JP2689160B2 - ローラ型可溶性回転電極による電気メッキ方法 - Google Patents

ローラ型可溶性回転電極による電気メッキ方法

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JP2689160B2 JP3670389A JP3670389A JP2689160B2 JP 2689160 B2 JP2689160 B2 JP 2689160B2 JP 3670389 A JP3670389 A JP 3670389A JP 3670389 A JP3670389 A JP 3670389A JP 2689160 B2 JP2689160 B2 JP 2689160B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はローラ型可溶性回転電極により、メッキ金属
イオンを補充しつつ連続的にメッキを行う電気メッキ方
法に関するものである。
〔従来の技術及び発明の課題〕
一般に電気メッキはメッキ槽内に貯えられた電解液中
に陰極となる被メッキ物体を浸漬し、メッキすべき金属
を陽極として、電解することによって行われている。
又、局部メッキもしくは補修用メッキは、陽極を電解液
に浸し局部に接触通電することによって行われている。
前者の如きメッキ方法では、電解液用の槽を要するた
め、被メッキ物体の大きさ、形状等に対応した槽を用意
する必要があるのでメッキ設備を大型化せざるを得ない
という難点があり、またメッキの種類を変える度にそれ
に対応した電解液専用の槽に変えねばならないという煩
雑さがある。
一方、後者の如き局部メッキの場合は、被メッキ物体
を電解液中に浸漬しないので、特別の電解液用槽を必要
としないが、被メッキ物体の全面に連続的にメッキを行
なうことが出来ない。
〔課題を解決するための手段〕
本発明はかかる事情に鑑み、構成されたものでその要
旨とするところは、下記のとおりである。
(1) 電気絶縁性で、メッキ液含浸性の被覆材で包ん
だローラ型可溶性回転電極を陽極として、被メッキ物体
表面に接触回転させ、メッキ液槽からメッキ液を被メッ
キ物体と前記陽極との接触部に循環供給しつつ、かつ前
記メッキ液槽中に補助陽極材を浸漬し、メッキ金属イオ
ンを補充しつつメッキを行うことを特徴とするローラ型
可溶性回転電極による電気メッキ方法。
(2) 前項1記載の方法において、分散粒子を含むメ
ッキ液を用いて複合電気メッキを行うことを特徴とする
ローラ型可溶性回転電極による電気メッキ方法。
(3) ローラ型可溶性回転電極の周速の遅れが1m/分
以下である前項1または2記載のローラ型可溶性回転電
極による電気メッキ方法。
(4) メッキ液の被メッキ物体への供給を撒水状に連
続して行う前項1〜3の何れかに記載のローラ型可溶性
回転電極による電気メッキ方法。
次に本発明を図面に基づいて説明する。
第1図は、ロール状の被メッキ物体に、本発明に従っ
て電気メッキを施す場合の実施の態様を示す説明図であ
る。
図において1は電気伝導性回転体よりなるローラ型可
溶性回転電極で陽極として使用され、回転軸を介して軸
受により回転自在に支持されている。2は該可溶性回転
電極1の表面に被覆された電気絶縁性でかつ液体含浸性
の軟多孔質被覆材である。
この軟多孔質被覆材としては、例えば濾紙、天然又は
合成繊維からなる織布若しくは不織布あるいはこれらと
同等物が用いられうる。
3は被メッキ物体、例えばロール、ローラ等の機械部
品であり、可溶性回転電極1に対して被覆材を介して接
触回転しうるように配置されている。
4は電解液の受け貯槽で、該貯槽内の電解液は該貯槽
の底部に設けられた供給フィルター4aを通じて、可溶性
回転電極1と被メッキ物体3との接触界域若しくはその
近傍に6のメッキ液撒水用配管部材管を通じて供給され
るように構成されている。
受け貯槽4は可溶性回転電極1と被メッキ物体3との
接触界域若しくはその近傍に供給された後、下方へ流下
する電解液を受け取る。受け貯槽4によって集められた
電解液は、受け貯槽4の電解液中に浸漬されたメッキ金
属イオン補充のための補助陽極7および補助陰極8によ
りメッキ金属イオン濃度が調整され、フィルター4aによ
り濾過された後、メッキ液循環用配管5によりメッキ液
撒水用配管部材6に戻され、再び電解液として循環使用
されるようになっている。また、メッキ金属イオンの溶
出には補助陽極7および被メッキ物体3(陰極)との間
に通電することによって行い、電解液組成の変動を防い
でもよい。なお、電源は可溶性回転電極1と共用する
か、また別電源を用いてもよい。
複合メッキを実施する場合は、電解液中の分散粒子も
撹拌器10またはエアレーション13により液中に懸濁され
配管5に設けられたポンプ5aにより同時にメッキ部に供
給される。なお11は保温用ヒーター,12はメッキイオン
の溶出を制御するためのレギュレーターである。
第1図のメッキ設備を用いて被メッキ物体,例えばロ
ール3を電気メッキする場合は、次の如く実施される。
操業開始に先立って、可溶性回転電極1とロール3と
の接触界域にメッキ液撒水用配管部材管6より電解液を
供給する。その際、前記接触界域にある程度電解液の滞
留が形成されるように電解液を連続的に供給する。電解
は可溶性回転電極1及びロール3を回転駆動せしめつつ
行われる。かくしてロール表面に所望のメッキ層が均一
かつ迅速に施される。
本発明は、被メッキ物体がライナーの如き平板状であ
る場合にも平板を往復又は回転運動させることにより適
用出来ることはいうまでもない。
なお平板を下向で施工の場合には、メッキ液はメッキ
液撒水用配管部材管6により斜め上方より吹付けるよう
にする。
次に分散メッキの場合、被メッキ物体より可溶性回転
電極の周速が小さいと、分散粒子を被メッキ材表面に均
一に分散させることが難しくなる。これは分散粒子が電
極被覆材中あるいは被覆材と被メッキ物体との界面に偏
在するようになり、液を撹拌し均質化しても、表面の相
対速度差が大きすぎると分散粒子の濃度むらを起こしや
すい。従って電極の周速が被メッキ物体より小さい場
合、速度差を1m/分以下に設定することが分散メッキの
場合特に望ましいのである。
なお、類似の現象が被メッキ物体および可溶性回転電
極の回転方向についてもみられ、回転方向としてはむし
ろ第1図に矢印で示した方向で好結果を得ている。
〔実施例〕
実施例1 成形用ロール(S45C)に、スルファミン酸ニッケル浴
(スルファミン酸ニッケル400g/,塩化ニッケル5g/
,硼酸35g/)でNiメッキした場合の例である。推定
電流密度10A/dm2,可溶性回転電極表面周速3m/分,ロー
ルとの速度差約0.1m/分(電極小)でNiメッキを施し
た。その結果、約1時間で70μm厚のNiメッキを均一に
行うことが出来た。又、同時に浴中Niイオンの減少を防
ぐため、8dm2表面積の補助陽極(Ni)と0.25dm2表面積
補助陰極(SUS304)を浸漬し、5Aの電流を流しNi濃度の
変化がないことを確かめた。
実施例2 小型圧延機用ロール(SUJ2)に、スルファミン酸ニッ
ケル浴(スルファミン酸ニッケル400g/,塩化ニッケ
ル5g/,硼酸35g/)でNi−SiC分散メッキした場合の
例で、分散粒子として0.7μmのSiCを100g/懸濁しメ
ッキした。
推定電流密度35A/dm2,可溶性回転電極表面周速3m/
分,ロールとの速度差約0.1m/分(電極小)の電解条件
でNi−SiC複合電気メッキを施した。その結果、約1時
間で100μm厚のNi−SiC分散メッキを均一に行うことが
出来た。又、同時に浴中Niイオンの減少を防ぐため、8d
m2表面積補助陽極(Ni)と0.25dm2表面積補助陰極(SUS
304)を浸漬し、5Aの電流を流しNi濃度の変化がないこ
とを確かめた。
実施例3 実施例1と同型ロールに、Ni−Pスルファミン酸ニッ
ケル溶液(スルファミン酸ニッケル,次亜燐酸,硼酸,
レベリング剤等含有)で0.7μmのSiCを分散懸濁させて
メッキした場合の例では、推定電流密度35A/dm2,可溶性
回転電極表面周速3m/分,ロールとの速度差ほぼ0の状
態でNi−P+SiCの分散メッキを行った。
その結果、約1時間で100μm厚のNi−P+SiC分散メ
ッキを行うことが出来た。その場合のSiC共析量は3.5wt
%であった。又、同時に8dm2表面積のNi板を補助陽極と
して浸漬使用し、ロールとの間に2A程度の電流を流し
た。メッキ液のNi濃度については、メッキの前後で大き
な変動のないことを確かめた。又、分散メッキ層のマイ
クロビッカース硬度は750であった。
〔発明の効果〕
本発明によれば、以下に示す効果が奏される。
(1) 被膜の密着性が良く、緻密でピンホール、ヘア
ラック等がない。
(2) メッキ開始より終了まで連続的にメッキが可能
で、その間の運転,管理が簡単である。
(3) 被メッキ物体の全体を浸漬するメッキ槽を必要
としないので、低コストの設備で施工可能である。
(4) メッキ部分に新しい分散粒子およびメッキ液の
絶えず供給しているため、メッキ層成分が均一で、分散
粒子の分散度も均一にすることが出来る。
(5) 分散メッキでは、周速差を制御することで特に
良質のメッキが出来る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施の態様の一例を示す説明図であ
る。 1……ローラ型可溶性回転電極,2……陽極被覆材,3……
被メッキ物体,4……電解液受け貯槽,5……液循環用配
管,6……メッキ液散水用配管部材,7……補助陽極,8……
補助陰極,9……スイッチ,10……撹拌器,11……加熱ヒー
ター(温度調整装置を含む),12……レギュレーター,13
……エアレーション。
フロントページの続き (72)発明者 別府 正昭 東京都中央区日本橋1丁目15番1号 日 本パーカライジング株式会社内 (72)発明者 黒沢 一吉 東京都中央区日本橋1丁目15番1号 日 本パーカライジング株式会社内 (56)参考文献 特開 昭57−171686(JP,A) 特開 昭63−125692(JP,A)

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電気絶縁性で、メッキ液含浸性の被覆材で
    包んだローラ型可溶性回転電極を陽極として、被メッキ
    物体表面に接触回転させ、メッキ液槽からメッキ液を被
    メッキ物体と前記陽極との接触部に循環供給しつつ、か
    つ前記メッキ液槽中に補助陽極材を浸漬し、メッキ金属
    イオンを補充しつつメッキを行うことを特徴とするロー
    ラ型可溶性回転電極による電気メッキ方法。
  2. 【請求項2】請求項1記載の方法において、分散粒子を
    含むメッキ液を用いて複合電気メッキを行うことを特徴
    とするローラ型可溶性回転電極による電気メッキ方法。
  3. 【請求項3】ローラ型可溶性回転電極の周速の遅れが1m
    /分以下である請求項1または2記載のローラ型可溶性
    回転電極による電気メッキ方法。
  4. 【請求項4】メッキ液の被メッキ物体への供給を撒水状
    に連続して行う請求項1〜3の何れかに記載のローラ型
    可溶性回転電極による電気メッキ方法。
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