JP2712564B2 - Photosensitive composition - Google Patents

Photosensitive composition

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JP2712564B2
JP2712564B2 JP1137505A JP13750589A JP2712564B2 JP 2712564 B2 JP2712564 B2 JP 2712564B2 JP 1137505 A JP1137505 A JP 1137505A JP 13750589 A JP13750589 A JP 13750589A JP 2712564 B2 JP2712564 B2 JP 2712564B2
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diisocyanate
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千明 中村
圭一 藤井
紘司 小江
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  • Polyurethanes Or Polyureas (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、感光性平版印刷版の製造に適した感光性組
成物に関するものである。更に詳しくは、塗膜性、経時
安定性等の品質が良好であり、かつ、製造が簡便で安価
な新規ポリウレタン樹脂を使用した光重合性感光性組成
物に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photosensitive composition suitable for producing a photosensitive lithographic printing plate. More specifically, the present invention relates to a photopolymerizable photosensitive composition using a novel polyurethane resin which is excellent in quality such as coating properties and stability over time, is easy to manufacture, and is inexpensive.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、光重合性組成物を利用した画像形成法は数多く
知られている。例えば、付加重合可能なエチレン性不飽
和化合物と、光重合開始剤、更に必要に応じて有機高分
子結合剤、ジアゾ樹脂、着色剤、安定剤等から成る感光
性組成物を調製し、これを無溶媒のまま、又は有機溶媒
に溶解して支持体上に塗布して、感光性組成物の層を設
けた感光材料を作成する方法が知られている。この感光
材料を活性光線により画像露光して露光部分を硬化さ
せ、現像液により未露光部分を除去して、硬化レリーフ
画像を形成することができる。
Conventionally, many image forming methods using a photopolymerizable composition are known. For example, a photosensitive composition comprising an addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound, a photopolymerization initiator, and, if necessary, an organic polymer binder, a diazo resin, a colorant, and a stabilizer is prepared. There is known a method of preparing a photosensitive material provided with a layer of a photosensitive composition by applying the composition on a support without solvent or by dissolving it in an organic solvent. The photosensitive material can be image-exposed with actinic rays to cure the exposed portions, and the unexposed portions can be removed with a developer to form a cured relief image.

このような光重合性組成物は、従来より感光性平版印
刷版、感光性樹脂凸版、スクリーン印刷版、フォトレジ
スト、カラープルーフ等各種の画像形成に利用されてい
る。
Such a photopolymerizable composition has been conventionally used for forming various images such as a photosensitive lithographic printing plate, a photosensitive resin relief plate, a screen printing plate, a photoresist, and a color proof.

光重合性組成物を水性アルカリ現像可能な感光性平版
印刷版に適した感光性画像形成層として利用する場合、
一般に、アルカリ可溶性又は膨潤性の有機高分子結合剤
が常用される。
When the photopolymerizable composition is used as a photosensitive image forming layer suitable for an aqueous alkali developable photosensitive lithographic printing plate,
Generally, alkali-soluble or swellable organic polymer binders are commonly used.

このような有機高分子結合剤としては、例えば、側鎖
にカルボキシル基を有する付加重合体(例えば、メタク
リル酸と他のビニル化合物との共重合体;部分エステル
化マイレン酸共重合体など)、側鎖にエチレン性不飽和
結合とカルボキシル基を有する付加重合体(例えば、カ
ルボキシル基含有ビニル共重合体の一部に、オキシラン
環含有エチレン性不飽和化合物を付加したもの;メタク
リル酸アリルとメタクリル酸との共重合体など)ポリビ
ニルアセタール樹脂及びその変性体(例えば、環状酸無
水物付加体;アルキルホスフィン酸イソシアネート付加
体;イソプロペニルスルホニルイソシアネート付加体な
ど)、側鎖にカルボキシル基を有するポリウレタン樹
脂、側鎖にエチレン性不飽和結合とカルボキシル基を有
するポリウレタン樹脂等が知られている。
Examples of such an organic polymer binder include, for example, an addition polymer having a carboxyl group in a side chain (for example, a copolymer of methacrylic acid and another vinyl compound; a partially esterified maleic acid copolymer and the like), Addition polymers having an ethylenically unsaturated bond and a carboxyl group in the side chain (for example, a carboxyl group-containing vinyl copolymer having a part thereof added with an oxirane ring-containing ethylenically unsaturated compound; allyl methacrylate and methacrylic acid) A polyvinyl acetal resin and a modified product thereof (eg, a cyclic acid anhydride adduct; an alkyl phosphinic acid isocyanate adduct; an isopropenyl sulfonyl isocyanate adduct); a polyurethane resin having a carboxyl group in a side chain; Polyurethane resin having ethylenically unsaturated bond and carboxyl group in side chain It is known.

これらのうち、アリル基とカルボキシル基を側鎖に有
するポリウレタン樹脂を含有する光重合性組成物は、水
性アルカリ現像液で現像でき、酸素による重合阻害の影
響を受けにくく、耐摩耗性があり、高耐刷力の平版印刷
版に応用されている。
Among these, the photopolymerizable composition containing a polyurethane resin having an allyl group and a carboxyl group in the side chain can be developed with an aqueous alkaline developer, is less susceptible to polymerization inhibition by oxygen, has abrasion resistance, It is applied to lithographic printing plates with high printing durability.

このポリウレタン樹脂の製造方法としては、一般に、
有機溶媒中で、カルボキシル基を有するジオール化合物
とジイソシアネート化合物との重付加反応により、カル
ボキシル基を側鎖に有するポリウレタン樹脂を製造し、
次いで、カルボキシル基の一部をアリル基含有ハロゲン
化合物と、塩基存在下で反応させる。更に副生物を除く
ため、多量の水中に投入し、沈殿生成によって分離精製
し、乾燥する工程が取られている。
As a method for producing this polyurethane resin, generally,
In an organic solvent, by a polyaddition reaction of a diol compound having a carboxyl group and a diisocyanate compound, to produce a polyurethane resin having a carboxyl group in a side chain,
Next, a part of the carboxyl group is reacted with an allyl group-containing halogen compound in the presence of a base. Further, in order to remove by-products, a process of throwing into a large amount of water, separating and purifying by precipitation, and drying is adopted.

しかしながら、これらの製造工程は、工業的な大量の
製造には適さなかった。分離精製する工程においては、
作業時の臭気や人体への安全性等の問題があり、大量の
有機溶媒含有廃水の処理が必要であり、更に、含水生成
ポリウレタン樹脂を乾燥するため、大型の乾燥設備が必
要である。その結果、生成ポリウレタン樹脂は高価なも
のであった。
However, these production processes were not suitable for industrial mass production. In the step of separation and purification,
There are problems such as odor at the time of work and safety to the human body, and it is necessary to treat a large amount of wastewater containing an organic solvent. Further, a large-sized drying facility is required to dry the water-containing polyurethane resin. As a result, the resulting polyurethane resin was expensive.

また、アリル基の導入が高分子反応のため、導入率の
制御が難しく、品質の安定したポリウレタン樹脂を得に
くいという問題点があった。
Further, since the introduction of the allyl group is a polymer reaction, there is a problem that it is difficult to control the introduction ratio and it is difficult to obtain a polyurethane resin having stable quality.

更に、この分離精製したポリウレタン樹脂を使用して
感光液を作成し、支持体に塗布した場合、このポリウレ
タン樹脂中に微量残存する不純物が原因とみられる塗布
ムラ、ハジキ、ブツ等が発生しやすいという問題点があ
った。
Furthermore, when a photosensitive solution is prepared using this separated and purified polyurethane resin and applied to a support, coating unevenness, cissing, spots, etc., which are considered to be caused by a trace amount of impurities remaining in the polyurethane resin, are likely to occur. There was a problem.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

本発明が解決しようとする課題は、感光性組成物、特
に、感光性平版印刷版の感光性組成物に用いた場合、塗
膜性、経時安定性等の品質を向上させることができ、か
つ、高耐刷力が得られる感光性組成物を提供することに
ある。また、本発明の他の課題は、製造法が簡便で安価
な新規なポリウレタンを使用した光重合性感光性組成物
を提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is a photosensitive composition, in particular, when used in the photosensitive composition of a photosensitive lithographic printing plate, it is possible to improve quality such as coating properties, stability over time, and Another object of the present invention is to provide a photosensitive composition which can provide high printing durability. Another object of the present invention is to provide a photopolymerizable photosensitive composition using a novel polyurethane which is simple and inexpensive to produce.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は、(A)側鎖にアリル基及びカルボキシル基
を有するポリウレタン樹脂、(B)付加重合可能なエチ
レン性不飽和化合物、(C)光重合開始剤、必要に応じ
て(D)ジアゾ樹脂を含有する感光性組成物において、
該ポリウレタン樹脂として(1)ジイソシアネート化合
物、(2)アリル基を有するジオール化合物及び(3)
カルボキシル基を有するジオール及び/又は、四塩基酸
無水物とを反応させて得られるものを使用することによ
り、上記課題を解決した。
The present invention provides (A) a polyurethane resin having an allyl group and a carboxyl group in a side chain, (B) an ethylenically unsaturated compound capable of addition polymerization, (C) a photopolymerization initiator, and if necessary, (D) a diazo resin. In a photosensitive composition containing
As the polyurethane resin, (1) a diisocyanate compound, (2) a diol compound having an allyl group, and (3)
The problem has been solved by using a product obtained by reacting a diol having a carboxyl group and / or a tetrabasic acid anhydride.

本発明で使用する側鎖にアリル基及びカルボキシル基
を有するポリウレタン樹脂は、次の(イ)または(ロ)
の方法により合成できる。
The polyurethane resin having an allyl group and a carboxyl group in the side chain used in the present invention is the following (A) or (B)
Can be synthesized.

(イ) ジイソシアネート化合物と、アリル基を有する
ジオール化合物及び、カルボキシル基を有するジオール
化合物を含有するジオール成分とを反応させる。
(A) A diisocyanate compound is reacted with a diol compound having an allyl group and a diol component containing a diol compound having a carboxyl group.

(ロ) ジイソシアネート化合物とアリル基を有するジ
オール化合物を含有するジオール成分とをジオール成分
過剰で反応させ、次いで、四塩基酸無水物を反応させ
る。
(B) A diisocyanate compound is reacted with a diol component containing a diol compound having an allyl group in excess of a diol component, and then a tetrabasic acid anhydride is reacted.

本発明で使用するジイソシアネート化合物としては、
例えば、2,4−トリレンジイソシアネート,2,6−トリレ
ンジイソシアネート,p−キシレンジイソシアネート.メ
タキシリレンジイソシアネート,4,4′ジフェニルメタン
ジイソシアネート,1,5−ナフチレンジイソシアネート等
の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレン
ジイソシアネート;トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート,リジンジイソシアネート,ダイマー酸ジイソ
シアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イ
ソホロンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(シ
クロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン
−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシア
ネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂環族ジイソシ
アネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリ
レンジイソシアネート2モルとの付加体等の如きジオー
ルとジイソシアネートから誘導されるジイソシアネート
化合物などが挙げられる。
As the diisocyanate compound used in the present invention,
For example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, p-xylene diisocyanate. Aromatic diisocyanate compounds such as meta-xylylene diisocyanate, 4,4'diphenylmethane diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate; hexamethylene diisocyanate; aliphatic diisocyanate compounds such as trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate, dimer acid diisocyanate; Alicyclic diisocyanate compounds such as isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), methylcyclohexane-2,4 (or 2,6) diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane; Examples thereof include diisocyanate compounds derived from diols and diisocyanates, such as adducts of 1 mol of butylene glycol and 2 mol of tolylene diisocyanate.

アリル基を有するジオール化合物としては、例えば、
グリセロールα−モノアリルエーテル,トリメチロール
プロパンモノアリルエーテル,ペンタエリスリトールジ
アリルエーテル,N,N−ジアリル酒石酸ジアミドなどが挙
げられる。
Examples of the diol compound having an allyl group include, for example,
Glycerol α-monoallyl ether, trimethylolpropane monoallyl ether, pentaerythritol diallyl ether, N, N-diallyl tartaric acid diamide and the like can be mentioned.

カルボキシル基を有するジオール化合物としては、例
えば2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸,2,2
−ビス(ヒドロキシエチル)プロピオン酸,2,2−ビス
(3−ヒドロキシプロピル)プロピオン酸,ビス(ヒド
ロキシメチル)酢酸,3,5−ジヒドロキシ安息香酸,ビス
(4−ヒドロキシフェニル)酢酸,4,4−ビス(4−ヒド
ロキシフェニル)ペンタン酸,酒石酸,N,N−ビス(2−
ヒドロキシエチル)3−カルボキシプロピオンアミドな
どが挙げられる。
Examples of the diol compound having a carboxyl group include 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2
-Bis (hydroxyethyl) propionic acid, 2,2-bis (3-hydroxypropyl) propionic acid, bis (hydroxymethyl) acetic acid, 3,5-dihydroxybenzoic acid, bis (4-hydroxyphenyl) acetic acid, 4,4 -Bis (4-hydroxyphenyl) pentanoic acid, tartaric acid, N, N-bis (2-
(Hydroxyethyl) 3-carboxypropionamide and the like.

また、更に、アリル基又はカルボキシル基を有しない
ジオール化合物を併用することもできる。このようなジ
オール化合物としては、例えば、エチレングリコール,
ジエチレングリコール,トリエチレングリコール,テト
ラエチレングリコール,プロピレングリコール,ジプロ
ピレングリコール,ポリエチレングリコール,ポリプロ
ピレングリコール,ネオペンチルグリコール,1,3−ブチ
レングリコール,1,6−ヘキサンジオール,2−ブテン−1,
4−ジオール,2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオー
ル,1,4−ビス−β−ヒドロキシエトキシシクロヘキサ
ン,シクロヘキサンジメタノール,トリシクロデカンジ
メタノール,水添ビスフェノールA,水添ビスフェノール
F,ビスフェノールAのエチレンオキサイドの付加体,ビ
スフェノールAのプロピレンオキサイド付加体,ビスフ
ェノールFのエチレンオキサイド付加体,ビスフェノー
ルFのプロピレンオキサイド付加体,水添ビスフェノー
ルAのエチレンオキサイド付加体,水添ビスフェノール
Aのプロピレンオキサイド付加体,ヒドロキノンジヒド
ロキシエチルエーテル,p−キシリレングリコール,ビス
(2−ヒドロキシエチル)イソフタレート,ヒドロキノ
ン,ビスフェノールA,ビスフェノールFなどが挙げられ
る。
Further, a diol compound having no allyl group or carboxyl group can be used in combination. Such diol compounds include, for example, ethylene glycol,
Diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, neopentyl glycol, 1,3-butylene glycol, 1,6-hexanediol, 2-butene-1,
4-diol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 1,4-bis-β-hydroxyethoxycyclohexane, cyclohexanedimethanol, tricyclodecanedimethanol, hydrogenated bisphenol A, hydrogenated bisphenol
F, bisphenol A ethylene oxide adduct, bisphenol A propylene oxide adduct, bisphenol F ethylene oxide adduct, bisphenol F propylene oxide adduct, hydrogenated bisphenol A ethylene oxide adduct, hydrogenated bisphenol A Propylene oxide adducts, hydroquinone dihydroxyethyl ether, p-xylylene glycol, bis (2-hydroxyethyl) isophthalate, hydroquinone, bisphenol A, bisphenol F and the like can be mentioned.

上記(イ)法のポリウレタン樹脂は、前記ジイソシア
ネート化合物と、アリル基を有するジオール化合物及び
カルボキシル基を有するジオール化合物を含有するジオ
ール成分と好ましくは有機溶媒中で、必要に応じて触媒
を添加し、室温又は加熱することにより合成される。ジ
イソシアネート化合物及びジオール成分の使用割合は、
ジイソシアネート化合物1モルに対し、ジオール成分を
0.7〜1.3モルの範囲が好ましい。ジオール成分が0.7モ
ル未満又は1.3モルを超える場合には、ポリウレタン樹
脂の分子量が十分に上がらず、十分な耐刷性が得られな
い傾向にあるので好ましくない。また、アリル基を有す
るジオール化合物の使用割合は、ポリウレタン樹脂1000
gに対してアリル基の含有量が0.3モル以上となる様に選
ぶことが好ましい。0.3モル未満の場合には、酸素によ
る重合阻害を受けやすく、また高耐刷力の印刷版が得ら
れない傾向にあるので好ましくない。カルボキシル基を
有するジオール化合物の使用割合は、ポリウレタン樹脂
の酸価10〜200となる様に選ぶことが好ましい。ポリウ
レタン樹脂の酸価が10未満の場合には、水性アルカリ現
像液による現像性が不十分であり、またポリウレタン樹
脂の酸価が200を超える場合は、感脂性,耐刷性が低下
する傾向にあるので好ましくない。
The polyurethane resin of the above-mentioned method (a) is obtained by adding a catalyst as required in the diisocyanate compound, a diol component containing a diol compound having an allyl group and a diol compound having a carboxyl group, preferably in an organic solvent, It is synthesized at room temperature or by heating. The use ratio of the diisocyanate compound and the diol component is
The diol component is added to 1 mole of the diisocyanate compound.
A range from 0.7 to 1.3 moles is preferred. When the diol component is less than 0.7 mol or more than 1.3 mol, the molecular weight of the polyurethane resin is not sufficiently increased, and sufficient printing durability tends not to be obtained. Further, the ratio of the diol compound having an allyl group is 1000 polyurethane resin.
It is preferable to select such that the content of the allyl group is 0.3 mol or more based on g. When the amount is less than 0.3 mol, polymerization is liable to be inhibited by oxygen, and a printing plate having high printing durability tends to be not obtained. The proportion of the diol compound having a carboxyl group is preferably selected so that the acid value of the polyurethane resin is 10 to 200. When the acid value of the polyurethane resin is less than 10, the developability with an aqueous alkali developer is insufficient, and when the acid value of the polyurethane resin exceeds 200, the oil sensitivity and printing durability tend to decrease. Is not preferred.

上記反応には、ウレタン化触媒として、例えば、ジブ
チル錫ジラウレート,ジブチル錫ジアセテート,トリエ
チルアミン,モルホリンなどが使用できる。
In the above reaction, for example, dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, triethylamine, morpholine and the like can be used as a urethanization catalyst.

上記反応に使用できる有機溶媒としては、例えば、塩
化メチレン,クロロホルム,ジクロロエタン,トリクロ
ロエタン,トリクロロエチレン,モノクロルベンゼン,
ジクロルベンゼン,四塩化炭素等の如きハロゲン系溶
媒;ヘキサン,ヘプタン,シクロヘキサン,ベンゼン,
トルエン,キシレン等の如き脂肪族又は脂環族又は芳香
族炭化水素系溶媒;テトラヒドロフラン,ジオキサン,
ジエチルエーテル,エチルプロピルエーテル,ジブチル
エーテル,エチレングリコールジメチルエーテル等の如
きエーテル系溶媒;グリコールメチルエーテルアセテー
ト,グリコールエチルエーテルアセテート,酢酸メチ
ル,酢酸エチル,酢酸ブチル等の如きエステル系溶媒;
アセトン,メチルエチルケトン,メチルイソブチルケト
ン,シクロヘキサノン,4−メチル−4−メトキシ−2−
ペンタノン等の如きケトン系溶媒;アセトニトリル,ジ
メチルホルムアミド,ジメチルアセトアミド,N−メチル
ピロリドン,ニトロベンゼン等の如き含窒素系溶媒;ジ
メチルスルホキシド等が挙げられ、上記の溶媒は単独又
は2種以上混合して使用することもできる。
Examples of the organic solvent that can be used in the above reaction include methylene chloride, chloroform, dichloroethane, trichloroethane, trichloroethylene, monochlorobenzene,
Halogen solvents such as dichlorobenzene and carbon tetrachloride; hexane, heptane, cyclohexane, benzene,
Aliphatic or alicyclic or aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; tetrahydrofuran, dioxane,
Ether solvents such as diethyl ether, ethyl propyl ether, dibutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether; ester solvents such as glycol methyl ether acetate, glycol ethyl ether acetate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate;
Acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 4-methyl-4-methoxy-2-
Ketone solvents such as pentanone; nitrogen-containing solvents such as acetonitrile, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, nitrobenzene and the like; dimethylsulfoxide and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more. You can also.

上記反応においてポリマー末端にイソシアネート基が
残存した場合には、アルコール類,アミン類等で処理す
ることにより未反応のイソシアネート基を不活性化して
おくことが好ましい。
When an isocyanate group remains at the polymer terminal in the above reaction, it is preferable to inactivate an unreacted isocyanate group by treating with an alcohol, an amine or the like.

上記(ロ)法のポリウレタン樹脂は、前記ジイソシア
ネート化合物と、アリル基を有するジオール化合物を含
有するジオール成分とを、ジオール成分過剰下で、好ま
しくは有機溶媒中で、必要に応じて触媒を添加し、室温
又は加熱することによりウレタンジオールを合成し、次
いで、常温又は加熱下で四塩基酸無水物を反応させるこ
とにより合成される。
In the polyurethane resin of the above method (b), the diisocyanate compound and a diol component containing a diol compound having an allyl group may be added with a catalyst, if necessary, in an excess of the diol component, preferably in an organic solvent. The urethane diol is synthesized at room temperature or by heating, and then reacted with a tetrabasic acid anhydride at normal temperature or under heating.

本発明で使用する四塩基酸無水物としては、例えばピ
ロメリット酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノン
テトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ジフェニル
テトラカルボン酸二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテト
ラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカ
ルボン酸二無水物、4,4′−スルホニルジフタル酸二無
水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エー
テル二無水物、4,4′−〔3,3′−(アルキルホスホリル
ジフェニレン)−ビス(イミノカルボニル)〕ジフタル
酸二無水物、グリコールジアセテートとトリメリット酸
無水物の付加体、ヒドロキノンジアセテートとトリメリ
ット酸無水物の付加体、ジアセチルジアミンとトリメリ
ット酸無水物の付加体などの芳香族テトラカルボン酸二
無水物;5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3
−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無
水物(大日本インキ化学工業(株)製、商品名「エピク
ロンB−4400」)、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカ
ルボン酸二無水物、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカ
ルボン酸二無水物、テトラヒドロフランテトラカルボン
酸二無水物などの脂環族テトラカルボン酸二無水物;1,
2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,4,5−ペ
ンタンテトラカルボン酸二無水物などの脂肪族テトラカ
ルボン酸二無水物等が使用できる。
Examples of the tetrabasic acid anhydride used in the present invention include pyromellitic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenyl Tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 1,4,5,8-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 4,4'-sulfonyldiphthalic dianhydride Product, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 4,4 '-[3,3'-(alkyl phosphoryl Diphenylene) -bis (iminocarbonyl)] diphthalic anhydride, adduct of glycol diacetate and trimellitic anhydride, adduct of hydroquinone diacetate and trimellitic anhydride, diacetyldiamine and trimellitic anhydride Aromatic tetraca such as adduct of Rubonic acid dianhydride; 5- (2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3
-Methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride (trade name "Epiclone B-4400", manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated), 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic diacid Anhydrides, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides such as tetrahydrofurantetracarboxylic dianhydride;
Aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as 2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,4,5-pentanetetracarboxylic dianhydride can be used.

ジイソシアネート化合物及びジオール成分の使用割合
は、ジイソシアネート化合物1モルに対し、ジオール成
分を1.05〜2.0モルの範囲が好ましい。また、四塩基酸
無水物の使用量は、ウレタンジオールの水酸基1当量に
対し、四塩基酸無水物の酸無水物基を0.5〜1.0当量とす
ることが好ましい。
The usage ratio of the diisocyanate compound and the diol component is preferably in the range of 1.05 to 2.0 mol of the diol component per 1 mol of the diisocyanate compound. The amount of the tetrabasic acid anhydride used is preferably 0.5 to 1.0 equivalent of the acid anhydride group of the tetrabasic acid anhydride per 1 equivalent of the hydroxyl group of urethanediol.

アリル基の含有量及び酸価は、(イ)法と同様の量と
なる様に選ぶことが好ましい。
The content of the allyl group and the acid value are preferably selected so as to be the same as those in the method (a).

以上の(イ)又は(ロ)の方法により、製造される側
鎖にアリル基及びカルボキシル基を有するポリウレタン
樹脂の重量平均分子量は2,000〜150,000の範囲が好まし
い。
The weight average molecular weight of the polyurethane resin having an allyl group and a carboxyl group in the side chain produced by the above method (a) or (b) is preferably in the range of 2,000 to 150,000.

このようにして得られたポリウレタン樹脂には、付加
重合可能なエチレン性不飽和化合物及び光重合開始剤が
添加され、必要に応じてジアゾ樹脂,着色剤,安定剤等
を添加し、また更に必要に応じて塗布溶媒を追加して、
本発明の光重合性組成物とされる。
An addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound and a photopolymerization initiator are added to the polyurethane resin thus obtained, and a diazo resin, a colorant, a stabilizer, and the like are added as necessary. Add coating solvent according to
It is the photopolymerizable composition of the present invention.

光重合開始剤としては、例えば米国特許第2367661号
明細書に記載されているα−カルボニル化合物,米国特
許第2448828号明細書に記載されているアシロインエー
テル,米国特許第2722512号明細書に記載されているα
−炭化水素置換された芳香族アシロイン化合物,米国特
許第3046127号明細書に記載されている多族キノン化合
物,米国特許第3549367号明細書に記載されているトリ
アリールビイミダゾール・p−アミノフェニルケトンの
組合せ、米国特許第4239850号明細書に記載されている
トリハロメチル−S−トリアジン系化合物,米国特許第
4212970号明細書に記載されているオキサジアゾール系
化合物,米国特許第3751259号明細書に記載されている
アクリジン及びフェナジン化合物,特公昭51−48516号
公報に記載されているベンゾチアゾール系化合物等が挙
げられ、その使用量は組成物の固形分に対して0.5〜0.2
重量%の範囲が好ましい。
Examples of the photopolymerization initiator include α-carbonyl compounds described in US Pat. No. 2,666,661, acyloin ethers described in US Pat. No. 2,448,828, and US Pat. No. 2,722,512. Has been α
Hydrocarbon-substituted aromatic acyloin compounds, polyquinone compounds described in U.S. Pat. No. 3,046,127, and triarylbiimidazole / p-aminophenyl ketones described in U.S. Pat. No. 3,493,367. A trihalomethyl-S-triazine-based compound described in U.S. Pat. No. 4,239,850, U.S. Pat.
Oxadiazole compounds described in 4212970, acridine and phenazine compounds described in U.S. Pat. No. 3,751,259, benzothiazole compounds described in JP-B-51-48516, etc. The amount used is 0.5 to 0.2 with respect to the solid content of the composition.
A range of weight% is preferred.

付加重合可能なエチレン性不飽和化合物は、常圧で沸
点100℃以上で、かつ1分子中に少なくとも1個、好ま
しくは2個以上の付加重合可能なエチレン性不飽和基を
有するモノマー又はオリゴマーである。このようなモノ
マー又はオリゴマーとしては、例えば、ポリエチレング
リコールモノ(メタ)アクリレート〔以下、メタクリレ
ートとアクリレートを総称して、(メタ)アクリレート
と言う。〕、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)ア
クリレート,フェノキシエチル(メタ)アクリレート等
の単官能(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート,ポリプロピレングリコール
ジ(メタ)アクリレート,トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート,ネオペンチルグリコールジ(メ
タ)アクリレート,ペンタエリスリトールトリ(メタ)
アクリレート,ペンタエリスリトールテトラ(メタ)ア
クリレート,ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート,ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト,トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアネレー
ト,多価アルコール・アルキシレンオキサイド付加体の
(メタ)アクリレート,多価フェノール・アルキレンオ
キサイド付加体の(メタ)アクリレート,特公昭48−41
708号、特公昭50−6034号、特開昭51−37193号各公報に
記載されているウレタンアクリレート類,特開昭48−64
183号,特公昭49−43191号,特公昭52−30490号各公報
に記載されているポリエステルアクリレート類,エポキ
シ樹脂と(メタ)アクリル酸を付加させたエポキシアク
リレート類等の多官能(メタ)アクリレートを挙げるこ
とができる。
The addition-polymerizable ethylenically unsaturated compound is a monomer or oligomer having a boiling point of 100 ° C. or more at normal pressure and having at least one, preferably two or more addition-polymerizable ethylenically unsaturated groups in one molecule. is there. As such a monomer or oligomer, for example, polyethylene glycol mono (meth) acrylate [hereinafter, methacrylate and acrylate are collectively referred to as (meth) acrylate]. Monofunctional (meth) acrylates such as polypropylene glycol mono (meth) acrylate and phenoxyethyl (meth) acrylate; polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, Neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth)
Acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanate, (meth) of polyhydric alcohol / alxylene oxide adduct Acrylate, (meth) acrylate of polyhydric phenol / alkylene oxide adduct, JP-B-48-41
Urethane acrylates described in JP-A-708-708, JP-B-50-6034 and JP-A-51-37193;
No. 183, JP-B-49-43191 and JP-B-52-30490, polyfunctional (meth) acrylates such as polyester acrylates and epoxy acrylates obtained by adding epoxy resin and (meth) acrylic acid. Can be mentioned.

これらの付加重合可能なエチレン性不飽和化合物の使
用量は、組成物の固形分に対して5〜70重量%の範囲が
好ましい。
The amount of the ethylenically unsaturated compound capable of undergoing addition polymerization is preferably in the range of 5 to 70% by weight based on the solid content of the composition.

ジアゾ樹脂としては、ジアゾジアリールアミンと活性
カルボニル化合物との縮合物の塩に代表されるジアゾ樹
脂があり、感光性、水不溶性で有機溶媒可溶性のものが
好ましい。
As the diazo resin, there is a diazo resin represented by a salt of a condensate of a diazodiarylamine and an active carbonyl compound, and a photosensitive, water-insoluble and organic solvent-soluble resin is preferable.

特に好適なジアゾ樹脂は、4−ジアゾジフェニルアミ
ン、4−ジアゾ−3−メチルジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−4′−メチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−
3′−メチルジフェニルアミン、4−ジアゾ−4′−メ
トキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メチル−
4′−エトキシジフェニルアミン、4−ジアゾ−3−メ
トキシジフェニルアミン等とホルムアルデヒド、パラホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒ
ド、4,4′−ビス−メトキシメチルジフェニルエーテル
等との縮合物の有機酸塩又は無機酸塩である。
Particularly preferred diazo resins are 4-diazodiphenylamine, 4-diazo-3-methyldiphenylamine, 4-diazo-4'-methyldiphenylamine, 4-diazo-
3'-methyldiphenylamine, 4-diazo-4'-methoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methyl-
Organic or inorganic acid salts of condensates of 4'-ethoxydiphenylamine, 4-diazo-3-methoxydiphenylamine, etc. with formaldehyde, paraformaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, 4,4'-bis-methoxymethyldiphenyl ether, etc. .

有機酸としては、例えば、メタンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン
酸、メシチレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン
酸、ナフタレンスルホン酸、プロピルナフタレンスルホ
ン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−ニトロベ
ンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスルホン酸、2
−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スル
ホン酸、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、ベンゼン
ホスフイン酸等が挙げられ、無機酸としては、ヘキサフ
ルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸、チオシアン酸等
が挙げられる。
Examples of the organic acid include methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid, xylenesulfonic acid, mesitylenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, propylnaphthalenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 2
-Hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, 2,4-dihydroxybenzophenone, benzenephosphinic acid, and the like, and examples of the inorganic acid include hexafluorophosphoric acid, tetrafluoroboric acid, and thiocyanic acid. .

更に、特開昭54−30121号公報に記載の主鎖がポリエ
ステル基であるジアゾ樹脂;特開昭61−273538号公報に
記載の無水カルボン酸残基を有する重合体と、ヒドロキ
シル基を有するジアゾ化合物を反応してなるジアゾ樹
脂;ポリイソシアネート化合物とヒドロキシル基を有す
るジアゾ化合物を反応してなるジアゾ樹脂等も使用しう
る。
Further, a diazo resin having a main chain of a polyester group described in JP-A-54-30121; a polymer having a carboxylic anhydride residue described in JP-A-61-273538, and a diazo resin having a hydroxyl group. A diazo resin obtained by reacting a compound; a diazo resin obtained by reacting a polyisocyanate compound with a diazo compound having a hydroxyl group can also be used.

これらのジアゾ樹脂の使用量は、組成物の固形分に対
して0〜40重量%の範囲が好ましく、また必要に応じ
て、2種以上のジアゾ樹脂を併用してもよい。
The amount of the diazo resin used is preferably in the range of 0 to 40% by weight based on the solid content of the composition, and if necessary, two or more diazo resins may be used in combination.

また、本発明の感光性組成物には、ポリウレタン樹脂
に対して50重量%以下の量で他の有機高分子結合剤を併
用することもできる。このような有機高分子結合剤とし
ては、例えば、アクリル樹脂,ポリアミド樹脂,ポリエ
ステル樹脂,エポキシ樹脂,ポリアセタール樹脂,ポリ
スチレン樹脂,ノボラック樹脂等が挙げられる。
In addition, the photosensitive composition of the present invention may contain another organic polymer binder in an amount of 50% by weight or less based on the polyurethane resin. Examples of such an organic polymer binder include acrylic resin, polyamide resin, polyester resin, epoxy resin, polyacetal resin, polystyrene resin, and novolak resin.

更に、性能向上のために、公知の添加剤、例えば、熱
重合防止剤、染料、顔料、界面活性剤、可塑剤、安定性
向上剤等を加えることができる。
Further, in order to improve the performance, known additives such as a thermal polymerization inhibitor, a dye, a pigment, a surfactant, a plasticizer, and a stability improver can be added.

好適な染料としては、例えば、クリスタルバイオレッ
ト、マイカイグリーン、ビクトリアブルー、メチレンブ
ルー、エチルバイオレット、ローダミンB等の塩基性油
溶性染料等が挙げられる。市販品としては、例えば、
「ビクトリアピュアブルーBOH」(保土谷化学工業
(株)社製)、「オイルブルー#603」(オリエント化
学工業(株)社製)等が挙げられる。顔料としては、例
えば、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリー
ン、ジオキサジンバイオレット、キナクリドンレッド等
が挙げられる。
Suitable dyes include, for example, basic oil-soluble dyes such as crystal violet, Maikai Green, Victoria Blue, methylene blue, ethyl violet, and rhodamine B. As a commercial product, for example,
"Victoria Pure Blue BOH" (manufactured by Hodogaya Chemical Industry Co., Ltd.), "Oil Blue # 603" (manufactured by Orient Chemical Industry Co., Ltd.) and the like. Examples of the pigment include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, dioxazine violet, quinacridone red, and the like.

界面活性剤としては、例えば、アニオン系界面活性
剤、ノニオン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤等が挙
げられる。
Examples of the surfactant include an anionic surfactant, a nonionic surfactant, and a fluorine-based surfactant.

可塑剤としては、例えば、ジエチルフタレート、ジブ
チルフタレート、ジオクチルフタレート、リン酸トリブ
チル、リン酸トリオクチル、リン酸トリクレジル、リン
酸トリ(2−クロロエチル)、クエン酸トリブチル、等
が挙げられる。
Examples of the plasticizer include diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dioctyl phthalate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tricresyl phosphate, tri (2-chloroethyl) phosphate, and tributyl citrate.

更に公知の安定性向上剤として、例えば、リン酸、亜
リン酸、蓚酸、酒石酸、リンゴ酸、クエン酸、ジピコリ
ン酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン
スルホン酸等も併用することができる。
Further, as known stability improvers, for example, phosphoric acid, phosphorous acid, oxalic acid, tartaric acid, malic acid, citric acid, dipicolinic acid, polyacrylic acid, benzenesulfonic acid, toluenesulfonic acid and the like can be used in combination.

これら各種の添加剤の添加量は、その目的によって異
なるが、一般に、本発明の平版印刷版用光重合性組成物
の固形分の0〜30重量%の範囲が好ましい。
The amount of these various additives varies depending on the purpose, but is generally preferably in the range of 0 to 30% by weight of the solid content of the photopolymerizable composition for a lithographic printing plate of the present invention.

更に必要に応じて、塗布溶媒を追加できる。このよう
な塗布溶媒としては、前記のポリウレタン樹脂の製造に
使用される有機溶媒;メタノール,エタノール,プロパ
ノール,ブタノール,テトラヒドロフルフリルアルコー
ル,ベンジルアルコール,ジアセトンアルコール,エチ
レングリコールモノメチルエーテル,エチレングリコー
ルモノエチルエーテル,プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル,エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル,シクロヘキサノール等が挙げられ、それらの混合溶
媒が適当であり、場合によっては、更に水との混合溶媒
も使用できる。
Further, a coating solvent can be added as needed. Examples of such a coating solvent include an organic solvent used for producing the above-mentioned polyurethane resin; methanol, ethanol, propanol, butanol, tetrahydrofurfuryl alcohol, benzyl alcohol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl. Ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, cyclohexanol and the like are suitable, and a mixed solvent thereof is suitable. In some cases, a mixed solvent with water can also be used.

このようにして製造された感光性組成物は、ディップ
塗布,カーテン塗布,ロール塗布,スプレー塗布,ホワ
ラー塗布,スピナー塗布,エアナイフ塗布,ドクターナ
イフ塗布等周知の塗布方法にによって、支持体に塗布さ
れる。
The photosensitive composition thus produced is applied to a support by a known coating method such as dip coating, curtain coating, roll coating, spray coating, wheeler coating, spinner coating, air knife coating, doctor knife coating, and the like. You.

支持体としては、例えば、アルミニウム、亜鉛、銅、
ステンレス、鉄等の金属板;ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリエ
チレン等のプラスチックフィルム;合成樹脂を溶融塗布
あるいは合成樹脂溶液を塗布した紙、プラスチックフィ
ルムに金属層を真空蒸着、ラミネートなどの技術により
設けた複合材料;その他印刷版の支持体として使用され
ている各種の材料が挙げられる。また、金属、特にアル
ミニウムの表面を有する支持体の場合は、砂目立て処
理、陽極酸化処理、親水化処理などの表面処理がなされ
ていることが好ましい。塗布量としては、乾燥重量で通
常約0.5〜約5g/m2である。
As the support, for example, aluminum, zinc, copper,
Metal plate of stainless steel, iron, etc .; plastic film of polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyvinyl acetal, polyethylene, etc .; paper coated with synthetic resin melted or coated with synthetic resin solution, metal layer on plastic film by vacuum evaporation, lamination, etc. Provided composite material; and other various materials used as a support for a printing plate. In the case of a support having a metal surface, particularly an aluminum surface, it is preferable that a surface treatment such as a graining treatment, an anodic oxidation treatment, and a hydrophilic treatment is performed. The amount of coating is usually about 0.5 to about 5 g / m 2 on a dry weight basis.

塗布後、周知の方法により、乾燥して、支持体上に感
光層を設けた感光性平版印刷版が得られる。この感光性
平版印刷版の感光層にネガ画像による像露光を行なって
感光層の露光部分を硬化させ、不溶化せしめた後、水性
アルカリ現像液で現像して未露光部分を溶解除去すれ
ば、支持体上に対応する画像が形成された平版印刷版が
得られる。
After coating, the coating is dried by a known method to obtain a photosensitive lithographic printing plate provided with a photosensitive layer on a support. The photosensitive layer of this photosensitive lithographic printing plate is subjected to image exposure with a negative image to cure the exposed portion of the photosensitive layer, to make it insoluble, and then developed with an aqueous alkaline developer to dissolve and remove the unexposed portion, thereby supporting the photosensitive layer. A lithographic printing plate with the corresponding image formed on the body is obtained.

露光に使用される適当な光源としては、例えば、カー
ボンアーク灯、水銀灯、メタルハライド灯、キセノン
灯、ケミカルランプ、レーザー等が挙げられる。
Suitable light sources used for exposure include, for example, carbon arc lamps, mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, chemical lamps, lasers, and the like.

水性アルカリ現像液としては、例えば、ケイ酸ナトリ
ウム、ケイ酸カリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム、水酸化リチウム、第3リン酸ナトリウム、第2リ
ン酸ナトリウム、第3リン酸アンモニウム、メタケイ酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア水、モノエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールア
ミン、ジイソプロパノールアミン、モノメチルアミン、
ジメチルアミン、トリエチルアミン、等のアルカリ剤を
含む水溶液が挙げられる。更に感光層未露光部の溶解
性、現像液の浸透性を向上させる目的で、イソプロピル
ナフタレンスルホン酸ソーダ、ドデシルベンゼンスルホ
ン酸ソーダ、ラウリルアルコールサルフェートのナトリ
ウム塩、ジアルキルスルホコハク酸ソーダ等のアニオン
界面活性剤;ベンジルアルコール、N−ベンジルエタノ
ールアミン、フェノキシエタノール、ジアセトンアルコ
ール、メチルセロソルブ、イソプロピルアルコール、等
の溶媒を添加することもできる。
Examples of the aqueous alkaline developer include sodium silicate, potassium silicate, potassium hydroxide, sodium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, and sodium metasilicate. , Sodium carbonate, aqueous ammonia, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, diisopropanolamine, monomethylamine,
An aqueous solution containing an alkaline agent such as dimethylamine, triethylamine, or the like can be given. In order to further improve the solubility of the unexposed portion of the photosensitive layer and the permeability of the developer, anionic surfactants such as sodium isopropylnaphthalenesulfonate, sodium dodecylbenzenesulfonate, sodium salt of lauryl alcohol sulfate, and sodium dialkylsulfosuccinate are used. A solvent such as benzyl alcohol, N-benzylethanolamine, phenoxyethanol, diacetone alcohol, methyl cellosolve, or isopropyl alcohol can also be added.

本発明の感光性組成物は、平版印刷版用光重合性組成
物として有用なものであるが、必ずしも、この用途に限
定されるものではなく、樹脂凸版、スクリーン印刷版、
フォトレジスト、カラープルーフ、ホログラム形成材料
等の用途にも使用しうるものである。
The photosensitive composition of the present invention is useful as a photopolymerizable composition for a lithographic printing plate, but is not necessarily limited to this use, and a resin relief plate, a screen printing plate,
It can also be used for applications such as photoresists, color proofs, and hologram forming materials.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例により、具体あ適に説明する
が、本発明はその要旨を越えない限り、以下の実施例に
限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.

(合成例1〜7) 冷却管、撹拌装置を備えた反応器に、第1表に記載し
た種類、量のジイソシアネート化合物、カルボキシル基
を有するジオール化合物、アリル基を有するジオール化
合物及び溶媒を加え、40重量%溶液とした。乾燥窒素ガ
ス雰囲気下で撹拌しつつ、徐々に2時間かけて60℃に昇
温した。次いで、触媒としてジブチル錫ジラウレートを
0.5g加え、更に90℃で、反応性NCOの割合が0.5%以下と
なるまで(約6〜8時間)反応させた。次に、80℃に降
温し、メタノールを10.0g加えて2時間処理することに
よって、側鎖にアリル基及びカルボキシル基を有するポ
リウレタン樹脂溶液を得た。
(Synthesis Examples 1 to 7) To a reactor equipped with a cooling pipe and a stirrer, a diisocyanate compound, a diol compound having a carboxyl group, a diol compound having an allyl group, and a solvent in the types and amounts described in Table 1 were added, A 40% by weight solution was obtained. While stirring in a dry nitrogen gas atmosphere, the temperature was gradually raised to 60 ° C. over 2 hours. Next, dibutyltin dilaurate was used as a catalyst.
0.5 g was added, and the mixture was further reacted at 90 ° C. until the ratio of reactive NCO became 0.5% or less (about 6 to 8 hours). Next, the temperature was lowered to 80 ° C., 10.0 g of methanol was added, and the mixture was treated for 2 hours to obtain a polyurethane resin solution having an allyl group and a carboxyl group in a side chain.

このポリウレタン樹脂の酸価(固形分換算値)及びGP
C分析によって測定した重量平均分子量(ポリスチレン
換算)を第1表に示した。
Acid value (solid content conversion value) and GP of this polyurethane resin
Table 1 shows the weight average molecular weight (in terms of polystyrene) measured by the C analysis.

また、NMR分析、IR分析の結果、ポリウレタン樹脂に
アリル基及びカルボキシル基が導入されていることが確
認された。
Further, as a result of NMR analysis and IR analysis, it was confirmed that an allyl group and a carboxyl group were introduced into the polyurethane resin.

(合成例8) 冷却管、撹拌装置を備えた反応器に4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート250g(1.0モル)、2,2−ビス
(ヒドロキシメチル)プロピオン酸134g(1.0モル)及
び、ジオキサン580gを加え、乾燥窒素ガス雰囲気下で撹
拌した。触媒としてN,N−ジエチルアニリン2gを添加
し、撹拌下8時間加熱還流させた。その後、反応液を水
8、酢酸80mlの溶液中に撹拌しながら投入し、ポリマ
ーを析出させた。このポリマーをロ過、水洗後真空下乾
燥させて、側鎖にカルボキシル基を有するポリウレタン
樹脂370gを得た。このポリウレタン樹脂はGPC分析の結
果、重量平均分子量28,000であり、また、酸価は、138.
5であった。
(Synthesis Example 8) 250 g (1.0 mol) of 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, 134 g (1.0 mol) of 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid and 580 g of dioxane were placed in a reactor equipped with a cooling pipe and a stirring device. In addition, the mixture was stirred under a dry nitrogen gas atmosphere. N, N-diethylaniline (2 g) was added as a catalyst, and the mixture was heated and refluxed for 8 hours with stirring. Thereafter, the reaction solution was poured into a solution of water 8 and acetic acid 80 ml with stirring to precipitate a polymer. The polymer was filtered, washed with water, and dried under vacuum to obtain 370 g of a polyurethane resin having a carboxyl group in a side chain. As a result of GPC analysis, this polyurethane resin had a weight average molecular weight of 28,000, and an acid value of 138.
It was five.

更に、このポリウレタン樹脂80gを冷却管、撹拌装置
を備えた反応器に入れ、ジメチルホルムアミド400mlに
溶解した。この溶液に、トリエチルアミン12.6g(0.124
モル)を加え、80℃に加熱後、アリルブロマイド15.0g
(0.124モル)を撹拌下に10分間かけて滴下した。その
後、2時間撹拌を続けた後、反応液を水8、酢酸400m
lの溶液中に撹拌しながら投入し、ポリマーを析出させ
た。このポリマーをロ過、水洗後、真空下に乾燥させて
側鎖にアリル基とカルボキシル基を有するポリウレタン
樹脂〔比較ポリウレタン樹脂−1〕82gを得た。
Further, 80 g of this polyurethane resin was put into a reactor equipped with a cooling tube and a stirrer, and dissolved in 400 ml of dimethylformamide. To this solution was added 12.6 g of triethylamine (0.124 g).
Mol) and heated to 80 ° C, then 15.0 g of allyl bromide
(0.124 mol) was added dropwise over 10 minutes with stirring. Then, after continuing to stir for 2 hours, the reaction solution was water 8 and acetic acid 400m
The solution was poured into the solution (1) with stirring to precipitate a polymer. The polymer was filtered, washed with water, and dried under vacuum to obtain 82 g of a polyurethane resin having an allyl group and a carboxyl group in a side chain (Comparative polyurethane resin-1).

このポリウレタン樹脂は、酸価が67.0であり、また、
NMR分析、IR分析の結果アリル基及びカルボキシル基が
導入されていることが確認された。
This polyurethane resin has an acid value of 67.0, and
As a result of NMR analysis and IR analysis, it was confirmed that an allyl group and a carboxyl group had been introduced.

(実施例) (1) 感光性平版印刷版の作成 厚さ0.30mm厚のアルミニウム板をナイロンブラシと40
0メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を
砂目立てし、次いで20%硫酸電解液中、電流密度2A/dm2
で陽極酸化処理して、2.7g/m2の酸化皮膜を形成した。
その後、3号ケイ酸ソーダの3%水溶液中、60℃1分間
浸漬処理し水洗乾燥して支持体を得た。
(Example) (1) Preparation of a photosensitive lithographic printing plate A 0.30 mm thick aluminum plate was coated with a nylon brush and 40
A 0-mesh aqueous suspension of pamistone is used to grain the surface, and then the current density is 2 A / dm 2 in a 20% sulfuric acid electrolyte.
To form an oxide film of 2.7 g / m 2 .
Thereafter, the support was immersed in a 3% aqueous solution of No. 3 sodium silicate at 60 ° C. for 1 minute, washed with water and dried to obtain a support.

この支持体に下記感光液をロールコーターで塗布し、
100℃2分間乾燥して感光性平版印刷版を得た。この
時、乾燥塗膜重量は、2.0g/m2であった。
The following photosensitive solution is applied to this support with a roll coater,
The photosensitive lithographic printing plate was obtained by drying at 100 ° C. for 2 minutes. At this time, the weight of the dried coating film was 2.0 g / m 2 .

(2) 平版印刷版の作成 (1)で得られた感光性平版印刷版に網点ネガ画像の
フィルム及び、段差0.15ステップウェッジを密着させ、
これより1m離れた位置に設けた出力1kWのメタルハライ
ドランプ(岩崎電気(株)社製「アイドルフィン100
0」)を用いて85秒間露光した。その後、下記現像液で2
5℃1分間現像して平版印刷版を得た。
(2) Preparation of a lithographic printing plate A film of a dot negative image and a step of 0.15 step wedge are brought into close contact with the photosensitive lithographic printing plate obtained in (1),
A metal halide lamp with an output of 1 kW (1 m from Iwasaki Electric Co., Ltd.)
0 ") for 85 seconds. Then, use the following developer
Development was performed at 5 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate.

(3) 感光性平版印刷版及び平版印刷版の評価 感光性平版印刷版の塗膜性、経時安定性 平版印刷版の耐刷性を評価し、その結果を第1表に示
した。
(3) Evaluation of photosensitive lithographic printing plate and lithographic printing plate Coating properties and aging stability of photosensitive lithographic printing plate The printing durability of the lithographic printing plate was evaluated, and the results are shown in Table 1.

各試験条件を以下に示す。 The test conditions are shown below.

・塗膜性:塗布乾燥後の塗膜状態を目視にて観察し評価
した。
-Coating properties: The coating state after coating and drying was visually observed and evaluated.

・経時安定性:感光性平版印刷版を60℃で湿度75%の状
態で3日間保存し、その後、前記と同一条件で露光、現
像した。感光性平版印刷版製造直後露光、現像したもの
と比較し、非画像部の印刷インキによる地汚れの有無、
現像性等を評価した。
Stability over time: The photosensitive lithographic printing plate was stored at 60 ° C. in a humidity of 75% for 3 days, and then exposed and developed under the same conditions as described above. Immediately after the production of the photosensitive lithographic printing plate, compared with the exposed and developed one,
Developability and the like were evaluated.

・耐刷性:光感度が5段となる露光時間で露光した以外
は、(2)と同様にして平版印刷版を作成した。この平
版印刷版をローランドファボリット印刷機に取り付け、
印刷インキ「GAPS−G紅」(大日本インキ化学工業
(株)製)、湿し水「DH−78」(大日本インキ化学工業
(株)製)の400倍希釈液を用いて印刷を行なった。20
万枚印刷した時点で、網点太り、版とび等が発生せずに
原面に忠実な印刷物が得られるか否かをもって評価し
た。
Printing durability: A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in (2), except that exposure was performed for an exposure time at which the light sensitivity became 5 steps. Attach this lithographic printing plate to Roland Fabolit printing machine,
Printing was performed using a 400-fold diluted solution of the printing ink "GAPS-G Beni" (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) and fountain solution "DH-78" (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.). Was. 20
At the time of printing 10,000 sheets, it was evaluated whether or not a printed matter faithful to the original surface could be obtained without causing dot thickening, plate skipping and the like.

〔発明の効果〕 本発明の感光性組成物は、特定の側鎖にアリル基及び
カルボキシル基を有するポリウレタン樹脂を含有するも
のであり、特に感光性平版印刷版を用いた場合、塗膜
性、経時安定性等の品質を向上させることができ、か
つ、高耐刷力が得られる。また、製造法が簡便で安価な
新規ポリウレタン樹脂を使用するため、本発明の感光性
組成物は、経済的に有利である。
(Effect of the Invention) The photosensitive composition of the present invention contains a polyurethane resin having an allyl group and a carboxyl group in a specific side chain, and particularly when a photosensitive lithographic printing plate is used, coating properties, Quality such as stability over time can be improved, and high printing durability can be obtained. Further, the photosensitive composition of the present invention is economically advantageous because a novel polyurethane resin which is simple and inexpensive to produce is used.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−232217(JP,A) 特開 昭54−53193(JP,A) 特開 平1−245245(JP,A) 特開 昭60−43896(JP,A) 特開 昭59−36246(JP,A) 特開 昭55−717(JP,A) ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-2-232217 (JP, A) JP-A-54-53193 (JP, A) JP-A-1-245245 (JP, A) JP-A-60-1985 43896 (JP, A) JP-A-59-36246 (JP, A) JP-A-55-717 (JP, A)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】(A)側鎖にアリル基及びカルボキシル基
を有するポリウレタン樹脂、(B)付加重合可能なエチ
レン性不飽和化合物、(C)光重合開始剤、必要に応じ
て(D)ジアゾ樹脂を含有する感光性組成物において、
該ポリウレタン樹脂が、 (1)ジイソシアネート化合物、(2)アリル基を有す
るジオール化合物及び(3)カルボキシル基を有するジ
オール化合物及び/又は四塩基酸無水物とを反応させて
得られるものであることを特徴とする感光組成物。
1. A polyurethane resin having an allyl group and a carboxyl group in a side chain, (B) an ethylenically unsaturated compound capable of addition polymerization, (C) a photopolymerization initiator, and if necessary, (D) a diazo compound. In a photosensitive composition containing a resin,
The polyurethane resin is obtained by reacting (1) a diisocyanate compound, (2) a diol compound having an allyl group, and (3) a diol compound having a carboxyl group and / or a tetrabasic acid anhydride. Characteristic photosensitive composition.
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