JP2707178B2 - Rubbing apparatus and rubbing method - Google Patents

Rubbing apparatus and rubbing method

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JP2707178B2 JP3353574A JP35357491A JP2707178B2 JP 2707178 B2 JP2707178 B2 JP 2707178B2 JP 3353574 A JP3353574 A JP 3353574A JP 35357491 A JP35357491 A JP 35357491A JP 2707178 B2 JP2707178 B2 JP 2707178B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の利用分野】本発明は液晶電気光学装置等に用い
られる液晶の配向制御技術に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal alignment control technique used in a liquid crystal electro-optical device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、広い分野で用いられている液晶電
気光学装置を作製する際に欠かせない技術として液晶配
向技術がある。これはTN型、STN型あるいはFLC
型の液晶電気光学装置の場合、液晶の細長い分子をー方
向に制御するための技術であるが、最も広く行われてい
るのは量産性に最も適しているラビング法による配向制
御である。この配向制御法は基板表面あるいは配向膜表
面を綿、或いは化学繊維等のラビング用の布で所定の方
向に擦ることによって液晶分子を同一方向に整列させる
技術である。
2. Description of the Related Art At present, there is a liquid crystal alignment technique as an indispensable technique for manufacturing a liquid crystal electro-optical device used in a wide range of fields. This is TN type, STN type or FLC
In the case of a liquid crystal electro-optical device of the type, it is a technique for controlling elongated molecules of liquid crystal in the minus direction, but the most widely performed is an alignment control by a rubbing method which is most suitable for mass productivity. This alignment control method is a technique in which liquid crystal molecules are aligned in the same direction by rubbing a substrate surface or an alignment film surface with a rubbing cloth such as cotton or chemical fiber in a predetermined direction.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来のラビング工程に
おいては布で基板表面を擦るために静電気が発生する。
液晶電気光学装置、例えば液晶ディスプレイ、特にその
電極構成がドットマトリックスの場合には、多数の細長
い電極が存在するため、このラビング工程で発生した静
電気により、液晶電気光学装置用の基板が電荷を帯び、
特に電極の端部において放電が生じ易くなる。
In the conventional rubbing process, static electricity is generated because the surface of the substrate is rubbed with a cloth.
In the case of a liquid crystal electro-optical device, for example, a liquid crystal display, particularly when the electrode configuration is a dot matrix, a large number of elongated electrodes are present. ,
In particular, discharge is likely to occur at the end of the electrode.

【0004】この放電により、基板の電極表面に形成さ
れた配向膜が傷つけられ、この配向膜の傷により液晶の
配向が乱れるという問題が生じる。近頃の表示の高細化
により電極の幅がより細くなってきており、さらに電極
間の幅も狭くなってきているのに伴い、この問題が大き
くクロ−ズアップされてきた。最近になって、この静電
気の発生を防止する工夫として配向膜をラビング処理す
る際の環境全体の湿度を上げる、或いはラビング装置の
周囲に小型の加湿機を設置することによって、ラビング
装置の近傍のみを加湿する等の方法も採られている。
[0004] This discharge damages the alignment film formed on the electrode surface of the substrate, and causes a problem that the damage of the alignment film disturbs the alignment of the liquid crystal. In recent years, the width of the electrodes has become narrower due to the increase in the size of the display, and the width between the electrodes has become narrower. This problem has been greatly closed up. Recently, as a measure to prevent the generation of this static electricity, raise the humidity of the entire environment when rubbing the alignment film, or install a small humidifier around the rubbing device, so that only the vicinity of the rubbing device is Other methods such as humidification are also employed.

【0005】ラビング処理する際の環境全体を加湿する
方法は、静電気の対策としては最も理想的な方法である
が、このためには、ラビング装置を接地したクリーンル
ーム全体お広い領域を加湿するためにどうしても大型の
加湿機が必要になり、コストが非常に高くなってしま
う。
The method of humidifying the entire environment during the rubbing treatment is the most ideal method as a countermeasure against static electricity. For this purpose, it is necessary to humidify a wide area of the entire clean room in which the rubbing device is grounded. Inevitably, a large humidifier is required, and the cost becomes extremely high.

【0006】それに対し、ラビング装置の周囲に小型の
加湿機を設置した場合、コストはそれほど高くはならな
いが、狭い範囲に加湿を行うため、どうしても場所によ
る湿度の差ができ、静電気をうまく防止できないばかり
ではなく、ラビング装置の近くを作業者等が移動するこ
と等により気流が変化し、湿度分布が不安定になり、こ
の点においても静電気による問題を防ぐことができな
い。
On the other hand, if a small humidifier is installed around the rubbing device, the cost is not so high. However, since humidification is performed in a narrow area, a difference in humidity depending on the location is inevitable and static electricity cannot be prevented effectively. In addition, the air flow changes due to the movement of an operator or the like near the rubbing device, and the humidity distribution becomes unstable. In this respect, the problem caused by static electricity cannot be prevented.

【0007】そのうえ、この場合、部分的に加湿過多の
場所が生じてしまうことが多く、結露が生じる。そのた
め、装置にサビが発生しやすくなり、装置の寿命を短く
してしまうという問題を抱えていた。
[0007] In addition, in this case, there are many places where excessive humidification occurs, and dew condensation occurs. For this reason, there has been a problem that rust easily occurs in the device, and the life of the device is shortened.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】前記問題点を解決するた
め、本発明はラビング用の布が巻かれた回転円筒部には
複数の穴が設けられていて、該円筒部は加湿機と接続さ
れていることを特徴とする。さらに本発明は、円筒部に
設けられた複数の穴を通じてラビング用の布を加湿しな
がら基板表面を擦ることを特徴とするラビング方法を提
供するものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a rotating cylinder portion on which a rubbing cloth is wound, and a plurality of holes, which are connected to a humidifier. It is characterized by having been done. Further, the present invention provides a rubbing method characterized by rubbing a substrate surface while humidifying a rubbing cloth through a plurality of holes provided in a cylindrical portion.

【0009】さらにまた、この円筒は中空構造をしてお
り、この円筒中に加湿機または調湿機に接続された調湿
用円筒がこの中空円筒中を通して設けてあり、各々の円
筒には複数のあなが設けてあり、この孔をとおして、加
湿あるいは調湿された気体をラビング用の布に流して、
湿度を保ちながらラビングするものである。
Further, the cylinder has a hollow structure, and a humidifier or a humidity control cylinder connected to a humidifier is provided through the hollow cylinder in the cylinder. The hole is provided, and through this hole, the humidified or humidified gas is passed through a rubbing cloth,
Rubbing while maintaining humidity.

【0010】以下に図1を使用して説明を行う。図1は
本発明のラビング装置の概略構成図である。円筒3には
ラビング用の布が巻かれており、かつこの円筒には小さ
ななが開けられている。この中空構造の円筒3の概略断
面図を図2(a)に示す。またこの円筒3は調湿機4と
パイプ5で接続されており、調湿された気体を円筒3に
ながすことができる。この気体は円筒3の孔6を通過し
てラビング用の布に湿度をあたえることができる。
A description will be given below with reference to FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a rubbing device of the present invention. A rubbing cloth is wound around the cylinder 3 and a small hole is opened in the cylinder. FIG. 2A is a schematic cross-sectional view of the cylinder 3 having the hollow structure. The cylinder 3 is connected to a humidity controller 4 by a pipe 5 so that the conditioned gas can flow through the cylinder 3. This gas can pass through the hole 6 of the cylinder 3 to give humidity to the rubbing cloth.

【0011】また、図2(B)にあるように、ラビング
用の円筒を中空構造の円筒3とその内側に孔8の開けら
れた調湿用の円筒7を設けた二重構造としてもよい。こ
の中空構造の円筒3と調湿用の円筒7との組み合わせの
場合、加湿過多により、調湿用円筒7内で結露すること
があっても、直接にラビング用の布に接する部分が水滴
に触れないため、ラビング処理に影響が出ない特徴があ
る。
As shown in FIG. 2B, the rubbing cylinder may have a double structure in which a hollow structure cylinder 3 and a humidity control cylinder 7 having a hole 8 formed therein are provided. . In the case of the combination of the hollow structure cylinder 3 and the humidity control cylinder 7, even if dew condensation occurs in the humidity control cylinder 7 due to excessive humidification, the portion directly in contact with the rubbing cloth is exposed to water droplets. There is a feature that the rubbing process is not affected because it is not touched.

【0012】加えて、図2(B)の様に内部の調湿用の
円筒7を外部の中空円筒3に対して斜めに設ける、すな
わち、外側の中空円筒3と調湿用の円筒7とを平行に設
けないことにより、この結露した水分を容易に中空円筒
の外へ取り出せ、水滴があふれて、ラビング用の布を濡
らすことがない。さらに図2(C)に記載したようにこ
の調湿用円筒7の下面に溝を設け積極的に結露した水分
をこの溝に集め、中空円筒外へ取り出すことでより簡単
に水分を円筒外へ取り出すことができる。同様に図2
(D)に記載のように調湿用の円筒7の断面を楕円状に
変形し、かつこの底面付近には孔を設けないことでも同
様効果を得ることができる。
In addition, as shown in FIG. 2 (B), the inner humidity control cylinder 7 is provided obliquely with respect to the outer hollow cylinder 3, that is, the outer hollow cylinder 3 and the humidity control cylinder 7 are connected to each other. Is not provided in parallel, the condensed water can be easily taken out of the hollow cylinder, and the water droplets do not overflow and wet the rubbing cloth. Further, as shown in FIG. 2 (C), a groove is provided on the lower surface of the humidity control cylinder 7 to collect the water which has been actively condensed in this groove, and the water is easily taken out of the hollow cylinder by taking it out of the hollow cylinder. Can be taken out. FIG. 2
As described in (D), the same effect can be obtained by deforming the cross section of the humidity control cylinder 7 into an elliptical shape and not providing a hole near the bottom surface.

【0013】さらに、本発明において、特に円筒部に用
いられた孔ののべ面積が円筒部の側面の表面積の概ね0.
01%以上の時、特に均一な加湿をすることができる。ま
た孔ののべ面積が円筒部の側面の表面積の概ね20%以上
になると円筒の形状(曲面)がまくれてしまい、均一な
ラビングができなくなる場合があるため、孔ののべ面積
は円筒部の表面積の概ね0.01%〜20%が好ましい。
Furthermore, in the present invention, in particular, the total area of the holes used in the cylindrical portion is approximately 0.1% of the surface area of the side surface of the cylindrical portion.
When the content is 01% or more, particularly uniform humidification can be achieved. Also, if the total area of the hole is approximately 20% or more of the surface area of the side surface of the cylindrical part, the shape (curved surface) of the cylinder may be rolled up and uniform rubbing may not be performed. Is preferably about 0.01% to 20% of the surface area.

【0014】また、本発明のその他の発明として、図3
に示すようなラビング装置を提案する。すなわち、配向
処理を行うラビング用の布9を前述のように円筒に巻き
つけるのではなく、帯状にして輪をつくり、終端のない
ラビング用の布9を複数の円筒10、11の外側に配
し、この複数の円筒10、11によって、この帯状の布
9は張力を与え続けられて、ぴんと張っている。
As another invention of the present invention, FIG.
A rubbing device as shown in FIG. That is, the rubbing cloth 9 to be subjected to the orientation treatment is not wound around the cylinder as described above, but is formed into a band, and the rubbing cloth 9 having no end is disposed outside the plurality of cylinders 10 and 11. The plurality of cylinders 10 and 11 keeps the band-shaped cloth 9 stretched while being kept under tension.

【0015】このような装置において、複数の円筒1
0、11の少なくとも1つが中空になっておりかつ複数
の孔が開けられ、この中空の円筒が加湿機あるいは調湿
機に接続されて、これより流される加湿あるいは調湿さ
れた気体により、ラビング用の布9に湿度を与える。こ
のような状態で、帯状の布は回転し、基板2表面を擦る
ものである。
In such an apparatus, a plurality of cylinders 1
At least one of 0 and 11 is hollow and a plurality of holes are formed, and the hollow cylinder is connected to a humidifier or a humidifier, and rubbed by a humidified or humidified gas flowing therefrom. The cloth 9 for use. In such a state, the belt-like cloth rotates and rubs the surface of the substrate 2.

【0016】前述の如き円筒に巻いたラビング用布を巻
くラビング装置の場合、調湿状態や温度状態によって、
ラビング用の布が伸び縮みする。このため、回転してい
るラビング用円筒3の断面が見掛け上円ではなくなり、
基板表面に均等な配向処理を行えないと言う欠点があっ
たが、この様な構成の場合、ラビング用の布が伸びて
も、縮んでも常に均等にラビング布を張ることができ、
かつ基板表面に接する部分の円筒11と布9は常に一定
の一関係で基板2の表面を擦れる為、湿度や温度等の環
境が変化しても、配向処理の程度は一定に保てる特徴を
有する。
In the case of a rubbing device for winding a rubbing cloth wound on a cylinder as described above, depending on the humidity control condition and the temperature condition,
The rubbing cloth expands and contracts. For this reason, the section of the rotating rubbing cylinder 3 is not apparently a circle,
There was a drawback that it was not possible to perform uniform orientation treatment on the substrate surface, but in the case of such a structure, even if the rubbing cloth was stretched, even if it contracted, the rubbing cloth could always be spread evenly,
In addition, since the cylinder 11 and the cloth 9 in contact with the surface of the substrate always rub the surface of the substrate 2 in a fixed relationship, the degree of the alignment treatment can be kept constant even when the environment such as humidity and temperature changes. .

【0017】[0017]

【作用】本発明を用いることによって、ラビング布また
は布が巻かれているロ−ラ−の周囲部に湿度を与え、静
電気の発生を防止することができ、これにより、基板上
の配向膜の表面に損傷を与えずに、配向処理を行うこと
が可能となった。
According to the present invention, the rubbing cloth or the roller around which the cloth is wound can be provided with humidity to prevent the generation of static electricity. The alignment treatment can be performed without damaging the surface.

【0018】[0018]

【実施例】【Example】

〔実施例1〕図1にその概要を示すラビング装置を用い
てラビングを行い、液晶パネルを作製した。以下、この
ラビング装置について説明する。この装置は基板2をテ
−ブル1上にセットし、吸盤により基板2をテ−ブル1
上に固定する。布が巻かれた円筒3が回転を始めるのと
ほぼ同時にテ−ブル1が図中の矢印方向に移動を開始す
る。円筒3の孔の様子を説明するため図2(A)にその
概略断面を示す。表面には多くの孔6が開けられてい
る。そして図1において円筒3の端部に接続された加湿
機4によって加湿された空気が孔6を通って表面に巻か
れた布を加湿する。
[Example 1] Rubbing was performed using a rubbing apparatus whose outline is shown in Fig. 1 to produce a liquid crystal panel. Hereinafter, the rubbing device will be described. In this apparatus, a substrate 2 is set on a table 1, and the substrate 2 is sucked by a suction cup.
Fix on top. The table 1 starts moving in the direction of the arrow in the drawing almost at the same time when the cylinder 3 around which the cloth is wound starts to rotate. FIG. 2A is a schematic cross-sectional view for explaining the state of the holes in the cylinder 3. Many holes 6 are formed on the surface. In FIG. 1, the air humidified by the humidifier 4 connected to the end of the cylinder 3 passes through the hole 6 to humidify the cloth wound on the surface.

【0019】本実施例にて用いた円筒の表面の孔6は1
mmφで2500個あり、円筒の幅は500mm 、直径は100mm な
ので孔6ののべ面積は円筒表面積(横の面を除く)の0.
05%である。本実施例の装置を用いることによって、布
を均一に加湿することができ、静電気による配向膜への
悪影響を排除することができた。
The holes 6 on the surface of the cylinder used in this embodiment
There are 2500 pieces in mmφ, the cylinder width is 500mm, and the diameter is 100mm, so the total area of the hole 6 is less than the cylinder surface area (excluding the horizontal surface).
It is 05%. By using the apparatus of this example, the cloth could be uniformly humidified, and the adverse effect of the static electricity on the alignment film could be eliminated.

【0020】〔実施例2〕図1と同様のラビング装置を
用いてラビングを行い、液晶パネルを作製した。ただ
し、本実施例では図2(B)に示すような2重構造のラ
ビング用円筒3を使用した。この装置は基板2をテ−ブ
ル1上にセットし、吸盤により基板2をテ−ブル1上に
固定する。布が巻かれたラビング用円筒3が図中の矢印
方向に回転を始めるのとほぼ同時にテ−ブル1が図中の
矢印方向に移動をし始める。ラビング用円筒3の内部に
は加湿用円筒7が貫通しており、固定されている。ラビ
ング用円筒3、加湿用円筒7にはともに複数の孔6、8
が設けられおり、加湿用円筒8はその端部にて加湿機4
と接続されている。
Example 2 Rubbing was performed using the same rubbing device as in FIG. 1 to produce a liquid crystal panel. However, in this embodiment, a rubbing cylinder 3 having a double structure as shown in FIG. 2B was used. In this apparatus, the substrate 2 is set on the table 1 and the substrate 2 is fixed on the table 1 by a suction cup. The table 1 starts to move in the direction of the arrow in the figure almost at the same time when the rubbing cylinder 3 on which the cloth is wound starts to rotate in the direction of the arrow in the figure. A humidifying cylinder 7 penetrates and is fixed inside the rubbing cylinder 3. Each of the rubbing cylinder 3 and the humidifying cylinder 7 has a plurality of holes 6 and 8.
The humidifying cylinder 8 has a humidifier 4 at its end.
Is connected to

【0021】この装置は実施例1に示した構造と比較し
た場合、実施例1の構造では加湿された空気が通過する
円筒3に直接布が巻かれているために、条件によっては
水滴が布を部分的に濡らしてしまう場合があるが、本実
施例の装置では加湿用円筒7がラビング用円筒3の内部
に配置され、二重構造となっているために、水滴は加湿
用円筒の周囲に生じるのみでラビング用円筒には付着し
ないので布を部分的に濡らしてしまうことないため、条
件のマ−ジンを〔実施例1〕の装置より広くとることが
できる。
In this apparatus, when compared with the structure shown in Embodiment 1, in the structure of Embodiment 1, the cloth is directly wound on the cylinder 3 through which the humidified air passes. However, in the apparatus of the present embodiment, the humidifying cylinder 7 is disposed inside the rubbing cylinder 3 and has a double structure. And does not adhere to the rubbing cylinder, so that the cloth does not partially wet, so that the margin of conditions can be made wider than that of the apparatus of the first embodiment.

【0022】また特に図2(B)のように円筒7をラビ
ンク用円筒3と平行に配置せず角度をつけることによっ
て加湿用円筒7の周囲に付着した水滴を円筒の端部に流
すことができ、円筒周囲に水がたまっていることを防ぐ
ことができる。さらには加湿用円筒7についた水滴を流
すための溝を設けることも有効である。
In particular, as shown in FIG. 2B, by setting the cylinder 7 not parallel to the Rabink cylinder 3 but at an angle, water droplets adhering to the periphery of the humidifying cylinder 7 can flow to the end of the cylinder. It is possible to prevent water from collecting around the cylinder. Furthermore, it is also effective to provide a groove for flowing water droplets attached to the humidifying cylinder 7.

【0023】〔実施例3〕本実施例では図3に示すよう
にラビング用の布を帯状に終端なく設け、この布を複数
の円筒10、11の外側に配設した。この時、ラビング
用の布はこれら円筒によって張力を与えられ絶えず張っ
た上たいで保持されている。
[Embodiment 3] In this embodiment, as shown in FIG. 3, a rubbing cloth is provided in the form of a strip without an end, and this cloth is arranged outside a plurality of cylinders 10 and 11. At this time, the rubbing cloth is tensioned by these cylinders and kept constantly taut.

【0024】本実施例においては複数の円筒の内円筒1
0を図2(B)のような二重構造とし、この二か所でラ
ビング用の布に対して湿度を与えた。このような構成に
より基板2とラビング用布9およびラビング用円筒11
との関係は温度や湿度が変化しても一定の関係を実現す
ることができた。
In this embodiment, the inner cylinder 1 of a plurality of cylinders
0 was a double structure as shown in FIG. 2 (B), and humidity was applied to the rubbing cloth at these two places. With such a configuration, the substrate 2, the rubbing cloth 9, and the rubbing cylinder 11 are formed.
A constant relationship was realized even when the temperature and humidity changed.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上述べてきたように、本発明を用いる
ことによってラビング時の静電気による悪影響を排除す
ることができるので、均一で高品質の表示を得ることが
でき、かつ小型の加湿で良いため、低コストで、さらに
装置の寿命を長くすることができる。
As described above, by using the present invention, it is possible to eliminate the adverse effects of static electricity during rubbing, so that a uniform and high-quality display can be obtained, and small humidification is required. Therefore, the life of the device can be prolonged at low cost.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のラビング装置の概略構成図FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a rubbing device of the present invention.

【図2】本発明のラビング用円筒部の概略断面図FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a rubbing cylindrical portion of the present invention.

【図3】本発明の他のラビング装置の概略構成図。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of another rubbing device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2・・・基板 3・・・ラビング用円筒 4・・・調湿機 6・・・孔 7・・・調湿用円筒 8・・・孔 9・・・帯状のラビング用布 2 ... substrate 3 ... rubbing cylinder 4 ... humidity controller 6 ... hole 7 ... humidity control cylinder 8 ... hole 9 ... strip-shaped rubbing cloth

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ラビング用の布が巻かれた円筒部が回転
することによって基板表面をラビングする装置であっ
て、 前記円筒部は中空構造を有し、且つ複数の穴が設けられ
ていて、前記円筒部は加湿機または湿度調整機と接続さ
れ、前記加湿機または湿度調整機により加湿あるいは調
湿された気体を前記円筒部の中空部に流し、前記円筒部
に設けられた複数の穴を通じて前記気体を前記ラビング
用の布に流すことを特徴とするラビング装置。
1. A device for rubbing a substrate surface by rotating a cylindrical portion around which a rubbing cloth is wound, wherein the cylindrical portion has a hollow structure and is provided with a plurality of holes, The cylindrical portion is connected to a humidifier or a humidity adjuster, and the gas humidified or humidified by the humidifier or the humidity adjuster flows through the hollow portion of the cylindrical portion.
Rubbing the gas through a plurality of holes provided in
A rubbing device characterized by flowing on a cloth for use .
【請求項2】 布が巻かれたラビング用中空円筒部が回
転することによって基板表面をラビングする装置であっ
て、 前記ラビング用中空円筒部の内部には調湿用円筒部が配
置され、 前記 ラビング用中空円筒部と前記調湿用円筒部にはそれ
ぞれ複数の穴が設けられ 前記調 湿用円筒部は加湿機または湿度調整機に接続され
ていることを特徴とするラビング装置。
2. An apparatus for rubbing the surface of a substrate by rotating a rubbing hollow cylindrical portion wound with a cloth, wherein a humidifying cylindrical portion is disposed inside the rubbing hollow cylindrical portion , it the cylindrical portion for the humidity and the rubbing hollow cylindrical portion
Each plurality of holes provided, rubbing device cylinder for dampening the tone is characterized in that it is connected to a humidifier or humidity regulator.
【請求項3】 請求項2において、ラビング用中空円筒
部と調湿用円筒部は平行に配置されていないことを特徴
とするラビング装置。
3. The rubbing device according to claim 2, wherein the rubbing hollow cylindrical portion and the humidity controlling cylindrical portion are not arranged in parallel.
【請求項4】 請求項3において、調湿用円筒部は非回
転であって、当該円筒部の下部に溝が設けられているこ
とを特徴とするラビング装置。
4. The cylinder according to claim 3, wherein the humidity control cylindrical portion is a non-rotating member.
A rubbing device , wherein the groove is provided in a lower part of the cylindrical portion .
【請求項5】 ラビング用の布が巻かれた円筒部が回転
することによって基板表面をラビングする方法であっ
て、前記円筒部に設けられた複数の穴を通じて前記ラビ
ング用の布に加湿あるいは調湿された気体を流しながら
基板表面をラビングすることを特徴とするラビング方
法。
5. A method for rubbing the surface of a substrate by rotating a cylindrical part around which a rubbing cloth is wound, wherein the rubbing cloth is humidified or adjusted through a plurality of holes provided in the cylindrical part. A rubbing method comprising rubbing the surface of a substrate while flowing a wet gas .
【請求項6】 複数の円筒のうち少なくとも一つに複数
の孔が設けられた中空の円筒を有し、前記複数の孔が設
けられた中空の円筒加湿機または湿度調整機と接
れ、前記加湿機または前記湿度調整機により加湿あるい
は調湿された気体を前記円筒部の中空部に流し、前記円
筒部に設けられた複数の穴を通じて前記気体を前記ラビ
ング用の布に流しながら基板表面をラビングするラビン
グ装置であって、 帯状のラビング用の布は前記複数の円筒の回りに張力を
与えられながら輪に配置され、前記帯状のラビング用の
布を回転させて基板表面をラビングすることを特徴とす
るラビング装置。
6. A hollow cylinder having at least one of a plurality of cylinders provided with a plurality of holes , wherein said plurality of holes are provided.
Cylinder humidifier or humidity regulator and connection of vignetting hollow
Humidification by the humidifier or the humidity controller
Flows the conditioned gas through the hollow part of the cylindrical part,
The gas is supplied to the rabbi through a plurality of holes provided in a cylindrical portion.
A rubbing apparatus for rubbing the surface of a substrate while flowing the cloth for rubbing, wherein the rubbing cloth having a band shape is arranged in a loop while applying tension around the plurality of cylinders , and For rubbing
A rubbing apparatus characterized in that a substrate is rubbed by rotating a cloth .
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