JP2731409B2 - Manufacturing method of magnetic head - Google Patents
Manufacturing method of magnetic headInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度磁気記録再生に適した磁気ヘッドの
製造方法に関するものである。The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic head suitable for high-density magnetic recording and reproduction.
従来より、磁気ヘッド本体部におけるギャップ対向面
にセンダスト合金薄膜を形成してなる磁気ヘッドが知ら
れている。この磁気ヘッドには、センダスト合金薄膜と
磁気ヘッド本体部との境界がギャップに対し平行に設定
されたものや、アジマス損失の効果を利用するために非
平行に設定されたものがある。また、磁気ヘッド本体部
としては、非磁性体或いは磁性体のものが使用され、磁
性体を磁気ヘッド本体部に用いたものは磁気ヘッド本体
部を磁路の一部として使えるのでセンダスト合金薄膜の
膜厚を薄くすることができるといった利点を有してい
る。2. Description of the Related Art Conventionally, a magnetic head having a sendust alloy thin film formed on a gap facing surface of a magnetic head main body has been known. In this magnetic head, there are a magnetic head in which the boundary between the sendust alloy thin film and the magnetic head main body is set in parallel with the gap, and a magnetic head in which the boundary is set non-parallel to use the effect of azimuth loss. As the magnetic head body, a non-magnetic or magnetic material is used, and when a magnetic material is used for the magnetic head body, the magnetic head body can be used as a part of the magnetic path. This has the advantage that the film thickness can be reduced.
ところで、上記従来の磁気ヘッドの製造方法にあたっ
ては、磁気ヘッド本体部上に直接センダスト合金薄膜を
形成しており、このようにセンダスト合金薄膜を直接に
形成しただけでは、このセンダスト合金薄膜において十
分な透磁率を得ることができず、磁気ヘッドの性能向上
が図れないという欠点を有していた。例えば、膜厚４μ
ｍ程度のセンダスト合金薄膜の透磁率は、周波数1MHzで
1000〜1500程度であった。By the way, in the above-mentioned conventional method of manufacturing a magnetic head, a sendust alloy thin film is formed directly on a magnetic head main body portion. There was a drawback that the magnetic permeability could not be obtained and the performance of the magnetic head could not be improved. For example, a film thickness of 4μ
The magnetic permeability of Sendust alloy thin film of about m
It was around 1000-1500.
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記の課題を
解決するために、非磁性材料若しくは磁性材料からなる
被成膜部材上に非窒化センダスト合金薄膜を形成する工
程を含む磁気ヘッドの製造方法において、被成膜部材の
被成膜面上に、非窒化センダスト合金薄膜よりも膜厚が
薄い窒化センダスト合金薄膜を形成した後、その窒化セ
ンダスト合金薄膜上に非窒化センダスト合金薄膜を形成
することを特徴としている。In order to solve the above problems, a method for manufacturing a magnetic head according to the present invention includes the step of forming a non-nitride sendust alloy thin film on a film-forming member made of a non-magnetic material or a magnetic material. Forming a sendust nitride alloy thin film having a thickness smaller than that of a non-nitride sendust alloy thin film on a film-forming surface of a member to be deposited, and then forming the non-nitride sendust alloy thin film on the sendust nitride alloy thin film It is characterized by.
上記の方法によれば、窒化されたセンダスト合金薄膜
および非窒化のセンダスト合金薄膜からなる積層膜にお
いて、従来のようにセンダスト合金薄膜を直接形成した
場合と比較して数段高い透磁率を得ることができ、磁気
ヘッドの性能の向上を図ることが可能となる。According to the above-described method, in a laminated film composed of a nitrided sendust alloy thin film and a non-nitrided sendust alloy thin film, it is possible to obtain a several-step higher magnetic permeability as compared with a conventional case where a sendust alloy thin film is directly formed. Thus, the performance of the magnetic head can be improved.
本発明の一実施例を第１図ないし第４図に基づいて説
明すれば、以下の通りである。An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 4.
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法により製造された
磁気ヘッドにおいて、第１図に示すように、磁気ヘッド
本体部（被成膜部材）１・２におけるギャップ対向面
（被成膜面）には、ギャップ３に対して平行な面を有す
る突出部1a・2aがそれぞれ形成されている。この突出部
1a・2aを含むギャップ対向面上には、窒化されたセンダ
スト合金薄膜４と非窒化のセンダスト合金薄膜５とから
なる積層膜６がそれぞれ形成され、当該積層膜６におけ
る窒化センダスト合金薄膜４が前記ギャップ対向面にそ
れぞれ当接して形成されている。In the magnetic head manufactured by the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, as shown in FIG. And protrusions 1a and 2a having a surface parallel to the gap 3 are formed respectively. This protrusion
On the gap facing surface including 1a and 2a, a laminated film 6 composed of a nitrided sendust alloy thin film 4 and a non-nitrided sendust alloy thin film 5 is formed. It is formed in contact with each of the gap opposing surfaces.
上記の積層膜６を有した磁気ヘッド本体部１・２同士
は互いのギャップ対向面におけるギャップ形成部位に非
磁性のギャップ材（図示せず）を介設して突き合わされ
ており、このように突き合わされた状態でガラス７・７
にて互いに固着されている。The magnetic head main bodies 1 and 2 having the above-mentioned laminated film 6 are abutted to the gap forming portions on the surfaces facing each other with a non-magnetic gap material (not shown) interposed therebetween. Glass 7.7 in butted condition
Are fixed to each other.
第２図の磁気ヘッドは、傾斜型の磁気ヘッドを示して
いる。即ち、前記の磁気ヘッドは、合金薄膜である積層
膜６と磁気ヘッド本体部１・２の突出部1a・2aとの境界
面がギャップ３に対して平行であるのに対し、第２図に
示す磁気ヘッドは、磁気ヘッド本体部１・２のギャップ
対向面と積層膜６との境界面がギャップ３に対して非平
行に形成されているものである。かかる磁気ヘッドにお
いても、第１図の磁気ヘッドと同様、ギャップ対向面に
窒化センダスト合金薄膜４と非窒化のセンダスト合金薄
膜５とからなる積層膜６がそれぞれ形成され、当該積層
膜６における窒化センダスト合金薄膜４が前記ギャップ
対向面にそれぞれ当接して形成されている。なお、磁気
ヘッド本体部１・２は、非磁性体若しくは磁性体の何れ
で形成さていてもよいものである。The magnetic head of FIG. 2 shows an inclined magnetic head. That is, in the magnetic head, the boundary surface between the laminated film 6 which is an alloy thin film and the protrusions 1a and 2a of the magnetic head main bodies 1 and 2 is parallel to the gap 3, while FIG. In the magnetic head shown, a boundary surface between the gap opposing surfaces of the magnetic head main bodies 1 and 2 and the laminated film 6 is formed non-parallel to the gap 3. In this magnetic head, similarly to the magnetic head of FIG. 1, a laminated film 6 composed of a sendust nitride alloy thin film 4 and a non-nitrided sendust alloy thin film 5 is formed on the gap opposing surface, respectively. Alloy thin films 4 are formed in contact with the gap opposing surfaces, respectively. The magnetic head main bodies 1 and 2 may be formed of either a non-magnetic material or a magnetic material.
上記の積層膜６を形成するには、第３図に示すよう
に、非磁性体若しくは磁性体の被成膜部材10をアルゴン
と窒素の混合ガス中にセットし、この混合ガス中で反応
性スパッタリングを行って、被成膜面10a上に窒化セン
ダスト合金薄膜４を形成する。上記混合ガスの成分割合
は、後記の第１表に示すように、窒素ガス濃度が15％、
アルゴンガス濃度が85％に設定されており、また、全ガ
ス圧力は0.9Pa、被成膜部材10の温度は150℃に設定され
ている。成膜された窒化センダスト合金薄膜４の膜厚は
500Åである。次に、スパッタリング法により上記の窒
化センダスト合金薄膜４上にセンダスト合金薄膜５を形
成して積層膜６を得る。このときに使用されるガスにお
いて、窒素ガス濃度は０％、アルゴンガス濃度は100％
に設定されており、また、全ガス圧力は0.9Pa、被成膜
部材10の温度は150℃に設定されている。成膜されたセ
ンダスト合金薄膜５の膜厚は４μｍである。To form the laminated film 6, as shown in FIG. 3, the non-magnetic or magnetic film-forming member 10 is set in a mixed gas of argon and nitrogen. The sendust nitride alloy thin film 4 is formed on the film formation surface 10a by sputtering. As shown in Table 1 below, the nitrogen gas concentration was 15%,
The argon gas concentration is set to 85%, the total gas pressure is set to 0.9 Pa, and the temperature of the film-forming member 10 is set to 150 ° C. The thickness of the formed sendust nitride alloy thin film 4 is
500Å. Next, a sendust alloy thin film 5 is formed on the sendust nitride alloy thin film 4 by a sputtering method to obtain a laminated film 6. The gas used at this time has a nitrogen gas concentration of 0% and an argon gas concentration of 100%
The total gas pressure is set to 0.9 Pa, and the temperature of the film-forming member 10 is set to 150 ° C. The film thickness of the formed sendust alloy thin film 5 is 4 μm.
なお、窒化センダスト合金薄膜４を得るには、前記の
反応性スパッタリング法による他、センダスト合金薄膜
をアンモニアガス雰囲気中で熱処理する方法、窒素イオ
ンをセンダスト合金薄膜に打ち込む方法等がある。ま
た、第４図に示すように、上記のセンダスト合金薄膜５
上にSiO2等の非磁性層８を介してさらに窒化センダスト
合金薄膜４を形成し、この窒化センダスト合金薄膜４上
にセンダスト合金薄膜５を形成して合計５層からなる積
層膜６′を得るようにしてもよいものである。The sendust nitride alloy thin film 4 can be obtained by, for example, a method of heat-treating the sendust alloy thin film in an ammonia gas atmosphere or a method of implanting nitrogen ions into the sendust alloy thin film, in addition to the above-described reactive sputtering method. Further, as shown in FIG.
A sendust nitride alloy thin film 4 is further formed thereon via a nonmagnetic layer 8 of SiO 2 or the like, and a sendust alloy thin film 5 is formed on the sendust alloy thin film 4 to obtain a laminated film 6 ′ having a total of five layers. It is also possible to do so.
上記の構成によれば、窒化センダスト合金薄膜４およ
び非窒化センダスト合金薄膜５からなる積層膜６におい
て、従来のようにセンダスト合金薄膜を直接形成した場
合と比較して数段高い透磁率を得ることができ、磁気ヘ
ッドの性能の向上を図ることが可能となる。例えば、被
成膜部材10として熱膨張係数120×10-7（deg-1）の結晶
化ガラスを用い、窒化センダスト合金薄膜４およびセン
ダスト合金薄膜５を共にスパッタリング法により前記の
第１表の設定条件下で形成し、さらに、成膜後に500℃
の窒素ガス雰囲気中で３時間の熱処理を行って得られた
積層膜６の透磁率は、周波数1MHzで3000〜4000であっ
た。この値は、従来のようにセンダスト合金薄膜を直接
形成した場合の同条件下での透磁率1000〜1500の２〜４
倍高い値である。 According to the above configuration, in the laminated film 6 composed of the sendust nitride alloy thin film 4 and the non-nitride sendust alloy thin film 5, a magnetic permeability several steps higher than the conventional case where the sendust alloy thin film is directly formed is obtained. Thus, the performance of the magnetic head can be improved. For example, a crystallized glass having a coefficient of thermal expansion of 120 × 10 −7 (deg −1 ) is used as the film-forming member 10, and both the sendust alloy thin film 4 and the sendust alloy thin film 5 are set by the sputtering method in Table 1 described above. Formed under conditions, and after film formation, 500 ° C
The magnetic permeability of the laminated film 6 obtained by performing the heat treatment in a nitrogen gas atmosphere for 3 hours was 3000 to 4000 at a frequency of 1 MHz. This value is 2 to 4 of the magnetic permeability of 1000 to 1500 under the same conditions when a sendust alloy thin film is directly formed as in the past.
It is twice as high.
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のよう
に、非磁性材料若しくは磁性材料からなる被成膜部材上
に非窒化センダスト合金薄膜を形成する工程を含む磁気
ヘッドの製造方法において、被成膜部材の被成膜面上
に、非窒化センダスト合金薄膜よりも膜厚が薄い窒化セ
ンダスト合金薄膜を形成した後、その窒化センダスト合
金薄膜上に非窒化センダスト合金薄膜を形成するもので
ある。As described above, the method for manufacturing a magnetic head according to the present invention includes the step of forming a non-nitride sendust alloy thin film on a film-forming member made of a non-magnetic material or a magnetic material. A sendust nitride alloy thin film having a smaller thickness than a non-nitride sendust alloy thin film is formed on a deposition surface of a film member, and then a non-nitride sendust alloy thin film is formed on the sendust nitride alloy thin film.
これにより、窒化されたセンダスト合金薄膜および非
窒化のセンダスト合金薄膜からなる積層膜において、従
来のようにセンダスト合金薄膜を直接形成した場合と比
較して数段高い透磁率を得ることができ、記録再生効率
の向上した磁気ヘッドを得ることができるという効果を
奏する。As a result, in the laminated film composed of the nitrided sendust alloy thin film and the non-nitrided sendust alloy thin film, it is possible to obtain several steps higher magnetic permeability as compared with the case where the sendust alloy thin film is directly formed as in the related art. There is an effect that a magnetic head with improved reproduction efficiency can be obtained.
第１図ないし第４図は本発明の一実施例を示すものであ
って、第１図は平行型の磁気ヘッドの斜視図、第２図は
傾斜型の磁気ヘッドの斜視図、第３図は被成膜部材に窒
化センダスト合金薄膜とセンダスト合金薄膜との２層か
らなる積層膜を形成した状態を示す斜視図、第４図は被
成膜部材に窒化センダスト合金薄膜２層とセンダスト合
金薄膜２層と非磁性層との合計５層からなる積層膜を形
成した状態を示す斜視図である。 １・２は磁気ヘッド本体部（被成膜部材）、３はギャッ
プ、４は窒化されたセンダスト合金薄膜、５は非窒化の
センダスト合金薄膜、６は積層膜、７はガラスである。1 to 4 show an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a perspective view of a parallel type magnetic head, FIG. 2 is a perspective view of a tilt type magnetic head, and FIG. FIG. 4 is a perspective view showing a state in which a laminated film composed of two layers of a sendust alloy thin film and a sendust alloy thin film is formed on a member to be deposited, and FIG. 4 is a diagram showing a two-layer sendust alloy thin film and a sendust alloy thin film on the member to be deposited. It is a perspective view showing the state where the lamination film which consists of a total of five layers of two layers and a nonmagnetic layer was formed. Reference numerals 1 and 2 denote a magnetic head main body (film-forming member), 3 denotes a gap, 4 denotes a nitrided sendust alloy thin film, 5 denotes a non-nitrided sendust alloy thin film, 6 denotes a laminated film, and 7 denotes glass.
Claims (1)
膜部材上に非窒化センダスト合金薄膜を形成する工程を
含む磁気ヘッドの製造方法において、 前記被成膜部材の被成膜面上に、前記非窒化センダスト
合金薄膜よりも膜厚が薄い窒化センダスト合金薄膜を形
成した後、該窒化センダスト合金薄膜上に前記非窒化セ
ンダスト合金薄膜を形成することを特徴とする磁気ヘッ
ドの製造方法。1. A method of manufacturing a magnetic head, comprising a step of forming a non-nitride sendust alloy thin film on a film-forming member made of a non-magnetic material or a magnetic material, comprising: A method for manufacturing a magnetic head, comprising: forming a sendust nitride alloy thin film having a thickness smaller than that of the non-nitride sendust alloy thin film, and then forming the non-nitride sendust alloy thin film on the sendust nitride alloy thin film.
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