JP2731975B2 - Processing of photosensitive materials for photography - Google Patents

Processing of photosensitive materials for photography

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JP2731975B2
JP2731975B2 JP2244265A JP24426590A JP2731975B2 JP 2731975 B2 JP2731975 B2 JP 2731975B2 JP 2244265 A JP2244265 A JP 2244265A JP 24426590 A JP24426590 A JP 24426590A JP 2731975 B2 JP2731975 B2 JP 2731975B2
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  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 <産業上の利用分野> 本発明は、例えばネガフィルムのような撮影用感光材
料を処理する方法に関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for processing a photosensitive material for photography such as a negative film.

<従来の技術> 撮影済の撮影用感光材料に対しては、現像、漂白、漂
白定着、定着、水洗、安定等の処理がなされるが、近
年、処理液補充量および廃液量の低減、処理効率の向
上、処理装置の小型化等を目的として、狭幅の処理路を
有する処理槽を用いて処理する技術が開示されている
(特開昭62−89052号公報、同63−131138号公報、同63
−216050号公報、同64−26855号公報、特開平01−13054
8号公報等)。
<Prior Art> Photographed photosensitive materials that have been photographed are subjected to processing such as development, bleaching, bleach-fixing, fixing, washing, and stabilization. For the purpose of improving the efficiency and reducing the size of the processing apparatus, there has been disclosed a technology for processing using a processing tank having a narrow processing path (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 62-89052 and 63-131138). , Id 63
JP-216050, JP-A-64-26855, JP-A-01-13054
No. 8, etc.).

ところで撮影用感光材料の代表例であるネガフィルム
には、カメラ内におけるフィルムの搬送および位置決め
のためのパーフォレーションがフィルムの両側端部に沿
って形成されているが、このネガフィルムを処理液中で
処理する際には、処理液がパーフォレーション内を流通
する。
By the way, in a negative film, which is a typical example of a photographic photosensitive material, perforations for transporting and positioning the film in a camera are formed along both side edges of the film. During processing, the processing liquid flows through the perforations.

この場合、上述のごとき狭幅の処理路を有する処理槽
においては、狭幅処理路内での処理液の流動はほとんど
ないが、ネガフィルムの通過により処理液が流動し、そ
のパーフォレーション内を流通する。そして、このよう
にパーフォレーション内を処理液が流通することにより
処理液の流れが不規則となり、パーフォレーションの側
部近傍の画像に処理ムラが生じるという欠点がある。
In this case, in the processing tank having the narrow processing path as described above, the processing liquid hardly flows in the narrow processing path, but the processing liquid flows by passing through the negative film and flows through the perforations. I do. The flow of the processing liquid in the perforations as described above makes the flow of the processing liquid irregular, and there is a disadvantage that processing unevenness occurs in an image near the side of the perforations.

この処理ムラは、例えば現像液での処理においては現
像ムラであり、漂白液、定着液、漂白定着液での処理に
おいては脱銀ムラであり、水洗水、安定液での処理にお
いては残色ムラや残留主薬ムラである。
This processing unevenness is, for example, development unevenness in processing with a developing solution, desilvering unevenness in processing with a bleaching solution, a fixing solution, and a bleach-fixing solution, and residual color in processing with washing water and a stabilizing solution. It is unevenness and unevenness of the residual main drug.

そして、このような処理ムラは、処理槽内の処理路全
長に対する狭幅の処理路の合計長さの割合が大きいほど
顕著に生じる傾向がある。
Such processing unevenness tends to occur more remarkably as the ratio of the total length of the narrow processing paths to the total length of the processing paths in the processing tank increases.

また、処理槽内の狭幅処理路に該処理路を遮蔽する一
対のブレードのような区画部材を設置することによっ
て、処理路全長にわたり処理液の液組成勾配(濃度勾
配)を形成し、処理効率の向上、写真性の向上を図る技
術が開示されている(特開平02−130548号公報、特願平
02−155667号)。
Also, by installing a partition member such as a pair of blades for shielding the processing path in a narrow processing path in the processing tank, a liquid composition gradient (concentration gradient) of the processing liquid is formed over the entire length of the processing path. Techniques for improving efficiency and photographic properties have been disclosed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 02-130548,
02-155667).

この場合、ネガフィルムは一対のブレード間をブレー
ド表面と接触しつつ通過するが、上述のように、ネガフ
ィルムにはパーフォレーションが形成されており、その
ためブレードとの摺動抵抗が大きくなり、搬送性が低下
するという欠点がある。
In this case, the negative film passes between the pair of blades while being in contact with the blade surface. However, as described above, the negative film is formed with perforations, so that the sliding resistance with the blades is increased, and transportability is increased. Is reduced.

特に、ネガフィルムは、主に板状の先導部材(リー
ダ)に牽引されて搬送されるが、ブレードとの摺動抵抗
が大きくなると、ネガフィルムに加わる張力が大きくな
り、パーフォレーションの縁部形状が湾曲変形し、ブレ
ードとの摺動抵抗の増大を助長する結果となる。
In particular, the negative film is mainly conveyed by being pulled by a plate-shaped leading member (leader). However, when the sliding resistance with the blade increases, the tension applied to the negative film increases, and the edge shape of the perforation decreases. This results in a curved deformation, which promotes an increase in sliding resistance with the blade.

<発明が解決しようとする課題> 本発明の目的は、撮影用感光材料の処理ムラの発生を
防止し、また、さらに搬送性を向上することができる撮
影用感光材料の処理方法を提供することにある。
<Problem to be Solved by the Invention> An object of the present invention is to provide a processing method of a photosensitive material for photography capable of preventing the occurrence of processing unevenness of the photosensitive material for photography and further improving transportability. It is in.

<課題を解決するための手段> このような目的は、下記(1)の本発明により達成さ
れる。
<Means for Solving the Problems> Such an object is achieved by the present invention of the following (1).

(1)処理槽内に狭幅の処理路を有し、この狭幅の処理
路で連結された複数の処理室を有し、 処理槽内の前経路長に対する狭幅の通路の合計長が20
%以上98%未満であり、 前記狭幅の処理路に、処理路を遮蔽しうるブレードが
設置されている処理槽を用いて撮影用感光材料を処理す
るに際し、 前記撮影用感光材料は、その一方または両方の側端部
にパーフォレーションが形成されており、このパーフォ
レーションの形成密度が1画面当たり2個以内であるこ
とを特徴とする撮影用感光材料の処理方法。
(1) The processing tank has a narrow processing path, has a plurality of processing chambers connected by the narrow processing path, and the total length of the narrow path relative to the front path length in the processing tank is 20
% Or more and less than 98%, and when processing the photographic photosensitive material using a processing tank in which a blade capable of shielding the processing path is installed in the narrow processing path, the photographic photosensitive material is A method for processing a photosensitive material for photography, wherein perforations are formed at one or both side edges, and the formation density of the perforations is within two per one screen.

<作用> 本発明では、処理される撮影用感光材料は、その一方
または両方の端部に1画面当たり2個以内の形成密度で
パーフォレーションが形成されたものであるため、従来
の135サイズネガフィルム等に比べ、パーフォレーショ
ンの形成密度が小さく、よって、狭幅処理路の通過に際
しパーフォレーション内を処理液が流通することに起因
して生じる処理ムラの発生が減少する。
<Action> In the present invention, the photographic photosensitive material to be processed has perforations formed at one or both ends at a formation density of 2 or less per screen. As compared with the above, the formation density of perforations is smaller, and therefore, the occurrence of processing unevenness caused by the flow of the processing liquid in the perforations when passing through the narrow processing path is reduced.

また、狭幅処理路にこの処理路を遮蔽しうるブレード
を設置した場合でも、パーフォレーションの形成密度が
小さいため、撮影用感光材料の搬送抵抗の増大が防止さ
れる。
Further, even when a blade capable of shielding the processing path is provided in the narrow processing path, the density of perforations is low, so that an increase in the transport resistance of the photosensitive material for photography is prevented.

<発明の構成> 以下、本発明の撮影用感光材料の処理方法を添付図面
に示す好適実施例について詳細に説明する。
<Constitution of the Invention> Hereinafter, a preferred embodiment shown in the accompanying drawings will be described in detail for a method for processing a photosensitive material for photography according to the present invention.

第1図は、比較用の感光材料処理装置の構成例を示す
断面正面図である。同図に示される、感光材料処理装置
1Aは、ハウジング3Aと、該ハウジング3A内に設置された
外側槽壁材40Aと、その内側に設置された内側槽壁材50A
とで構成される処理槽2Aを有している。
FIG. 1 is a sectional front view showing a configuration example of a comparative photosensitive material processing apparatus. Photosensitive material processing device shown in the figure
1A is a housing 3A, an outer tank wall material 40A installed in the housing 3A, and an inner tank wall material 50A installed inside the housing 3A.
And a processing tank 2A composed of

ハウジング3Aは、箱型形状をなし、恒温槽としての役
割を果たすものである。即ち、ハウジング3A内には、温
水30Aが満たされ、外側槽壁材40Aを介して処理液Qを、
例えば30〜38℃程度に加温するものである。この温水30
Aの温度は、通常、30〜50℃程度とされ、目的とする処
理液の温度と等しいかまたは若干高めの温度に設定す
る。
The housing 3A has a box shape and plays a role as a thermostat. That is, the housing 3A is filled with warm water 30A, and the processing liquid Q is supplied through the outer tank wall material 40A.
For example, it is heated to about 30 to 38 ° C. This hot water 30
The temperature of A is usually about 30 to 50 ° C., and is set to be equal to or slightly higher than the temperature of the target processing solution.

なお、ハウジング3A内の温水30Aの温度を一定に保つ
ために、温水の循環が行われる。
In addition, circulation of the hot water is performed in order to keep the temperature of the hot water 30A in the housing 3A constant.

即ち、ハウジング3Aの底部には、温水30Aの給水口31A
および排水口32A形成され、ヒータ(図示せず)により
加温された温水が給水口31Aからハウジング3A内へ供給
され、供給量とほぼ同量の温水が、排水口32Aから排出
される。
That is, a water supply port 31A for hot water 30A is provided at the bottom of the housing 3A.
The hot water heated by a heater (not shown) is supplied from the water supply port 31A into the housing 3A, and approximately the same amount of hot water as the supply amount is discharged from the drain port 32A.

なお、ハウジング3Aは、例えば硬質塩化ビニル、ポリ
サルフォンのような断熱性を有する材料で構成するか、
あるいはハウジング3Aの内壁および/または外壁に石
綿、フェルト、アルミ箔、ガラスウール等の断熱材を接
合するのが好ましい。
The housing 3A is made of, for example, a material having heat insulation such as hard vinyl chloride or polysulfone,
Alternatively, a heat insulating material such as asbestos, felt, aluminum foil, glass wool, or the like is preferably bonded to the inner wall and / or outer wall of the housing 3A.

ハウジング3Aの上部には、外側槽壁材40Aが固定的ま
たは着脱自在に取付けられている。
An outer tank wall material 40A is fixedly or detachably attached to an upper portion of the housing 3A.

この外側槽壁材40Aは、その底部が円弧状に湾曲した
U字形状をなしており、その最下端は、ハウジング3Aの
底部より相当距離離間している。これにより外側槽壁材
40Aの第1図中左方と右方との温水の流通を可能として
いる。
The outer tank wall material 40A has a U-shape whose bottom is curved in an arc shape, and its lowermost end is separated from the bottom of the housing 3A by a considerable distance. This allows the outer tub wall material
The flow of warm water at the left and right sides of the 40A in FIG. 1 is enabled.

なお、外側槽壁材40Aの最下端とハウジング3Aの底部
との間に隔壁を設け、外側槽壁材40Aの第1図中左方と
右方との温水に温度差を設けることもできる。例えば、
処理槽2Aが現像槽である場合、第1図中左方(現像前半
部)の温水を右方(現像後半部)の温水より0.5〜2℃
程度高温とすることにより、現像特性を向上すること、
特に感度を若干向上することができる。
A partition may be provided between the lowermost end of the outer tub wall material 40A and the bottom of the housing 3A, and a temperature difference may be provided between the left and right hot water of the outer tub wall material 40A in FIG. For example,
When the processing tank 2A is a developing tank, the hot water on the left side (first half of the development) in FIG.
By improving the development characteristics by setting the temperature to about high,
In particular, the sensitivity can be slightly improved.

このような外側槽壁材40Aは、熱伝導性に優れ、かつ
処理液Qに対する耐薬品性を有する材料で構成されてい
るのが好ましく、例えば、ステンレス、銅または銅系合
金、ハステロイ、チタン等の金属を挙げることができ
る。
The outer tank wall material 40A is preferably made of a material having excellent thermal conductivity and having chemical resistance to the processing liquid Q. For example, stainless steel, copper or a copper-based alloy, Hastelloy, titanium, etc. Metals.

外側槽壁剤40Aの内部中央部には、内側槽壁材50Aが、
好ましくは着脱可能に挿入設置されている。これによ
り、外側槽壁材40Aの内面と内側槽壁材50Aの外面との間
に、横断面がスリット状の、すなわち、幅狭で長尺の処
理路60Aが形成される。
At the center of the inside of the outer tank wall material 40A, an inner tank wall material 50A is provided.
Preferably, it is detachably inserted and installed. Thus, a processing path 60A having a slit-shaped cross section, that is, a narrow and long processing path is formed between the inner surface of the outer tank wall material 40A and the outer surface of the inner tank wall material 50A.

第1図に示す構成例では、処理槽2A内における処理経
路のほぼ100%が狭幅の処理路60Aとなっている。
In the configuration example shown in FIG. 1, almost 100% of the processing path in the processing tank 2A is a narrow processing path 60A.

この処理路60Aのスリット幅(W)は、後述する撮影
用感光材料(以下フィルムFで代表する)の厚さとの関
係で規定することができ、通常、フィルムFの厚さの2
〜30倍程度とするのが好ましい。
The slit width (W) of the processing path 60A can be defined in relation to the thickness of a photographic photosensitive material (hereinafter, represented by a film F) described later.
It is preferably about 30 times.

例えば、フィルムFが、幅35mm、厚さ0.2mmのネガフ
ィルムの場合には、Wを0.5〜4.0mm程度とするのがよ
い。なお、処理路60Aの全域にわたってWを一定とする
のが好ましいが、処理速度の調整等のために、フィルム
Fの搬送方向下流側へ向けてWを漸増または漸減させる
こともできる。
For example, when the film F is a negative film having a width of 35 mm and a thickness of 0.2 mm, W is preferably set to about 0.5 to 4.0 mm. It is preferable that W be constant over the entire area of the processing path 60A. However, W may be gradually increased or decreased toward the downstream side in the transport direction of the film F in order to adjust the processing speed or the like.

なお、内側槽壁材50Aの下端は、後述する送りローラ
の外周面に対応する円弧状の溝55Aが形成されている。
Note that an arc-shaped groove 55A corresponding to the outer peripheral surface of a feed roller described later is formed at the lower end of the inner tank wall material 50A.

また、内側槽壁材50Aの上部には、内側槽壁材50Aを着
脱するのに用いる把手57Aが取り付けられている。例え
ば、処理槽2Aの洗浄等のメインテナンスの際には、この
把手57Aを持って内側槽壁材50Aを取り外す。
A handle 57A used for attaching and detaching the inner tank wall material 50A is attached to an upper portion of the inner tank wall material 50A. For example, during maintenance such as cleaning of the processing tank 2A, the inner tank wall material 50A is removed by holding the handle 57A.

また、内側槽壁材50Aは、処理液Qの保温性を考慮す
れば、例えば、塩化ビニル、ポリサルフォン、ポリエチ
レン、発泡ポリエチレン、発泡ポリウレタンのような断
熱性を有する材料構成するか、あるいは石綿、フエル
ト、ガラスウール、アルミ箔等の断熱材を接合するのが
好ましい。
The inner tank wall material 50A may be made of a heat-insulating material such as polyvinyl chloride, polysulfone, polyethylene, foamed polyethylene, foamed polyurethane, or asbestos, felt, etc. It is preferable to join a heat insulating material such as glass wool and aluminum foil.

外側槽壁材40Aの底部内側には、フィルムFを搬送す
るための送りローラ9Aが、第1図中前後方向に掛け渡さ
れるように設置されている。処理路60Aを下降してきた
フィルムFは、この送りローラ9Aの外周面に巻き付いて
反転し、上昇する。なお、送りローラ9Aの下部において
は、送りローラ9Aの外周面と外側槽壁材40A底部の円弧
状壁面との間に処理路60Aが形成されている。
A feed roller 9A for transporting the film F is installed inside the bottom of the outer tank wall material 40A so as to be stretched in the front-rear direction in FIG. The film F that has descended on the processing path 60A is wound around the outer peripheral surface of the feed roller 9A, is reversed, and rises. In the lower part of the feed roller 9A, a processing path 60A is formed between the outer peripheral surface of the feed roller 9A and the arc-shaped wall surface at the bottom of the outer tank wall material 40A.

また、処理槽2Aの上方のフィルム入側および出側に
は、それぞれクロスオーバローラ10Aおよび11Aが設置さ
れている。クロスオーバローラ10Aは、前工程からのフ
ィルムFを処理路60Aへ導入するためのものであり、ク
ロスオーバーローラ11Aは、処理路60Aから出たフィルム
Fを次工程へ送るためのものである。
Crossover rollers 10A and 11A are installed on the film entrance side and the film exit side above the processing tank 2A, respectively. The crossover roller 10A is for introducing the film F from the previous process to the processing path 60A, and the crossover roller 11A is for feeding the film F that has exited from the processing path 60A to the next step.

なお、前記送りローラ9A、クロスオーバローラ10Aお
よび11Aは、自由回転するローラ、駆動回転するローラ
のいずれでもよい。
The feed roller 9A and the crossover rollers 10A and 11A may be any of freely rotating rollers and drivingly rotating rollers.

感光材料処理装置1AにおけるフィルムFの搬送は、フ
ィルムFの先端を図示しないリーダーフィルムまたは先
行して処理される他のフィルムの後端に接続し、これら
のフィルムに牽引されて処理路60A内を搬送されるよう
な構成とするのが好ましい。また、フィルムF自体をロ
ーラ対(図示せず)で挟持して搬送してもよい。
In transporting the film F in the photosensitive material processing apparatus 1A, the leading end of the film F is connected to a leader film (not shown) or the trailing end of another film to be processed in advance, and the film F is pulled by these films to travel through the processing path 60A. It is preferable to be configured to be conveyed. Further, the film F itself may be conveyed while being held between a pair of rollers (not shown).

処理路60Aには、処理液Qが液面レベルLまで満たさ
れており、フィルムFの処理時には、新鮮な処理液(以
下、補充液という)が供給される。この補充液の供給
は、処理液の種類にもよるが現像液、漂白液、漂白・定
着液、定着液の場合には、処理路60AのフィルムFの入
側から行われるのが好ましい。すなわち、補充液を吐出
する給液口7Aが処理路60A上部のフィルムF入側に設置
され、一方、フィルムFの出側にはオーバーフローによ
り処理液Qを排出する排液口8Aが処理路60A上部の液面
レベルLの位置に設置され、給液口7Aより供給された補
充液はU字状の処理路60A内をフィルムFの搬送方向と
同方向に流れ(パラレルフロー)、補充量とほぼ同量の
劣化した処理液が排液口8Aから排出される。
The processing path 60A is filled with the processing liquid Q up to the liquid level L, and when processing the film F, a fresh processing liquid (hereinafter, referred to as a replenisher) is supplied. The supply of the replenisher is preferably carried out from the inlet side of the film F in the processing path 60A in the case of a developer, a bleaching solution, a bleaching / fixing solution and a fixing solution, though it depends on the type of the processing solution. That is, a liquid supply port 7A for discharging a replenisher is provided on the upper side of the processing path 60A on the film F entrance side, while a liquid discharge port 8A for discharging the processing liquid Q by overflow is provided on the output side of the film F on the processing path 60A. The replenisher supplied at the upper liquid level L and supplied from the liquid supply port 7A flows in the U-shaped processing path 60A in the same direction as the transport direction of the film F (parallel flow). Approximately the same amount of the deteriorated processing liquid is discharged from the discharge port 8A.

このように、処理液(特に、現像液)をパラレルフロ
ーとすることにより、フィルムFの感度が向上するとい
う利点がある。
As described above, there is an advantage that the sensitivity of the film F is improved by making the processing liquid (particularly, the developing liquid) a parallel flow.

なお、補充液の供給量は、現像するフィルムFの種類
やサイズ、処理路60Aの容積、処理液の組成等の条件に
より異なるが、その一例を挙げれば、カラーネガフィル
ムの場合、通常135サイズ1m当り2〜30ml程度とするの
がよい。
The supply amount of the replenisher varies depending on conditions such as the type and size of the film F to be developed, the volume of the processing path 60A, and the composition of the processing solution. For example, in the case of a color negative film, 135 m It is good to use about 2 to 30 ml.

さて、感光材料処理装置1Aにおいては、U字状の処理
路60Aの長手方向に沿って該処理路60Aを遮蔽し、複数の
部分に区画するブレード15が複数対設置されている。
Now, in the photosensitive material processing apparatus 1A, a plurality of pairs of blades 15 that shield the processing path 60A along the longitudinal direction of the U-shaped processing path 60A and divide the processing path 60A into a plurality of portions are provided.

これにより、処理路60Aは、複数の小空間61A〜69Aに
区画される。
Thus, the processing path 60A is partitioned into a plurality of small spaces 61A to 69A.

対をなすブレード15は、フィルムFの非通過時にその
先端部同士が密着するようにして外側槽壁材40Aおよび
内側槽壁材50Aに取り付けられている。そして、フィル
ムF(フィルムFがリーダ25により牽引搬送される場合
にはリーダ25)の進入によって先端部が押し広げられる
ような構成となっている。
The pair of blades 15 are attached to the outer tank wall material 40A and the inner tank wall material 50A such that the tips thereof come into close contact with each other when the film F does not pass. The leading end is pushed open by the entry of the film F (the leader 25 when the film F is towed and transported by the leader 25).

第8a図には、第1図におけるブレード15の拡大図が示
されている。このブレード15は第2図の本発明の装置に
も設けられる。
FIG. 8a shows an enlarged view of the blade 15 in FIG. This blade 15 is also provided in the apparatus of the present invention shown in FIG.

第8a図に示すように、ブレード15は、外側槽壁材40A
および内側槽壁材50A(後述する感光材料処理装置1Bの
場合には、ブロック体4g)に取り付けられる基部と、先
端に向って厚さが漸減する先端部(薄肉部)とで構成さ
れ、2枚の組み合わせで用いられる。また、ブレード15
は、第8b図に示すように、基部から先端部へ向けてその
厚さがほほ同一のものであってもよい。
As shown in FIG.8a, the blade 15 is
And a base portion attached to the inner tank wall material 50A (in the case of a photosensitive material processing apparatus 1B described later, a block body 4g), and a tip portion (thin portion) whose thickness gradually decreases toward the tip. Used in combination of sheets. Also, blade 15
As shown in FIG. 8b, the thickness may be substantially the same from the base to the tip.

このときのフィルムFの表面に対するブレード15の平
均傾斜角度は、一般に10〜70゜程度とするのがよく、特
に20〜45゜程度とするのが好ましい。
At this time, the average inclination angle of the blade 15 with respect to the surface of the film F is generally preferably about 10 to 70 °, and particularly preferably about 20 to 45 °.

また、ブレード15の基部から先端へ至る長さは、処理
路60Aの有効スリット幅(w)以上の長さとすればよい
が、一般にはこの2〜20倍の10〜50mmとするのが好まし
く、特に好ましくは3〜10倍の15〜25mmとするのがよ
い。
The length from the base to the tip of the blade 15 may be equal to or longer than the effective slit width (w) of the processing path 60A. Particularly preferably, it is 15 to 25 mm which is 3 to 10 times.

そして、対向して設置した1対のブレード15における
フィルムFの非通過時でのブレード15の先端部同士の重
なり部分の長さは、1〜10mm程度、特に2〜5mm程度と
するのがよい。
The length of the overlapping portion between the tips of the blades 15 when the film F is not passing through the pair of blades 15 installed opposite to each other is preferably about 1 to 10 mm, particularly about 2 to 5 mm. .

また、ブレード15の先端部の厚さは、ブレード15の長
さの1/100以上あるいは0.5mm以上とすればよく、特に、
1〜1.5mmとすればよい。
Also, the thickness of the tip of the blade 15 may be 1/100 or more of the length of the blade 15 or 0.5 mm or more.
It may be 1 to 1.5 mm.

ブレード15同士の接触面圧は、0.001〜0.1kg/cm2
度、特に0.005〜0.02kg/cm2程度とするのが好ましい。
The contact surface pressure between the blades 15 is preferably about 0.001 to 0.1 kg / cm 2 , particularly preferably about 0.005 to 0.02 kg / cm 2 .

以上のような条件とすることにより、フィルムFの非
通過時におけるブレード15の先端部同士の密着性が確保
され、処理液Qの流通を有効に遮断することができる。
また、フィルムFの通過時の処理液Qの流通もごくわず
かなものとすることができる。
With the above conditions, the adhesiveness between the tips of the blades 15 when the film F does not pass is ensured, and the flow of the processing liquid Q can be effectively blocked.
Further, the flow of the processing liquid Q when passing through the film F can be made very small.

ブレード15の材質は、処理液に悪影響を及ぼさないも
のであればよく、例えば天然ゴム、クロロプレンゴム、
ニトリルゴム、ブチルゴム、フッ素ゴム、イソプレンゴ
ム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、エチレ
ンプロピレンゴム、ネオプレンゴム、ネオプレンブタジ
エンゴム、シリコンゴム等の各種ゴム、軟質ポリ塩化ビ
ニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマー樹
脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド等の軟質
樹脂等の弾性材料が挙げられ、また、ラバロン、サーモ
ラン、エラストラン、ハイトレル、サンプレーン等のエ
ラストマーを用いることもできる。
The material of the blade 15 may be any material that does not adversely affect the processing liquid, for example, natural rubber, chloroprene rubber,
Various rubbers such as nitrile rubber, butyl rubber, fluoro rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, styrene butadiene rubber, ethylene propylene rubber, neoprene rubber, neoprene butadiene rubber, silicone rubber, soft polyvinyl chloride, polyethylene, polypropylene, ionomer resin, fluoro resin And elastic materials such as soft resins such as silicone resins and polyamides. Elastomers such as Lavalon, Thermolan, Elastoran, Hytrel, and Sunplane can also be used.

なお、通常、ブレード15同士の密着力は、ブレードの
弾性力により与えられているが、ブレード15の先端部内
に磁性材料を配合し(例えば、ゴム磁石のようなも
の)、先端部同士を磁力により吸引させて密着力を与
え、または高めることも可能である。
Normally, the adhesion between the blades 15 is given by the elastic force of the blades. However, a magnetic material is blended in the tip of the blade 15 (for example, a rubber magnet), and It is also possible to give or increase the adhesion by sucking.

また、フィルムFがブレード15と摺動しても、乳剤面
のキズ付き等の悪影響はほとんど生じないが、これが無
視できない場合、または、摺動抵抗の減少を図る場合に
は、ブレード15の内側面に平滑化処理を施し、または内
側面にシリコーン、テフロン等の潤滑剤をコーティング
する等の表面処理を施すことで対応すればよい。
Even if the film F slides on the blade 15, there is almost no adverse effect such as scratches on the emulsion surface, but if this cannot be ignored, or if the sliding resistance is to be reduced, the inner side of the blade 15 will not be used. A countermeasure may be taken by performing a smoothing treatment on the side surface or a surface treatment such as coating a lubricant such as silicone or Teflon on the inner surface.

また、ブレード15は、対をなすものに限らず、第8c図
に示すように、一片のブレードの基部が槽壁材40Aまた
は50Aのいずれか一方に固着され、そのブレード15の先
端部が他方の壁材に密着するような構成であってもよ
い。
In addition, the blade 15 is not limited to a pair, and as shown in FIG. 8c, the base of one blade is fixed to one of the tank wall materials 40A or 50A, and the tip of the blade 15 is the other. May be configured to be in close contact with the wall material.

また、第8d図に示すように、ブレード固着側と反対側
の槽壁材が処理路60A内に突出し、この突出部45にブレ
ード15の先端部が密着するような構成とすることもでき
る。この構成では、前記第8c図に示す構成に比べ、フィ
ルムFの摺動抵抗が小さくなる。
Further, as shown in FIG. 8d, it is also possible to adopt a configuration in which the tank wall material on the side opposite to the blade fixing side protrudes into the processing path 60A, and the tip of the blade 15 comes into close contact with the protruding portion 45. In this configuration, the sliding resistance of the film F is smaller than the configuration shown in FIG. 8c.

なお、第8c図および第8d図に示す構成では、フィルム
Fの乳剤槽がブレード15と接触するようにフィルムFを
搬送するのが好ましい。
In the structure shown in FIGS. 8c and 8d, it is preferable to transport the film F so that the emulsion tank of the film F comes into contact with the blade 15.

このようなブレード15を設けたことにより、次のよう
な作用、効果が生じる。
By providing such a blade 15, the following operations and effects are produced.

フィルムFの処理時には、前述のごとく補充液の供給
量とほぼ同量の処理液Qが処理路60A内を小空間61Aから
69Aへ向けて順次流れるが、その逆方向への流れは阻止
される。
At the time of processing the film F, as described above, the processing liquid Q having substantially the same amount as the supply amount of the replenisher flows through the processing path 60A from the small space 61A.
It flows sequentially to 69A, but the flow in the opposite direction is blocked.

従って、長尺処理路60A内の処理液Qは、液組成勾配
が確実に形成され、持維される。すなわち、給液口7Aの
ある小空間61A内の処理液が最も新鮮であり、以後の小
空間62A〜68Aにおいて順次劣化の度合が高まり、排液口
8Aのある小空間69A内の処理液が最も劣化したものとな
る。
Therefore, the processing liquid Q in the long processing path 60A is reliably formed and maintained in the liquid composition gradient. That is, the processing liquid in the small space 61A having the liquid supply port 7A is the freshest, and the degree of deterioration sequentially increases in the subsequent small spaces 62A to 68A.
The processing liquid in the small space 69A with 8A is the most deteriorated.

また、ブレード15がフィルムFの表面に接触し、付着
した液を拭い取る効果(以下、スクイズ効果という)を
生じる。
Further, the blade 15 comes into contact with the surface of the film F, and an effect of wiping off the adhering liquid (hereinafter, referred to as a squeeze effect) is generated.

このように処理路60Aにおいて、液組成勾配が形成さ
れることおよびブレード15のスクイズ効果により、フィ
ルムFの処理効率が向上し、特に感度が高くなる。
As described above, the processing efficiency of the film F is improved by the formation of the liquid composition gradient and the squeezing effect of the blade 15 in the processing path 60A, and the sensitivity is particularly increased.

また、処理効率が向上するため、補充液の補充量が低
減する。
Further, since the processing efficiency is improved, the replenishment amount of the replenisher is reduced.

フィルムFの処理が終了した後は補充液の供給は停止
されるため、隣接する小空間同士の処理液Qの流通は、
ブレードにより遮断される。
Since the supply of the replenisher is stopped after the processing of the film F is completed, the flow of the processing liquid Q between the adjacent small spaces becomes
Blocked by blade.

これにより、各小空間61A〜69A内の処理液Qは、前記
と同様の液組成勾配を有する状態となり、この状態は、
処理終了後、長期間(例えば、10分〜50時間)継続す
る。
Thus, the processing liquid Q in each of the small spaces 61A to 69A has a liquid composition gradient similar to the above, and this state is as follows.
After the processing is completed, the processing is continued for a long time (for example, 10 minutes to 50 hours).

従って、次回フィルムFの処理を行う際に、処理路60
A内の処理液Qに既に液組成勾配が形成されているた
め、即時に処理を行っても、そのフィルムFは、写真
性、特に感度の高いものとなる。
Therefore, when processing the film F next time, the processing path 60
Since a solution composition gradient has already been formed in the processing solution Q in A, even if processing is performed immediately, the film F has high photographic properties, particularly high sensitivity.

なお、処理路60Aを遮蔽するものとしては、ブレード1
5を用いるのが遮蔽効果が高く好ましいが、これに限ら
ず、他の構成の遮蔽手段を用いてもよい。
Note that the blade 1 is used to shield the processing path 60A.
Although the use of 5 is preferred because of its high shielding effect, the invention is not limited to this, and another configuration of the shielding means may be used.

また、本発明では、ブレード15に代表される遮蔽手段
を全く設けなくてもよい。
Further, in the present invention, there is no need to provide any shielding means represented by the blade 15.

第2図は、本発明を実施するための感光材料処理装
置、特に脱銀処理を行う装置の構成例を示す断面側面
図、第3図は、第2図中のIII−III線での断面図、第4
図は、第2図の感光材料処理装置における通路付近の構
成を示す斜視図である。これらの図に示す感光材料処理
装置1Bは、漂白処理、漂白定着処理および定着処理を1
つの処理層で行なうことができる装置である。
FIG. 2 is a cross-sectional side view showing a configuration example of a photosensitive material processing apparatus for performing the present invention, in particular, an apparatus for performing a desilvering process. FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. Figure, 4th
FIG. 2 is a perspective view showing a configuration near a passage in the photosensitive material processing apparatus of FIG. The photosensitive material processing apparatus 1B shown in these figures performs bleaching, bleach-fixing, and fixing.
It is a device that can be performed with one processing layer.

第2図に示すように、感光材料処理装置1Bは、所定の
容積を有する縦長の処理槽2を有する。この処理槽2内
には、ラック3が着脱自在に装填される。このラック3
は、1対の側板31、32を有し、これらの側板間には数個
のブロック状の部材(以下、ブロック体という)4a〜4o
が固定的に設置されている。
As shown in FIG. 2, the photosensitive material processing apparatus 1B has a vertically long processing tank 2 having a predetermined volume. A rack 3 is detachably loaded into the processing tank 2. This rack 3
Has a pair of side plates 31, 32, and between these side plates, several block-shaped members (hereinafter, referred to as block bodies) 4a to 4o
Is fixedly installed.

このようなブロック体4a〜4oにより、フィルムFを処
理するための空間である5つの処理液6A、6B、6C、6Dお
よび6Eが形成される。
The block bodies 4a to 4o form five processing liquids 6A, 6B, 6C, 6D and 6E which are spaces for processing the film F.

また、上下に隣接する処理室6Aと6B、6Bと6C、6Cと6D
および6Dと6Eとの間には、両処理室を連結する狭幅の処
理路である通路71、72、73および74が形成されており、
処理室6Aおよび6Eの上部には、それぞれ、フィルムFを
搬入および搬出するための同様の通路75および76が形成
されている。
In addition, vertically adjacent processing chambers 6A and 6B, 6B and 6C, 6C and 6D
And between 6D and 6E, passages 71, 72, 73 and 74, which are narrow processing paths connecting the two processing chambers, are formed,
Similar passages 75 and 76 for carrying in and out the film F are formed in the upper portions of the processing chambers 6A and 6E, respectively.

ブロック体4aおよび4bは、後述する仕切部材17の両面
にそれぞれ設置された縦長の部材である。
The blocks 4a and 4b are vertically long members provided on both surfaces of a partition member 17 described later.

ブロック体4cおよび4dは、それぞれ、ブロック体4aお
よび4bの上部との間で通路75および76を形成するととも
に、後述するスプロケット8へのリーダ25の係合を維持
するようにリーダ25の位置を規制するための部材であ
る。
The blocks 4c and 4d form passages 75 and 76 respectively with the upper portions of the blocks 4a and 4b, and position the leader 25 so as to maintain the engagement of the leader 25 with the sprocket 8 described below. It is a member for regulating.

ブロック体4gおよび4kは、それぞれ、ブロック体4aに
形成された凹部42に着脱自在に嵌合される部材であり、
その内部にはそれぞれ通路71および72が形成されてい
る。
The block bodies 4g and 4k are members that are removably fitted to the concave portions 42 formed in the block body 4a, respectively.
Passages 71 and 72 are formed therein, respectively.

また、ブロック体4hおよび4lも、それぞれ、ブロック
体4bに形成された凹部42に着脱自在に嵌合される部材で
あり、その内部には、それぞれ、通路74および73が形成
されている。
The blocks 4h and 4l are also members that are removably fitted into the recesses 42 formed in the block 4b, and have passages 74 and 73 formed therein, respectively.

なお、これらのブロック体4g、4k、4hおよび4lの処理
槽2の内壁と接触する部位には、後述するブレード15と
同様の材料で構成されるシール部材11が固着されてい
る。
A seal member 11 made of the same material as a blade 15 described later is fixed to a portion of each of the blocks 4g, 4k, 4h, and 4l that comes into contact with the inner wall of the processing tank 2.

ブロック体4eは、リーダ25が処理室6Aから通路71内に
移行する際に、リーダ25を通路71の入口に導くガイドの
役割を果す部材である。
The block body 4e is a member serving as a guide for guiding the leader 25 to the entrance of the passage 71 when the leader 25 moves from the processing chamber 6A into the passage 71.

ブロック体4fは、通路74を出たリーダ25を処理室6E内
の後述するガイド9とノズル54との間に導くガイドの役
割を果す部材である。
The block body 4f is a member serving as a guide for guiding the reader 25 that has exited the passage 74 between a guide 9 described later and the nozzle 54 in the processing chamber 6E.

ブロック体4iおよび4jは、それぞれ、スプロケット8
へのリーダ25の係合を維持するようにリーダ25の位置を
規制するための部材である。
Each of the blocks 4i and 4j is a sprocket 8
This is a member for regulating the position of the reader 25 so as to maintain the engagement of the reader 25 with the reader 25.

ブロック体4m、4nおよび4oは、ブロック体4cおよび4d
の下端との間で処理室6Cを形成するとともに、処理室6C
内におけるリーダ25のU字状の搬送経路を規制するガイ
ドの役割を果す部材である。このうち、ブロック体4o
は、リーダ25を反転せさせる湾曲面44を有している。こ
の湾曲面44は、スプロケット8へのリーダ25の係合を維
持するようにリーダ25の位置を規制する役割をも果して
いる。
Blocks 4m, 4n and 4o are blocks 4c and 4d
A processing chamber 6C is formed with the lower end of the processing chamber 6C.
A member serving as a guide for regulating the U-shaped transport path of the reader 25 in the inside. Among them, block body 4o
Has a curved surface 44 for turning the reader 25 upside down. The curved surface 44 also serves to regulate the position of the leader 25 so as to maintain the engagement of the leader 25 with the sprocket 8.

これらのブロック体4a〜4oは、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネー
ト、ポリフェニレンオキサイド(PPO)、ABS樹脂、フェ
ノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂等の
プラスチック、アルミナ等のセラミックスまたはステン
レス、チタン等の各種金属等の硬質材料で構成されてい
る。特に、成形性に優れ、軽量で、十分な強度を有する
という点から、ポリプロピレン、PPO、ABS樹脂等のプラ
スチックスで構成されているのが好ましい。
These block bodies 4a to 4o are made of, for example, plastics such as polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polycarbonate, polyphenylene oxide (PPO), ABS resin, phenolic resin, polyester resin, polyurethane resin, ceramics such as alumina, stainless steel, and titanium. And other hard materials such as metals. In particular, it is preferable to be made of plastics such as polypropylene, PPO, ABS resin, etc. from the viewpoint of excellent moldability, light weight and sufficient strength.

なお、図示の例では、各ブロック体4a〜4oは中実部材
となっているが、中空部材(例えばブロー成形により製
造される)として構成してもよい。
In the illustrated example, each of the block bodies 4a to 4o is a solid member, but may be configured as a hollow member (for example, manufactured by blow molding).

各処理室6A〜6Eには、後述する所定の処理液が満たさ
れている(図示省略)。
Each of the processing chambers 6A to 6E is filled with a predetermined processing liquid described later (not shown).

図示の構成において、処理室一室当たりの容積は20〜
3000ml程度とすればよく、20〜500ml程度の小容量とす
ることもできる。
In the illustrated configuration, the volume per processing chamber is 20 to
The volume may be about 3000 ml, and may be as small as about 20-500 ml.

通路71〜76の幅(有効スリット幅W)は、リーダ25の
厚さの5〜50倍程度とするのが好ましい。
The width of the passages 71 to 76 (effective slit width W) is preferably about 5 to 50 times the thickness of the reader 25.

このような幅とすることによって、リーダ25およびフ
ィルムFは支障なく搬送される。
With such a width, the reader 25 and the film F can be transported without any trouble.

本発明では、狭幅の通路71〜76の合計長さが処理槽2
内の処理経路全長の20%以上、特に40%以上を占めるも
のが対象とされている。その理由は、20%未満である
と、狭幅の通路71〜76内で処理される時間の比率が小さ
く、従来のフィルムを処理した場合でも、本発明が解決
すべき課題である処理ムラが本来生じないからである。
In the present invention, the total length of the narrow passages 71 to 76 is
Those that account for 20% or more, especially 40% or more of the total length of the processing routes within the target are targeted. The reason is that if it is less than 20%, the ratio of time to be processed in the narrow passages 71 to 76 is small, and even when a conventional film is processed, the processing unevenness which is a problem to be solved by the present invention is reduced. This is because it does not occur originally.

各通路71〜74には、図示のように、1対のブレード15
が設置されている。
Each passage 71-74 has a pair of blades 15 as shown.
Is installed.

このブレード15は、前記と同様のものであり、リーダ
25およびフィルムFの非通過時にその先端部同士が密着
するようにしてブロック体4g、4k、4hおよび4lに取り付
けられている。
This blade 15 is the same as described above,
It is attached to the blocks 4g, 4k, 4h and 4l such that the tips of the film 25 and the film F do not pass when they do not pass through.

この場合、各ブロック体4g、4k、4hおよび4lに別部材
のブレード15を取り付けてもよいが、各ブロック体4g、
4k、4hおよび4lとブレード15とを例えば2色成形やイン
サート成形により一体的に形成することもできる。
In this case, a separate member 15 may be attached to each block 4g, 4k, 4h and 4l, but each block 4g,
The blades 15 and 4k, 4h, and 4l can be integrally formed by, for example, two-color molding or insert molding.

また、前記シール部材11についても、ブロック体4g、
4k、4hおよび4lとシール部材11とを例えば2色成形やイ
ンサート成形により一体的に形成してもよい。
The sealing member 11 also has a block body 4g,
4k, 4h and 4l and the seal member 11 may be integrally formed by, for example, two-color molding or insert molding.

なお、図示の例では、ブレード15は、各通路71〜74に
1対づつ設置されているが、1つの通路に対し、2対以
上のブレード15を設置してもよい。この場合には、通路
71〜74の遮蔽効果やスクイズ効果がより大きくなり、補
充量のさらなる低減が図れる。
In the illustrated example, one pair of blades 15 is installed in each of the passages 71 to 74. However, two or more pairs of blades 15 may be installed in one passage. In this case, the passage
The shielding effect and squeeze effect of 71 to 74 are further increased, and the replenishment amount can be further reduced.

また、感光材料処理装置1Bにおいても、前記と同様、
ブレード15に代わる遮蔽手段を設けてもよく、または、
このような遮蔽手段を全く設けなくてもよい。
Also, in the photosensitive material processing apparatus 1B, as described above,
A shielding means may be provided instead of the blade 15, or
It is not necessary to provide such a shielding means at all.

このような感光材料処理装置1Bには、フィルムFを各
処理室6A〜6E内に順次通過させるように搬送する搬送手
段が設けられている。
Such a photosensitive material processing apparatus 1B is provided with a transport means for transporting the film F so as to sequentially pass through the processing chambers 6A to 6E.

第2図および第4図示すように、処理室6A〜6E内に
は、それぞれスプロケット8が設置されている。
As shown in FIGS. 2 and 4, sprockets 8 are installed in the processing chambers 6A to 6E, respectively.

これらの各スプロケット8は、その回転軸81にて側板
31、32に軸支されており、各処理室のフィルム幅方向の
ほぼ中央部に位置している。
Each of these sprockets 8 has a side plate
It is pivotally supported by 31 and 32, and is located substantially at the center of each processing chamber in the film width direction.

なお、処理室6A、6B、6Dおよび6E内に設置されたスプ
ロケット8は、ブロック体4aおよび4bに形成された切欠
溝43内に収納され、その一部が処理室6A、6B、6Dおよび
6E内に露出している。
The sprockets 8 installed in the processing chambers 6A, 6B, 6D and 6E are housed in cutout grooves 43 formed in the block bodies 4a and 4b, and a part of the sprockets 8 is processed in the processing chambers 6A, 6B, 6D and 6E.
Exposed inside 6E.

スプロケット8の駆動機構は、第3図に示すように、
図中垂直方向に延在する主軸82の所定箇所に固定された
ベベルギア83と、スプロケット8の回転軸81の一端部に
固定されたベベルギア84とが噛合し、モータ等の駆動源
(図示せず)の作動で主軸82を所定方向に回転すること
により、スプロケット8が回転するようになっている。
The drive mechanism of the sprocket 8 is as shown in FIG.
A bevel gear 83 fixed to a predetermined position of a main shaft 82 extending in the vertical direction in the figure and a bevel gear 84 fixed to one end of the rotating shaft 81 of the sprocket 8 mesh with each other, and a driving source such as a motor (not shown) By rotating the main shaft 82 in a predetermined direction by the operation (2), the sprocket 8 is rotated.

スプロケット8の構成材料は、耐久性、処理液に対す
る耐薬品性を有するものであるのが好ましく、例えば、
硬質ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエチレン、
ABS樹脂、PPO、ナイロン、ポリアセタール(POM)、フ
ェノール樹脂、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポ
リエーテルスルホン(PES)、ポリエーテルエーテルケ
トン(PEEK)、テフロン等の各種樹脂、アルミナ等のセ
ラミックス、ステンレス、チタン、ハステロイ等の耐食
性を有する金属類、またはこれらを組み合わせたものを
挙げることができる。
The constituent material of the sprocket 8 is preferably one having durability and chemical resistance to the processing liquid.
Rigid polyvinyl chloride, polypropylene, polyethylene,
Various resins such as ABS resin, PPO, nylon, polyacetal (POM), phenolic resin, polyphenylene sulfide (PPS), polyether sulfone (PES), polyether ether ketone (PEEK), Teflon, ceramics such as alumina, stainless steel, titanium , Hastelloy or other metals having corrosion resistance, or a combination thereof.

第5図に示すように、回転軸81のスプロケット8両側
端部には、回転軸81に対し自由回転するローラ85が設置
されている。
As shown in FIG. 5, rollers 85 that freely rotate with respect to the rotation shaft 81 are provided at both ends of the sprocket 8 of the rotation shaft 81.

このローラ85は、リーダ25に接続されたフィルムを案
内するためのものであり、そのフィルム幅方向中央部が
くびれたいわゆるつづみ形状をなしている。
The roller 85 is for guiding a film connected to the reader 25, and has a so-called conical shape in which a central portion in the film width direction is narrowed.

また、ブロック体4mおよび4nの近傍には、それぞれ、
フィルムFの裏面と接触して自由回転する前記ローラ85
と同様のローラ10が設置されている。
In the vicinity of the block bodies 4m and 4n,
The roller 85 that freely rotates in contact with the back surface of the film F
A roller 10 similar to the above is installed.

このようなローラ85および10を設けることにより、フ
ィルムFの搬送性が向上する。
By providing such rollers 85 and 10, the transportability of the film F is improved.

なお、ローラ85および10は、必要に応じ設置されるも
ので、その全部または一部の設置を省略してもよい。
The rollers 85 and 10 are provided as needed, and all or a part of the rollers may be omitted.

処理室6A、6B、6Dおよび6E内のスプロケット8と通路
71〜74との間には、リーダ25を案内するとともに、フィ
ルムFの搬送経路を規制するガイド9が設置されてい
る。
Sprocket 8 and passage in processing chambers 6A, 6B, 6D and 6E
A guide 9 that guides the reader 25 and regulates the transport path of the film F is provided between 71 and 74.

このガイド9は、上記ブロック体と同様の材料で構成
された板状の部材であり、ガイドを貫通する開口91がほ
ぼ均一に形成されている。
The guide 9 is a plate-like member made of the same material as that of the above-mentioned block body, and an opening 91 passing through the guide is formed substantially uniformly.

これにより処理液の流通が可能となり、処理室内での
液の循環が促進されるため、処理効率が向上する。
Thus, the processing liquid can be circulated and the circulation of the liquid in the processing chamber is promoted, so that the processing efficiency is improved.

なお、ガイド9は、リーダ25の搬送性に支障をきたさ
ない限り、搬送経路に沿って部分的に設けてもよく、ま
た、設置しなくてもよい。
Note that the guide 9 may be provided partially along the transport path, or may not be installed, as long as the transportability of the reader 25 is not hindered.

また、通路75の上方には、リーダ25を通路75内に導入
するガイド92が設置され、通路76の上方には、通路76を
通過したリーダ25を処理槽2外へ送り出すガイド93が設
置されている。これらのガイド92および93には、処理槽
2と隣接する処理槽等とのクロスオーバーを円滑に行な
うことができるように、湾曲面94および95が形成されて
いる。
A guide 92 for introducing the reader 25 into the passage 75 is provided above the passage 75, and a guide 93 for sending the reader 25 passing through the passage 76 to the outside of the processing tank 2 is provided above the passage 76. ing. Curved surfaces 94 and 95 are formed on these guides 92 and 93 so that crossover between the processing tank 2 and an adjacent processing tank or the like can be performed smoothly.

このようなガイド9、92および93、前記スプロケット
8およびその駆動系、ローラ85および10によりフィルム
Fの搬送手段が構成される。
The guides 9, 92 and 93, the sprocket 8 and its driving system, and the rollers 85 and 10 constitute a transport means for the film F.

リーダ25は、例えばポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリアセタール等で構
成される板状の部材である。このリーダ25は、処理槽2
内の湾曲した部分(湾曲面94、44、95)に沿って搬送さ
れるため、ある程度の可撓性を有するものが好ましい。
The reader 25 is, for example, polyethylene, polypropylene,
It is a plate-shaped member made of polyester, polyvinyl chloride, polyacetal, or the like. This reader 25 is a processing tank 2
Since it is conveyed along the curved portions (curved surfaces 94, 44, 95) in the inside, those having a certain degree of flexibility are preferable.

第4図に示すように、リーダ25の幅方向の中央部付近
には、方形の係止孔26がリーダ25の長手方向に沿って等
間隔で形成されている。この係止孔26は、スプロケット
8の歯が挿入されるためのものである。
As shown in FIG. 4, near the center of the leader 25 in the width direction, rectangular locking holes 26 are formed at equal intervals along the longitudinal direction of the leader 25. The locking holes 26 are for inserting the teeth of the sprocket 8.

リーダ25の後端には、2本のフィルムFが並列に接続
されている。リーダ25の後端をフィルムFとの接続は、
例えば、これらを粘着テープ(スプライステープ)27で
貼ることにより行われる。この場合、フィルムFの脱落
防止のため、粘着テープ27は、フィルムFの両面に貼着
するのが好ましい。
At the rear end of the reader 25, two films F are connected in parallel. The connection of the rear end of the reader 25 to the film F
For example, it is performed by sticking them with an adhesive tape (splice tape) 27. In this case, it is preferable that the adhesive tape 27 be adhered to both sides of the film F in order to prevent the film F from falling off.

また、リーダ25の先端部両側端には、リーダ25の通過
を容易にするために、傾斜した切欠部28が形成されてい
る。
In addition, an inclined cutout portion 28 is formed at both ends of the distal end portion of the reader 25 to facilitate the passage of the reader 25.

なお、リーダ25の後端に接続するフィルムFの本数は
特に限定されず、1本のフィルムFを接続して搬送して
もよい。
The number of the films F connected to the rear end of the reader 25 is not particularly limited, and one film F may be connected and transported.

このようなリーダ25は、処理槽2内を通過する間、そ
の係止孔26がいずれかのスプロケット8と係止している
必要がある。従って、リーダ25の全長は、搬送経路に沿
って隣接するスプロケット8の設置間隔の最大値より長
いものとされる。
Such a leader 25 needs to have its locking hole 26 locked with any of the sprockets 8 while passing through the processing tank 2. Therefore, the total length of the leader 25 is set to be longer than the maximum value of the installation interval of the adjacent sprockets 8 along the transport path.

このように、感光材料処理装置1Bでは、フィルムFを
直接搬送するのではなく、リーダ25を先行させ、このリ
ーダ25でフィルムFを牽引して搬送するので、フィルム
Fのジャミングが生じ難く、また、ローラとの接触によ
るフィルム乳剤面のキズ付き、転写跡、汚れ等の官能欠
点の発生が防止される。
As described above, in the photosensitive material processing apparatus 1B, the film F is not directly conveyed, but the leader 25 is advanced, and the film F is pulled and conveyed by the leader 25. In addition, the occurrence of sensory defects such as scratches on the film emulsion surface, transfer marks, and stains due to contact with the roller is prevented.

このような感光材料処理装置1Bでは、以下に述べるよ
うな処理液供給手段が設置されている。
In such a photosensitive material processing apparatus 1B, a processing liquid supply unit as described below is provided.

この処理液供給手段は、機能の異なる2種以上の処理
液をそれぞれ異なる処理室へ供給して処理するものであ
る。
The processing liquid supply means supplies two or more types of processing liquids having different functions to different processing chambers for processing.

処理室6Aの上方のブロック体4aには、一端が通路75へ
連通する給液路12が形成されている。
The block body 4a above the processing chamber 6A is formed with a liquid supply passage 12 having one end communicating with the passage 75.

また、処理室6Eの上方のブロック体4bにも、一端が76
へ連通する給液路13が形成されている。
Also, one end of the block 4b above the processing chamber 6E is 76
A liquid supply passage 13 communicating with the liquid supply passage 13 is formed.

これらの給液路12および13は、ラック3を処理槽2に
装填した状態で、処理槽2の側壁21を貫通する2本の給
液管(図示せず)にそれぞれ接続されるようになってい
る。
These liquid supply paths 12 and 13 are connected to two liquid supply pipes (not shown) penetrating the side wall 21 of the processing tank 2 in a state where the rack 3 is loaded in the processing tank 2. ing.

また、フィルムFが最初に通過する処理室6Aおよび最
後に通過する処理室6E以外の処理室、すなわち処理室6C
に処理槽2の側壁21を貫通する排液管14の一端が設置さ
れている。
Processing chambers other than the processing chamber 6A through which the film F first passes and the processing chamber 6E through which the film F passes last, ie, the processing chamber 6C
One end of a drain pipe 14 penetrating through the side wall 21 of the processing tank 2 is provided.

この排液管14の他端は、処理槽2内における液面レベ
ルを設定する高さ位置に設置される。
The other end of the drain pipe 14 is installed at a height position for setting a liquid level in the processing tank 2.

給液路12からは漂白液(補充液)R1が供給され、給液
路13からは定着液(補充液)R2が供給される。
A bleaching solution (replenishing solution) R 1 is supplied from the liquid supply channel 12, and a fixing solution (replenishing solution) R 2 is supplied from the liquid supply channel 13.

給液路12より供給された漂白液R1は、処理中に、処理
室6A、通路71、処理室6B、通路72を順次通過して処理室
6Cに流入する。一方、給液路13より供給された定着液R2
は、処理中に、処理室6E、通路74、処理室6D、通路73を
順次通過して処理室6Cに流入する。
Bleach R 1 supplied from the supply fluid channel 12, during the processing, the processing chamber 6A, passage 71, the processing chamber 6B, sequentially passes through the processing chamber a passage 72
Flow into 6C. On the other hand, the fixing liquid R 2 supplied from the liquid supply path 13
During the processing, flows into the processing chamber 6C through the processing chamber 6E, the passage 74, the processing chamber 6D, and the passage 73 sequentially.

このようにして処理室6Cに流入した漂白液R1および定
着液R2は、処理室6C内で混合、攪拌されて漂白定着液R3
となり、疲労した漂白定着液R3が排液管14からオーバー
フローにより外部に排出される。
Bleach R 1 and fixer R 2 has flowed this way the processing chamber 6C, the process chamber mixed in 6C, the bleach-fixing solution R 3 are stirred
Next, fatigue bleach-fixing solution R 3 is discharged to the outside by the overflow from the drain pipe 14.

この場合、処理中に、漂白液R1はフィルムFの搬送方
向と同方向(パラレルフロー)の流れとなり、定着液R2
はフィルムFの搬送方向と逆方向(カウンターフロー)
の流れとなる。
In this case, during processing, the bleaching solution R 1 flows in the same direction (parallel flow) as the transport direction of the film F, and the fixing solution R 2
Is the direction opposite to the transport direction of the film F (counter flow)
It becomes the flow of.

また、感光材料処理装置1Bでは、以下に述べるような
処理液循環手段5が設置されている。
In the photosensitive material processing apparatus 1B, a processing liquid circulating means 5 described below is provided.

第7図に示すように、各処理室6A〜6Eには、両端が処
理槽2の側壁21を貫通して処理室に連通する管路5A〜5E
が接続されている。
As shown in FIG. 7, each of the processing chambers 6A to 6E has pipes 5A to 5E whose both ends pass through the side wall 21 of the processing tank 2 and communicate with the processing chamber.
Is connected.

また、管路5A〜5Eの途中には、それぞれ、送液用のポ
ンプ51A〜51Eおよび処理液を加温するヒータ52A〜52Eが
設置されている。
In the middle of the pipes 5A to 5E, pumps 51A to 51E for feeding liquid and heaters 52A to 52E for heating the processing liquid are provided, respectively.

第2図および第3図に示すように、各管路5A〜5Eの一
端には吸入管53が、他端にはノズル54がそれぞれ接続さ
れている。
As shown in FIG. 2 and FIG. 3, a suction pipe 53 is connected to one end of each of the conduits 5A to 5E, and a nozzle 54 is connected to the other end.

例えば、処理室6Aにおいては、吸入管53は、側板31を
貫通して処理室6A内に突出するようラック3に固定され
ており、その基端は、ラック3を処理槽2に装填した際
に、管路5Aの一端と接続されるようになっている。
For example, in the processing chamber 6A, the suction pipe 53 is fixed to the rack 3 so as to penetrate the side plate 31 and protrude into the processing chamber 6A. Then, it is connected to one end of the conduit 5A.

一方、ノズル54は、側板31を貫通して処理室6A内に突
出するようラック3に固定されており、その先端55は他
方の側板32付近まで延長され、その基端56は、ラック3
を処理槽2に装填した際に、管路5Aの他端と接続される
ようになっている。そして、ノズル54のフィルムFの搬
送経路に対面する位置には、処理液を噴出する噴出口57
が複数個形成されている。
On the other hand, the nozzle 54 is fixed to the rack 3 so as to penetrate the side plate 31 and protrude into the processing chamber 6A. The tip end 55 is extended to the vicinity of the other side plate 32.
Is connected to the other end of the pipe 5A when the processing tank 2 is loaded. At the position of the nozzle 54 facing the transport path of the film F, an ejection port 57 for ejecting the processing liquid is provided.
Are formed.

なお、このような構成は、処理室6B、6Dおよび6Eにつ
いても同様であり、処理室6Cについても、ノズル54がブ
ロック体4oに埋設されている点を除き同様である。
Note that such a configuration is the same for the processing chambers 6B, 6D, and 6E, and is the same for the processing chamber 6C except that the nozzle 54 is embedded in the block 4o.

このような管路5A〜5E、これに対応するポンプ51A〜5
1E、処理槽2内に設置される吸入管53およびノズル54に
より、各処理室6A〜6E毎に処理液を循環する処理液循環
手段(循環系)5が構成される。
Such pipes 5A to 5E, corresponding pumps 51A to 5E
1E, the suction pipe 53 and the nozzle 54 installed in the processing tank 2 constitute a processing liquid circulating means (circulation system) 5 for circulating the processing liquid for each of the processing chambers 6A to 6E.

なお、管路5A〜5Eの途中には、各種コネクタやバルブ
等(図示せず)が設置されていてもよい。
Note that various connectors, valves, and the like (not shown) may be provided in the middle of the pipes 5A to 5E.

この処理液循環手段5では、ポンプ51A〜51Eおよびヒ
ータ52A〜52Eを作動すると、吸入管51A〜51Eより吸入さ
れた処理液は、管路5A〜5Eの一端を経て管路5A〜5E内を
通り、ヒータ52A〜52Eにより下記表1に示すような温度
に加温され、さらに管路5A〜5Eの他端へ至り、ノズル54
の基端56からノズル54内に流入し、噴出口57よりそれぞ
れの処理室6A〜6E内へ噴出される。フィルムFの通過時
には、噴出口57からの処理液噴流は、フィルムFの乳剤
面に向けて噴出されることとなる。
In this processing liquid circulating means 5, when the pumps 51A to 51E and the heaters 52A to 52E are operated, the processing liquid sucked from the suction pipes 51A to 51E passes through the pipes 5A to 5E through one end of the pipes 5A to 5E. As shown, the heaters 52A to 52E heat the mixture to the temperature shown in Table 1 below, reach the other ends of the pipes 5A to 5E, and
Flows from the base end 56 into the nozzle 54 and is ejected from the ejection port 57 into each of the processing chambers 6A to 6E. When the film F passes, the processing liquid jet from the jet port 57 is jetted toward the emulsion surface of the film F.

このような処理液循環手段5を設けることにより、各
処理室6A〜6E内の処理液は、循環、攪拌され、処理液の
組成および温度が均一化されるので、処理ムラのない良
好な処理が可能となる。特に、処理液をフィルムFの乳
剤面に向けて噴出するため、攪拌効率が良くなり、写真
性の向上が図れる。
By providing such a processing liquid circulating means 5, the processing liquid in each of the processing chambers 6A to 6E is circulated and agitated, and the composition and temperature of the processing liquid are made uniform, so that good processing without processing unevenness is achieved. Becomes possible. In particular, since the processing liquid is jetted toward the emulsion surface of the film F, the stirring efficiency is improved and the photographic properties can be improved.

処理液の循環量(管路内の流量)は、特に限定されな
いが、処理室1室当たり0.1〜5/分程度、特に0.5〜
2/分程度とするのが好ましい。この場合、各処理室
6A〜6Eにおける循環量は同一でも異なっていてもよい。
The circulation amount of the processing liquid (the flow rate in the pipeline) is not particularly limited, but is about 0.1 to 5 / min, particularly 0.5 to 5 per processing chamber.
It is preferably set to about 2 / min. In this case, each processing chamber
The circulation amount in 6A to 6E may be the same or different.

なお、処理室6A〜6Eのうちの一部の処理室にのみ処理
液循環手段5を設けてもよく、また処理液循環手段を全
く設けなくてもよい。
The processing liquid circulating means 5 may be provided only in some of the processing chambers 6A to 6E, or the processing liquid circulating means may not be provided at all.

各処理室6A〜6E内の処理液の液温は、30〜45℃程度と
するのがよい。
The temperature of the processing solution in each of the processing chambers 6A to 6E is preferably about 30 to 45 ° C.

各処理室6A〜6E内の液温を一定に保つ手段としては、
例えば、第2図に示すように、処理室6C内に処理液の温
度を検出する温度センサー16を代表的に設置し、この温
度センサー16により処理液の温度を随時または適時に検
出し、この検出値に基いて、マイクロコンピュータのよ
うな制御手段(図示せず)によりヒータ52A〜52EのON、
OFFまたは発熱量を制御することができる。
As means for keeping the liquid temperature in each of the processing chambers 6A to 6E constant,
For example, as shown in FIG. 2, a temperature sensor 16 for detecting the temperature of the processing liquid is typically installed in the processing chamber 6C, and the temperature of the processing liquid is detected by the temperature sensor 16 as needed or timely. Based on the detected value, the control means (not shown) such as a microcomputer turns on the heaters 52A to 52E,
OFF or calorific value can be controlled.

ラック3には、側板31、32と直交する板状の仕切部材
17が設置されている。第6図に示すように、この仕切部
材17は、図中左側の斜線で示す第1領域18と図中左側の
交差斜線で示す第2領域19とを仕切り、両領域における
処理液の流通を遮断するためのものである。
The rack 3 has a plate-like partition member orthogonal to the side plates 31 and 32.
17 are installed. As shown in FIG. 6, the partition member 17 partitions a first area 18 shown by oblique lines on the left side of the figure and a second area 19 shown by oblique crosses on the left side of the figure, and distributes the processing liquid in both areas. It is for shutting off.

第1領域18は、フィルムFが最初に通過する処理室6A
を含む領域であり、図示の例では2番目に通過する処理
6Bをも含んでいる。
The first area 18 is a processing chamber 6A through which the film F first passes.
Is a region including
Also contains 6B.

第2領域19は、フィルムFが最後に通過する処理室6E
を含む領域であり、図示の例では最後から2番目に通過
する処理6Dをも含んでいる。
The second area 19 is a processing chamber 6E through which the film F finally passes.
, And in the example shown in the figure, also includes the processing 6D that passes through the penultimate end.

仕切部材17の両端部171、172は、テーパ(第2図中下
方へ向って幅が漸減する)が形成され、一方、これに対
応する処理槽2の両側壁の21、22も同角度のテーパ状と
なっているのが好ましい。これにより、ラック3を処理
槽2内へ挿入した際、仕切部材17の端部171および172が
それぞれ処理槽2の側壁21および22の内面に係合し、第
1領域18と第2領域19とを区画する。このとき、係合部
分は、ラック3の自重により密着し、処理液の流通を実
質的に阻止する。
Both ends 171 and 172 of the partition member 17 are tapered (the width gradually decreases downward in FIG. 2), and the corresponding side walls 21 and 22 of the processing tank 2 also have the same angle. It is preferably tapered. Thereby, when the rack 3 is inserted into the processing tank 2, the ends 171 and 172 of the partition member 17 engage with the inner surfaces of the side walls 21 and 22 of the processing tank 2, respectively, and the first area 18 and the second area 19 And partition. At this time, the engaging portion comes into close contact with the rack 3 due to its own weight, and substantially prevents the flow of the processing liquid.

なお、この係合部、例えば端部171、172に、シール部
材11と同様のシール部材(図示せず)を設置すれば、処
理液の遮断性がより向上するので好ましい。
It is preferable to provide a seal member (not shown) similar to the seal member 11 at the engagement portion, for example, at the ends 171 and 172, because the treatment liquid blocking property is further improved.

このシール部材についても、前記と同様、仕切部材17
とシール部材とを2色成形またはインサート成形により
一体的に形成することができる。
As for the sealing member, the partition member 17 is also provided as described above.
And the seal member can be integrally formed by two-color molding or insert molding.

仕切部材17の端部171、172および処理槽2の側壁21、
22のテーパ角度は特に限定されないが、好ましくは、鉛
直方向に対し、1〜10゜程度とされる。
End portions 171 and 172 of the partition member 17 and side walls 21 of the processing tank 2;
The taper angle of 22 is not particularly limited, but is preferably about 1 to 10 ° with respect to the vertical direction.

なお、仕切部材17の構成材料も、前記ブロック体4a〜
4oと同様のものが使用可能であり、また仕切部材17と各
ブロック体4a〜4oや側板31、32等とは別部材を接合した
ものであっても一体的に形成されたものであってもよ
い。
In addition, the constituent material of the partition member 17 is also the same as the block bodies 4a to 4a.
The same thing as 4o can be used, and the partition member 17 and each of the block bodies 4a to 4o and the side plates 31, 32, etc. are also integrally formed even if they are joined together. Is also good.

また、側板31および32の外側であって、ラック3の高
さ方向の所定位置には、側板31、32および仕切部材17と
それぞれ直交する平板20が設置されている。前記主軸82
は、この平板20を貫通し、支持されている。
At a predetermined position in the height direction of the rack 3 outside the side plates 31 and 32, a flat plate 20 orthogonal to the side plates 31, 32 and the partition member 17 is installed. The main shaft 82
Penetrates the flat plate 20 and is supported.

平板20の設置位置は、通路71〜74のある高さ位置また
はその近傍とするのが好ましい。
The flat plate 20 is preferably installed at a certain height of the passages 71 to 74 or in the vicinity thereof.

この平板20は、側板31と側壁21との間および側板32と
側壁22との間における縦方向の処理液の流通を阻止す
る。これにより、各処理室6A〜6E内の処理液が側板31お
よび32の外方を経て混合することを防止することができ
る。
The flat plate 20 prevents the flow of the processing liquid in the vertical direction between the side plate 31 and the side wall 21 and between the side plate 32 and the side wall 22. Accordingly, it is possible to prevent the processing liquid in each of the processing chambers 6A to 6E from being mixed through the outside of the side plates 31 and 32.

次に、感光材料処理装置1Bの使用法および作動につい
て説明する。
Next, the usage and operation of the photosensitive material processing apparatus 1B will be described.

フィルムFの処理を開始するに際して、給液路12およ
び13からそれぞれ漂白液R1および定着液R2が供給され、
各処理室6A〜6Eおよび各通路71〜74には所定の組成の処
理液が満たされる。
In starting the process of the film F, the bleaching solution R 1 and fixer R 2 respectively supplied from the supply fluid channel 12 and 13,
Each of the processing chambers 6A to 6E and each of the passages 71 to 74 are filled with a processing liquid having a predetermined composition.

このとき、前述したように、リーダ25およびフィルム
Fの非通過時にはブレード15は処理液の流通を遮断する
ように構成されているため、処理液の供給に際して、例
えばフィルムFを連結していない空リーダ25を搬送して
供給を円滑に行なうことが好ましい。また、各処理室6A
〜6Eにそれぞれ給液口(図示せず)を設けて処理液を満
たしてもよい。
At this time, as described above, when the leader 25 and the film F do not pass, the blade 15 is configured to block the flow of the processing liquid. It is preferable that the supply is performed smoothly by transporting the reader 25. In addition, each processing room 6A
6E may be provided with liquid supply ports (not shown) to fill the processing liquid.

次に、各処理液循環手段5のポンプ51A〜51Eおよびヒ
ータ52A〜52Eを作動して各処理室6A〜6E内の処理液の温
調および循環、攪拌を行なう。すなわち、ポンプ51A〜5
1Eおよびヒータ52A〜52Eを作動すると、吸入管51A〜51E
より吸入された処理液は、管路5A〜5Eの一端を経て管路
5A〜5E内を通り、ヒータ52A〜52Eにより所定の温度に加
温され、さらに管路5A〜5Eの他端へ至り、ノズル54の基
端56からノズル54内に流入し、噴出口57よりそれぞれの
処理室6A〜6E内へ噴出される。
Next, the pumps 51A to 51E and heaters 52A to 52E of each processing liquid circulating means 5 are operated to control, circulate, and agitate the processing liquid in each of the processing chambers 6A to 6E. That is, pumps 51A-5
When 1E and heaters 52A-52E are activated, suction pipes 51A-51E
The processing liquid inhaled from the pipes passes through one end of the pipes 5A to 5E.
After passing through the inside of 5A to 5E, it is heated to a predetermined temperature by the heaters 52A to 52E, further reaches the other ends of the pipes 5A to 5E, flows into the nozzle 54 from the base end 56 of the nozzle 54, and from the ejection port 57. It is ejected into each of the processing chambers 6A to 6E.

なお、このような処理液の循環および温調は、少なく
ともフィルムFの処理中は続行され、フィルムFの非処
理時においても継続して行なわれるのが好ましい。
Note that it is preferable that such circulation and temperature control of the processing liquid be continued at least during the processing of the film F and be performed continuously even when the film F is not processed.

この状態で、フィルムFを連結したリーダ25が処理槽
2に接近すると、給液路12および13からそれぞれ処理液
の補充が開始される。
In this state, when the reader 25 connected to the film F approaches the processing tank 2, replenishment of the processing liquid from the liquid supply paths 12 and 13 is started.

上記のようにフィルムFの処理の開始とほぼ同時に処
理液の補充を開始するのは、ブレード15による処理液の
遮断効果が大であるため、リーダ25をブレード15に進入
させることによって始めて、処理液が実質的に流通する
からである。
The replenishment of the processing liquid is started almost simultaneously with the start of the processing of the film F as described above, because the blade 15 has a large effect of blocking the processing liquid. This is because the liquid substantially flows.

そして、処理期間中、この補充は続行され、排液管14
から合計補充量とほぼ同量の処理液(漂白定着液R3)が
排出される。
This replenishment is continued during the processing period, and the drainage pipe 14
, A processing solution (bleach-fixing solution R 3 ) having substantially the same amount as the total replenishing amount is discharged.

一方、搬送手段を作動して、各スプロケット8を回転
させた状態で、リーダ25をガイド92の湾曲面94に沿って
通路75内に搬入すると、リーダ25の係止孔26にスプロケ
ット8の歯が係合し、リーダ25を処理室6A内に送り込
み、その後、第2図中矢印で示すように、処理室6A、通
路71、処理室6B、通路72、処理室6C、通路73、処理室6
D、通路74および処理室6Eの順に搬送され、さらに、通
路76を経た後、ガイド93の湾曲面95に沿って処理槽2外
へ搬出される。
On the other hand, when the leader is carried into the passage 75 along the curved surface 94 of the guide 92 while the conveying means is operated and each sprocket 8 is rotated, the teeth of the sprocket 8 are inserted into the locking holes 26 of the leader 25. Engages and sends the reader 25 into the processing chamber 6A. Thereafter, as shown by the arrow in FIG. 2, the processing chamber 6A, the passage 71, the processing chamber 6B, the passage 72, the processing chamber 6C, the passage 73, the processing chamber 6
D, the passage 74 and the processing chamber 6E are transported in this order, and after passing through the passage 76, are carried out of the processing tank 2 along the curved surface 95 of the guide 93.

そして、フィルムFは、リーダ25に牽引されて、同様
の経路を搬送される。
Then, the film F is pulled by the reader 25 and transported along the same route.

このように、フィルムFが各処理室6A〜6E内を搬送さ
れる間に、フィルムFは処理液と接触して脱銀処理がな
される。この場合、フィルムFがノズル54を通過する際
に、噴出口57より噴出された処理液噴流がフィルムFの
乳剤面に衝突するため、処理が促進される。
As described above, while the film F is conveyed in each of the processing chambers 6A to 6E, the film F comes into contact with the processing liquid and is subjected to desilvering processing. In this case, when the film F passes through the nozzle 54, the processing liquid jet jetted from the jet port 57 collides with the emulsion surface of the film F, so that the processing is accelerated.

なお、処理室6C内においては、リーダ25はブロック体
4oの湾曲面44に沿って搬送されるが(第2図中の一点鎖
線参照)、それに後続するフィルムFは、フィルムF自
体の張力や、ノズル54からの処理液噴流に押圧されるこ
とにより、ローラ85にフィルムFの耳部が接触しつつ通
過する(第2図中の二点鎖線参照)。
In the processing chamber 6C, the reader 25 is a block body.
Although the film F is conveyed along the curved surface 44 of 4o (see the dashed line in FIG. 2), the film F following it is pressed by the tension of the film F itself and the processing liquid jet from the nozzle 54. Then, the edge portion of the film F passes while contacting the roller 85 (see a two-dot chain line in FIG. 2).

処理が終了し、フィルムFの後端が処理槽2外へ搬出
されると、これと同様に処理液の補充は停止される。
When the processing is completed and the rear end of the film F is carried out of the processing tank 2, the replenishment of the processing liquid is similarly stopped.

このような処理において、ブレード15の遮蔽効果によ
り、各処理室6A〜6E内の液組成勾配は良好に維持され、
しかも、ブレード15のスクイズ効果により、前の処理室
から後の処理室への持ち込み量も極めて少なくなること
から、処理効率が格段に向上し、漂白液R1および定着液
R2の補充量を大幅に低減することができる。
In such processing, the liquid composition gradient in each of the processing chambers 6A to 6E is favorably maintained due to the shielding effect of the blade 15,
Moreover, the squeezing effect of the blade 15 significantly reduces the amount of carry-in from the preceding processing chamber to the subsequent processing chamber, so that the processing efficiency is significantly improved, and the bleaching solution R 1 and the fixing solution
The replenishment amount of R 2 can be greatly reduced.

この補充量は、リーダ25およびフィルムFがブレード
15を通過する際にできる間隙で決定される流通量程度と
すればよい。
The amount of this replenishment is determined by
The flow rate may be about the flow rate determined by the gap formed when passing through 15.

このような補充量は、主にフィルムFの幅、厚さ、搬
送速度などに依存する。135カラーネガフィルムの場
合、漂白液R1および定着液R2の補充量は、それぞれ、フ
ィルム1m当たり3〜7ml程度および15〜20ml程度であ
る。
Such a replenishment amount mainly depends on the width, thickness, transport speed, and the like of the film F. For 135 color negative film, the replenishment rate of the bleaching solution R 1 and fixer R 2 are each, it is about about 3~7ml per film 1m and 15-20 ml.

このような補充量は、従来に比べて50〜80%程度の補
充量であり、このような少ない補充量としても脱銀不良
などの発生は全くない。
Such a replenishment amount is about 50 to 80% of the replenishment amount as compared with the related art, and even with such a small replenishment amount, there is no occurrence of poor desilvering or the like.

このように、補充量が低減されることから、各処理室
6A〜6E内における処理液の循環量を少なくすることがで
き、しかも複雑で厳格な温度制御を行なわなくても各処
理室6A〜6E内での液組成および温度の均一性は十分に保
たれ、良好な処理を行なうことができる。
In this way, since the replenishment amount is reduced, each processing chamber
The circulation amount of the processing liquid in the processing chambers 6A to 6E can be reduced, and the uniformity of the liquid composition and the temperature in the processing chambers 6A to 6E is sufficiently maintained without performing complicated and strict temperature control. And good processing can be performed.

また、処理効率を向上させることができる結果、各処
理室6A〜6Eの容積等を小さくすることができ、ポンプ51
A〜51Eおよびヒータ52A〜52Eの低出力化や小型化が図
れ、よって、感光材料処理装置の小型化に寄与する。
In addition, as a result of improving the processing efficiency, the volume and the like of each of the processing chambers 6A to 6E can be reduced, and the pump 51
A to 51E and heaters 52A to 52E can be reduced in power and reduced in size, thereby contributing to downsizing of the photosensitive material processing apparatus.

さらに、リーダ25およびフィルムFの非通過時(非処
理時)には、ブレード15によって隣接処理室間での処理
液の流通が遮断されるため、処理液の混合はほとんど生
じることはない。この結果、処理を長期にわたり休止
し、その後再開するような場合においても、直ちに効率
のよい処理を行なうことができる。
Further, when the reader 25 and the film F do not pass (non-processing), the blade 15 blocks the flow of the processing liquid between the adjacent processing chambers, so that the processing liquid hardly mixes. As a result, even in the case where the processing is paused for a long time and then restarted, efficient processing can be immediately performed.

上記における補充のタイミングや補充量の制御、循環
量の調整、処理液の温調等は、公知の制御方式および手
段を用いて行なえばよい。
The control of the replenishment timing and the replenishment amount, the adjustment of the circulation amount, the temperature control of the processing solution, and the like in the above may be performed using a known control method and means.

上記の説明では、フィルムFの処理と同時に処理液の
補充を行なうものとしたが、非処理時に補充を行なうも
のとしてもよい。
In the above description, the processing liquid is replenished simultaneously with the processing of the film F. However, the processing liquid may be replenished during non-processing.

このような場合、隣接する処理室間を連結するバイパ
スを設けて、前段の処理室の補充量に相当する液量を後
段の処理室に流入するような構成とすればよい。
In such a case, a bypass may be provided to connect adjacent processing chambers so that a liquid amount corresponding to the replenishment amount of the preceding processing chamber flows into the subsequent processing chamber.

なお、感光材料処理装置1Bでは、上記の他、現像処理
や、漂白、定着、漂白定着の単独処理、水洗、安定、調
整、反転等、種々の処理に適用することができ、このと
き、液の給排液管等を適宜選択することにより処理液の
流れを変えて使用することができる。
In addition, in the photosensitive material processing apparatus 1B, in addition to the above, development processing, bleaching, fixing, bleach-fixing alone processing, washing, stabilization, adjustment, reversal, etc., can be applied to various processing, The flow of the processing liquid can be changed and used by appropriately selecting the supply / drainage pipe or the like.

一般に、現像液、漂白液、漂白定着液、定着液のよう
なフィルムF中のハロゲン化銀等と反応する化合物を含
む処理液では、前記水洗水と異なり、処理液の流れは、
フィルムFの搬送方向と同方向(パラレルフロー)とな
るようにするのが処理効率の向上にとって好ましい。な
お、定着機能を有する処理液については、水洗と同様、
フィルムFの乳剤層中の不要物質の洗い出し効果もある
ため、カウンターフローでもよい。
Generally, in a processing solution containing a compound that reacts with silver halide or the like in the film F such as a developing solution, a bleaching solution, a bleach-fixing solution, and a fixing solution, unlike the washing water, the flow of the processing solution is as follows.
It is preferable for the processing efficiency to be the same as the transport direction of the film F (parallel flow). In addition, as for the processing liquid having a fixing function, similarly to the water washing,
Since there is also an effect of washing out unnecessary substances in the emulsion layer of the film F, a counter flow may be used.

本発明において使用される処理液の具体例としては、
次のようなものが挙げられる。
Specific examples of the treatment liquid used in the present invention include:
Examples include the following:

カラー現像液は、一般に、発色現像主薬を含むアルカ
リ性水溶液から構成される。
The color developer is generally composed of an alkaline aqueous solution containing a color developing agent.

発色現像主薬は一級芳香族アミン現像剤、例えばフェ
ニレンジアミン類(例えば4−アミノ−N,N−ジエチル
アニリン、3−メチル−4−アミノ−N,N−ジエチルア
ニリン、4−アミノ−N−エチル−N−β−ヒドロキシ
エチルアニリン、3−メチル−4−アミノ−N−エチル
−N−β−ヒドロキシエチルアニリン、3−メチル−4
−アミノ−N−β−エチル−N−メタンスルホンアミド
エチルアニリン、4−アミノ−3−メチル−N−エチル
−N−β−メトキシエチルアニリン等)を用いることが
できる。
Color developing agents are primary aromatic amine developers such as phenylenediamines (for example, 4-amino-N, N-diethylaniline, 3-methyl-4-amino-N, N-diethylaniline, 4-amino-N-ethyl) -N-β-hydroxyethylaniline, 3-methyl-4-amino-N-ethyl-N-β-hydroxyethylaniline, 3-methyl-4
-Amino-N-β-ethyl-N-methanesulfonamidoethylaniline, 4-amino-3-methyl-N-ethyl-N-β-methoxyethylaniline, etc.) can be used.

発色現像液は、そのほかpH緩衝剤、現像抑制剤ないし
カブリ防止剤等を含むことができる。
The color developing solution may further contain a pH buffer, a development inhibitor or an antifoggant.

また必要に応じて、硬水軟化剤、保恒剤、有機溶剤、
現像促進剤、色素形成カプラー、競争カプラー、かぶら
せ剤、補助現像薬、粘性付与剤、ポリカルボン酸系キレ
ート剤、酸化防止剤、アルカリ剤、溶解助剤、界面活性
剤、消泡剤等を含んでいてもよい。
Also, if necessary, water softener, preservative, organic solvent,
Development accelerators, dye-forming couplers, competitive couplers, fogging agents, auxiliary developing agents, viscosity-imparting agents, polycarboxylic acid-based chelating agents, antioxidants, alkali agents, dissolution aids, surfactants, defoamers, etc. May be included.

黒白現像液としては、ジヒドロキシベンゼン類(例え
ばハイドロキノン)、3−ピラゾリドン類(例えば1−
フェニル−3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類
(例えばN−メチル−p−アミノフェノール)等の現像
主薬を単独あるいは組合わせて用いることができる。
Examples of black-and-white developers include dihydroxybenzenes (eg, hydroquinone) and 3-pyrazolidones (eg, 1-
Developing agents such as phenyl-3-pyrazolidone) and aminophenols (eg, N-methyl-p-aminophenol) can be used alone or in combination.

定着液としては、ハロゲン化銀に対して定着作用のあ
る化合物(定着剤)としてはチオ硫酸アンモニウム、チ
オ硫酸ナトリウム(ハイポ)、ハロゲン化アンモニウ
ム、チオ尿素、チオエーテル等を含むものが挙げられ
る。
Examples of the fixing solution include compounds containing ammonium thiosulfate, sodium thiosulfate (hypo), ammonium halide, thiourea, thioether and the like as compounds having a fixing action on silver halide (fixing agent).

漂白液としては、漂白剤として、ポリカルボン酸の鉄
塩、赤血塩、ブロメート化合物、コバルトヘキサミン等
を含むものが挙げられる。これらのうちフェリシアン化
カリ、エチレンジアミン四酢酸鉄(III)ナトリウムお
よびエチレンジアミン四酢酸鉄(III)アンモニウムは
特に有用である。
Examples of the bleaching solution include bleaching agents containing iron salts of polycarboxylic acids, red blood salts, bromate compounds, cobalt hexamine, and the like. Of these, potassium ferricyanide, sodium iron (III) ethylenediaminetetraacetate, and ammonium iron (III) ethylenediaminetetraacetate are particularly useful.

また、上記漂白剤および定着剤の双方を含む漂白・定
着液とすることもできる。
In addition, a bleaching / fixing solution containing both the above-mentioned bleaching agent and fixing agent can be used.

定着液(漂白・定着液)には、定着剤の他に、通常、
亜硫酸ナトリウム等の保恒剤、酸剤、緩衝剤、硬膜剤な
どの定着助剤を含有させることができる。
Fixing solution (bleaching / fixing solution) usually contains, in addition to the fixing agent,
Preservatives such as sodium sulfite, fixing agents such as acid agents, buffers, and hardeners can be contained.

また、漂白液(漂白・定着液)には、米国特許第3,04
2,520号、同第3,241,966号、特公昭45−8506号、特公昭
45−8636号などに記載の漂白促進剤、特開昭53−65732
号に記載のチオール化合物の他、種々の添加剤を加える
こともできる。
The bleaching solution (bleaching / fixing solution) includes US Pat.
No. 2,520, No. 3,241,966, Japanese Patent Publication No. 45-8506, Japanese Patent Publication No.
Bleaching accelerators described in JP-A-45-8636, JP-A-53-65732.
In addition to the thiol compounds described in (1), various additives can also be added.

洗浄水としては、水(蒸留水、イオン交換水等)また
はこの水に必要に応じて添加剤を含有させることができ
る。
As the washing water, water (distilled water, ion-exchanged water, etc.) or an additive can be added to this water as needed.

この添加剤は、例えば、無機リン酸、アミノポリカル
ボン酸、有機リン酸等のキレート剤、各種バクテリアや
藻の増殖を防止する殺菌剤、防ばい剤、マグネシウム
塩、アルミニウム塩等の硬膜剤、乾燥負荷、ムラを防止
するための界面活性剤等が挙げられる。または、L.E.We
st,“Water Quality Criteria“Phot.Sci.and Eng.,vo
l.9 No.6 P344〜359(1965)等に記載の化合物を用いる
こともできる。
This additive includes, for example, chelating agents such as inorganic phosphoric acid, aminopolycarboxylic acid, and organic phosphoric acid; bactericides that prevent the growth of various bacteria and algae; antifungal agents; hardening agents such as magnesium salts and aluminum salts. , A drying load, and a surfactant for preventing unevenness. Or LEWe
st, “Water Quality Criteria” Phot.Sci.and Eng., vo
Compounds described in l.9 No. 6 P344 to 359 (1965) and the like can also be used.

安定液としては、色素画像を安定化する処理液が用い
られる。例えば、pH3〜6の緩衝能を有する液、アルデ
ヒド(例えば、ホルマリン)を含有した液などを用いる
ことができる。安定液には、必要に応じて蛍光増白剤、
キレート剤、殺菌剤、防ばい剤、硬膜剤、界面活性剤等
を用いることができる。
As the stabilizing solution, a processing solution for stabilizing a dye image is used. For example, a liquid having a buffer capacity of pH 3 to 6, a liquid containing an aldehyde (for example, formalin), or the like can be used. The stabilizer contains a fluorescent whitening agent, if necessary.
Chelating agents, bactericides, sunscreens, hardeners, surfactants and the like can be used.

なお、これら処理液の詳細については、日本写真学会
編「写真工学の基礎」コロナ社刊(昭和54年)P299「第
4章現像処理」等の記載を参照することができる。
For details of these processing solutions, reference can be made to the description of “Chapter 4 Development Processing”, p.299, “Basics of Photographic Engineering”, edited by The Photographic Society of Japan, published by Corona (1979).

以上説明した感光材料処理装置1Aおよび1Bは、例え
ば、大型自動現像機、小型自動現像機(ミニラボ)、写
真プリント作成コインマシーン、携帯型カラーネガ現像
機、カラーネガ・カラーペーパー一体現像機等の各種感
光材料処理装置に適用することができる。
The photosensitive material processing apparatuses 1A and 1B described above include various types of photosensitive materials such as a large automatic developing machine, a small automatic developing machine (minilab), a coin machine for making photo prints, a portable color negative developing machine, and a color negative / color paper integrated developing machine. It can be applied to a material processing device.

さて、本発明の対象であるフィルムFは、好ましくは
帯状をなす長尺物である。このフィルムFは、その一方
または両方の側端部にパーフォレーション(孔)が形成
されており、このパーフォレーションの形成密度が1画
面当り2個以内、さらに好ましくは1個または0.5個で
あるものである。
The film F, which is the object of the present invention, is preferably a strip-shaped long object. This film F has perforations (holes) formed on one or both side edges thereof, and the density of the perforations is within 2 per screen, more preferably 1 or 0.5 per screen. .

以下、このフィルムFの構成例を第9図〜第14図に基
づいて説明する。
Hereinafter, a configuration example of the film F will be described with reference to FIGS. 9 to 14.

第9図〜第14図に示すように、フィルムFは、撮影
(露光)によって形成される画面(画像部)F1とこの画
面F1の周囲に形成されるフレーム部F2とで構成されてい
る。なお、各図中、画面F1には斜線が施されている。
As shown in FIGS. 9 to 14, the film F is composed of a screen (image portion) F1 formed by photographing (exposure) and a frame portion F2 formed around the screen F1. In each figure, the screen F1 is hatched.

ここで、フレーム部F2は、未露光とされているのが好
ましい。その理由は、例えば110フィルムやインスタマ
チックのように、フレーム部F2が予め露光されている
と、現像する面積が大となり、処理液の補充量の増大を
招き、前述した狭幅の処理路を有する処理槽にて処理す
る目的に反することとなるからである。
Here, the frame portion F2 is preferably unexposed. The reason is that if the frame portion F2 is exposed in advance, for example, as in the case of a 110 film or an instamatic, the area to be developed becomes large, causing an increase in the replenishment amount of the processing solution, and the narrow processing path described above. This is because it is contrary to the purpose of processing in the processing tank.

また、フィルムFは両側端部におけるフレーム部F2に
は、カメラ内でフィルムFの送りおよび露光部での位置
合わせを行なうためのパーフォレーションF3が形成され
ている。
In addition, a perforation F3 for feeding the film F in the camera and aligning the film F in the exposure section is formed in the frame portions F2 at both end portions of the film F.

このパーフォレーションF3は、好ましくは方形の貫通
孔で構成されている。
This perforation F3 is preferably constituted by a rectangular through hole.

以下、このプーフォレーションF3の形成パターンの例
を説明する。
Hereinafter, an example of the formation pattern of this pool F3 will be described.

第9図に示す例では、画面F1はフルサイズの画面であ
り、フィルムFの片方の側端部に1つの画面F1当り1個
の割合でパーフォレーションF3が形成されている。
In the example shown in FIG. 9, the screen F1 is a full-size screen, and one perforation F3 is formed on one side end of the film F at a rate of one per screen F1.

このパーフォレーションF3を利用してカメラ内の露光
部での位置合わせを行なうため、パーフォレーションF3
は、等間隔で形成されているのが好ましい。
The perforation F3 is used to perform alignment at the exposure section in the camera using this perforation F3.
Are preferably formed at equal intervals.

また、図示のごとく、パーフォレーションF3は、隣接
する画面F1同士の間の位置に形成されている。これによ
り、処理中にパーフォレーションF3内を処理液が流通し
て、フィルムFの幅方向へのいわゆる尾びき現象が生じ
ても、画面F1への影響が生じないという利点がある。
Further, as shown, the perforations F3 are formed at positions between adjacent screens F1. Thus, there is an advantage that even if the processing liquid flows in the perforation F3 during the processing and a so-called tailing phenomenon occurs in the width direction of the film F, the screen F1 is not affected.

第10図に示す例では、フィルムFの片方の側端部に1
画面当り2個の割合でパーフォレーションF3が形成され
ている。
In the example shown in FIG. 10, one side edge of the film F is
Perforations F3 are formed at a rate of two per screen.

第11図に示す例では、フィルムFの両方の側端部に1
画面当り2個の割合でパーフォレーションF3が形成され
ている。
In the example shown in FIG.
Perforations F3 are formed at a rate of two per screen.

この場合、各パーフォレーションF3は、前記と同様隣
接する画面F1同士の間の位置に形成され、フィルムFの
両側端部において、対象となっている。
In this case, each perforation F3 is formed at a position between adjacent screens F1 as described above, and is a target at both side ends of the film F.

第12図に示す例では、フィルムFの両方の側端部に1
画面当り、2個の割合でパーフォレーションF3が形成さ
れている。
In the example shown in FIG.
Perforations F3 are formed at a rate of two per screen.

この場合、パーフォレーションF3は、一方の側端部で
は、隣接する画面F1同士の間の位置に形成され、他方の
側端部では、画面F1のフィルム長手方向中央部付近に形
成されている。
In this case, the perforation F3 is formed at a position between the adjacent screens F1 at one side end, and is formed near the center in the film longitudinal direction of the screen F1 at the other side end.

第13図および第14図は、画面F1がハーフサイズの場合
の例を示す。
FIG. 13 and FIG. 14 show examples when the screen F1 is half size.

第13図に示す例では、フィルムFの両方の側端部に1
画面(ハーフサイズ)当り2個の割合でパーフォレーシ
ョンF3が形成されている。
In the example shown in FIG.
Perforations F3 are formed at a rate of two per screen (half size).

なお、第13図示と同パターンのパーフォレーションF3
を有するフィルムFでフルサイズの撮影をした場合に
は、1画面(フルサイズ)当り4個のパーフォレーショ
ンを有するものとなる。
The perforation F3 of the same pattern as shown in FIG.
When a full-size image is shot with the film F having the following, the image has four perforations per screen (full size).

第14図に示す例では、フィルムFの片方の端部に1画
面(ハーフサイズ)当り0.5個の割合でパーフォレーシ
ョンF3が形成されている。
In the example shown in FIG. 14, perforations F3 are formed at one end of the film F at a rate of 0.5 per screen (half size).

第9図示と同パターンのパーフォレーションF3を有す
るフィルムFでハーフサイズの撮影をした場合には、こ
の第14図に示す構成となる。
When a half-size photograph is taken with a film F having a perforation F3 having the same pattern as that shown in FIG. 9, the configuration shown in FIG. 14 is obtained.

なお、パーフォレーションF3の形成パターンは、第9
図〜第14図に示すものに限定されず、各図のものを任意
に組み合わせたもの、または、その他のパータンでもよ
い。
The formation pattern of the perforation F3 is ninth.
The invention is not limited to those shown in FIGS. To 14, but may be any combination of those shown in the figures or other patterns.

このように、パーフォレーションの形成密度を1画面
当り2個以内とすることにより、次のような種々の効果
が得られる。
As described above, by setting the formation density of perforations to two or less per screen, the following various effects can be obtained.

フィルムFの処理において、前述した狭幅の処理路
60Aまたは通路71〜76をフィルムFが通過する際、処理
液が流動し、パーフォレーション内を流通する。
In processing the film F, the narrow processing path described above is used.
When the film F passes through 60A or the passages 71 to 76, the processing liquid flows and flows through the perforations.

このとき、処理液の流れが不規則となり、パーフォレ
ーションの側部近傍の画像に処理ムラが生じることがあ
るが、パーフォレーション数が少ないので、このような
処理ムラの発生が防止される。
At this time, the flow of the processing liquid becomes irregular, and processing unevenness may occur in an image near the side of the perforation. However, since the number of perforations is small, such processing unevenness is prevented.

パーフォレーション数が少ないので、めぎれ、すな
わち、フィルムFに張力が作用した際、パーフォレーシ
ョンの部分でフィルムFが切断される現象が生じる可能
性が少なくなる。また、フィルムFの伸びも少なくな
る。
Since the number of perforations is small, the possibility of occurrence of tearing, that is, a phenomenon in which the film F is cut at the perforation portion when tension is applied to the film F, is reduced. Further, the elongation of the film F is reduced.

こようなことから、フィルムFの耐久性が向上する。 For this reason, the durability of the film F is improved.

フィルムFが隣接処理槽間で移行、例えば、現像槽
から漂白槽へ移行する際に、フィルムFに付着した現像
液が漂白槽内に持ち込まれる。
When the film F moves between adjacent processing tanks, for example, when moving from the developing tank to the bleaching tank, the developer attached to the film F is brought into the bleaching tank.

この場合、現像液は、フィルムFの表面に付着したも
のの他、パーフォレーション内に膜を応形成した状態で
存在し、これが漂白槽へ持ち込まれることとなるが、パ
ーフォレーション数が少ないので、この持ち込み量が少
なくなり、安定かつ良好な処理が継続され、補充液の補
充量も低減する。
In this case, in addition to the developer adhering to the surface of the film F, the developer is present in a state in which a film is formed in the perforation, and this is carried into the bleaching tank. , The stable and favorable processing is continued, and the replenishment amount of the replenisher is also reduced.

フィルムの搬送機構が簡単になるため、フィルムF
のベロ部が不要となるかまたはベロ部の面積を従来より
小さくすることができる。その結果、現像液の消費量が
少なくなり、補充液の補充量が低減する。
Since the film transport mechanism is simplified, the film F
Is unnecessary or the area of the tongue portion can be made smaller than before. As a result, the consumption of the developer decreases, and the replenishment amount of the replenisher decreases.

フィルムF上、特にフレーム部F2に、例えば、撮影
情報(ストロボの有無、色温度、LV値、撮影距離、レン
ズの焦点距離、被写体コントラスト、撮影年月日および
時刻、撮影場所等)、フィルム情報(フィルム種、フィ
ルム製造年月日、プリント条件等)、ラボ情報(ラボ
名、現像年月日、同時プリント時のプリント条件等)等
の情報を記録する情報記録部を設けることがある。
On the film F, especially in the frame portion F2, for example, shooting information (presence / absence of strobe, color temperature, LV value, shooting distance, lens focal length, subject contrast, shooting date and time, shooting location, etc.), film information An information recording unit for recording information such as (film type, film manufacturing date, printing conditions, etc.) and lab information (lab name, development date, printing conditions for simultaneous printing, etc.) may be provided.

この場合、パーフォレーション数が少ないと、情報記
録部の設置位置や設置パターンの選択の幅が広がり、ま
た、情報記録部の面積も大きくとれる。
In this case, if the number of perforations is small, the range of selection of the installation position and the installation pattern of the information recording unit is widened, and the area of the information recording unit can be large.

ここで、情報記録部としては、光学的記録、磁気的記
録等のいずれの形式のものでもよく、例えば、磁気トラ
ック、バーコード、フィルム自体の感光性を利用した露
光可能部等が挙げられる。
Here, the information recording section may be of any type such as optical recording and magnetic recording, and includes, for example, a magnetic track, a bar code, and an exposing section utilizing the photosensitivity of the film itself.

また、カラーフィルムの場合には、3つの感色性に分
けて情報を記録することもできる。
Further, in the case of a color film, information can be recorded in three different color sensitivities.

なお、このような情報記録は、フィルムFを収納する
パトローネにICメモリ(ROM、RAM)を設け、これに前記
情報を記憶させる方式を単独で、また上記と併用して採
用してもよい。
For such information recording, a system in which an IC memory (ROM, RAM) is provided in the cartridge storing the film F and the information is stored in the IC memory may be used alone or in combination with the above.

フィルムを処理槽内で搬送する場合、特に、前述し
たように処理路60Aや通路71〜74にブレード15を設けた
場合には、フィルムFとブレード15との摺動抵抗がある
ため、フィルムFの搬送抵抗が増大する。
When the film is transported in the processing tank, particularly when the blade 15 is provided in the processing path 60A or the paths 71 to 74 as described above, the film F has a sliding resistance. Transport resistance increases.

フィルムFとブレード15との摺動抵抗は、特にパーフ
ォレーションの部分で生じるので、パーフォレーション
数が少ないと、この摺動抵抗が減少し、フィルムFの搬
送性が向上する。また、前述したように、フィルムFは
リーダ25等に牽引されて搬送されるが、搬送抵抗が増大
すると、フィルムFにかかる張力が大きくなり、めぎれ
が生じ易くなる。さらに、張力の増大により、パーフォ
レーションの縁部形状で湾曲変形し、ブレードとの摺動
抵抗をさらに増大させる。本発明では、このような現象
の発現を抑制し、フィルムFの搬送性を向上することが
できる。
Since the sliding resistance between the film F and the blade 15 is generated particularly at the perforation portion, if the number of perforations is small, the sliding resistance is reduced, and the transportability of the film F is improved. Further, as described above, the film F is conveyed while being pulled by the reader 25 or the like. However, if the conveyance resistance increases, the tension applied to the film F increases, and the film F is likely to tear. In addition, due to the increase in the tension, the edge portion of the perforation is curved and deformed, and the sliding resistance with the blade is further increased. In the present invention, the occurrence of such a phenomenon can be suppressed, and the transportability of the film F can be improved.

上記で述べたように、パーフォレーション数が少
ないと、フィルムFの搬送抵抗が減少し、またパーフォ
レーションとブレード15との接触回数が減少するため、
ブレード15の寿命が長くなる。
As described above, when the number of perforations is small, the transport resistance of the film F is reduced, and the number of times of contact between the perforations and the blade 15 is reduced.
The life of the blade 15 is extended.

パーフォレーションの設置位置や設置間隔との関係
で、カメラ内やフィルムキャリアでのフィルムの搬送や
位置合わせを容易かつ正確に行なうことができる。
Depending on the installation position and the installation interval of the perforations, it is possible to easily and accurately transfer and position the film in the camera or in the film carrier.

本発明において、処理対象とされフィルムの種類は特
に限定されず、カラーおよび黒白のいずれであってもよ
い。例えば、カラーネガフィルム、カラー反転フィル
ム、カラーポジフィルム、黒白ネガフィルム、マイクロ
フィルム、映画用フィルム等が挙げられる。
In the present invention, the type of film to be processed is not particularly limited, and may be either color or black and white. For example, a color negative film, a color reversal film, a color positive film, a black-and-white negative film, a microfilm, a movie film and the like can be mentioned.

また、フィルムFのサイズは、特に限定されないが、
通常、135サイズのものが好ましい。
Further, the size of the film F is not particularly limited,
Usually, a size of 135 is preferable.

以上、本発明の構成例を挙げて説明したが、本発明
は、これらに限定されるものではないことは言うまでも
ない。
As described above, the configuration examples of the present invention have been described, but it is needless to say that the present invention is not limited thereto.

<実施例> 以下、本発明の具体的実施例について説明する。<Examples> Specific examples of the present invention will be described below.

処理条件 [感光材料処理装置] 比較装置として、通常の箱型処理槽を有する富士写
真フイルム社製FNCP−40B型の自動現像機(ブレードの
設置なし)を用いた。
Processing Conditions [Photosensitive Material Processing Apparatus] As a comparison apparatus, an automatic developing machine of FNCP-40B type manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. having no ordinary box-shaped processing tank (no blade was installed) was used.

複数の処理室を狭幅(スリット幅W=2.0mm)の通
路で連結した第2図〜第7図に示す構成の処理槽を有す
る自動現像機を用いた。処理槽内の全経路長に対する通
路の合計長さは、表1中に示す値とした。
An automatic developing machine having a processing tank having a configuration shown in FIGS. 2 to 7 in which a plurality of processing chambers were connected by a passage having a narrow width (slit width W = 2.0 mm) was used. The total length of the passage relative to the entire length of the passage in the processing tank was a value shown in Table 1.

なお、各通路71〜74には、第8a図に示す構成のシリコ
ーンゴム製ブレードを1対づつ設置した。
In each of the passages 71 to 74, a pair of silicone rubber blades having the structure shown in FIG. 8a was installed.

処理槽内の全経路長に対する通路の合計長さを変更
した以外は、上記と同様とした。
The procedure was the same as above, except that the total length of the passages with respect to the entire length of the passage in the treatment tank was changed.

処理空間が狭幅(スリット幅W=2.0mm)の処理路
で構成されている第1図に示す構成の処理槽を有する比
較用の自動現像機を用いた。
An automatic developing machine for comparison having a processing tank having a configuration shown in FIG. 1 in which a processing space is formed by a processing path having a narrow width (slit width W = 2.0 mm) was used.

なお、処理路には、第8b図に示す構成のポリプロピレ
ン製ブレードを処理路長手方向に沿って8個設置した。
The processing path was provided with eight polypropylene blades having the configuration shown in FIG. 8b along the longitudinal direction of the processing path.

[処理液] 上記〜の各装置の処理槽に、下記I〜IVの処理液
を入れて処理した。
[Treatment liquid] The treatment liquids of the following I to IV were put into the treatment tanks of the above-mentioned devices to carry out the treatment.

I…現像液 処方/富士写真フイルム社製カラーネガ処理剤CN−
16N1 II…漂白液および定着液 (装置の場合、漂白定着液) 漂白液処方/富士写真フイルム社製カラーネガ処理
剤CN−16N2 定着液処方/富士写真フイルム社製カラーネガ処理
剤CN−16N3 III…水洗水および安定液 水洗水処方/水道水 安定液処方/富士写真フイルム社製カラーネガ処理
剤CN−16N4 [フィルム] カラーネガフィルム(35mm幅)として、富士写真フイ
ルム社製フジカラースーパーHGを用い、パーフォレーシ
ョンの形成パターンを下記の通りとした。
I ... Developer solution formula / Color negative processing agent CN-, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
16N 1 II ... bleach and (if the device, the bleach-fixing solution) fixer bleaching solution formulation / Fuji Photo Film Co., Ltd. color negative processing agent CN-16N 2 fixer formulation / Fuji Photo Film Co., Ltd. color negative processing agent CN-16N 3 III: Rinse water and stabilizing solution Rinse water formulation / tap water stabilizing solution formulation / Fuji Photo Film Co., Ltd. color negative treating agent CN-16N 4 [Film] Fuji Color Super HG manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. And the perforation formation pattern was as follows.

A…従来品 1画面当りのパーフォレーション数 16個 B…第9図に示すパータン 1画面当りのパーフォレーション数 1個 C…第11図に示すパータン 1画面当りのパーフォレーション数 2個 D…JISB7176図3のパターン 1画面当りのパーフォレーション数 2.5個 これらのフィルムA、B、CおよびDにフルサイズで
24枚づつ撮影し、これらのフィルムを下記表1に示す自
動現像機および処理液の組み合わせでそれぞれ連続処理
し、処理ムラの発生状況を調べた。
A: Conventional product 16 perforations per screen B: Pattern shown in Fig. 9 Perforations per screen 1 C: Pattern shown in Fig. 11 Perforations per screen 2 D: JISB7176 Fig. 3 Pattern Number of perforations per screen 2.5 Full size for these films A, B, C and D
Twenty-four sheets were photographed, and these films were continuously processed using combinations of automatic developing machines and processing solutions shown in Table 1 below, and the occurrence of processing unevenness was examined.

その結果を下記表1に示す。 The results are shown in Table 1 below.

なお、処理ムラの評価方法は、次の通りである。 The method for evaluating processing unevenness is as follows.

(I)現像処理…処理ムラ パーフォレーションに対応した位置の尾びきやムラを
目視判定。
(I) Developing process: process unevenness The tailing and unevenness at the position corresponding to the perforation are visually determined.

(II)漂白・定着処理…脱銀ムラ 蛍光X線分析で残銀量を分析し、そのバラツキの度合
で評価。バラツキが大きいほど脱銀ムラが生じているこ
ととなる。
(II) Bleaching / fixing treatment: Desilvering unevenness The amount of residual silver was analyzed by fluorescent X-ray analysis, and the degree of variation was evaluated. The larger the variation, the more desilvering unevenness occurs.

(III)水洗(安定)処理…残色ムラ(残留主薬ムラ) 処理後のフィルムを60℃、70%RHの環境で保存した後
のムラの発生を目視判定 上記評価方法により、ムラの発生状況を次の4段階で
表示する。
(III) Rinse (stable) treatment: residual color unevenness (residual active agent unevenness) Visually determine the occurrence of unevenness after storing the treated film in an environment of 60 ° C. and 70% RH. Are displayed in the following four stages.

◎…ムラの発生全くなし ○…ムラの発生ほとんどなし △…ムラの発生あり ×…ムラの発生顕著 上記表1に示すように、処理装置、またはと、
フィルムBまたはCとを組み合わせた本発明例では、い
ずれの処理液に対しても処理ムラの発生が防止されてい
る。
◎: No unevenness was generated at all. ○: Almost no unevenness was generated.…: Unevenness was generated. As shown in Table 1 above,
In the example of the present invention in which the film B or C is combined, the occurrence of processing unevenness is prevented for any of the processing liquids.

次に、処理槽内における上記各フィルムA、Bおよび
Cの搬送性およびブレードの耐久性(寿命)について調
べた。
Next, the transportability of each of the films A, B and C in the processing tank and the durability (life) of the blade were examined.

その結果を下記表2に示す。 The results are shown in Table 2 below.

なお、フィルム搬送性およびブレード耐久性の評価方
法は、次の通りである。
In addition, the evaluation method of a film conveyance property and blade durability is as follows.

[フィルム搬送性] 処理槽に各フィルムを4000mの長さ分通過させ、その
間にフィルムに加わる張力を連続測定し、その最大値で
評価した。
[Film Conveying Property] Each film was passed through the treatment tank for a length of 4000 m, and the tension applied to the film during that time was continuously measured, and the maximum value was evaluated.

表2中の記号は次の通りである。 The symbols in Table 2 are as follows.

◎…最大張力0.7kgf未満 ○…最大張力0.7kgf以上1.5kgf未満 △…最大張力1.5kgf以上2.2kgf未満 ×…最大張力2.2kgf以上 [ブレード耐久性] 処理槽に各フィルムを4000mの長さ分通過させた後の
ブレードの遮蔽能(シール性)で評価した。なお、この
ブレードの遮蔽能は、処理液加圧下で、ブレード単位長
さ当りの液漏れ量で評価した。
◎… Maximum tension less than 0.7kgf ○… Maximum tension 0.7kgf or more and less than 1.5kgf △… Maximum tension 1.5kgf or more and less than 2.2kgf ×… Maximum tension 2.2kgf or more [Blade durability] Evaluation was made on the shielding ability (sealability) of the blade after passing. The shielding ability of the blade was evaluated by the amount of liquid leakage per unit length of the blade under the pressure of the processing liquid.

表2中の記号は次の通りである。 The symbols in Table 2 are as follows.

◎…液漏れ量2ml未満 ○…液漏れ量2ml以上4ml未満 △…液漏れ量4ml以上8ml未満 ×…液漏れ量8ml以上 上記表2に示すようなに、処理装置またはとフィ
ルムBまたはCとを組み合わせた本発明例では、フィル
ム搬送性およびブレード耐久性が共に優れている。
◎… Leakage less than 2ml ○… Leakage 2ml to less than 4ml △… Liquid leakage 4ml to less than 8ml ×… Liquid leakage 8ml or more As shown in Table 2, in the present invention example in which the processing apparatus or the film B or C is combined, both the film transportability and the blade durability are excellent.

<発明の効果> 以上述べたように、本発明の撮影用感光材料の処理方
法によれば、撮影用感光材料の処理ムラの発生を防止す
ることができる。
<Effects of the Invention> As described above, according to the method for processing a photosensitive material for photography of the present invention, it is possible to prevent the occurrence of processing unevenness in the photosensitive material for photography.

また、特に、処理経路にブレードを設けた場合等にお
いて、撮影用感光材料、特に長尺の撮影用感光材料の搬
送性を向上し、撮影用感光材料の伸びやジャミング事故
を防止するとともに、ブレードの耐久性をも向上する。
In addition, especially when a blade is provided in the processing path, the transportability of the photosensitive material for photography, particularly a long photosensitive material for photography is improved, and the elongation of the photosensitive material for photography and jamming accidents are prevented, and the blade is removed. The durability is also improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は、本発明に用いられる感光材料処理装置の構成
例を示す断面側面図である。 第2図は、本発明に用いられる感光材料処理装置の他の
構成例を示す断面側面図である。 第3図は、第2図中のIII−III線での断面図である。 第4図は、第2図中の通路付近の構成を示す一部切欠き
斜視図である。 第5図は、第2図に示す感光材料処理装置の下端部の構
造を示す断面正面図である。 第6図は、第2図に示す感光材料処理装置における第1
領域および第2領域を示す模式図である。 第7図は、第2図に示す感光材料処理装置における処理
液循環手段の構成例を模式的に示す回路構成図である。 第8a図、第8b図、第8c図および第8d図は、それぞれ、ブ
レードの構成例を拡大して示す断面側面図である。 第9図、第10図、第11図、第12図、第13図および第14図
は、それぞれ、本発明に適用されるフィルムの形状を示
す平面図である。 符号の説明 1A、1B……感光材料処理装置 2、2A……処理層 3A……ハウジング 30A……温水 31A……給水口 32A……排水口 40A……外側槽壁材 50A……内側槽壁材 55A……溝 57A……把手 60A……処理路 61A〜69A……小空間 7A……給液口 8A……排液口 9A……送りローラ 10A、11A……クロスオーバローラ 21、22……側壁 3……ラック 31、32……側板 4a〜4o……ブロック体 42……凹部 43……切欠溝 44……湾曲面 45……突出部 5……処理液循環手段 5A〜5E……管路 51A〜51E……ポンプ 52A〜52E……ヒータ 53……吸入管 54……ノズル 55……先端 56……基端 57……噴出口 6A〜6E……処理室 71〜76……通路 8……スプロケット 81……回転軸 82……主軸 83、84……ベベルギア 85……ローラ 9……ガイド 91……開口 92、93……ガイド 94、95……湾曲面 10……ローラ 11……シール部材 12、13……給液路 14……排液管 15……ブレード 16……温度センサー 17……仕切部材 171、172……端部 18……第1領域 19……第2領域 20……平板 25……リーダ 26……係止孔 27……粘着テープ 28……切欠部 F……フィルム F1……画面 F2……フレーム部 F3……パーフォレーション Q……処理液 R1……漂白液 R2……定着液 R3……漂白定着液
FIG. 1 is a sectional side view showing a configuration example of a photosensitive material processing apparatus used in the present invention. FIG. 2 is a sectional side view showing another example of the configuration of the photosensitive material processing apparatus used in the present invention. FIG. 3 is a sectional view taken along the line III-III in FIG. FIG. 4 is a partially cutaway perspective view showing a configuration near a passage in FIG. FIG. 5 is a sectional front view showing the structure of the lower end portion of the photosensitive material processing apparatus shown in FIG. FIG. 6 is a sectional view of the photosensitive material processing apparatus shown in FIG.
It is a schematic diagram which shows an area | region and a 2nd area | region. FIG. 7 is a circuit diagram schematically showing a configuration example of a processing liquid circulating means in the photosensitive material processing apparatus shown in FIG. 8a, 8b, 8c, and 8d are cross-sectional side views each showing an enlarged configuration example of the blade. FIGS. 9, 10, 11, 12, 13, and 14 are plan views each showing the shape of a film applied to the present invention. Explanation of reference numerals 1A, 1B: photosensitive material processing apparatus 2, 2A: processing layer 3A: housing 30A: hot water 31A: water supply port 32A: drain port 40A: outer tank wall material 50A: inner tank wall Material 55A… Groove 57A… Handle 60A… Processing path 61A-69A… Small space 7A… Liquid supply port 8A… Drainage port 9A… Feed rollers 10A, 11A… Crossover rollers 21, 22… ... Side wall 3 ... Racks 31, 32 ... Side plates 4a-4o ... Block body 42 ... Depression 43 ... Notch groove 44 ... Curved surface 45 ... Protrusion 5 ... Processing liquid circulation means 5A-5E ... Pipes 51A to 51E Pump 52A to 52E Heater 53 Suction pipe 54 Nozzle 55 Tip 56 Bottom 57 Spout 6A to 6E Processing chamber 71 to 76 Passage 8 Sprocket 81 Rotating shaft 82 Main shaft 83, 84 Bevel gear 85 Roller 9 Guide 91 Opening 92, 93 Guide 94, 95 Curved surface 10 Roller 11 … Seal member 12 13 Liquid supply passage 14 Drain pipe 15 Blade 16 Temperature sensor 17 Partition members 171, 172 End 18 First region 19 Second region 20 Flat plate 25 … Leader 26… Lock hole 27… Adhesive tape 28… Notch F… Film F1… Screen F2… Frame F3… Perforation Q… Treatment liquid R 1 … Bleaching liquid R 2 … … Fixing solution R 3 …… Bleaching fixer

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】処理槽内に狭幅の処理路を有し、この狭幅
の処理路で連結された複数の処理室を有し、 処理槽内の前経路長に対する狭幅の通路の合計長が20%
以上98%未満であり、 前記狭幅の処理路に、処理路を遮蔽しうるブレードが設
置されている処理槽を用いて撮影用感光材料を処理する
に際し、 前記撮影用感光材料は、その一方または両方の側端部に
パーフォレーションが形成されており、このパーフォレ
ーションの形成密度が1画面当たり2個以内であること
を特徴とする撮影用感光材料の処理方法。
1. A processing tank having a narrow processing path in a processing tank, a plurality of processing chambers connected by the narrow processing path, and a total of narrow paths with respect to a front path length in the processing tank. Length is 20%
When processing a photographic photosensitive material using a processing tank in which a blade capable of shielding the processing path is installed in the narrow processing path, the photographic photosensitive material is one of the following. Alternatively, a perforation is formed at both side edges, and the formation density of the perforations is within two per screen.
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