JP2732887B2 - Rectifier - Google Patents

Rectifier

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JP2732887B2
JP2732887B2 JP1079237A JP7923789A JP2732887B2 JP 2732887 B2 JP2732887 B2 JP 2732887B2 JP 1079237 A JP1079237 A JP 1079237A JP 7923789 A JP7923789 A JP 7923789A JP 2732887 B2 JP2732887 B2 JP 2732887B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、集積回路分野における整流素子に関する。
さらに詳しくは、酸化還元物質を該素子の構成材料とし
て用いることにより、そのサイズを分子レベルの超微細
な大きさ(数十〜数百Å)に近づけることができ、高密
度、高速化を図ることができるようにした整流素子に関
する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a rectifier in the field of integrated circuits.
More specifically, by using an oxidation-reduction substance as a constituent material of the element, the size can be brought close to an ultra-fine size (tens to hundreds of square meters) at the molecular level, and high density and high speed can be achieved. The present invention relates to a rectifying element that can be used.

[従来の技術] 従来、集積回路に用いられている整流素子としては、
第4図に示すMOS構造のものがあった。第4図におい
て、(11)はp形シリコン基板、(12)はn形領域、
(13)はp形領域、(14)はn形領域、(15)はSiO
2膜、(16),(17)は電極であり、これら2つの電極
(16),(17)間でp−n接合(p形領域(13)−n形
領域(14)接合)が形成され、これにより整流特性が実
現されている。
[Related Art] Conventionally, rectifiers used in integrated circuits include:
There was a MOS structure shown in FIG. In FIG. 4, (11) is a p-type silicon substrate, (12) is an n-type region,
(13) is a p-type region, (14) is an n-type region, and (15) is SiO
Two films, (16) and (17) are electrodes, and a pn junction (p-type region (13) -n-type region (14) junction) is formed between these two electrodes (16) and (17). As a result, rectification characteristics are realized.

[発明が解決しようとする課題] 従来のMOS構造の整流素子は前記のように構成されて
いるため、微細加工が可能であり、現在では前記構造の
整流素子あるいはこれと類似の構造のトランジスタ素子
を用いたLSIとして、1MビットLSIが実用化されている。
[Problems to be Solved by the Invention] Since the conventional rectifying element having the MOS structure is configured as described above, it can be finely processed, and at present, the rectifying element having the above structure or a transistor element having a similar structure. 1 Mbit LSIs have been put to practical use as LSIs using.

ところで、集積回路のメモリ容量と演算速度を上昇さ
せるには、素子そのものの微細化が不可欠であるが、Si
を用いる素子では0.2μm程度の超微細パターンで電子
の平均自由行程と素子サイズとがほぼ等しくなり、素子
の独立性が保たれなくなるという限界を抱えている。こ
のように、日々発展を続けているシリコンテクノロジー
も、微細化の点ではいずれは壁に突きあたることが予想
され、新しい原理に基づく電気回路素子であって0.2μ
mの壁を破ることのできるものが求められている。
By the way, in order to increase the memory capacity and operation speed of an integrated circuit, miniaturization of the element itself is indispensable.
In an element using, the mean free path of electrons and the element size are almost equal in an ultra-fine pattern of about 0.2 μm, and there is a limit that the independence of the element cannot be maintained. In this way, silicon technology, which continues to evolve every day, is expected to eventually hit the wall in terms of miniaturization, and is an electric circuit element based on a new principle, 0.2 μm
There is a need for something that can break the m wall.

本発明は、かかる状況に鑑みなされたものであって、
酸化還元物質膜を電気回路素子の構成要素として用いる
ことにより、そのサイズを分子レベルの超微細な大きさ
まで近づけることのできる電気回路素子を、とくにその
うちの整流素子を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances,
It is an object of the present invention to provide an electric circuit element whose size can be reduced to an ultra-fine size on a molecular level by using a redox substance film as a constituent element of the electric circuit element, and in particular, to provide a rectifying element among them.

[課題を解決するための手段] ところで、生体内には、電子を定められた方向へ運ぶ
電子伝達能を有する蛋白質(以下、電子伝達蛋白質とい
う)が数種類存在しており、この電子伝達蛋白質は、た
とえば生体膜中に一定の配向性をもって埋め込まれ、分
子間で電子伝達が起こるように特異的な分子間配置をと
っている。
[Means for Solving the Problems] By the way, there are several kinds of proteins having the ability to transfer electrons in a predetermined direction in the living body (hereinafter referred to as electron transfer proteins). For example, it is embedded in a biological membrane with a certain orientation, and has a specific intermolecular arrangement so that electron transfer occurs between molecules.

この電子伝達蛋白質は、電子伝達時に酸化還元(レド
ックス)反応を伴い、各電子伝達蛋白質のレドックス電
位の負の準位から正の準位へと電子を流すことができる
ものであり、これを利用すれば電子の動きを分子レベル
で制御することができると考えられる。
This electron transfer protein involves an oxidation-reduction (redox) reaction during electron transfer, allowing electrons to flow from the negative level to the positive level of the redox potential of each electron transfer protein. It is thought that the movement of electrons can be controlled at the molecular level.

また、最近の知見によれば、生体内に存在している電
子伝達蛋白質複合体以外の電子伝達蛋白質を組み合わせ
て電子伝達が可能な電子伝達複合体を形成することが可
能であることが示されている(ネイチャ、301巻、169
頁、1983年(Nature,Vol.301,P169,1983))。
According to recent findings, it is possible to form an electron transfer complex capable of electron transfer by combining an electron transfer protein other than the electron transfer protein complex present in a living body. (Nature, volume 301, 169
1983 (Nature, Vol. 301, P169, 1983).

したがって、適当なレドックス電位を持つ電子伝達物
質を2種類(AおよびB)用い、A−Bと2層接着接合
すれば、それらのレドックス電位の差異を利用して整流
特性を生ずる接合を形成できると考えられる。本件発明
者はこのことに着目して本発明を創作したものである。
Therefore, if two types (A and B) of electron transfer materials having appropriate redox potentials are used and two layers are bonded and bonded to AB, it is possible to form a junction that produces rectification characteristics by utilizing the difference in the redox potentials. it is conceivable that. The present inventor has focused on this fact and created the present invention.

そこで本発明にかかる整流素子は、レドックス電位差
を利用して整流作用を行なう整流部と、該整流部に電気
的に接続された少なくとも一対の電極とからなる整流素
子であって、前記整流部がフラビン誘導体からなる第1
酸化還元物質膜と、ポルフィリン誘導体からなる第2酸
化還元物質膜とからなることを特徴としている。
Therefore, a rectifying element according to the present invention is a rectifying element including a rectifying unit that performs a rectifying operation using a redox potential difference, and at least a pair of electrodes electrically connected to the rectifying unit. First consisting of flavin derivative
It is characterized by comprising a redox substance film and a second redox substance film made of a porphyrin derivative.

[作 用] 本発明においては、レドックス電位の異なる少なくと
も2種類の酸化還元物質により整流特性を発生させる。
すなわち、第3A〜B図のA−B型酸化還元物質複合体の
模式図とそのレドックス電位の関係を用いて説明する
と、異なるレドックス電位を有する2つの酸化還元物質
A,Bを接合してなる複合体では、電子は、図中実線矢印
で示すようにレドックス電位の負の準位から正の準位へ
は容易に流れるが、逆方向(図中破線矢印方向)へは流
れにくく整流特性を呈し、この複合体を用いることによ
りn型半導体とp型半導体とを接合してなるp−n接合
と類似の性質を示す整流素子をえることができる。
[Operation] In the present invention, rectification characteristics are generated by at least two types of redox substances having different redox potentials.
In other words, using the schematic diagram of the AB-type redox substance complex in FIGS. 3A and 3B and the relationship between the redox potentials thereof, two redox substances having different redox potentials will be described.
In the complex formed by joining A and B, electrons easily flow from the negative level of the redox potential to the positive level as shown by the solid arrow in the figure, but in the opposite direction (the direction of the broken arrow in the figure). ), Which exhibits a rectifying characteristic and has a rectifying characteristic. By using this composite, a rectifying element having properties similar to a pn junction formed by joining an n-type semiconductor and a p-type semiconductor can be obtained.

[実施例] 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する
が、本発明は何もかかる実施例のみに限定されるもので
はない。
EXAMPLES Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to only such an example.

第1図は、本発明の一実施例の整流素子を模式的に示
す断面構成図である。第1図において、(1)は絶縁特
性をもつ基板であり、たとえばガラス、石英、SiO2など
からなる。(2a)、(2b)は一対の電極、(9)は整流
部であり、第1酸化還元物質膜(3)および第2酸化還
元物質膜(4)とからなる。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a rectifying element according to one embodiment of the present invention. In FIG. 1, (1) is a substrate having insulating properties, which is made of, for example, glass, quartz, SiO 2 or the like. (2a) and (2b) are a pair of electrodes, and (9) is a rectification unit, which is composed of a first redox material film (3) and a second redox material film (4).

本実施例における整流素子は、基材(1)上に一方の
電極(2a)を配設し、その上に第1および第2酸化還元
物質膜(3)、(4)がこの順でラングミューア・プロ
ジェット法(以下、LB法という)で製膜される。しかる
のち、もう一方の電極(2b)が第2酸化還元物質膜
(4)上に配設されることにより作成される。
In the rectifying element of the present embodiment, one electrode (2a) is provided on a base material (1), and first and second redox substance films (3) and (4) are formed thereon in this order. The film is formed by the Muir Project method (hereinafter referred to as the LB method). Thereafter, the other electrode (2b) is formed by being disposed on the second redox substance film (4).

第1および第2酸化還元物質膜(3)、(4)の製膜
をLB法で行なうのは単分子膜の累積に適しているからと
いうの理由による。しかし、製膜は何もLB法に限定され
ることなく、超薄膜が作成できるという条件を満足する
製膜法であればよく、分子線エピタキシ法(以下、MBE
法という)、CVD法も好適に用いることができる。またL
B法とMBE法とを併用して製膜してもよい。すなわち、た
とえば第1酸化還元物質膜(3)をMBE法で、第2酸化
還元物質膜(4)をLB法で製膜してもよい。
The first and second redox substance films (3) and (4) are formed by the LB method because it is suitable for accumulating a monomolecular film. However, the film formation is not limited to the LB method, but may be any film formation method that satisfies the condition that an ultrathin film can be formed. The molecular beam epitaxy method (hereinafter, MBE)
Method), a CVD method can also be suitably used. Also L
The film may be formed by using the B method and the MBE method in combination. That is, for example, the first redox substance film (3) may be formed by the MBE method, and the second redox substance film (4) may be formed by the LB method.

本実施例では、第1酸化還元物質膜(3)は、フラビ
ン誘導体分子の単分子膜の累積膜である。この単分子膜
は親水性のイソアロキサジン環部(5)と疎水性のメチ
レン鎖(6)とから構成されている。第2酸化下限物質
膜(4)は、ポルフィリン誘導体分子の単分子膜の累積
膜である。この単分子膜は、親水性のポリフィリン環部
(7)と疎水性のメチレン鎖(8)とから構成されてい
る。
In this embodiment, the first redox substance film (3) is a cumulative monomolecular film of flavin derivative molecules. This monomolecular film is composed of a hydrophilic isoalloxazine ring (5) and a hydrophobic methylene chain (6). The second oxidation lower limit substance film (4) is a cumulative film of a monomolecular film of porphyrin derivative molecules. This monomolecular film is composed of a hydrophilic porphyrin ring (7) and a hydrophobic methylene chain (8).

ここでポルフィリン誘導体は一般式(I): 一般式(II): または一般式(III): (式中、mおよびnは5〜20の整数;MはFeまたはRu;X、
YおよびZはMに対する配位子であり、Mの種類と価数
によって一般式(I)、(II)または(III)の構造を
とることができ、それぞれハロゲン原子、CO、−OCOC
H3、ピリジン、イミダゾール、P(OR1またはPR1 3
(R1はC1〜C4の低級アルキル基)を示し、XとYは同じ
でもよく、異なっていてもよい) で示されるポルフィリン金属錯体またはそれらのアルカ
リ金属塩からなっている。
Here, the porphyrin derivative has the general formula (I): General formula (II): Or the general formula (III): (Wherein m and n are integers of 5 to 20; M is Fe or Ru; X;
Y and Z are ligands for M, and can take the structure of the general formula (I), (II) or (III) depending on the kind and valence of M, and represent a halogen atom, CO, and -OCOC, respectively.
H 3, pyridine, imidazole, P (OR 1) 3 or PR 1 3
(R 1 is a C 1 -C 4 lower alkyl group), and X and Y may be the same or different.) Or a porphyrin metal complex represented by the formula:

またフラビン誘導体は一般式(IV): (式中、R1、R2は次の組合せからなる水素またはアルキ
ル基を示す。すなわち、 R1は水素または炭素数1〜5のアルキル基、 R2は炭素数15〜20のアルキル基、 または R1は炭素数6〜20のアルキル基、 R2は炭素数6〜20のアルキル基、 または R1は炭素数15〜20のアルキル基、 R2は水素もしくは炭素数1〜5のアルキル基、 またR3、R4は水素、炭素数1〜5のアルキル基、カルボ
ニル基を含む置換基、メチルチオ酢酸基またはメチルチ
オコハク酸基を示す) で示される。
The flavin derivative has the general formula (IV): (Wherein, R 1 and R 2 represent hydrogen or an alkyl group having the following combination: R 1 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 is an alkyl group having 15 to 20 carbon atoms, Or R 1 is an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, R 2 is an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, or R 1 is an alkyl group having 15 to 20 carbon atoms, R 2 is hydrogen or alkyl having 1 to 5 carbon atoms R 3 and R 4 represent hydrogen, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a substituent containing a carbonyl group, a methylthioacetic acid group or a methylthiosuccinic acid group).

R1〜R4をこのような組合せとするのは親水性および疎
水性の制御と、単分子膜中におけるイソテロキサジン環
の任意の制御と、単分子膜中におけるイソアロキサジン
環の配向の制御のしやすさのためである。
Such a combination of R 1 to R 4 facilitates control of hydrophilicity and hydrophobicity, arbitrary control of the isotexazine ring in the monolayer, and easy control of the orientation of the isoalloxazine ring in the monolayer. It is for the sake of.

ポルフィリン誘導体とフラビン誘導体のレドックス電
位差は両者の組合せにより種々の値をとりうるが、整流
素子として機能させるためにはレドックス電位差が0.05
〜1.5Vのあいだにあればよく、整流比の点より0.2〜1.2
Vのあいだにあるのが好ましく、ターンオン・ターンオ
フスピードの点より0.4〜1.0Vのあいだにあるのがとく
に好ましい。かかる条件を満足するポルフィリン誘導体
とフラビン誘導体の組合せの例としてはポリフィリン誘
導体として一般式(I)において、m=n=13、X=Y
=P(OCH3とした化合物(以下、P1化合物という)
とフラビン誘導体として一般式(IV)において、R1=R2
=C9H19、R3=R4=CH3とした化合物(以下、F1化合物と
いう)との組合せ、P1とフラビン誘導体として一般式
(IV)において、R1=R2=C9H19、R3=−CH2−S−CH2C
OOH、R4=CH3とした化合物(以下、F2化合物という)と
の組合せ、ポルフィリン誘導体として一般式(I)にお
いてm=n=13、X=Y=ピリジンとした化合物(以
下、P2化合物という)との組合せおよびP2化合物とP2化
合物との組合せなどがあげられる。レドックス電位差が
0.05V未満では実質的に整流特性がえられず、またレド
ックス電位差が1.5Vをこえると順方向での電子移動速度
が遅くなり整流性がわるくなるので好ましくない。
The redox potential difference between the porphyrin derivative and the flavin derivative can take various values depending on the combination of the two, but the redox potential difference is 0.05
It should be between ~ 1.5V, 0.2 ~ 1.2 from the point of rectification ratio
It is preferably between V and particularly preferably between 0.4 and 1.0 V in terms of turn-on and turn-off speed. An example of a combination of a porphyrin derivative and a flavin derivative that satisfies such conditions is a porphyrin derivative in the general formula (I) where m = n = 13 and X = Y
= P (OCH 3 ) 3 compound (hereinafter referred to as P1 compound)
And as a flavin derivative, in the general formula (IV), R 1 = R 2
= C 9 H 19 , a combination with a compound in which R 3 = R 4 = CH 3 (hereinafter referred to as F1 compound), and P 1 and a flavin derivative in the general formula (IV), R 1 = R 2 = C 9 H 19 , R 3 = -CH 2 -S- CH 2 C
A compound in which m = n = 13 and X = Y = pyridine in the general formula (I) as a porphyrin derivative in combination with a compound (hereinafter, referred to as an F2 compound) in which OOH and R 4 = CH 3 (hereinafter, referred to as a P2 compound) ) And a combination of a P2 compound and a P2 compound. Redox potential difference
If the voltage is less than 0.05 V, substantially no rectifying property is obtained, and if the redox potential difference exceeds 1.5 V, the electron transfer speed in the forward direction becomes slow and the rectifying property deteriorates, which is not preferable.

実施例 ポルフィリン誘導体として構造式(V): で表わされるRu−ポルフィリン金属錯体(以下、RPPHと
いう)を用い膜厚を30Å(2層)とし、フラビン誘導体
として構造式(VI): で表わされる3,10−ジノニル7,8−ジメチルイソアロキ
サジン(以下、DNIという)を用い膜厚を45Å(3層)
として整流部を形成した整流素子を作成した。このとき
のレドックス電位差は約700mV(RPPHの方が正方向)で
あった。この整流素子にDNI側電極を接地してRPPH側電
極に対して電圧を−5V〜+5Vのあいだで印加し、このと
きの電位(V)−電流(I)特性を調査した。結果を第
2図に示す。第2図より実施例の整流素子は整流特性を
有するのがわかる。
Examples Structural formula (V) as a porphyrin derivative: Using a Ru-porphyrin metal complex represented by the following formula (hereinafter referred to as RPPH) to a film thickness of 30 ° (two layers) and a structural formula (VI) as a flavin derivative: Using 3,10-dinonyl 7,8-dimethylisoalloxazine (hereinafter referred to as DNI) represented by
As a result, a rectifying element having a rectifying portion was prepared. The redox potential difference at this time was about 700 mV (RPPH was the positive direction). The DNI side electrode was grounded to this rectifying element, and a voltage was applied to the RPPH side electrode between -5V and + 5V, and the potential (V) -current (I) characteristics at this time were investigated. The results are shown in FIG. FIG. 2 shows that the rectifying element of the embodiment has rectifying characteristics.

したがって、かかる構成により分子レベルの超微細な
大きさの整流素子を実現でき、この素子を用いて高密
度、高速度化が可能な集積回路をえることができる。
Therefore, a rectifying element having an ultrafine size at the molecular level can be realized by such a configuration, and an integrated circuit capable of high density and high speed can be obtained using this element.

なお、本実施例では、第1および第2酸化還元物質膜
(3)、(4)としてそれぞれフラビン誘導体の単分子
累積膜とポリフィリン誘導体の単分子累積膜を用いて整
流部(9)を形成したが、これらの酸化還元物質膜が単
分子膜であってもよい。
In the present embodiment, a rectifying section (9) is formed by using a monomolecular cumulative film of a flavin derivative and a monomolecular cumulative film of a porphyrin derivative as the first and second redox substance films (3) and (4), respectively. However, these redox substance films may be monomolecular films.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明では相互にレドックス電
位の異なる酸化還元物質膜を用いて整流部を形成したの
で、整流素子サイズを分子レベルの超微細な大きさに近
づけることができ、この素子を用いて集積回路の高密度
化、高速度化が可能な集積回路をえることができる。
[Effects of the Invention] As described above, in the present invention, since the rectification unit is formed using the redox material films having different redox potentials, it is possible to make the rectification element size close to the ultrafine size at the molecular level. By using this element, an integrated circuit capable of increasing the density and speed of the integrated circuit can be obtained.

さらに本発明はLB法により製膜しているため基板の性
質によらず構造制御された酸化還元物質膜を容易に累積
することができるので、三次元素子としての構成が容易
となるほか、従来のSi半導体やGaAsなどの化合物半導体
素子と組合せたハイブリッド素子の構成も容易となると
いう効果も奏する。
Furthermore, since the present invention is formed by the LB method, it is possible to easily accumulate a structure-controlled oxidation-reduction material film regardless of the properties of the substrate. There is also an effect that the configuration of a hybrid device in combination with a compound semiconductor device such as a Si semiconductor or GaAs can be facilitated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例よる整流素子の断面構成図、
第2図は本発明の一実施例の電圧−電流特性を示すグラ
フ、第3A図はA−B型酸化還元物質複合体を示す模式
図、第3B図はそのレドックス電位状態を示すグラフ、第
4図は従来のMOS構成の整流素子の一例を示す断面構成
図である。 (図面の主要符号) (1):基板 (2a)、(2b):電極 (3):フラビン誘導体酸化還元膜 (4):ポルフィリン誘導体酸化還元膜 (9):整流部
FIG. 1 is a sectional configuration view of a rectifying element according to an embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a graph showing voltage-current characteristics of one embodiment of the present invention, FIG. 3A is a schematic diagram showing an AB type redox substance complex, FIG. 3B is a graph showing its redox potential state, FIG. 4 is a sectional view showing an example of a conventional MOS rectifier. (Main symbols in the drawings) (1): Substrate (2a), (2b): Electrode (3): Flavin derivative redox film (4): Porphyrin derivative redox film (9): Rectifying unit

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前田 満雄 兵庫県尼崎市塚口本町8丁目1番1号 三菱電機株式会社中央研究所内 (56)参考文献 特開 昭63−19866(JP,A) Werner Schmidt,“B luelight−Induced,F lavin−Mediated Tra nsport of Redox Eq uivalents across A rtificial Bilayer Membranes”,The Jou rnal of Membrane B iology,(アメリカ),1984,第 82巻,第2号,p.113−122 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Mitsuo Maeda 8-1-1, Tsukaguchi-Honmachi, Amagasaki-shi, Hyogo Mitsubishi Electric Corporation Central Research Laboratory (56) References JP-A-63-19866 (JP, A) Werner Schmidt, "Bluelight-Induced, Flavin-Mediated Transports of Redox Equivalents acrostics Affairs, 1984. 113-122

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】レドックス電位差を利用して整流作用を行
なう整流部と、該整流部に電気的に接続された少なくと
も一対の電極とからなる整流素子であって、前記整流部
がフラビン誘導体からなる第1酸化還元物質膜と、一般
式(I): 一般式(II): または一般式(III): (式中、mおよびnは5〜20の整数;MはFeまたはRu:X、
YおよびZはMに対する配位子であり、Mの種類と価数
によって一般式(I)、(II)または(III)の構造を
とることができ、それぞれハロゲン原子、CO、−OCOC
H3、ピリジン、イミダゾール、P(OR1、またはPR1
3(R1はC1〜C4の低級アルキル基)を示し、XとYは同
じでもよく、異なっていてもよい) で示されるポルフィリン金属錯体またはそれらのアルカ
リ金属塩であるポルフィリン誘導体からなる第2酸化還
元膜とからなることを特徴とする整流素子。
1. A rectifying element comprising a rectifying section that performs a rectifying action using a redox potential difference, and at least a pair of electrodes electrically connected to the rectifying section, wherein the rectifying section is made of a flavin derivative. A first redox substance film, and a general formula (I): General formula (II): Or the general formula (III): (Wherein m and n are integers from 5 to 20; M is Fe or Ru: X,
Y and Z are ligands for M, and can take the structure of the general formula (I), (II) or (III) depending on the kind and valence of M, and represent a halogen atom, CO, and -OCOC, respectively.
H 3 , pyridine, imidazole, P (OR 1 ) 3 , or PR 1
3 (R 1 represents a C 1 -C 4 lower alkyl group), and X and Y may be the same or different.) Or a porphyrin derivative which is an alkali metal salt thereof. A rectifying element comprising a second oxidation-reduction film.
【請求項2】前記フラビン誘導体が一般式(IV): (式中、R1、R2は次の組合せからなる水素またはアルキ
ル基を示す。すなわち、 R1は水素または炭素数1〜5のアルキル基、 R2は炭素数15〜20のアルキル基、 または R1は炭素数6〜20のアルキル基、 R2は炭素数6〜20のアルキル基、 または R1は炭素数15〜20のアルキル基、 R2は水素または炭素数1〜5のアルキル基、 またR3、R4は水素、炭素数1〜5のアルキル基、カルボ
ニル基を含む置換基、メチルチオ酢酸基またはメチルチ
オコハク酸基を示す) で示されてなる請求項1記載の整流素子。
2. The flavin derivative of the general formula (IV): (Wherein, R 1 and R 2 represent hydrogen or an alkyl group having the following combination: R 1 is hydrogen or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 is an alkyl group having 15 to 20 carbon atoms, Or R 1 is an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, R 2 is an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms, or R 1 is an alkyl group having 15 to 20 carbon atoms, R 2 is hydrogen or alkyl having 1 to 5 carbon atoms And R 3 and R 4 are hydrogen, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a substituent containing a carbonyl group, a methylthioacetic acid group or a methylthiosuccinic acid group. .
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