JP2702469B2 - Semiconductor wafer production method - Google Patents

Semiconductor wafer production method

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JP2702469B2
JP2702469B2 JP33898795A JP33898795A JP2702469B2 JP 2702469 B2 JP2702469 B2 JP 2702469B2 JP 33898795 A JP33898795 A JP 33898795A JP 33898795 A JP33898795 A JP 33898795A JP 2702469 B2 JP2702469 B2 JP 2702469B2
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洋一 冨樫
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山形日本電気株式会社
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウェーハの生
産方法に係わり、特に多くの加工工程を必要とする半導
体ウェーハ生産ラインの生産制御方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a semiconductor wafer, and more particularly to a method for controlling a production of a semiconductor wafer production line which requires many processing steps.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体ウェーハ生産ラインは、加工工程
数が300〜500工程と非常に多く、かつ各工程の製
造装置が非常に高価であるために、加工手順通りに製造
装置を一列に並べる様なことはしないで、ジョブショッ
プ方式にすることによって同じ装置を異なる工程で繰り
返し使用し、半導体ウェーハ(複数の半導体ウェーハか
ら構成されるロットの場合も本明細書では単に半導体ウ
ェーハと称す)を加工進行させていく方式を採用してい
る。
2. Description of the Related Art A semiconductor wafer production line has a very large number of processing steps of 300 to 500 steps, and the manufacturing equipment for each step is very expensive. By using a job shop method, the same equipment is repeatedly used in different processes, and a semiconductor wafer (in the case of a lot composed of a plurality of semiconductor wafers, is simply referred to as a semiconductor wafer in this specification). We adopt a method of proceeding.

【0003】従って半導体ウェーハ生産ラインの各製造
装置には、半導体ウェーハの投入順序に関係なく複数の
半導体ウェーハが仕掛る。さらに仕掛った半導体ウェー
ハの納期も品種によってまちまちであり、また投入直後
の半導体ウェーハと入庫直前の半導体ウェーハが同一の
製造装置用の仕掛棚に仕掛る場合もある。
[0003] Accordingly, a plurality of semiconductor wafers are placed in each manufacturing apparatus of the semiconductor wafer production line regardless of the order of loading the semiconductor wafers. Further, the delivery date of the finished semiconductor wafer varies depending on the product type, and the semiconductor wafer immediately after the loading and the semiconductor wafer immediately before the storage may be placed on the same work equipment shelf.

【0004】ここで複数仕掛った半導体ウェーハの中か
ら最優先で処理する半導体ウェーハを決定する方法を図
5を参照して説明する。従来は作業者がある製造装置で
次の半導体ウェーハを処理するために、現在当該製造装
置が半導体ウェーハを処理できる状態になっていること
を確認するか(ステップ1)、製造装置がウェーハを処
理中であるときは、作業者がその処理終了時間を経験と
勘から判断して(ステップ2)、作業者が仕掛棚へ移動
し(ステップ3)、仕掛棚のどの半導体ウェーハを次に
処理するのかの問合せを生産制御装置に対して行ない
(ステップ4)、生産制御装置はあらかじめ作成され入
力された製造計画と、この製造計画に基づいて作業され
た実績から最優先に処理する半導体ウェーハを算出して
作業者に回答していた(ステップ5)。そして作業者は
この生産制御装置からの指示に従い処理する半導体ウェ
ーハをこの製造装置用の仕掛棚から検索し(ステップ
6)、この製造装置で処理を行っていた(ステップ
7)。
Here, a method of determining a semiconductor wafer to be processed with the highest priority from a plurality of semiconductor wafers in process will be described with reference to FIG. Conventionally, in order for a worker to process the next semiconductor wafer with a certain manufacturing apparatus, the operator must confirm that the manufacturing apparatus is currently in a state capable of processing the semiconductor wafer (step 1), or the manufacturing apparatus processes the wafer. If it is in the middle, the worker judges the processing end time from experience and intuition (step 2), moves the worker to the work in progress shelf (step 3), and processes which semiconductor wafer in the work in progress shelf next. Is made to the production control device (step 4), and the production control device calculates the semiconductor wafer to be processed with the highest priority based on the previously prepared and input production plan and the results of work performed based on this production plan. And answered the worker (step 5). Then, the operator searches for a semiconductor wafer to be processed in accordance with an instruction from the production control device from a work in progress rack for the manufacturing device (step 6), and performs processing with the manufacturing device (step 7).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】上述したように従来技
術の半導体ウェーハの生産方法においては、次に処理す
る半導体ウェーハを決定するタイミングは、作業者が生
産制御装置に問い合わせた時点であるために、作業者に
よってそのタイミングが一定でなく、このために以下の
問題が発生する。
As described above, in the conventional semiconductor wafer production method, the timing for determining the next semiconductor wafer to be processed is because the worker inquires the production control device. However, the timing is not constant depending on the operator, which causes the following problem.

【0006】(A)次に処理する半導体ウェーハを決定
するタイミングが早い場合は、生産制御装置によって指
示された半導体ウェーハは製造装置用仕掛棚に一時保管
し、製造装置で処理可能となった場合にその半導体ウェ
ーハの処理を行う。これでは次に処理すると決定されて
いる半導体ウェーハが一時保管している間に、この半導
体ウェーハより優先的に処理しなければならない半導体
ウェーハがこの仕掛棚に仕掛っても、次に処理する半導
体ウェーハは一時保管している半導体ウェーハであると
既に決定されているから、これより前に製造装置に装着
して処理することができない。したがって優先的に処理
しなくてはならない後からの半導体ウェーハが入庫工程
に近い工程の処理であるほど半導体ウェーハの納期厳守
が困難となる。
(A) When the timing of deciding the next semiconductor wafer to be processed is early, the semiconductor wafer specified by the production control device is temporarily stored in a work-in-progress shelf and can be processed by the manufacturing device. Then, the semiconductor wafer is processed. This means that while a semiconductor wafer that is determined to be processed next is temporarily stored, a semiconductor wafer that must be processed in preference to this semiconductor wafer is placed on this work in progress shelf, Since the wafer has already been determined to be a temporarily stored semiconductor wafer, it cannot be mounted in a manufacturing apparatus before this and processed. Therefore, the closer the semiconductor wafer that must be processed preferentially to the process closer to the warehousing process, the more difficult it is to adhere to the delivery date of the semiconductor wafer.

【0007】(B)次に処理する半導体ウェーハを決定
するタイミングが遅い場合は、製造装置の空き時間が多
くなるため、製造装置の稼働率が低下し半導体ウェーハ
の処理数が少なくなり目標生産量を満足することができ
なくなる。
(B) If the timing of deciding the next semiconductor wafer to be processed is late, the idle time of the manufacturing apparatus increases, so that the operating rate of the manufacturing apparatus decreases, the number of semiconductor wafers to be processed decreases, and the target production volume increases. Cannot be satisfied.

【0008】また作業者が生産制御装置からの処理半導
体ウェーハ番号に基づいて半導体ウェーハの所在を検索
するために以下の問題が発生する。
In addition, the following problem occurs because the operator searches for the location of the semiconductor wafer based on the processed semiconductor wafer number from the production control device.

【0009】(C)当該製造装置用仕掛棚に仕掛った半
導体ウェーハが多くなるほど所在の検索に時間がかかり
製造装置の空き時間を作ってしまい結果的に稼働率の低
下となってしまう。
(C) As the number of semiconductor wafers mounted on the work-in-progress work shelf increases, it takes time to search for a location, and a vacant time of the manufacture equipment is created, resulting in a reduction in the operation rate.

【0010】(D)当該製造装置用仕掛棚に仕掛った半
導体ウェーハが多くなるほど生産制御装置から指示され
た処理半導体ウェーハ番号と違う半導体ウェーハを検索
し処理し、このために生産制御装置から指示された半導
体ウェーハの納期厳守が困難になる可能性がある。
(D) As the number of semiconductor wafers mounted on the in-process rack for the manufacturing apparatus increases, a semiconductor wafer different from the processing semiconductor wafer number designated by the production control unit is searched and processed, and for this purpose, the production control unit issues an instruction. There is a possibility that it will be difficult to meet the deadline for delivery of the semiconductor wafer.

【0011】したがって本発明の目的は、製造装置で次
に処理する半導体ウェーハを決定するタイミングを一定
とし、かつ決定された半導体ウェーハの仕掛棚からの検
索を直接目視等による作業者に依存しないことにより、
製造計画の外乱を低減させ半導体ウェーハ投入前に立案
した製造計画通りに生産させることを可能にする有効な
半導体ウェーハの生産方法を提供することにある。
Accordingly, it is an object of the present invention to keep the timing for determining the next semiconductor wafer to be processed in a manufacturing apparatus constant, and not to directly rely on the operator to search for the determined semiconductor wafer from a work-in-progress shelf. By
It is an object of the present invention to provide an effective semiconductor wafer production method capable of reducing disturbance in a production plan and performing production according to a production plan drafted before semiconductor wafer introduction.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、あらか
じめ作成された製造計画および生産実績を比較参照して
生産進捗状況を算出する進捗状況比較算出部と、製造装
置の状態を監視する製造装置状態監視部と、前記製造装
置で処理するために仕掛棚に仕掛った半導体ウェーハを
管理する在庫管理部と、前記製造装置で処理する半導体
ウェーハを前記仕掛棚から自動検索する仕掛棚制御部と
を有するコンピュータ制御システムを構築して、前記製
造装置状態監視部からのタイミング信号により前記進捗
状況比較算出部における生産進捗状況の算出を開始して
次に処理する半導体ウェーハを決定し、その半導体ウェ
ーハを前記仕掛棚制御部により前記仕掛棚から自動検索
する半導体ウェーハの生産方法にある。ここで、前記自
動検索は前記仕掛棚からの前記半導体ウェーハの自動出
庫を含むことができる。また前記タイミングは前記製造
装置のローダが空いた時点で行うことができる。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is characterized by a progress comparison / calculation unit for calculating and referring to a previously created production plan and actual production, and a production monitor for monitoring the state of a production apparatus. A device state monitoring unit, an inventory management unit that manages semiconductor wafers in process on the work in progress for processing by the manufacturing apparatus, and a work in progress control unit that automatically searches for semiconductor wafers to be processed by the manufacturing apparatus from the work in progress shelf To start the calculation of the production progress in the progress comparison and calculation unit by the timing signal from the manufacturing equipment state monitoring unit, determine the next semiconductor wafer to be processed, There is provided a semiconductor wafer production method for automatically retrieving wafers from the in-process shelf by the in-process shelf control unit. Here, the automatic search may include an automatic retrieval of the semiconductor wafer from the in-process shelf. Further, the timing can be performed when the loader of the manufacturing apparatus becomes empty.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】上記半導体ウェーハの生産方法に
よれば、製造装置で次に処理する半導体ウェーハの算出
を製造装置状態監視部からのタイミングにより進捗状況
比較算出部で行うから、タイミングよく最優先の半導体
ウェーハの処理を可能にしかつ製造装置の稼働率を一定
とすることができる。さらに最優先で処理する半導体ウ
ェーハを仕掛棚から自動検索するから作業者の検索ミス
等が無くなり、半導体ウェーハの製造計画通りの生産が
可能となる。
According to the above-described semiconductor wafer production method, the semiconductor wafer to be processed next by the manufacturing apparatus is calculated by the progress state comparison and calculation section based on the timing from the manufacturing apparatus state monitoring section. It is possible to process semiconductor wafers with priority and to keep the operation rate of the manufacturing apparatus constant. Further, since semiconductor wafers to be processed with the highest priority are automatically searched from the work-in-progress shelf, there is no need for operator search errors and the like, and semiconductor wafers can be produced as planned.

【0014】[0014]

【実施例】以下図面を参照して本発明を説明する。図3
は本発明の半導体ウェーハの生産方法が対象とする生産
工程を例示するフローチャートであり、図4は図3の一
部のプロセスにおける工程を例示する図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG.
FIG. 4 is a flowchart illustrating a production process targeted by the semiconductor wafer production method of the present invention, and FIG. 4 is a diagram illustrating steps in a part of the process in FIG.

【0015】図3に示すように、半導体ウェーハを投入
直後、Pウエル形成プロセス、フィールド領域形成プロ
セスを行い、さらに様々な箇所の形成プロセス等を行
い、アルミ配線形成プロセスを行って半導体ウェーハを
入庫する。
As shown in FIG. 3, immediately after the semiconductor wafer is loaded, a P-well formation process and a field region formation process are performed, and further, formation processes of various places are performed, and an aluminum wiring formation process is performed to store the semiconductor wafer. I do.

【0016】図4の左欄に示すようにPウエル形成のた
めには、ウェーハ洗浄、CVD絶縁膜成長、レジスト塗
布、露光、現像、エッチング、レジスト除去、不純物の
イオン注入、活性化熱処理の各工程を順にそれぞれの製
造装置で行う。一方、図4の右欄に示すようにアルミ配
線形成のためには、ウェーハ洗浄、アルミスパッタ、レ
ジスト塗布、露光、現像、エッチング、レジスト除去の
各工程を順にそれぞれの製造装置で行う。図から明らか
なように、投入直後のPウエルの形成と入庫直前のアル
ミ配線形成とは、ウェーハ洗浄、レジスト塗布、露光、
現像、エッチング、レジスト除去の各工程においてそれ
ぞれ同一の製造装置を共通に使用する。
As shown in the left column of FIG. 4, the P-well formation includes wafer cleaning, CVD insulating film growth, resist coating, exposure, development, etching, resist removal, impurity ion implantation, and activation heat treatment. The steps are sequentially performed on each manufacturing apparatus. On the other hand, as shown in the right column of FIG. 4, in order to form an aluminum wiring, each process of wafer cleaning, aluminum sputtering, resist coating, exposure, development, etching, and resist removal is sequentially performed by each manufacturing apparatus. As is clear from the figure, the formation of the P-well immediately after the loading and the formation of the aluminum wiring immediately before the storage are performed by wafer cleaning, resist coating, exposure,
The same manufacturing apparatus is commonly used in each of the development, etching, and resist removal steps.

【0017】したがって投入直後でPウエル形成のため
に半導体ウェーハと入庫直前でアルミ配線形成のための
半導体ウェーハとは、同一の製造装置で処理するために
仕掛棚に仕掛る。
Therefore, the semiconductor wafer for forming the P-well immediately after the loading and the semiconductor wafer for forming the aluminum wiring immediately before the loading are put on the work-in-process shelf for processing by the same manufacturing equipment.

【0018】図1は本発明の一実施例の半導体ウェーハ
の生産方法を行うシステムの全体のブロック図である。
このシステムは、あらかじめ作成された製造計画1と製
造計画1に基づいて生産された生産実績2とを比較参照
して生産進捗状況を算出する進捗状況比較算出部3と、
生産進捗状況算出を開始するタイミング信号を与える製
造装置状態監視部4と、この製造装置用の仕掛棚に仕掛
った半導体ウェーハを管理する在庫管理部5と、進捗状
況比較算出部3で処理することを決定した半導体ウェー
ハを自動で仕掛棚から検索し出庫させさらに運搬指示を
行う仕掛棚制御部6とから構成され、これら各部の全て
はコンピュータにより制御されている。
FIG. 1 is an overall block diagram of a system for performing a method for producing a semiconductor wafer according to one embodiment of the present invention.
The system includes a progress comparison / calculation unit 3 that compares a production plan 1 created in advance with a production result 2 produced based on the production plan 1 to calculate a production progress, and
The processing is performed by a manufacturing apparatus state monitoring unit 4 that provides a timing signal for starting the calculation of the production progress state, an inventory management unit 5 that manages semiconductor wafers mounted on a work-in-progress shelf for this manufacturing apparatus, and a progress state comparison calculation unit 3. The in-process shelf controller 6 automatically retrieves the determined semiconductor wafers from the in-process shelves, retrieves them from the shelf, and issues a transport instruction. All of these components are controlled by a computer.

【0019】次に製造装置の仕掛棚にこの製造装置で処
理する半導体ウェーハが仕掛っている場合の動作につい
て説明する。
Next, the operation when a semiconductor wafer to be processed by this manufacturing apparatus is being mounted on a work in progress rack of the manufacturing apparatus will be described.

【0020】まず、図1の製造装置状態監視部4によっ
て監視されている製造装置でウェーハの処理可能状態に
なった時点や、現在処理中の半導体ウェーハがこの製造
装置のローダから処理室に移動して処理中でありこのロ
ーダが空いてウェーハの装着が可能になった時点等を契
機に、製造装置状態監視部4は製造装置が処理可能もし
くは製造装置のローダへの装着可能となったことを記録
し、生産制御装置である進捗状況比較算出部3に対して
計算開始のタイミングを与える。
First, at the time when a wafer can be processed in the manufacturing equipment monitored by the manufacturing equipment state monitoring unit 4 in FIG. 1, the semiconductor wafer currently being processed is moved from the loader of the manufacturing equipment to the processing chamber. When the loader is empty and a wafer can be mounted when the loader becomes available, the manufacturing apparatus state monitoring unit 4 determines that the manufacturing apparatus can be processed or mounted on the loader of the manufacturing apparatus. And the timing of calculation start is given to the progress comparison / calculation unit 3 which is a production control device.

【0021】次に進捗状況比較算出部3においてこの製
造装置で処理するために仕掛棚に仕掛っている半導体ウ
ェーハのデータを在庫管理部5から抽出し、現在の製造
装置の条件で処理可能かどうか判断する。なお、在庫管
理部5は、製造装置で処理するために仕掛棚に置かれて
いる半導体ウェーハに関するデータを持っている。例え
ば、仕掛っている半導体ウェーハの処理条件が1000
℃の酸化の場合、酸化炉の製造装置が現在1000℃と
なっているかどうか判断する。
Next, the progress comparison / calculation section 3 extracts data of the semiconductor wafers mounted on the work-in-progress shelves from the inventory management section 5 to be processed by this manufacturing apparatus, and determines whether the data can be processed under the current conditions of the manufacturing apparatus. Judge whether. Note that the inventory management unit 5 has data on semiconductor wafers placed on a work-in-progress shelf for processing by the manufacturing apparatus. For example, if the processing condition of the semiconductor wafer being processed is 1000
In the case of oxidation at ° C., it is determined whether or not the manufacturing equipment of the oxidation furnace is at 1000 ° C. at present.

【0022】製造装置の現在の状態が処理可能な場合
は、あらかじめ作成された製造計画1と製造計画1に基
づき作業された生産実績2から製造計画1に対する遅れ
進み具合を算出する。具体的な算出方法はあとから図2
を参照して説明する。
When the current state of the manufacturing apparatus can be processed, the degree of delay progress with respect to the manufacturing plan 1 is calculated from the manufacturing plan 1 created in advance and the production results 2 worked based on the manufacturing plan 1. The specific calculation method will be described later with reference to FIG.
This will be described with reference to FIG.

【0023】この遅れ進み具合の算出結果に基づいて進
捗状況比較算出部3において、仕掛棚に仕掛っている半
導体ウェーハのうちから最優先で処理すべき半導体ウェ
ーハを決定し、仕掛棚制御部6に対し進捗状況比較算出
部3が出庫指示を行うと共に作業者もしくは搬送ロボッ
トに対して運搬先の指示を行う。指示を出した後、製造
装置状態監視部4は製造装置が処理可能状態にあること
を確認する。仕掛棚制御部6は指示された半導体ウェー
ハを仕掛棚から自動検索する。自動検索された半導体ウ
ェーハは、仕掛棚制御部6の制御によるロボットにより
仕掛棚から自動出庫される。自動出庫された半導体ウェ
ーハは、他の搬送ロボットにより所定の製造装置まで搬
送される。あるいは自動出庫された半導体ウェーハは、
進捗状況比較算出部3によるどの製造装置に運搬するの
かの表示パネル等の運搬指示により、作業者が所定の製
造装置まで運搬する。
On the basis of the result of the calculation of the progress of the delay, the progress comparison / calculation section 3 determines a semiconductor wafer to be processed with the highest priority from among the semiconductor wafers in progress on the work-in-progress shelves. In response to this, the progress comparison / calculation unit 3 issues a delivery instruction and gives a worker or a transport robot a transport destination instruction. After issuing the instruction, the manufacturing apparatus state monitoring unit 4 confirms that the manufacturing apparatus is in a processable state. The in-process shelf controller 6 automatically searches for the specified semiconductor wafer from the in-process shelf. The automatically searched semiconductor wafers are automatically unloaded from the in-process shelf by a robot under the control of the in-process shelf control unit 6. The semiconductor wafer that has been automatically unloaded is transferred to a predetermined manufacturing apparatus by another transfer robot. Or semiconductor wafers that were automatically unloaded
The worker transports to a predetermined manufacturing apparatus according to a transportation instruction on a display panel or the like indicating which manufacturing apparatus to transport by the progress comparison / calculation unit 3.

【0024】ここで自動検索について説明する。仕掛棚
制御部6は、仕掛棚に半導体ウェーハが仕掛った場合
に、その半導体ウェーハが入っている箱に付いているI
D(バーコード等)で半導体ウェーハの位置とIDを記
憶する。そして、進捗状況比較算出部3により指示され
た半導体ウェーハの位置とIDに基づいて半導体ウェー
ハを検索する。
Here, the automatic search will be described. When a semiconductor wafer is mounted on the in-process shelf, the work-in-shelf control unit 6 determines whether or not the semiconductor wafer is contained in the box containing the semiconductor wafer.
The position and ID of the semiconductor wafer are stored as D (barcode or the like). Then, the semiconductor wafer is searched based on the position and the ID of the semiconductor wafer specified by the progress comparison / calculation unit 3.

【0025】次に製造装置の前の仕掛棚にウェーハがあ
るが、ウェーハと製造装置の製造処理条件に一致するも
のがない場合、例えば、この製造装置用仕掛棚に仕掛り
半導体ウェーハがあるがその処理条件は1000℃の酸
化であるのに、製造装置が900℃の酸化雰囲気状態で
ある場合について説明する。製造装置状態監視部4は、
製造装置の処理可能状態、すなわち上記例では処理可能
な条件の1000℃に切り替わって1000℃に保持し
たことを認識した時点で、これを進捗状況比較算出部3
に通知する。進捗状況比較算出部3で在庫管理部5から
仕掛り情報を抽出し、1000℃の酸化処理をする半導
体ウェーハのうちから最優先で処理をする半導体ウェー
ハを算出決定する。この決定方法は前述と同様である。
Next, if there is a wafer in the work-in-process shelf in front of the manufacturing apparatus, but there is no wafer that matches the manufacturing processing conditions of the manufacturing apparatus, for example, there is a work-in-progress semiconductor wafer in the work-in-process shelf for the manufacturing apparatus. The case where the processing conditions are oxidation at 1000 ° C. and the manufacturing apparatus is in an oxidizing atmosphere at 900 ° C. will be described. The manufacturing apparatus state monitoring unit 4
When it is recognized that the processing apparatus is in a processable state, that is, in the above example, it has been switched to the processable condition of 1000 ° C. and maintained at 1000 ° C., this is compared with the progress state comparison calculation unit 3
Notify. The progress status comparison / calculation unit 3 extracts the in-process information from the inventory management unit 5 and calculates and determines the semiconductor wafer to be processed with the highest priority among the semiconductor wafers to be oxidized at 1000 ° C. This determination method is the same as described above.

【0026】なお始めに900℃の酸化処理を必要とす
る半導体ウェーハがこの製造装置用仕掛棚に仕掛ってい
た場合は、一般的には製造装置の条件の切り替え前にこ
の半導体ウェーハの処理を行う。この理由は製造装置の
条件の切り替えに時間を必要とするからである。
When a semiconductor wafer requiring an oxidation treatment at 900 ° C. is set on the work equipment shelf, the processing of the semiconductor wafer is generally performed before changing the conditions of the manufacturing equipment. Do. This is because it takes time to switch the conditions of the manufacturing apparatus.

【0027】次に製造装置前の仕掛棚に半導体ウェーハ
が仕掛っていない場合も製造装置状態監視部4で製造装
置の処理可能状態を保持する。そしてその製造装置で処
理可能な半導体ウェーハが仕掛棚に仕掛ったことを仕掛
棚制御部6で認識した時点で進捗状況比較算出部3に通
知する。進捗状況比較算出部3で在庫管理部5から新た
に仕掛った半導体ウェーハの仕掛情報を抽出し、処理条
件が製造装置の現在の処理状態と一致すれば、その半導
体ウェーハを仕掛棚管理部6に対して出庫指示する。
Next, even when a semiconductor wafer is not ready on a work-in-progress shelf in front of the manufacturing apparatus, the manufacturing apparatus state monitoring section 4 keeps the processing state of the manufacturing apparatus. Then, when the in-process shelf control unit 6 recognizes that a semiconductor wafer that can be processed by the manufacturing apparatus has been mounted on the in-process shelf, it notifies the progress status comparison and calculation unit 3. The progress status comparison / calculation unit 3 extracts in-process information of a newly-processed semiconductor wafer from the inventory management unit 5, and if the processing conditions match the current processing state of the manufacturing apparatus, the semiconductor wafer is processed by the in-process shelf management unit 6. Is instructed to leave.

【0028】次に図2を参照して進捗状況算出の一例を
説明する。
Next, an example of calculating the progress will be described with reference to FIG.

【0029】ここで半導体ウェーハA及び半導体ウェー
ハBは、同一製造装置によって同一条件で処理されるた
めにこの制御装置用仕掛棚に仕掛ったもので、この製造
装置が処理可能状態になった場合に半導体ウェーハA及
び半導体ウェーハBともに処理可能である。
Here, the semiconductor wafer A and the semiconductor wafer B are mounted on the control device work shelf because they are processed by the same manufacturing apparatus under the same conditions, and when the manufacturing apparatus becomes ready for processing. In addition, both the semiconductor wafer A and the semiconductor wafer B can be processed.

【0030】進捗状況比較算出部3では、仕掛りウェー
ハの進捗状況を算出するために対象となるウェーハ全て
についてあらかじめ作成された製造計画と生産実績を抽
出する。
The progress comparison / calculation unit 3 extracts a production plan and production results created in advance for all target wafers in order to calculate the progress of the in-process wafer.

【0031】半導体ウェーハAでは、製造計画による製
造予定時刻(□で示す)と作業可能時刻(○で示す)と
の差、すなわち遅れ時間がXA で、製造計画による製造
予定時刻から予定納期までの時間がYA である。
[0031] In the semiconductor wafer A, the difference between the work possible time and production scheduled time due to manufacturing plan (shown by □) (indicated by ○), that is, the delay time is X A, until the scheduled delivery time from production scheduled time due to the manufacturing plan time is Y a.

【0032】半導体ウェーハBでは、製造計画による製
造予定時刻(□で示す)と作業可能時刻(○で示す)と
の差、すなわち遅れ時間がXB で、製造計画による製造
予定時刻から予定納期までの時間がYB である。
[0032] In the semiconductor wafer B, the difference between the work possible time and production scheduled time due to manufacturing plan (shown by □) (indicated by ○), that is, the delay time is X B, until the scheduled delivery time from production scheduled time due to the manufacturing plan Is Y B.

【0033】この場合どちらの半導体ウェーハを優先し
て処理するかは、納期までの残り時間で遅れ時間を割る
ことで決定され、この解(A=X/Y)が大きいほど納
期を厳守することが困難であることがわかる。
In this case, which of the semiconductor wafers is to be preferentially processed is determined by dividing the delay time by the remaining time until the delivery date. The larger the solution (A = X / Y), the more strictly the delivery date is required. Is difficult.

【0034】半導体ウェーハAではAA =XA /YA
あり、現在の状態すなわち作業可能時刻(○)は危険ラ
イン1上に位置している。
In the semiconductor wafer A, A A = X A / Y A , and the current state, that is, the operable time (○) is located on the danger line 1.

【0035】半導体ウェーハBではAB =XB /YB
これは、半導体ウェーハAのAA より大きな値であり、
このために半導体ウェーハBの現在の状態すなわち作業
可能時刻(○)は危険ライン1よりシャープに立ち上っ
た危険ライン2上に位置している。このことは半導体ウ
ェーハBを半導体ウェーハAよりも優先して処理する必
要があることを示している。
In the semiconductor wafer B, A B = X B / Y B , which is larger than A A of the semiconductor wafer A,
For this reason, the current state of the semiconductor wafer B, that is, the operable time (て い る) is located on the danger line 2 rising sharply from the danger line 1. This indicates that the semiconductor wafer B needs to be processed prior to the semiconductor wafer A.

【0036】したがってこの場合は半導体ウェーハBを
優先に処理する様に制御することで納期の厳守を可能と
する。
Accordingly, in this case, the delivery date can be strictly controlled by controlling the semiconductor wafer B to be processed preferentially.

【0037】なお上述の処理においては、製造計画1か
ら比較算出部3に対して製造予定時刻、予定納期、処理
予定時間、搬送予定時間が通知される。生産実績2から
は、仕掛り工程、すなわち、開始・終了時刻、搬送時間
等が比較計算部3へ通知される。この場合の作業可能時
刻は、計算開始時刻(状態監視部4が比較計算部3へ半
導体ウェーハ払い出し要求を出した時刻)と、搬送予定
時間と、段取り予定時間との和である。
In the above-described processing, the production schedule 1 notifies the comparison calculation unit 3 of the estimated production time, the estimated delivery date, the estimated processing time, and the estimated transportation time. From the production record 2, the in-process process, that is, the start / end time, the transport time, and the like are notified to the comparison calculation unit 3. The operable time in this case is the sum of the calculation start time (the time at which the state monitoring unit 4 issues a semiconductor wafer payout request to the comparison calculation unit 3), the scheduled transfer time, and the scheduled setup time.

【0038】[0038]

【発明の効果】以上説明したように本発明によって以下
の効果が得られる。
As described above, the following effects can be obtained by the present invention.

【0039】製造装置の処理可能状態もしくは装着可能
状態を契機に製造装置状態監視部からの信号により進捗
状況比較算出部で次に処理する半導体ウェーハを決定
し、作業者にこの次に処理する半導体ウェーハを検索さ
せないで、自動的に検索するために製造計画通りの生産
が可能となり納期の厳守ができる。
The semiconductor wafer to be processed next is determined by the progress status comparison / calculation unit based on a signal from the manufacturing device state monitoring unit when the processable state or the mountable state of the manufacturing apparatus is triggered. Since the wafer is automatically searched without being searched, the production can be performed according to the manufacturing plan, and the delivery date can be strictly observed.

【0040】また製造装置からの要求で次に処理する半
導体ウェーハを決定してその半導体ウェーハの処理を行
うために、製造装置の稼働率を一定とすることができ
る。
Further, since the semiconductor wafer to be processed next is determined according to a request from the manufacturing apparatus and the semiconductor wafer is processed, the operating rate of the manufacturing apparatus can be kept constant.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例の半導体ウェーハの生産シス
テムの全体を示すブロック図である。
FIG. 1 is a block diagram showing an entire semiconductor wafer production system according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例における半導体ウェーハ処理
決定方法の例を説明する図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a semiconductor wafer processing determination method according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の半導体ウェーハの生産方法が対象とす
る製造フローを例示する図である。
FIG. 3 is a diagram exemplifying a manufacturing flow targeted by the semiconductor wafer production method of the present invention.

【図4】図3の一部のプロセスにおける工程を例示する
ブロック図である。
FIG. 4 is a block diagram illustrating steps in a part of the process in FIG. 3;

【図5】従来の半導体ウェーハの生産方法を示すブロッ
ク図。
FIG. 5 is a block diagram showing a conventional semiconductor wafer production method.

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 あらかじめ作成された製造計画および生
産実績を比較参照して生産進捗状況を算出する進捗状況
比較算出部と、製造装置の処理状態を監視する製造装置
状態監視部と、前記製造装置で処理するために仕掛棚に
仕掛った半導体ウェーハを管理する在庫管理部と、前記
製造装置で処理する半導体ウェーハを前記仕掛棚から自
動検索する仕掛棚制御部とを有するシステムを構成し、
前記製造装置状態監視部からのタイミング信号により前
記進捗状況比較算出部における生産進捗状況の算出を開
始して次に処理する半導体ウェーハを決定し、その半導
体ウェーハを前記仕掛棚制御部により前記仕掛棚から自
動検索することを特徴とする半導体ウェーハの生産方
法。
1. A progress status comparison / calculation unit for calculating a production progress status by comparing a production plan and a production result created in advance, a production status monitoring unit for monitoring a processing status of a production device, An inventory management unit that manages the semiconductor wafers in process on the in-process shelf for processing, and a system having a in-process shelf control unit that automatically searches the in-process shelf for semiconductor wafers to be processed by the manufacturing apparatus,
Calculation of the production progress in the progress comparison / calculation section is started by a timing signal from the manufacturing apparatus state monitoring section, a semiconductor wafer to be processed next is determined, and the semiconductor wafer is processed by the work in progress control section by the work in progress shelf. A method for producing a semiconductor wafer, wherein the method is automatically searched for from a semiconductor wafer.
【請求項2】 前記自動検索は前記仕掛棚からの前記半
導体ウェーハの自動出庫を含むことを特徴とする請求項
1記載の半導体ウェーハの生産方法。
2. The semiconductor wafer production method according to claim 1, wherein said automatic search includes an automatic unloading of said semiconductor wafer from said in-process shelf.
【請求項3】 前記システムの前記各部の全てはコンピ
ュータにより制御されていることを特徴とする請求項1
記載の半導体ウェーハの生産方法。
3. The computer according to claim 1, wherein all of said parts of said system are controlled by a computer.
A method for producing a semiconductor wafer as described in the above.
【請求項4】 前記タイミングは前記製造装置のローダ
が空いた時点で行うことを特徴とする請求項1記載の半
導体ウェーハの生産方法。
4. The method according to claim 1, wherein said timing is performed when a loader of said manufacturing apparatus is vacant.
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