述のように、これら3者の位置関係
は固定的であるから虚像の位置Qは定位置である。そこ
でこの実施例では、この虚像の位置Qを基準位置として
演算手段(図示されず)に予め記憶させて置く。
ビームスプリッター16により反射された光束は発散し
つつ凹面鏡18に入射し、反射されると凹面鏡18の結像作
用によりP点に結像する。このP点は従って、点光源の
凹面鏡18による実像の結像位置である。凹面鏡18の位置
は、このP点が検出素子12の受光面上に位置するように
調整される。
つつ凹面鏡18に入射し、反射されると凹面鏡18の結像作
用によりP点に結像する。このP点は従って、点光源の
凹面鏡18による実像の結像位置である。凹面鏡18の位置
は、このP点が検出素子12の受光面上に位置するように
調整される。
さて、可動物体10の位置検出に就き説明する。
可動物体10には、適当な目印(可動物体の端部等でも
良い)が付されている。この目的を図中に符号Aで示
す。すると「可動物体10の位置を検出する」とは、目印
Aの位置が前述した基準位置Qに対し第1図の左右方向
に於いてどれほど離れた位置にあるか、換言すれば基準
位置Qを可動物体10上に射影した射影点と目印Aとの間
の距離がどれほどであるかを検出することに他ならな
い。
良い)が付されている。この目的を図中に符号Aで示
す。すると「可動物体10の位置を検出する」とは、目印
Aの位置が前述した基準位置Qに対し第1図の左右方向
に於いてどれほど離れた位置にあるか、換言すれば基準
位置Qを可動物体10上に射影した射影点と目印Aとの間
の距離がどれほどであるかを検出することに他ならな
い。
位置検出は、以下の如くに行われる。
まず、第1図の状態から検出素子12、半導体レーザー
14、ビームスプリッター16を一体として退避させる。こ
の状態に於いて、顕微鏡を用いて凹面鏡18の頂部の位置
Bを測定する。この顕微鏡はスフェロメーターに使われ
る顕微鏡である。凹面鏡の曲率中心から放射された光束
は曲率中心に集束するので、これを利用して顕微鏡によ
り凹面鏡の曲率中心を求め、この曲率中心から顕微鏡の
光軸が凹面鏡18に当たる位置を可動物体10上に射影した
位置を上記「頂部」の位置Bとする。この状態から顕微
鏡が目印Aを光軸上にとらえるまで顕微鏡を第1図左方
へ移動させ、この間の顕微鏡の変位量を顕微鏡のスケー
ルで計測する。これにより凹面鏡18の頂部の位置Bと目
印Aの間の距離Lが知れるので、このLを前述の演算手
段に入力して置く。
14、ビームスプリッター16を一体として退避させる。こ
の状態に於いて、顕微鏡を用いて凹面鏡18の頂部の位置
Bを測定する。この顕微鏡はスフェロメーターに使われ
る顕微鏡である。凹面鏡の曲率中心から放射された光束
は曲率中心に集束するので、これを利用して顕微鏡によ
り凹面鏡の曲率中心を求め、この曲率中心から顕微鏡の
光軸が凹面鏡18に当たる位置を可動物体10上に射影した
位置を上記「頂部」の位置Bとする。この状態から顕微
鏡が目印Aを光軸上にとらえるまで顕微鏡を第1図左方
へ移動させ、この間の顕微鏡の変位量を顕微鏡のスケー
ルで計測する。これにより凹面鏡18の頂部の位置Bと目
印Aの間の距離Lが知れるので、このLを前述の演算手
段に入力して置く。
次ぎに、検出素子12、半導体レーザー14、ビームスプ
リッター16を測定態位(第1図に示された態位)に復帰
させる。これにより検出素子12は基準態位を占める。
リッター16を測定態位(第1図に示された態位)に復帰
させる。これにより検出素子12は基準態位を占める。
半導体レーザー14を発光させると凹面鏡18による実像
がP点に結像する。このP点の位置を検出素子12により
検出する。凹面鏡18による結像倍率は等倍であるから、
虚光源の位置Q点と実像の位置P点とは、凹面鏡18の頂
部B点を通る光軸に関して対称の位置にある。Q点の位
置は既に決定されているから、P点の位置が検出素子12
により検出されると、PQ点間の距離2δが分かる。
がP点に結像する。このP点の位置を検出素子12により
検出する。凹面鏡18による結像倍率は等倍であるから、
虚光源の位置Q点と実像の位置P点とは、凹面鏡18の頂
部B点を通る光軸に関して対称の位置にある。Q点の位
置は既に決定されているから、P点の位置が検出素子12
により検出されると、PQ点間の距離2δが分かる。
すると可動物体10の目印Aの位置が、基準位置Qから
(L+δ)だけ離れていることが分かる。かくして可動
物体の位置が検出される。
(L+δ)だけ離れていることが分かる。かくして可動
物体の位置が検出される。
この例では、基準位置は点光源の虚像の位置Q点に設
定したが、基準の位置はこれに限らず、検出素子12の受
光面上の任意の位置、例えば受光面の中央位置等に設定
できる。
定したが、基準の位置はこれに限らず、検出素子12の受
光面上の任意の位置、例えば受光面の中央位置等に設定
できる。
検出素子12は、第2図に示すようにX方向(第2図左
右方向)、Y方向(同図上下方向)の差し渡しが2dであ
る正方形の受光面を持ち、光スポットが入射すると、そ
の入射位置に応じて、4つの出力IX1,IX2,IY1,IY2が出
力される。これらの出力は増幅器21〜27により増幅され
たのち位置演算部31,33に入力される。これら位置演算
部は X=d(IX2−IX1)/(IX2+IX1) Y=d(IY2−IY1)/(IY2+IY1) なる演算を行って、入射スポットの位置を与えるX,Y座
標を算出する。但し、XY座標の原点は受光面の中心部で
ある。
右方向)、Y方向(同図上下方向)の差し渡しが2dであ
る正方形の受光面を持ち、光スポットが入射すると、そ
の入射位置に応じて、4つの出力IX1,IX2,IY1,IY2が出
力される。これらの出力は増幅器21〜27により増幅され
たのち位置演算部31,33に入力される。これら位置演算
部は X=d(IX2−IX1)/(IX2+IX1) Y=d(IY2−IY1)/(IY2+IY1) なる演算を行って、入射スポットの位置を与えるX,Y座
標を算出する。但し、XY座標の原点は受光面の中心部で
ある。
位置演算部の出力は、演算手段35に送られる。
演算手段35には既にQ点の座標と、距離Lとが入力さ
れて記憶されているので、これらとP点の位置演算の結
果に基づき、目印A点の位置を検出できるのである。
れて記憶されているので、これらとP点の位置演算の結
果に基づき、目印A点の位置を検出できるのである。
可動物体10に位置合わせを行う場合であれば、このよ
うにして求められたA点の位置が所定の位置を占めるよ
うにするために、可動物体をどの方向にどれほど変位さ
せれば良いかがわかるので、その変位を実行することに
より、容易且つ確実に位置合わせを実現できる。
うにして求められたA点の位置が所定の位置を占めるよ
うにするために、可動物体をどの方向にどれほど変位さ
せれば良いかがわかるので、その変位を実行することに
より、容易且つ確実に位置合わせを実現できる。
上に説明した実施例の場合、虚光源の位置Q点は、検
出素子12とビームスプリッター16と半導体レーザー14の
位置関係により「設計的」に定まる値を用いた。しかし
実際には、設計的に決定される虚光源位置Qと現実の虚
光源位置との間には、誤差によるずれがあるものと考え
られる。このずれは、位置検出精度に対する誤差にな
る。
出素子12とビームスプリッター16と半導体レーザー14の
位置関係により「設計的」に定まる値を用いた。しかし
実際には、設計的に決定される虚光源位置Qと現実の虚
光源位置との間には、誤差によるずれがあるものと考え
られる。このずれは、位置検出精度に対する誤差にな
る。
検出素子12とビームスプリッター16と半導体レーザー
14の位置関係を正確に定めることにより、上記ずれを十
分に小さくできるが、もし現実の虚光源位置を測定でき
れば、「ずれ」の影響を除去できる。
14の位置関係を正確に定めることにより、上記ずれを十
分に小さくできるが、もし現実の虚光源位置を測定でき
れば、「ずれ」の影響を除去できる。
現実の虚光源位置を測定するには、以下のようにすれ
ば良い。
ば良い。
第3図で、符号40は位置合わせ用の顕微鏡を示してい
る。点光源41を発光させると、光はハーフミラー43と対
物レンズ45を介して射出し、ビームスプリッター16を介
して検出素子12の受光面に入射し、反射されるとビーム
スプリッター16、対物レンズ45を介してハーフミラー43
に入射しハーフミラー43に反射されるとスクリーン47上
に入射する。この入射状態を接眼レンズ49による観察す
る。まず顕微鏡40全体を対物レンズ45の光軸方向へ変位
させ、スクリーン47上に点光源41の等倍像を結像させ
る。このとき、像はスクリーン上のターゲットチャート
の中心部分にある。
る。点光源41を発光させると、光はハーフミラー43と対
物レンズ45を介して射出し、ビームスプリッター16を介
して検出素子12の受光面に入射し、反射されるとビーム
スプリッター16、対物レンズ45を介してハーフミラー43
に入射しハーフミラー43に反射されるとスクリーン47上
に入射する。この入射状態を接眼レンズ49による観察す
る。まず顕微鏡40全体を対物レンズ45の光軸方向へ変位
させ、スクリーン47上に点光源41の等倍像を結像させ
る。このとき、像はスクリーン上のターゲットチャート
の中心部分にある。
続いて、半導体レーザー14を発光させると、その現実
の虚光源位置Q′の像をスクリーン47上に観察できる。
この状態で顕微鏡40を光軸直交方向に変位させて、点光
源41の像とQ′点の像とが重なり合うようにする。この
とき点光源41からの光は、現実の虚光源装置Q′に集光
している。
の虚光源位置Q′の像をスクリーン47上に観察できる。
この状態で顕微鏡40を光軸直交方向に変位させて、点光
源41の像とQ′点の像とが重なり合うようにする。この
とき点光源41からの光は、現実の虚光源装置Q′に集光
している。
そこで、このときの検出素子12の出力により現実の虚
光源位置Q′を知ることができる。
光源位置Q′を知ることができる。
検出素子12は単一の受光面を有する。この場合、点光
源の実像の位置が受光面に対して若干ずれると、受光面
上のスポットは幾分広がってしまうが、検出素子12の出
力は、そのような場合、スポット内の強度分布を重みと
する強度分布の重心位置に応じて出力されるので、実像
の位置が正しく測定される。
源の実像の位置が受光面に対して若干ずれると、受光面
上のスポットは幾分広がってしまうが、検出素子12の出
力は、そのような場合、スポット内の強度分布を重みと
する強度分布の重心位置に応じて出力されるので、実像
の位置が正しく測定される。
以下、別実施例を説明する。
結像反射系を凹面鏡とする場合、第4図に示すように
凹面鏡18Aにガラス等による保護部材18Bを設けても良
い。
凹面鏡18Aにガラス等による保護部材18Bを設けても良
い。
また、第5図の実施例のように結像反射系を、平面鏡
181と結像レンズ182の組み合わせによって構成しても良
い。但し、この場合は平面鏡181と検出素子12の受光面
とを高精度に平行にする必要がある。また、第5図に示
すように反射部材は平面鏡16A用いることができる。
181と結像レンズ182の組み合わせによって構成しても良
い。但し、この場合は平面鏡181と検出素子12の受光面
とを高精度に平行にする必要がある。また、第5図に示
すように反射部材は平面鏡16A用いることができる。
[発明の効果] 以上、本発明によれば新規な位置検出方法を提供でき
る。この発明は上記のごとき構成となっているので可動
物体の位置を容易且つ確実に検出できる。
る。この発明は上記のごとき構成となっているので可動
物体の位置を容易且つ確実に検出できる。
第1図及び第2図は、本発明の1実施例を説明するため
の図、第3図ないし第5図は別の実施例を説明するため
の図である。 10……可動物体、12……受光位置検出部材としての半導
体位置検出素子、14……点光源としての半導体レーザ
ー、16……反射部材としてのビームスプリッター、18…
…結像反射系としての凹面鏡
の図、第3図ないし第5図は別の実施例を説明するため
の図である。 10……可動物体、12……受光位置検出部材としての半導
体位置検出素子、14……点光源としての半導体レーザ
ー、16……反射部材としてのビームスプリッター、18…
…結像反射系としての凹面鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G01B 11/00 - 11/30 G01D 5/26 - 5/38
Claims (1)
- 【請求項1】直線上もしくは平面上で変位可能な可動物
体の位置を基準位置に対して検出する方法であって、 点光源と、結像反射系と、反射部材と、受光位置検出部
材とを用い、 受光位置検出部材を規準態位に保持するとともに、上記
点光源と反射部材の組を可動物体に固定するか、もしく
は上記結像反射系を可動物体に固定し、 点光源からの発散性の光束を反射部材を介して結像反射
系に入射させるように、且つ上記点光源の反射部材によ
る虚像と、点光源の結像反射系による実像とがともに受
光位置検出部材の受光面上に位置するように、上記点光
源と結像反射系と反射部材と受光位置検出部材との位置
関係を定め、 上記点光源を発光させ、受光位置検出部材による上記実
像の位置検出に基づき可動物体の位置を検出することを
特徴とする、位置検出方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23536089A JP2749900B2 (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 位置検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23536089A JP2749900B2 (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 位置検出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0396802A JPH0396802A (ja) | 1991-04-22 |
JP2749900B2 true JP2749900B2 (ja) | 1998-05-13 |
Family
ID=16984935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23536089A Expired - Lifetime JP2749900B2 (ja) | 1989-09-11 | 1989-09-11 | 位置検出方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2749900B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011082570A1 (de) * | 2011-09-13 | 2013-03-14 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Rotatorische Positionsmesseinrichtung |
-
1989
- 1989-09-11 JP JP23536089A patent/JP2749900B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0396802A (ja) | 1991-04-22 |
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