JP2734184B2 - TAB tape carrier - Google Patents

TAB tape carrier

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JP2734184B2 JP21245790A JP21245790A JP2734184B2 JP 2734184 B2 JP2734184 B2 JP 2734184B2 JP 21245790 A JP21245790 A JP 21245790A JP 21245790 A JP21245790 A JP 21245790A JP 2734184 B2 JP2734184 B2 JP 2734184B2
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Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、接着剤の厚さを薄くした高信頼性のTAB用
テープキャリアに関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a highly reliable TAB tape carrier with a reduced thickness of an adhesive.

<従来の技術> 従来のTAB用テープキャリアとして、例えば第1図に
示すものがある。一般に、TAB用テープキャリア1は、
厚さ70〜125μm、幅35mm(あるいは、70、140mm等の
幅)を有する有機ポリイミドフィルム、ガラスエポキシ
フィルム等の絶縁フィルム3に、パンチング加工により
IC素子(図示せず)に対応するデバイスホール6、およ
び、実装時にテープキャリア本体を送り出すためのパイ
ロットホール7を形成し、この絶縁フィルム3に厚さ15
〜20μmの接着剤4を介して厚さ18〜35μmの圧延銅箔
あるいは電解銅箔等の銅箔を貼り合わせた後、ホトエッ
チングによって所定の配線パターンを施して成る。第2
図は配線パターン部分の断面図を示し、接着剤4を介し
て銅箔2と絶縁フィルム3が貼り合わされて三層構造を
形成している。
<Prior Art> As a conventional TAB tape carrier, there is one shown in FIG. 1, for example. Generally, TAB tape carrier 1 is
An insulating film 3 such as an organic polyimide film or a glass epoxy film having a thickness of 70 to 125 μm and a width of 35 mm (or a width of 70 or 140 mm or the like) is punched.
A device hole 6 corresponding to an IC element (not shown) and a pilot hole 7 for sending out a tape carrier body at the time of mounting are formed.
After bonding a copper foil such as a rolled copper foil or an electrolytic copper foil having a thickness of 18 to 35 μm via an adhesive 4 of about 20 μm, a predetermined wiring pattern is formed by photoetching. Second
The figure shows a cross-sectional view of a wiring pattern portion, in which a copper foil 2 and an insulating film 3 are bonded via an adhesive 4 to form a three-layer structure.

第2図のTAB構造において、通常接着剤4の厚さは15
〜20μmが選定されている。この理由は、従来銅箔の接
着剤により貼り合わせる側の面は0.8〜2.0μmの平均粗
さ(以下、Raという)に粗化されており、この銅箔の粗
化面に十分に食いこむ接着剤の量として15〜20μmの厚
さが必要だったからである。
In the TAB structure shown in FIG. 2, the thickness of the normal adhesive 4 is 15
2020 μm is selected. The reason for this is that the surface on the side to be pasted with the adhesive of the conventional copper foil has been roughened to an average roughness of 0.8 to 2.0 μm (hereinafter referred to as Ra), and has sufficiently penetrated the roughened surface of the copper foil. This is because a thickness of 15 to 20 μm was required as the amount of the adhesive.

しかし、最近TAB用テープキャリアの微細配線化が進
み、従来の銅箔の粗化面の粗さの場合、ホトエッチング
完了後のパターン間に銅箔が残り、配線パターンの短絡
の発生が問題になってきた。即ち、銅箔粗化面の突起部
が接着剤中に食いこんでエッチングにより除去されにく
いためエッチング完了後も配線パターン間(銅箔を溶解
したい部分)に点状に残り、これが電圧印加時にマイグ
レーション短絡等が発生する原因となることが明確とな
った。
However, recently, the finer wiring of TAB tape carriers has progressed, and in the case of the roughened surface of conventional copper foil, copper foil remains between patterns after photoetching is completed, and the occurrence of a short circuit in the wiring pattern becomes a problem. It has become. That is, the projections on the roughened surface of the copper foil penetrate into the adhesive and are difficult to be removed by etching, so that even after the completion of the etching, they remain in a dot-like manner between the wiring patterns (portions where the copper foil is desired to be dissolved), and this migrates when voltage is applied. It has been clarified that this may cause a short circuit or the like.

この対策として、最近微電流による交流電解粗化法
や、電気めっき法による微粒子電着粗化法が著しく進歩
して、いわゆる低粗化銅箔が製造可能となった。
As a countermeasure, AC electrolytic roughening method using minute current and fine particle electrodeposition roughening method by electroplating method have been remarkably advanced recently, and so-called low-roughened copper foil can be manufactured.

この低粗化銅箔は上記の問題を軽減できるため、一般
にRaが0.2〜0.4μmの低粗化銅箔が好んで用いられるよ
うになった。
Since this low-roughened copper foil can reduce the above-mentioned problems, generally, a low-roughened copper foil having a Ra of 0.2 to 0.4 μm has been favorably used.

これに対して、接着剤は従来どおりの15〜20μmの厚
さで用いられている。これは、この厚さの接着剤付のポ
リイミド等のフィルムが市販品として入手しやすいため
である。
On the other hand, the adhesive is used in a conventional thickness of 15 to 20 μm. This is because a film of polyimide or the like with an adhesive having this thickness is easily available as a commercial product.

<発明が解決しようとする課題> 本発明者は接着剤の影響について調査し、特にエポキ
シ系の場合分解により発生する塩素イオンおよび硬化剤
に用いられるアミン系硬化剤の分解により発生するアン
モニアが金属を腐食させる現象を解明した。
<Problems to be Solved by the Invention> The present inventors investigated the effects of adhesives, and found that chlorine ions generated by decomposition in the case of epoxy type and ammonia generated by decomposition of amine type curing agent used in the curing agent are particularly metal. Clarified the phenomenon that causes corrosion.

即ち、65℃×95%RHの恒温恒湿試験および高温加熱試
験で銅のパターンを腐食させるばかでなく、直流バイア
ス印加試験においてマイグレーション短絡の原因となっ
ている。
That is, not only does the copper pattern corrode in a constant temperature and humidity test and a high temperature heating test at 65 ° C. × 95% RH, but also causes a migration short circuit in a DC bias application test.

また、接着剤であるエポキシは熱硬化型であるために
硬く、屈曲された場合に接着剤に割れが入り、銅箔パタ
ーンの剥離の原因となっている。
Further, epoxy as an adhesive is hard because it is a thermosetting type, and when it is bent, the adhesive cracks and causes copper foil pattern peeling.

さらに、接着剤はTAB用テープの製造工程においても
割れやすく、粉状となってホトレジストコート後の表面
に付着しやすく、これがパターンのつながり、欠け等の
原因となっている。
Further, the adhesive is easily broken in the TAB tape manufacturing process, and is likely to be powdery and adhere to the surface after the photoresist coating, which causes pattern connection and chipping.

本発明は、パターン欠陥が少なく、マイグレーション
短絡の少ないTAB用テープキャリアを提供することを目
的としている。
An object of the present invention is to provide a TAB tape carrier having few pattern defects and few migration short circuits.

<課題を解決するための手段> 上記目的を達成するために本発明によれば、絶縁フィ
ルム上に接着剤を用いて銅箔を貼り合わせ、配線パター
ンを形成してなるテープキャリアにおいて、前記接着剤
の厚さを3〜7μmとし、前記銅箔の貼合わせ側の粗化
面の平均粗さRaを0.1〜0.4μmとすることを特徴とする
TAB用テープキャリアが提供される。
<Means for Solving the Problems> According to the present invention, in order to achieve the above object, in a tape carrier formed by bonding a copper foil on an insulating film using an adhesive to form a wiring pattern, The thickness of the agent is set to 3 to 7 μm, and the average roughness Ra of the roughened surface on the bonding side of the copper foil is set to 0.1 to 0.4 μm.
A TAB tape carrier is provided.

ここで、前記配線パターンの上部に無電解錫めっきま
たは空気半田めっきが施されているのが好ましい。
Here, it is preferable that electroless tin plating or air solder plating is applied to the upper part of the wiring pattern.

以下、第1図および第2図を参照しながら本発明につ
いて詳細に説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to FIG. 1 and FIG.

TAB用テープキャリア1は、可撓性の絶縁フィルム3
にデバイスホール6、パイロットホール7等の必要な貫
通孔を開け、このフィルムに銅箔を貼着し、この銅箔を
エッチング加工にて加工し、半導体素子と電気的に接続
されるインナーリードと、アウターリードを有するリー
ドパターンを形成したものである。
TAB tape carrier 1 is made of flexible insulating film 3
Then, necessary through holes such as a device hole 6, a pilot hole 7 and the like are opened, a copper foil is adhered to the film, and the copper foil is processed by etching to form an inner lead electrically connected to the semiconductor element. And a lead pattern having outer leads.

本発明においてTAB用テープキャリア1は、ポリイミ
ド樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ガラス
エポキシ樹脂、可撓性エポキシ樹脂等の樹脂類や、紙類
等の可撓性、絶縁性を有する材料で構成されるフィルム
3上の素子搭載部6を除く部分に、所望のパターンの銅
箔2を貼着したリード5が接着剤4により貼着されてい
る。
In the present invention, the TAB tape carrier 1 is made of a resin such as a polyimide resin, a polyethylene resin, a polyester resin, a glass epoxy resin, or a flexible epoxy resin, or a flexible or insulating material such as paper. A lead 5 on which a copper foil 2 having a desired pattern is adhered is adhered by an adhesive 4 to a portion of the film 3 excluding the element mounting portion 6.

前記リード5は、第2図に示すように絶縁フィルム3
と接着剤4と銅箔2との三層となっている。
The lead 5 is made of an insulating film 3 as shown in FIG.
, Adhesive 4 and copper foil 2.

前記銅箔2は、圧延銅箔または電解銅箔とするのがよ
い。
The copper foil 2 is preferably a rolled copper foil or an electrolytic copper foil.

前記銅箔2の接着剤4と接する面のRaは、0.1〜0.4μ
mとする。Raが0.4を超えるとエッチング後のパターン
間に銅箔が残る。また、Raが0.1未満のものは加工コス
トが高くなる。
Ra of the surface of the copper foil 2 in contact with the adhesive 4 is 0.1 to 0.4 μm.
m. If Ra exceeds 0.4, copper foil remains between the patterns after etching. If the Ra is less than 0.1, the processing cost is high.

前記接着剤4は限定しないが、通常のエポキシ系また
は低塩素イオン耐マイグレーション対策型エポキシ系
(残留塩素イオンを溶媒により洗浄抽出した樹脂)やポ
リエーテルアミド系が好ましい。接着剤の配合は限定せ
ず公知のものをそのまま用いることができる。
The adhesive 4 is not limited, but is preferably an ordinary epoxy type, a low chlorine ion migration resistant epoxy type (resin obtained by washing and extracting residual chlorine ions with a solvent) or a polyetheramide type. The composition of the adhesive is not limited, and a known adhesive can be used as it is.

前記接着剤4の厚さは、3〜7μmとする。厚さが7
μmを超えると銅箔パターンの腐食が防止できない。ま
た、3μm未満では接着剤の接着効果が不足し、銅箔パ
ターンの剥離が発生する。
The thickness of the adhesive 4 is 3 to 7 μm. 7 thickness
If it exceeds μm, corrosion of the copper foil pattern cannot be prevented. When the thickness is less than 3 μm, the adhesive effect of the adhesive is insufficient, and the copper foil pattern is peeled off.

前記配線パターンの上部には素子電極部との接合をお
こなうための無電解錫めっきまたは電気半田めっきを施
して完成品とする。このめっき層の厚さは0.5〜1.0μm
が程度がよい。
The upper portion of the wiring pattern is subjected to electroless tin plating or electric solder plating for bonding with the element electrode portion, to obtain a finished product. The thickness of this plating layer is 0.5 ~ 1.0μm
But the degree is good.

<実施例> 以下に本発明を実施例に基づき具体的に説明する。<Example> Hereinafter, the present invention will be specifically described based on examples.

下記のポリイミドフィルムに下記エポキシ系接着剤を
7μm塗布し、デバイスホールをプレス金型により開口
し、その素子搭載部を除く部分に下記銅箔を貼着したの
ち、ホトレジストエッチング法により下記仕様の配線パ
ターンを形成し、その上部に無電解錫めっきを施しTAB
用テープキャリアを作成した。
The following polyimide film is coated with the following epoxy-based adhesive to a thickness of 7 μm, a device hole is opened with a press die, and the following copper foil is adhered to the part excluding the element mounting part. Form a pattern, apply electroless tin plating on top of it and TAB
Tape carrier was created.

(実施例1) インナーリードピン数:200 インナーリードピッチ:0.1mm インナーリード幅:0.05mm 銅箔:0.035μm厚さ、26.4mm幅の無酸素銅圧延銅箔
(粗化面のRa:0.4μm) 接着剤:エポキシ系接着剤、硬化剤アミン系、粘結剤
ラテックス10% フィルム:ポリイミドフィルム0.075mm厚さ、35mm幅 めっき:無電解錫めっき0.5μm ポリイミドフィルム上への接着剤のコーティングには
ローラーコーティング法を用いた。また、比較のために
上記接着剤を19μm塗布したもの(比較例1)および同
じエポキシ系の接着剤と19μm塗布されている市販品
(比較例2)を用いて、下記の4種の試験を行い比較し
た。
(Example 1) Number of inner lead pins: 200 Inner lead pitch: 0.1 mm Inner lead width: 0.05 mm Copper foil: 0.035 µm thickness, 26.4 mm width oxygen-free copper rolled copper foil (Ra on the roughened surface: 0.4 µm) Adhesive: Epoxy adhesive, curing agent amine, binder latex 10% Film: Polyimide film 0.075mm thickness, 35mm width Plating: Electroless tin plating 0.5μm Roller for coating adhesive on polyimide film A coating method was used. For comparison, the following four tests were carried out using a 19 μm coated adhesive (Comparative Example 1) and a commercial product coated with the same epoxy adhesive and 19 μm (Comparative Example 2). Performed and compared.

なお、各TAB用テープキャリアは錫めっき前のもので
テストした。
Each TAB tape carrier was tested before tin plating.

恒温、恒湿槽放置試験…65℃×95%RHで24時間放置後
のめっき面の変色を観察 高温放置試験…空気中で150℃×10時間放置後のめっ
き面の変色を観察 PCT試験…121℃、2気圧で20時間放置後のめっき面の
変色を観察 バイアス電圧印加マイグレーション試験…200ピンの
配線中8ペア(16リード)について下記により1ペアで
も短絡の生じた時NG1個とした 直流電圧:28V 雰囲気:65℃×95%RH 時間:500時間 試験結果を表1に示す。
Constant temperature, constant humidity bath test: Observation of discoloration of plated surface after standing at 65 ° C x 95% RH for 24 hours High temperature test: Observation of discoloration of plated surface after standing at 150 ° C x 10 hours in air PCT test Observe the discoloration of the plated surface after standing at 121 ° C and 2 atm for 20 hours. Bias voltage application migration test: 8 pairs (16 leads) in the 200-pin wiring. Voltage: 28 V Atmosphere: 65 ° C. × 95% RH Time: 500 hours The test results are shown in Table 1.

表1の結果から接着剤をうすくした効果が明瞭に示さ
れた。この効果は、接着剤の目付量が実質的に減ったこ
とによると思われ、これにより信頼性の面で著しく向上
させることができることが確認された。
The results in Table 1 clearly show the effect of thinning the adhesive. This effect was considered to be due to the substantial decrease in the basis weight of the adhesive, and it was confirmed that this could significantly improve the reliability.

つぎに0.1Rの治具に錫めっき前の前記各TAB用テープ
キャリアをはさみ銅箔2側(反絶縁フィルム側)に90度
折り曲げたのち元の位置に戻す試験を各5000個のテープ
キャリアについて行い、パターン欠陥の発生個数を調べ
た。
Next, the above TAB tape carrier before tin plating was sandwiched in a 0.1R jig, bent 90 degrees to the copper foil 2 side (anti-insulating film side), and returned to the original position. The number of occurrences of pattern defects was checked.

その結果を表2に示す。 Table 2 shows the results.

また、錫めっき後の前記各TAB用テープキャリアにつ
いて前記折り曲げを繰返し、1回毎にパターン欠陥(断
線、つながり)の発生を実体顕微鏡(倍率20)により観
察し、欠陥が発生した時の折り曲げ回数を耐折回数と
し、各20個テストした。
The bending was repeated for each of the TAB tape carriers after tin plating, and the occurrence of pattern defects (disconnection, connection) was observed with a stereoscopic microscope (magnification: 20) each time. Was used as the number of times of folding, and 20 pieces were tested.

調査結果を表3に示す。 Table 3 shows the survey results.

表2、表3の調査結果から、実施例のパターン欠陥が
著しく減少していることがわかる。これは、接着剤がデ
バイスホール、パイロットホール等の穴開け加工におい
て飛びちる問題が本発明では少なくなり、従ってホトレ
ジストコート後にその表面にこれ等異物が付着すること
が少なくなって、露光時の欠陥が出にくくなるためであ
る。
From the investigation results in Tables 2 and 3, it can be seen that the pattern defects of the examples are significantly reduced. This is because, in the present invention, the problem that the adhesive flies in drilling holes for device holes, pilot holes, etc. is reduced in the present invention. This is because it is difficult to get out.

また、耐折性については、接着剤が厚い場合には接着
剤に加えられる伸び、圧縮応力が大きくなるので、銅箔
との間の剥離が進みやすくなるが、実施例では接着剤の
層厚を薄くしたことにより耐折性が向上したものであ
る。
Regarding the bending resistance, when the adhesive is thick, the elongation applied to the adhesive and the compressive stress increase, so that the separation from the copper foil is easy to proceed. , The folding resistance is improved.

<発明の効果> 本発明は以上説明したように構成されているので、本
発明のTAB用テープキャリアは、パターン欠陥が少な
く、マイグレーション短絡が少ない。
<Effects of the Invention> Since the present invention is configured as described above, the TAB tape carrier of the present invention has few pattern defects and few migration short circuits.

また、接着剤の層厚をうすくしたことにより穴加工時
に粉が出にくいため、パイロットホール部まで全面に接
着剤を塗布することができる。従って、従来のTAB用テ
ープキャリアにおける接着剤は粉が出やすいため、パイ
ロットホールが製造工程の送り穴として使われる関係か
ら送り穴には塗布できないが、本発明によれば接着剤を
絶縁フィルムの全面に塗布することができるため、接着
剤塗布加工費を安くできる。即ち、フィルムの幅方向中
央に帯状に部分塗りする必要がなく、500〜1000mm幅で
広幅にフィルム材に塗布した後、35〜70mm幅に自由にス
リット加工して用いることができ、接着材付きのポリイ
ミドフィルムとして約10%のコストダウンが図れる。
Further, since the powder is hardly generated at the time of drilling the hole due to the reduced thickness of the adhesive, the adhesive can be applied to the entire surface up to the pilot hole portion. Therefore, since the adhesive in the conventional TAB tape carrier easily generates powder, the adhesive cannot be applied to the sprocket holes because the pilot holes are used as sprocket holes in the manufacturing process. Since it can be applied to the entire surface, the cost of applying and processing the adhesive can be reduced. That is, there is no need to partially coat the film in the width direction at the center in the width direction, and after coating the film material with a width of 500 to 1000 mm, it can be used by freely slitting it to a width of 35 to 70 mm, with adhesive The cost can be reduced by about 10% as a polyimide film.

【図面の簡単な説明】 第1図は、TAB用テープキャリアの平面図である。 第2図は、第1図の配線パターン部分の断面図である。 符号の説明 1…TAB用テープキャリア、2…銅箔、3…絶縁フィル
ム、4…接着剤、5…リード、5a…インナーリード、6
…素子搭載部(デバイスホール)、7…パイロットホー
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a plan view of a TAB tape carrier. FIG. 2 is a cross-sectional view of the wiring pattern portion of FIG. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... TAB tape carrier, 2 ... copper foil, 3 ... insulating film, 4 ... adhesive, 5 ... lead, 5a ... inner lead, 6
... Element mounting part (device hole), 7 ... Pilot hole

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】絶縁フィルム上に接着剤を用いて銅箔を貼
り合わせ、配線パターンを形成してなるテープキャリア
において、前記接着剤の厚さを3〜7μmとし、前記銅
箔の貼合わせ側の粗化面の平均粗さRaを0.1〜0.4μmと
することを特徴とするTAB用テープキャリア。
1. A tape carrier formed by bonding a copper foil on an insulating film using an adhesive to form a wiring pattern, wherein the adhesive has a thickness of 3 to 7 μm, A TAB tape carrier, characterized in that the average roughness Ra of the roughened surface is 0.1 to 0.4 μm.
【請求項2】前記配線パターンの上部に無電解錫めっき
または空気半田めっきが施されている請求項1記載のTA
B用テープキャリア。
2. The TA according to claim 1, wherein an electroless tin plating or an air solder plating is applied to an upper portion of the wiring pattern.
Tape carrier for B.
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