JP2708171B2 - 干渉計 - Google Patents
干渉計Info
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- JP2708171B2 JP2708171B2 JP63049436A JP4943688A JP2708171B2 JP 2708171 B2 JP2708171 B2 JP 2708171B2 JP 63049436 A JP63049436 A JP 63049436A JP 4943688 A JP4943688 A JP 4943688A JP 2708171 B2 JP2708171 B2 JP 2708171B2
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02001—Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
- G01B9/02007—Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/70—Using polarization in the interferometer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は一般に干渉計に関し、特に高温での安定度の
高い干渉計に関する。
高い干渉計に関する。
干渉計は基準点と可動点との距離の変化を二点間の光
路長の変化を測定することによって測定する。光路長の
変化は可動点から反射した測定ビームと固定経路をたど
る基準ビームとによって生ずる干渉模様のしまの数を数
えることによって測定する。
路長の変化を測定することによって測定する。光路長の
変化は可動点から反射した測定ビームと固定経路をたど
る基準ビームとによって生ずる干渉模様のしまの数を数
えることによって測定する。
光路長(OPL)は、ビームの経路の長さとビームが通
過する媒体の屈折率との積である。一般に、OPLは屈折
率の低い空気を通る多数の線分と、屈折率の高いガラス
または他の或る媒体を通る多数の線分とから構成されて
いる。
過する媒体の屈折率との積である。一般に、OPLは屈折
率の低い空気を通る多数の線分と、屈折率の高いガラス
または他の或る媒体を通る多数の線分とから構成されて
いる。
OPLが、温度変化が測定器の光学要素の屈折率に及ぼ
す影響により変化すると、測定器は、あたかも測定すべ
き距離が変ったかのように、距離の変化を誤って記録す
ることになる。
す影響により変化すると、測定器は、あたかも測定すべ
き距離が変ったかのように、距離の変化を誤って記録す
ることになる。
熱的に生ずる誤差を排除する初期の努力は最大の誤差
源、光学装置の機械的支持体に向けられた。温度変動を
補償するため、支持体は基準ビーム経路内の光学要素の
位置の変化が測定ビーム経路内の要素の位置の変化と同
じであるように配置されていた。
源、光学装置の機械的支持体に向けられた。温度変動を
補償するため、支持体は基準ビーム経路内の光学要素の
位置の変化が測定ビーム経路内の要素の位置の変化と同
じであるように配置されていた。
最近では、干渉計は測定精度を上げる必要のある用
途、たとえば大規模集積回路用ウェハー・ステッパに使
用されてきている。このため更に熱的に発生する誤差を
補償する必要が生じた。
途、たとえば大規模集積回路用ウェハー・ステッパに使
用されてきている。このため更に熱的に発生する誤差を
補償する必要が生じた。
一つの解決法は1984年4月27日に出願され、本出願と
共通に譲渡された同時係属中の米国出願第604,702号
「無効経路最短の膨張計付干渉計(Minimum Deadpath
Inter ferometer and Dilatometer)」に述べられ
ている。開示された装置は基準ビームと測定ビームとに
対して共通の経路を有する干渉計光学装置を組込んでい
る。光学装置を通って同じ経路をたどるビームについて
は、光学要素の寸法または屈折率の変化は両ビームのOP
Lに同等に影響する。この技法は微分干渉計に特に適し
ている。しかしながら、これには複雑な光学装置が必要
であり、このため計器の光学的効率が下り、しかも経費
がかさむ。
共通に譲渡された同時係属中の米国出願第604,702号
「無効経路最短の膨張計付干渉計(Minimum Deadpath
Inter ferometer and Dilatometer)」に述べられ
ている。開示された装置は基準ビームと測定ビームとに
対して共通の経路を有する干渉計光学装置を組込んでい
る。光学装置を通って同じ経路をたどるビームについて
は、光学要素の寸法または屈折率の変化は両ビームのOP
Lに同等に影響する。この技法は微分干渉計に特に適し
ている。しかしながら、これには複雑な光学装置が必要
であり、このため計器の光学的効率が下り、しかも経費
がかさむ。
本発明の目的は、比較的低価格で、光学的効率が高く
あまり複雑でない光学系を備え、かつ心出しや使用が容
易な高熱安定性干渉計を提供することである。
あまり複雑でない光学系を備え、かつ心出しや使用が容
易な高熱安定性干渉計を提供することである。
本発明の好ましい実施例は、基準ビームと測定ビーム
とが熱平衡状態にある光学要素を通る別々の、ただし光
学的には同等の経路をたどる光学系を組込むことによっ
て温度の変化を補償している。すなわち、光学装置の屈
折率の高い媒体を通る光路長は長さは同じであるが、同
じ経路をたどらない。ビームは無理に同じ経路をたどる
ようにはなっていないので、必要な光学要素の数は減
り、より短いOPLを利用することができて、複雑さが減
り、光学的効率が良くなり、心合せが容易になり、費用
が少なくなる。
とが熱平衡状態にある光学要素を通る別々の、ただし光
学的には同等の経路をたどる光学系を組込むことによっ
て温度の変化を補償している。すなわち、光学装置の屈
折率の高い媒体を通る光路長は長さは同じであるが、同
じ経路をたどらない。ビームは無理に同じ経路をたどる
ようにはなっていないので、必要な光学要素の数は減
り、より短いOPLを利用することができて、複雑さが減
り、光学的効率が良くなり、心合せが容易になり、費用
が少なくなる。
本発明の好ましい実施例は第1図に示す平面鏡干渉計
である。干渉計は光源11を使用して基準ビーム13と測定
ビーム15とを発生する。光源11は図面の平面内に直線偏
光した周波数f1の基準ビーム13と図面の平面に垂直に直
線偏向した周波数f2の測定ビームとを発生する2周波数
レーザであるのが好ましい。基準ビーム13と測定ビーム
15とは干渉計の光学アセンブリ20に向い、ここで基準ビ
ーム13は反射して検出器17に戻され、測定ビーム15は可
動測定鏡21に伝えられる。可動鏡21の鏡面22は測定ビー
ムを反射して光学アセンブリ20に戻し、次に検出器17に
戻す。検出器17は混合偏光子を使用して二つのビームを
混合し、光検出器を使用して発生した干渉模様のしまを
検出する。
である。干渉計は光源11を使用して基準ビーム13と測定
ビーム15とを発生する。光源11は図面の平面内に直線偏
光した周波数f1の基準ビーム13と図面の平面に垂直に直
線偏向した周波数f2の測定ビームとを発生する2周波数
レーザであるのが好ましい。基準ビーム13と測定ビーム
15とは干渉計の光学アセンブリ20に向い、ここで基準ビ
ーム13は反射して検出器17に戻され、測定ビーム15は可
動測定鏡21に伝えられる。可動鏡21の鏡面22は測定ビー
ムを反射して光学アセンブリ20に戻し、次に検出器17に
戻す。検出器17は混合偏光子を使用して二つのビームを
混合し、光検出器を使用して発生した干渉模様のしまを
検出する。
本発明の教示によれば、光学アセンブリ20の光学要素
は、基準ビーム13と測定ビーム15とが、その要素が熱的
平衡状態にある光学アセンブリ20を通って等価な光路長
をたどるように配置されている。光学アセンブリ20は、
入射光ビームに対して45°の角を成すビーム分割面24を
備えた偏光ビーム・スプリッタ23と、四分の一波長板25
および27と、キューブ・コーナ29と、から構成されてい
る。四分の一波長板25は両面とも透明であるが、四分の
一波長板27はその一方の表面に高反射率被膜が施されて
いる。四分の一波長板25および27は同じ厚さで且つ同じ
材料で作られている。四分の一波長板25および27はビー
ムが四分の一波長板を2回横切るごとにビームの偏光面
90°だけ効果的に回転させる。このように、光学アセン
ブリ20の基準経路内の要素は測定経路内のその対応物と
材料および大きさが同じになっている。
は、基準ビーム13と測定ビーム15とが、その要素が熱的
平衡状態にある光学アセンブリ20を通って等価な光路長
をたどるように配置されている。光学アセンブリ20は、
入射光ビームに対して45°の角を成すビーム分割面24を
備えた偏光ビーム・スプリッタ23と、四分の一波長板25
および27と、キューブ・コーナ29と、から構成されてい
る。四分の一波長板25は両面とも透明であるが、四分の
一波長板27はその一方の表面に高反射率被膜が施されて
いる。四分の一波長板25および27は同じ厚さで且つ同じ
材料で作られている。四分の一波長板25および27はビー
ムが四分の一波長板を2回横切るごとにビームの偏光面
90°だけ効果的に回転させる。このように、光学アセン
ブリ20の基準経路内の要素は測定経路内のその対応物と
材料および大きさが同じになっている。
基準ビーム13の経路はビーム分割面24により四分の一
波長板27まで反射され、ここでその偏光状態が変る。次
に偏光ビーム・スプリッタ23を通過するビーム13はキュ
ーブ・コーナ29により反射され、再び編光ビーム・スプ
リッタ23を通って四分の一波長板27に戻り、ここで再び
その偏光状態を変える。次に、ビーム13はビーム分割面
24により、その元の経路に平行な経路に沿って検出器17
の方に反射される。
波長板27まで反射され、ここでその偏光状態が変る。次
に偏光ビーム・スプリッタ23を通過するビーム13はキュ
ーブ・コーナ29により反射され、再び編光ビーム・スプ
リッタ23を通って四分の一波長板27に戻り、ここで再び
その偏光状態を変える。次に、ビーム13はビーム分割面
24により、その元の経路に平行な経路に沿って検出器17
の方に反射される。
測定ビーム15は、基準ビーム13と垂直に偏光されてい
るが、ビーム分割面24を通り、四分の一波長板25を通っ
て可動鏡21に達し、ここで光学アセンブリ20の方に反射
して戻され、再び四分の一波長板25を通過する。今度は
ビーム15はビーム分割面24によりキューブ・コーナ29に
向けて反射され、ここでビーム分割面24に戻り、ビーム
分割面24は測定ビーム15を逆に四分の一波長板25を通し
て可動測定鏡21に向け、次に逆に四分の一波長板25を通
す。偏光状態がもう一度変って、測定ビーム15はビーム
分割面24を通って検出器17に達する。
るが、ビーム分割面24を通り、四分の一波長板25を通っ
て可動鏡21に達し、ここで光学アセンブリ20の方に反射
して戻され、再び四分の一波長板25を通過する。今度は
ビーム15はビーム分割面24によりキューブ・コーナ29に
向けて反射され、ここでビーム分割面24に戻り、ビーム
分割面24は測定ビーム15を逆に四分の一波長板25を通し
て可動測定鏡21に向け、次に逆に四分の一波長板25を通
す。偏光状態がもう一度変って、測定ビーム15はビーム
分割面24を通って検出器17に達する。
第1図を検討して、基準ビーム13と測定ビーム15とが
共通経路をたどらない所では、光学アセンブリ20の要素
を通るそれらの光路長が同等であることがわかる。特
に、ビーム・スプリッタおよび四分の一波長板27を通る
基準ビーム13の経路aはビーム・スプリッタおよび四分
の一波長板25を通る測定ビーム15の経路a′と同じ長さ
である。同様に、基準ビーム13の経路bは測定ビーム15
の経路b′と同じ長さである。またビーム分割面24から
キューブ・コーナ29までの、および戻りの経路cは基準
ビーム13と測定ビーム15の両者に共通である。したがっ
て、光学アセンブリ20の温度が変って光学要素の寸法と
屈折率とに影響を与えると、基準ビーム13と測定ビーム
15の光路長は、光学アセンブリ20の要素が熱平衡状態の
ままであれば、同等に影響を受けることになる。
共通経路をたどらない所では、光学アセンブリ20の要素
を通るそれらの光路長が同等であることがわかる。特
に、ビーム・スプリッタおよび四分の一波長板27を通る
基準ビーム13の経路aはビーム・スプリッタおよび四分
の一波長板25を通る測定ビーム15の経路a′と同じ長さ
である。同様に、基準ビーム13の経路bは測定ビーム15
の経路b′と同じ長さである。またビーム分割面24から
キューブ・コーナ29までの、および戻りの経路cは基準
ビーム13と測定ビーム15の両者に共通である。したがっ
て、光学アセンブリ20の温度が変って光学要素の寸法と
屈折率とに影響を与えると、基準ビーム13と測定ビーム
15の光路長は、光学アセンブリ20の要素が熱平衡状態の
ままであれば、同等に影響を受けることになる。
本発明の微分測定への応用を示す別の実施例を第2図
に示す。ここでは光学装置は基準ビームを可動鏡33の近
くに設置した基準鏡31に向けることができるようになっ
ている。これにより測定ビームと基準ビームとの間の
「無効経路」差が最小となり、光学アセンブリと可動鏡
33との間の空中経路に生ずる熱的誤差が更に補償され
る。
に示す。ここでは光学装置は基準ビームを可動鏡33の近
くに設置した基準鏡31に向けることができるようになっ
ている。これにより測定ビームと基準ビームとの間の
「無効経路」差が最小となり、光学アセンブリと可動鏡
33との間の空中経路に生ずる熱的誤差が更に補償され
る。
第2図の実施例では、光学アセンブリ30は偏光ビーム
・スプリッタ35を備えており、これは断面が三角形のポ
ロ・プリズム37から成る複合プリズムであり、入射ビー
ムに対して45°を成す偏光ビーム分割面36を備えてお
り、平行四辺形プリズム34に接続されている。
・スプリッタ35を備えており、これは断面が三角形のポ
ロ・プリズム37から成る複合プリズムであり、入射ビー
ムに対して45°を成す偏光ビーム分割面36を備えてお
り、平行四辺形プリズム34に接続されている。
ビーム・スプリッタ35にはビーム分割面36に平行な鏡
面38がある。光学アセンブリ30はまたキューブ・コーナ
39と四分の一波長板41、43および45とを備えている。透
明な四分の一波長板41、43および45は同じ厚さで且つ同
じ材料で作られている。
面38がある。光学アセンブリ30はまたキューブ・コーナ
39と四分の一波長板41、43および45とを備えている。透
明な四分の一波長板41、43および45は同じ厚さで且つ同
じ材料で作られている。
基準ビーム13はビーム・スプリッタ35に向けられ、こ
こで、その最初の通過時には、ビーム分割面36を通過
し、四分の一波長板41を通って基準鏡31に達し、ここで
反射して再び四分の一波長板41を通ってビーム・スプリ
ッタ35の方に戻される。偏光状態が変って、ビーム13は
今度は面36により反射されて四分の一波長板43を通って
キューブ・コーナ39まで下り、ここで反射され、偏光状
態が変った状態で再び四分の一波長板43を通って戻る。
ビーム13は今度は面36を通ってビーム・スプリッタ35の
鏡面38に達し、ここで四分の一波長板45を通って基準鏡
31に向い、逆に四分の一波長板45を通って面38に達し、
ここでビームは面36の方に下り、ここで検出器17の方に
反射される。
こで、その最初の通過時には、ビーム分割面36を通過
し、四分の一波長板41を通って基準鏡31に達し、ここで
反射して再び四分の一波長板41を通ってビーム・スプリ
ッタ35の方に戻される。偏光状態が変って、ビーム13は
今度は面36により反射されて四分の一波長板43を通って
キューブ・コーナ39まで下り、ここで反射され、偏光状
態が変った状態で再び四分の一波長板43を通って戻る。
ビーム13は今度は面36を通ってビーム・スプリッタ35の
鏡面38に達し、ここで四分の一波長板45を通って基準鏡
31に向い、逆に四分の一波長板45を通って面38に達し、
ここでビームは面36の方に下り、ここで検出器17の方に
反射される。
測定ビーム15は、ビーム13に垂直に偏光されている
が、その最初の通過時に面36により鏡面38に向って反射
され、四分の一波長板45を通って可動測定鏡33に向い、
逆に四分の一波長板45を通って鏡面38に戻る。四分の一
波長板を通過したことにより偏光状態が変って、ビーム
15は下に向って面36を通過し、四分の一波長板43を通っ
てキューブ・コーナ39へ、逆に、偏光状態が変った状態
で再び四分の一波長板43を通って面36に戻り、ここでビ
ーム15は反射されて四分の一波長板41を通って可動測定
鏡33に向い、次に逆に四分の一波長板41を通り、ここで
最後に再びその偏光状態が変った状態で、測定ビーム15
は面36を通って検出器17に達する。
が、その最初の通過時に面36により鏡面38に向って反射
され、四分の一波長板45を通って可動測定鏡33に向い、
逆に四分の一波長板45を通って鏡面38に戻る。四分の一
波長板を通過したことにより偏光状態が変って、ビーム
15は下に向って面36を通過し、四分の一波長板43を通っ
てキューブ・コーナ39へ、逆に、偏光状態が変った状態
で再び四分の一波長板43を通って面36に戻り、ここでビ
ーム15は反射されて四分の一波長板41を通って可動測定
鏡33に向い、次に逆に四分の一波長板41を通り、ここで
最後に再びその偏光状態が変った状態で、測定ビーム15
は面36を通って検出器17に達する。
第2図で基準ビーム13と測定ビーム15との経路を検査
すると、ビームが共通でない経路をたどる所では、それ
らの長さが同等であることが明らかになる。したがっ
て、基準ビーム13の経路a、b、およびcは測定ビーム
15のa′、b′、およびc′と同じ長さである。
すると、ビームが共通でない経路をたどる所では、それ
らの長さが同等であることが明らかになる。したがっ
て、基準ビーム13の経路a、b、およびcは測定ビーム
15のa′、b′、およびc′と同じ長さである。
以上説明したように、本発明を用いることにより、高
熱安定度の良い干渉計を、比較的低価格で、光学的効率
が高く、あまり複雑でない光学系で構成することがで
き、また心出しや使用が容易に行なえるように構成する
ことができる。
熱安定度の良い干渉計を、比較的低価格で、光学的効率
が高く、あまり複雑でない光学系で構成することがで
き、また心出しや使用が容易に行なえるように構成する
ことができる。
第1図は本発明の一実施例による干渉計の概略図、第2
図は本発明の別の実施例による干渉計の概略図である。 11:光源、17:検出器 20:光学アセンブリ、21:可動測定鏡 23:偏光ビーム・スプリッタ 25、27:四分の一波長板 29:キューブ・コーナ
図は本発明の別の実施例による干渉計の概略図である。 11:光源、17:検出器 20:光学アセンブリ、21:可動測定鏡 23:偏光ビーム・スプリッタ 25、27:四分の一波長板 29:キューブ・コーナ
Claims (3)
- 【請求項1】光ビームを発生する光源手段と、 光検出器と、 前記光ビームを基準ビームと測定ビームとに分離するビ
ーム・スプリッタ手段と、 可動測定面に装着され、実質的に光路長を持たない反射
手段と、 前記ビーム・スプリッタ手段と熱平衡状態にあり、該ビ
ーム・スプリッタ手段と協働して、基準経路に沿う前記
基準ビーム、および前記可動測定面上の前記反射手段へ
の往復距離を含む測定経路に沿う前記測定ビームを、そ
れぞれ前記検出器に向けるための光学要素を有する光学
手段と、 を備えて成り、 前記基準経路と前記測定経路とは、屈折率がほぼ同じの
異なる光学要素を通り、前記光学手段を通してほぼ同じ
光路長を有し、前記ビーム・スプリッタ手段および前記
光学手段を通して前記基準経路の光路長および前記測定
経路の光路長において熱的に誘起された変動が互いに補
償されることを特徴とする干渉計。 - 【請求項2】前記光ビームが、平面偏光基準成分と、該
基準成分に垂直な平面偏光測定成分とを備え、 前記ビーム・スプリッタ手段が、前記光源手段からの前
記光ビームが入射する第1の面と、該第1の面と対向す
る第2の面と、該第1の面に隣接する第3の面および第
4の面とを備えた四角形の断面を有し、前記第1の面と
対角線的に平面偏光ビーム・スプリッタ面を備えてお
り、前記光学手段が、前記第2の面に装着された透明の
四分の一波長板と、前記第3の面に装着されたキューブ
・コーナと、前記第4の面に装着された反射型四分の一
波長板とを備え、 前記基準経路が、前記ビーム・スプリッタ手段を通り、
前記反射型四分の一波長板を二度通って、再び前記ビー
ム・スプリッタ手段を通り、前記キューブ・コーナを通
り、前記ビーム・スプリッタ手段を通り、前記反射型四
分の一波長板を二度通って再び前記ビーム・スプリッタ
手段を通り、前記検出器へと入り、 前記測定経路が、前記ビーム・スプリッタ手段を通り、
前記透明の四分の一波長板を通り、前記反射手段に達
し、再び前記透明の四分の一波長板を通り、前記ビーム
・スプリッタ手段を通り、前記キューブ・コーナを通
り、前記ビーム・スプリッタ手段を通り、前記透明の四
分の一波長板を通って前記反射手段に達し、再び前記透
明の四分の一波長板を通り、前記ビーム・スプリッタ手
段を通って前記検出器へ入ることを特徴とする請求項
(1)記載の干渉計。 - 【請求項3】前記光ビームが、平面偏光基準成分と、該
基準成分に垂直な平面偏光測定成分とを備え、 前記ビーム・スプリッタ手段が、 高さ面、底面、および斜面を有し、該斜面上に偏光ビー
ム・スプリッタ面を有するポロ・プリズムと、 前記高さ面に平行で前記光源手段からの光ビームが入射
する第1の面と、該第1の面に隣接し前記斜面に接続さ
れた第2の面と、前記第1の面に平行な第3の面と、前
記第2の面に平行な第4の面とを有し、前記ポロ・プリ
ズムに接続された平行四辺形プリズムと、 を備えた複合プリズムであり、 前記光学手段が、 前記底面上に装着された第1の透明な四分の一波長板
と、該第1の透明な四分の一波長板上に装着されたキュ
ーブ・コーナと、前記高さ面上に装着された第2の透明
な四分の一波長板と、前記平行四辺形プリズムの、前記
第3の面上に装着された第3の透明な四分の一波長板
と、前記第4の面上の反射性被膜とを備え、 前記干渉計が、前記測定面の近くに装着された、実質的
に光路長を有しない固定の反射手段をさらに備え、 前記基準経路が、前記ビーム・スプリッタ手段を通り、
前記第2の四分の一波長板を通って前記固定の反射手段
に達し、再び前記第2の四分の一波長板を通り、前記ビ
ーム・スプリッタ手段を通り、前記第1の四分の一波長
板を通り、前記キューブ・コーナを通り、再び前記第1
の四分の一波長板を通り、前記ビーム・スプリッタ手段
を通って前記反射性被膜に達し、前記第3の四分の一波
長板を通って前記固定の反射手段に達し、再び前記第3
の四分の一波長板を通り、前記ビーム・スプリッタ手段
を通って前記検出器に達し、 前記測定経路が、前記ビーム・スプリッタ手段を通って
前記反射性被膜に達し、前記第3の四分の一波長板を通
って前記測定面上の前記反射手段に達し、再び前記第3
の四分の一波長板を通って前記反射性被膜に達し、前記
ビーム・スプリッタ手段を通り、前記第1の四分の一波
長板を通り、前記キューブ・コーナを通り、再び前記第
1の四分の一波長板を取り、前記ビーム・スプリッタ手
段を通り、前記第2の四分の一波長板を通って前記測定
面上の前記反射手段に達し、再び前記第2の四分の一波
長板を通り、前記ビーム・スプリッタ手段を通って前記
検出器に達する、 ことを特徴とする請求項(1)記載の干渉計。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US020921 | 1987-03-02 | ||
US07/020,921 US4784490A (en) | 1987-03-02 | 1987-03-02 | High thermal stability plane mirror interferometer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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