JP2695644B2 - 光学繊維の製造方法 - Google Patents
光学繊維の製造方法Info
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- JP2695644B2 JP2695644B2 JP63143811A JP14381188A JP2695644B2 JP 2695644 B2 JP2695644 B2 JP 2695644B2 JP 63143811 A JP63143811 A JP 63143811A JP 14381188 A JP14381188 A JP 14381188A JP 2695644 B2 JP2695644 B2 JP 2695644B2
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- glass tube
- tube
- rod
- optical fiber
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
- C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
- C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
- C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
- C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
- Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates
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- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明は光学繊維の製造方法に関し、該方法は、反応
性ガス混合物を１〜30hPaの範囲の圧力でガラス管に通
過させることによって、1100〜1300℃の範囲の温度に加
熱されたガラス管の内壁上におよび同時に該ガラス管の
内側に配置されたガラス棒上に、ガラスを層状に堆積す
ると共に、該ガラス管の内側にプラズマを２個の反転点
間に反復作用させ、予定する構造の光学繊維に相当する
量のガラスを堆積させた後に、該ガラス管を押しつぶし
て、中実予備成形体を形成し、この予備成形体から光学
繊維を延伸するものである。
性ガス混合物を１〜30hPaの範囲の圧力でガラス管に通
過させることによって、1100〜1300℃の範囲の温度に加
熱されたガラス管の内壁上におよび同時に該ガラス管の
内側に配置されたガラス棒上に、ガラスを層状に堆積す
ると共に、該ガラス管の内側にプラズマを２個の反転点
間に反復作用させ、予定する構造の光学繊維に相当する
量のガラスを堆積させた後に、該ガラス管を押しつぶし
て、中実予備成形体を形成し、この予備成形体から光学
繊維を延伸するものである。
ここでガラス管およびガラス棒とは、合成的に作った
非晶質シリカ、または（溶融シリカ、石英ガラス）溶融
することによって石英結晶から作られた非晶質シリカか
らなり、該管材料は必要に応じてドープされている基体
管又は被覆されるべき管及び棒を意味し、又は、合成的
に作った非晶質シリカと、（溶融シリカ、石英ガラス１
を溶融することにより石英結晶から作った非晶質シリカ
から成り、該管材料は必要に応じてドープされている基
体管または被覆すべき管および棒を意味する。堆積ガラ
スは、合成的に作られたドープできる非晶質シリカから
なる。
非晶質シリカ、または（溶融シリカ、石英ガラス）溶融
することによって石英結晶から作られた非晶質シリカか
らなり、該管材料は必要に応じてドープされている基体
管又は被覆されるべき管及び棒を意味し、又は、合成的
に作った非晶質シリカと、（溶融シリカ、石英ガラス１
を溶融することにより石英結晶から作った非晶質シリカ
から成り、該管材料は必要に応じてドープされている基
体管または被覆すべき管および棒を意味する。堆積ガラ
スは、合成的に作られたドープできる非晶質シリカから
なる。
上述する方法による光学繊維または光学導波路の製造
については、特に米国特許明細書（US−PS Re）第3063
5および4314833号に記載されており、かかる米国特許第
30635号には、ガラス管の内側に配置されるガラスを棒
上にガラスを同時に堆積することが記載されている。実
際上、この方法以外の方法により製造する現在の方法
は、「非等温プラズマ−CVD法」（非等温PCVD法：この
場合、Ｐはプラズマを示し、およびCVDは化学蒸着、す
なわち、気相からの反応蒸着（reactive deposition）
を示す）に属する。この方法ではガラス層をガラス管の
内壁上に気相から直接に堆積する（不均一反応）。この
手段では、気相におけるガラスすす（glass soot）の形
成を回避するようにする。この事については、特に上記
米国特許明細書第4314833号に記載されている。
については、特に米国特許明細書（US−PS Re）第3063
5および4314833号に記載されており、かかる米国特許第
30635号には、ガラス管の内側に配置されるガラスを棒
上にガラスを同時に堆積することが記載されている。実
際上、この方法以外の方法により製造する現在の方法
は、「非等温プラズマ−CVD法」（非等温PCVD法：この
場合、Ｐはプラズマを示し、およびCVDは化学蒸着、す
なわち、気相からの反応蒸着（reactive deposition）
を示す）に属する。この方法ではガラス層をガラス管の
内壁上に気相から直接に堆積する（不均一反応）。この
手段では、気相におけるガラスすす（glass soot）の形
成を回避するようにする。この事については、特に上記
米国特許明細書第4314833号に記載されている。
PCVD法を用いる場合には、グレーデッド インデック
ス（graded index）繊維、及び、ステップド インデッ
クス（stepped index）繊維、または他の屈折率分布を
有する繊維を、関連する繊維構造に相当する堆積量のガ
ラスで作ることができる。
ス（graded index）繊維、及び、ステップド インデッ
クス（stepped index）繊維、または他の屈折率分布を
有する繊維を、関連する繊維構造に相当する堆積量のガ
ラスで作ることができる。
PCVD法は約100％の堆積収率（deposition yields）お
よび堆積領域における堆積ガラス層の高い均一性によっ
て特徴づけられる。しかしながら、例えば全体のガス流
れがある値を越えると、高い堆積速度が要求されるため
に、管の軸に沿う層の均一性が失われ、開始および最終
区域の被覆ガラス管から光学繊維を形成することができ
なまなる。この区域はテーパー区域（tapers）と称され
ている。この手段では収率の損失が生ずる。
よび堆積領域における堆積ガラス層の高い均一性によっ
て特徴づけられる。しかしながら、例えば全体のガス流
れがある値を越えると、高い堆積速度が要求されるため
に、管の軸に沿う層の均一性が失われ、開始および最終
区域の被覆ガラス管から光学繊維を形成することができ
なまなる。この区域はテーパー区域（tapers）と称され
ている。この手段では収率の損失が生ずる。
ドイツ公開特許明細書第3445239号および3525979号に
は、プラズマ移動を低減および加速することによってお
よび／またはテーパー区域の前部に供給されるマイクロ
波出力を変えることによって、次のプロセスに適切な被
覆管の部分を拡大することができる。いずれの手段にお
いても、プロセス要件の理由から、幾何学的テーパー区
域の減少は光学的テーパー状区域（optical taper）の
形成を導びく。この点において、幾何学的テーパー区域
とは、長さ単位当りの被覆厚さにおける変化を意味し、
および光学的テーパー区域とは管に沿う屈折率分布（re
fractive index profile）の変化を意味する。
は、プラズマ移動を低減および加速することによってお
よび／またはテーパー区域の前部に供給されるマイクロ
波出力を変えることによって、次のプロセスに適切な被
覆管の部分を拡大することができる。いずれの手段にお
いても、プロセス要件の理由から、幾何学的テーパー区
域の減少は光学的テーパー状区域（optical taper）の
形成を導びく。この点において、幾何学的テーパー区域
とは、長さ単位当りの被覆厚さにおける変化を意味し、
および光学的テーパー区域とは管に沿う屈折率分布（re
fractive index profile）の変化を意味する。
本発明の目的は、光学的テーパー区域を形成しないで
幾何学的テーパー区域を減少することによってPCVD法の
生産性（yields）を高める方法を提供することである。
幾何学的テーパー区域を減少することによってPCVD法の
生産性（yields）を高める方法を提供することである。
本発明は上述する目的を達成するために、本明細書の
発明の詳細な説明の最初の段落に記載した方法におい
て、円形断面を有するガラス棒を選定し、該ガラス棒の
縦軸をガラス管の縦軸と一致するように配置し、ガラス
棒の半径をガラス管の内径の約0.67倍、少なくとも0.2
倍に調整し、およびガラス棒をガラス堆積プロセスの終
了の際にガラス管から取り去るようにすることを特徴と
する。
発明の詳細な説明の最初の段落に記載した方法におい
て、円形断面を有するガラス棒を選定し、該ガラス棒の
縦軸をガラス管の縦軸と一致するように配置し、ガラス
棒の半径をガラス管の内径の約0.67倍、少なくとも0.2
倍に調整し、およびガラス棒をガラス堆積プロセスの終
了の際にガラス管から取り去るようにすることを特徴と
する。
上述したガラス棒の半径R0対ガラス管の内径Riの比は
次の関係式を満すことを意味する： 5R0≧Ri≧1.5R0 （１） それ故、棒ではなく、テーパー区域の長さを17％（Ri
≒4R0）から５％（Ri≒1.5R0）の範囲に減少する。
次の関係式を満すことを意味する： 5R0≧Ri≧1.5R0 （１） それ故、棒ではなく、テーパー区域の長さを17％（Ri
≒4R0）から５％（Ri≒1.5R0）の範囲に減少する。
更に、本発明の方法の生産性を高めるために、幾何学
的および光学的テーパー区域の減少をすべきであり、特
に堆積速度が0.5g/分以上の値に高まる場合には、テー
パー区域の長さは堆積速度の増加に比例して長くなるか
らである。反応性ガスの流速（sccmで測定する）を全体
の被覆長さ（cmで測定する）の少なくとも35倍に調整す
る場合、本発明の方法の生産性は管／棒の組合せ体の使
用によって高めることができることを実験で確めた。こ
こに記載する「sccm」とは標準状態（273K、1013hPa）
下での立方センチメートル／分を意味する。
的および光学的テーパー区域の減少をすべきであり、特
に堆積速度が0.5g/分以上の値に高まる場合には、テー
パー区域の長さは堆積速度の増加に比例して長くなるか
らである。反応性ガスの流速（sccmで測定する）を全体
の被覆長さ（cmで測定する）の少なくとも35倍に調整す
る場合、本発明の方法の生産性は管／棒の組合せ体の使
用によって高めることができることを実験で確めた。こ
こに記載する「sccm」とは標準状態（273K、1013hPa）
下での立方センチメートル／分を意味する。
上述する流速QT対被覆長さＬの比は次の関係式を満す
ことを意味する： 一般に、被覆長さＬは30〜200cmの範囲である。
ことを意味する： 一般に、被覆長さＬは30〜200cmの範囲である。
PCVD法に特有の気体化合物および被覆長さ100cmの場
合に約1g/分以上〜約2g/分の堆積速度ｍが得られる。
合に約1g/分以上〜約2g/分の堆積速度ｍが得られる。
また、上述する流速QT対体積速度ｍの比は次の関係式
を満たす： マイクロ波共振器により基体管に低圧プラズマが生ず
る可能性は、管にガラス棒を存在させることによっては
悪影響が及ぼされることがない。むしろ、ドープまたは
非ドープ石英ガラスの堆積が、基体管の内壁上および管
の内側に存在する棒の周囲上に生ずる。
を満たす： マイクロ波共振器により基体管に低圧プラズマが生ず
る可能性は、管にガラス棒を存在させることによっては
悪影響が及ぼされることがない。むしろ、ドープまたは
非ドープ石英ガラスの堆積が、基体管の内壁上および管
の内側に存在する棒の周囲上に生ずる。
堆積をするために、O2,SiCl4および、例えばGeCl4ま
たはC2F6のガス状ドープ剤ｋ反応性ガス混合物を500〜2
500Paの範囲の圧力で管／棒の組合せ体に通して供給
し、同時に管と棒との間のガスの存在しない内部空間に
おいて、プラズマを２個の反転点の間に周期的に反復さ
せる。被覆プロセス中、管／棒の組合せ体を1300〜1600
Kの範囲の温度に加熱する。
たはC2F6のガス状ドープ剤ｋ反応性ガス混合物を500〜2
500Paの範囲の圧力で管／棒の組合せ体に通して供給
し、同時に管と棒との間のガスの存在しない内部空間に
おいて、プラズマを２個の反転点の間に周期的に反復さ
せる。被覆プロセス中、管／棒の組合せ体を1300〜1600
Kの範囲の温度に加熱する。
この手段によって、および予定する光学繊維構造に従
って、ガラスを層に堆積した後、棒を基体管から取り去
り、管を押しつぶして中実予備成形体を得、これから繊
維を延伸する。
って、ガラスを層に堆積した後、棒を基体管から取り去
り、管を押しつぶして中実予備成形体を得、これから繊
維を延伸する。
本発明の方法を用いることによって、任意所望の屈折
率−勾配の繊維、例えば半径方向に対称の屈折率分布ま
たは屈折率の予定角度−依存性を有する分布（profile
s）を有するグレーテッド インデックスおよびステッ
プド インデックス繊維を作ることができる。
率−勾配の繊維、例えば半径方向に対称の屈折率分布ま
たは屈折率の予定角度−依存性を有する分布（profile
s）を有するグレーテッド インデックスおよびステッ
プド インデックス繊維を作ることができる。
本発明における管／棒の組合せ体によるテーパー区域
の減少は、テーパー区域の減少に関する他の方法と比較
して全PCVDプロセス パラメータを変えることがない利
点を有し、例えばプラズマの移動速度またはプラズマ出
力の位置−依存変化を必要としない。この事は、本発明
の方法において、付加的な光学的テーパー区域を形成し
ないという利点を有している。
の減少は、テーパー区域の減少に関する他の方法と比較
して全PCVDプロセス パラメータを変えることがない利
点を有し、例えばプラズマの移動速度またはプラズマ出
力の位置−依存変化を必要としない。この事は、本発明
の方法において、付加的な光学的テーパー区域を形成し
ないという利点を有している。
しかしながら、本発明における有利な適用は、本発明
の方法の全生産性の増大が達成された場合に制限される
ものではない。また、管／棒の組合せ体は、例えば全被
覆長さを装置に関する理由で長くできない場合に、およ
びできるだけ大きい有効な予備成形体の長さを必要とす
る場合に有利である。
の方法の全生産性の増大が達成された場合に制限される
ものではない。また、管／棒の組合せ体は、例えば全被
覆長さを装置に関する理由で長くできない場合に、およ
びできるだけ大きい有効な予備成形体の長さを必要とす
る場合に有利である。
次に、本発明を好適な具体例および添付図面に基づい
て説明する。
て説明する。
次に示すすべての実施例において、ステップド−イン
デックス分布を有する予備成形体をPCVD法により作っ
た。共振器速度は80cmのストローク長さにおいて12cm/s
にした。反転点の近くにおいて、共振器の速度は約1cm
の長さにおいて零に減少させ、および反対方向において
12cm/sに再び高めた。O2流れ対塩化物流れ（SiCl4およ
びGeCl4）の比を5:1にした。堆積プロセス中、圧力を18
00Paに調節し、基体温度を1500Kにした。堆積プロセス
後、予備成形体を押しつぶし、堆積材料の形状（予備成
形体テーパー区域ΔＺに対する堆積石英ガラスの半径r
coの関係を示すグラフ（第１図））および堆積材料とSi
O2基体管との間の屈折率差を調べた。
デックス分布を有する予備成形体をPCVD法により作っ
た。共振器速度は80cmのストローク長さにおいて12cm/s
にした。反転点の近くにおいて、共振器の速度は約1cm
の長さにおいて零に減少させ、および反対方向において
12cm/sに再び高めた。O2流れ対塩化物流れ（SiCl4およ
びGeCl4）の比を5:1にした。堆積プロセス中、圧力を18
00Paに調節し、基体温度を1500Kにした。堆積プロセス
後、予備成形体を押しつぶし、堆積材料の形状（予備成
形体テーパー区域ΔＺに対する堆積石英ガラスの半径r
coの関係を示すグラフ（第１図））および堆積材料とSi
O2基体管との間の屈折率差を調べた。
実施例１ 800sccmの全流速QT、600Wのマイクロ波出力および0.3
g/分の堆積速度で、内径15mmの基体管を用いてPCVD堆積
を行い、100％の平坦域における収率ηにおいて6.75cm
の幾何学的初期テーパー区域ΔZT゜を得た（第１図の曲
線Ｉ。同じ堆積条件下での第２試験において、5mm直径
の石英ガラス棒を用い、1.5cmのテーパー区域ΔZTおよ
び72％の収率ηを得た（第１図の曲線II）。両試験にお
いて、堆積材料と基体管との間の屈折率差は、予備成形
体に沿う位置に無関係であることを見出した。本発明の
方法により、テーパー区域を77％まで減少することがで
きた。
g/分の堆積速度で、内径15mmの基体管を用いてPCVD堆積
を行い、100％の平坦域における収率ηにおいて6.75cm
の幾何学的初期テーパー区域ΔZT゜を得た（第１図の曲
線Ｉ。同じ堆積条件下での第２試験において、5mm直径
の石英ガラス棒を用い、1.5cmのテーパー区域ΔZTおよ
び72％の収率ηを得た（第１図の曲線II）。両試験にお
いて、堆積材料と基体管との間の屈折率差は、予備成形
体に沿う位置に無関係であることを見出した。本発明の
方法により、テーパー区域を77％まで減少することがで
きた。
実施例２ 4200sccmの全流速QT、3.8kWのマイクロ波出力および8
0cmの被覆長さにおいて、内径22mmの基体管を用いてPCV
D堆積を行い、100％の平坦域における収率で34cmの幾何
学的初期テーパー区域を得た。同じ堆積条件および基体
管に配置される棒（直径7mm）を用いて、約7cmの幾何学
的初期テーパー区域および74％の平坦域における収率を
得た。従って、石英ガラス棒の使用によって、テーパー
区域を80％まで減少し、および堆積プロセスの全収率η
を約58〜68％に高めることができた。第２図は堆積速度
ｍに対するプロセス収率（process yield）ηの関係を
示しているグラフであり、このグラスにおいて直線III
は棒を用いない場合の結果を示しており、および直線IV
は棒を用いた場合の結果を示している（Ri/Ro＝３）。
第２図は本発明において石英ガラス棒の使用が堆積速度
の増加に有利であることを示している。
0cmの被覆長さにおいて、内径22mmの基体管を用いてPCV
D堆積を行い、100％の平坦域における収率で34cmの幾何
学的初期テーパー区域を得た。同じ堆積条件および基体
管に配置される棒（直径7mm）を用いて、約7cmの幾何学
的初期テーパー区域および74％の平坦域における収率を
得た。従って、石英ガラス棒の使用によって、テーパー
区域を80％まで減少し、および堆積プロセスの全収率η
を約58〜68％に高めることができた。第２図は堆積速度
ｍに対するプロセス収率（process yield）ηの関係を
示しているグラフであり、このグラスにおいて直線III
は棒を用いない場合の結果を示しており、および直線IV
は棒を用いた場合の結果を示している（Ri/Ro＝３）。
第２図は本発明において石英ガラス棒の使用が堆積速度
の増加に有利であることを示している。
第１図は予備成形体テーパー区域ΔＺに対する堆積石英
ガラスの半径rcoの関係を示すグラフ、および 第２図は堆積速度ｍに対するプロセス収率ηの関係を示
すグラフである。
ガラスの半径rcoの関係を示すグラフ、および 第２図は堆積速度ｍに対するプロセス収率ηの関係を示
すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヤクェス・ペトルス・マリア・ワルニー ル オランダ国 6245 ヘーイェー エーイ スデン エムエル キングストラーセ18 (72)発明者 ハワード・ジェームス・コクラン・ウィ ルソン ドイツ連邦共和国 5100 アーヘン ケ ーニングスベルガー シュトラーセ32 (56)参考文献 特開 昭63−17233（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−17438（ＪＰ，Ａ) 特開 昭57−47739（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】反応性ガス混合物を１〜30hPaの範囲の圧
力でガラス管に通過させることによって、1100〜1300℃
の範囲の温度に加熱されたガラス管の内壁上におよび同
時に該ガラス管の内側に配置されたガラス棒上に、ガラ
スを層状に堆積すると共に、該ガラス管の内側にプラズ
マを２個の停止点間に反復作用させ、予定する構造の光
学繊維に相当する量のガラスを堆積させた後に、該ガラ
ス管を押しつぶして、中実予備成形体を形成し、この予
備成形体から光学繊維を延伸する光学繊維の製造方法に
おいて、円形断面を有するガラス棒を選定し、該ガラス
棒の縦軸をガラス管の縦軸と一致するように配置し、ガ
ラス棒の半径をガラス管の内径の約0.67倍、少なくとも
0.2倍に調整し、およびガラス棒をガラス堆積プロセス
の終了の際にガラス管から取り去るようにすることを特
徴とする光学繊維の製造方法。 - 【請求項２】反応性ガスの流速（sccm）を全被覆長さ
（cm）の少なくとも35倍に調整する請求項１記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873720030 DE3720030A1 (de) | 1987-06-16 | 1987-06-16 | Verfahren zur herstellung von lichtleitfasern |
| DE3720030.5 | 1987-06-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63319225A JPS63319225A (ja) | 1988-12-27 |
| JP2695644B2 true JP2695644B2 (ja) | 1998-01-14 |
Family
ID=6329784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63143811A Expired - Lifetime JP2695644B2 (ja) | 1987-06-16 | 1988-06-13 | 光学繊維の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5145509A (ja) |
| EP (1) | EP0295745B1 (ja) |
| JP (1) | JP2695644B2 (ja) |
| DE (2) | DE3720030A1 (ja) |
| ES (1) | ES2040829T3 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6122935A (en) * | 1998-07-08 | 2000-09-26 | Lucent Technologies Inc. | High rate MCVD method of making an optical fiber preform |
| US6789401B1 (en) * | 2001-06-28 | 2004-09-14 | Asi/Silica Machinery, Llc | Particle deposition system and method |
| NL1023438C2 (nl) * | 2003-05-15 | 2004-11-22 | Draka Fibre Technology Bv | Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel, voorvorm en een optische vezel. |
| NL1032140C2 (nl) * | 2006-07-10 | 2008-01-15 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor door middel van een inwendig damp-depositieproces vervaardigen van een optische voorvorm, alsmede een daarmee verkregen voorvorm. |
| NL1033773C2 (nl) * | 2007-04-27 | 2008-10-28 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een voorvorm alsmede daarmee te verkrijgen optische vezel. |
| NL2007448C2 (nl) | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezels. |
| NL2007447C2 (nl) | 2011-09-20 | 2013-03-21 | Draka Comteq Bv | Werkwijze voor de vervaardiging van een primaire voorvorm voor optische vezels, primaire voorvorm, uiteindelijke voorvorm, optische vezel. |
Family Cites Families (9)
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