JP2688357B2 - ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤の合成のための新規なアシル化法 - Google Patents
ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤の合成のための新規なアシル化法Info
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- 125000002221 trityl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C([*])(C1=C(C(=C(C(=C1[H])[H])[H])[H])[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- YEIGUXGHHKAURB-UHFFFAOYSA-N viridine Natural products O=C1C2=C3CCC(=O)C3=CC=C2C2(C)C(O)C(OC)C(=O)C3=COC1=C23 YEIGUXGHHKAURB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/16—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member
- C07D309/28—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having one double bond between ring members or between a ring member and a non-ring member with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D309/30—Oxygen atoms, e.g. delta-lactones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Pyrane Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 天然の発酵生産物であるコンパクチン及びメビノリン
の半合成及び全合成アナログは、HMG−CoA還元酵素を阻
害することによりコレステロール生合成を抑制するのに
有用であることが認められている。大部分の半合成及び
全合成アナログは次の一般構造式 （式中、Ｚは （式中、Ｑは であり、Z2は水素又は水酸基であり、Z1は直鎖又は分枝
Ｃ１〜10アルキル基、又は水酸基で置換されたＣ１〜10
アルキル基、フェニル基又は置換されたフェニル基、シ
クロアルキル基、Ｃ１〜８アルカノイルオキシ基、アル
キルチオ基又はフェニルチオ基であり、ａ、ｂ、ｃ及び
ｄはａが二重結合の場合Ｑは であることを条件として任意に二重結合を表わし、特に
ｂ及びｄは二重結合を表わすか又はａ、ｂ、ｃ及びｄは
すべて単結合である。）であるか、又は Ｚは （式中、Z1、Z2、Z3、Z4及びZ5は独立に水素、ハロゲ
ン、Ｃ１〜４アルキル基、Ｃ１〜４ハロアルキル基、ヒ
ドロキシ−Ｃ１〜４アルキル基、Ｃ１〜８アルカノイル
オキシＣ１〜４アルキル基、若しくはC7又はC11アロイ
ルオキシ−Ｃ１〜４アルキル基であり、この場合Z1、
Z2、Z3、Z4、Z5の一つはエステル官能基を含む。）及び
そのジヒドロキシ酸、塩及びエステルである。）、又は
そのジヒドロキシ酸、塩又はエステルである。
の半合成及び全合成アナログは、HMG−CoA還元酵素を阻
害することによりコレステロール生合成を抑制するのに
有用であることが認められている。大部分の半合成及び
全合成アナログは次の一般構造式 （式中、Ｚは （式中、Ｑは であり、Z2は水素又は水酸基であり、Z1は直鎖又は分枝
Ｃ１〜10アルキル基、又は水酸基で置換されたＣ１〜10
アルキル基、フェニル基又は置換されたフェニル基、シ
クロアルキル基、Ｃ１〜８アルカノイルオキシ基、アル
キルチオ基又はフェニルチオ基であり、ａ、ｂ、ｃ及び
ｄはａが二重結合の場合Ｑは であることを条件として任意に二重結合を表わし、特に
ｂ及びｄは二重結合を表わすか又はａ、ｂ、ｃ及びｄは
すべて単結合である。）であるか、又は Ｚは （式中、Z1、Z2、Z3、Z4及びZ5は独立に水素、ハロゲ
ン、Ｃ１〜４アルキル基、Ｃ１〜４ハロアルキル基、ヒ
ドロキシ−Ｃ１〜４アルキル基、Ｃ１〜８アルカノイル
オキシＣ１〜４アルキル基、若しくはC7又はC11アロイ
ルオキシ−Ｃ１〜４アルキル基であり、この場合Z1、
Z2、Z3、Z4、Z5の一つはエステル官能基を含む。）及び
そのジヒドロキシ酸、塩及びエステルである。）、又は
そのジヒドロキシ酸、塩又はエステルである。
ポリヒドロナフチル誘導体において、Ｃ−８エステル
官能基は典型的にはＣ−８アルコールを適当な酸塩化物
によりアシル化することにより挿入される、一般にこの
反応は長時間の高温（100℃、18〜36時間）としばしば
入手することが困難な大過剰の酸塩化物を必要とし、こ
れらの条件下においてもなお収率が低い。その上、酸塩
化物反応の条件下では好ましくない副産物が高い割合で
生成し、それによってしばしばアルコールの保護基とし
て存在するtert−ブチルジメチルシリルオキシ基がδ−
バレロラクトン部分から除去される。典型的には大量の
出発物質のアルコール及び未反応の酸塩化物が反応の終
りに残存する。これらの汚染物は生産物の単離を複雑に
し、その結果エステルの収率は低下する。また不純物は
後の中間体の結晶化を妨害する。同様の問題はビフェニ
ルラクトン誘導体におけるアルコールのアシル化、特に
含まれるアルコールが立体的に妨害されている場合に生
ずる。
官能基は典型的にはＣ−８アルコールを適当な酸塩化物
によりアシル化することにより挿入される、一般にこの
反応は長時間の高温（100℃、18〜36時間）としばしば
入手することが困難な大過剰の酸塩化物を必要とし、こ
れらの条件下においてもなお収率が低い。その上、酸塩
化物反応の条件下では好ましくない副産物が高い割合で
生成し、それによってしばしばアルコールの保護基とし
て存在するtert−ブチルジメチルシリルオキシ基がδ−
バレロラクトン部分から除去される。典型的には大量の
出発物質のアルコール及び未反応の酸塩化物が反応の終
りに残存する。これらの汚染物は生産物の単離を複雑に
し、その結果エステルの収率は低下する。また不純物は
後の中間体の結晶化を妨害する。同様の問題はビフェニ
ルラクトン誘導体におけるアルコールのアシル化、特に
含まれるアルコールが立体的に妨害されている場合に生
ずる。
酸臭化物は文献（ケミカル・アブストラクツ（Chem.A
bstracts）、72巻、42844ページ、1970年及びエス・デ
ィー・サラフ（S.D.Saraf）、エム・ザカイ（M.Zaka
i）、シンセシス（Synthesis）、612ページ、1973年）
で公知である。アセトニトリル中酸塩化物及びヨウ化ナ
トリウムから酸ヨウ化物の合成はホフマン（Hoffman）
及びヘース（Haase）、シンセシス、715ページ、1981年
に記述されている。
bstracts）、72巻、42844ページ、1970年及びエス・デ
ィー・サラフ（S.D.Saraf）、エム・ザカイ（M.Zaka
i）、シンセシス（Synthesis）、612ページ、1973年）
で公知である。アセトニトリル中酸塩化物及びヨウ化ナ
トリウムから酸ヨウ化物の合成はホフマン（Hoffman）
及びヘース（Haase）、シンセシス、715ページ、1981年
に記述されている。
本発明は、 を溶媒中でアルカリ金属臭化物、ジアルキルアミノピリ
ジン及び構造式（ｉ）の化合物 又は構造式（ii）の化合物 （式中、Ｒ′15、Ｒ′16、Ｒ′17、Ｒ′18、Ｒ′19は後
述するR15、R16、R17、R18又はR19がオキシ−Ｃ１〜４
アルキル基又はオキシ−の場合、Ｒ′15、Ｒ′16、Ｒ′
17、Ｒ′18又はＲ′19はそれぞれヒドロキシ−Ｃ１〜４
アルキル基又は水酸基であることを条件として、それぞ
れR15、R16、R17、R18、R19と定義される。）と混合し
て化合物（Ｉ）を収得することから成る構造式（Ｉ） 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2は独立に水素又はＣ１〜10アルキル基、又は
R1及びR2はそれらが付着している炭素原子と共に炭素原
子３ないし８個の炭素環を形成し、R3及びR4は独立に水
素又はＣ１〜３アルキル基、Ｃ３〜７シクロアルキル
基、Ｃ１〜３アルキルチオ基、フェニル基、フェニルチ
オ基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）であり、そしてｎが２ないし５の場合、R3及びR4
の各々は独立に水素、Ｃ１〜２アルキル基、Ｃ３〜７シ
クロアルキル基又はR3及びR4の一つのみフェニル基又は
置換されたフェニル基であり、 R5は水素、ハロゲン、Ｃ１〜10アルキル基、フェニル
基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）、又は ａ） tert−ブチルジメチルシリルオキシ−Ｃ１〜10ア
ルキル基のようなトリアルキルシリルオキシ−Ｃ１〜10
アルキル基、アルキルジアリールシリルオキシ−Ｃ
１〜10アルキル基などのヒドロキシル保護基、 ｂ） トリフェニルメチルチオ−Ｃ１〜10アルキル基、 ｃ） Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜５アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜５アルキル基であるか、又は
R8及びR9はそれらが付着している窒素原子と共にピペリ
ジニル基、モルホリニル基、ピロリジニル基、ピペラジ
ニル基又はチオモルホリニル基から選ばれる複素環を形
成する。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜５アルキル基又
はフェニル基である。）、 から選ばれる基であり、 Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲン、トリフルオロメチ
ル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３アルキル−オキシ
基、Ｃ１〜３アルキル−チオ基、ジ（Ｃ１〜３アルキ
ル） であり、そしてORは （式中、R11は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又
はアルキルジアリールシリルオキシ基であり、Ａは （R13は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又はアル
キルジアリールシリルオキシ基である。）であり、ａ、
ｂ、ｃ、ｄは単結合を表わすか、ａ、ｂ、ｃ、又はｄの
一つは二重結合を表わすか、若しくはａ及びｃの両方又
はｂ及びｄの両方は二重結合を表わす。但しａが二重結
合の場合、Ａは である）、又は （式中、ＥはCH2−CH2又はCH＝CHであり、R15、R16、R
17、R18及びR19は独立に水素、ハロゲン、Ｃ１〜４アル
キル基、Ｃ１〜４ハロアルキル基、オキシ−Ｃ１〜４ア
ルキル基、Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アル
キル基、Ｃ８〜12アラルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アル
キル基、C7又はC11アロイールオキシ−Ｃ１〜４アルキ
ル基、若しくはオキシ−である。但しR15、R16、R17、R
18及びR19の一つはオキシ−Ｃ１〜４アルキル基又はオ
キシ−（オキシ−は酸素がビフェニル部分の芳香族環に
直接結合している）である。）である。〕の抗高コレス
テロール血症化合物の製造のための新規なアシル化法に
する。
ジン及び構造式（ｉ）の化合物 又は構造式（ii）の化合物 （式中、Ｒ′15、Ｒ′16、Ｒ′17、Ｒ′18、Ｒ′19は後
述するR15、R16、R17、R18又はR19がオキシ−Ｃ１〜４
アルキル基又はオキシ−の場合、Ｒ′15、Ｒ′16、Ｒ′
17、Ｒ′18又はＲ′19はそれぞれヒドロキシ−Ｃ１〜４
アルキル基又は水酸基であることを条件として、それぞ
れR15、R16、R17、R18、R19と定義される。）と混合し
て化合物（Ｉ）を収得することから成る構造式（Ｉ） 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2は独立に水素又はＣ１〜10アルキル基、又は
R1及びR2はそれらが付着している炭素原子と共に炭素原
子３ないし８個の炭素環を形成し、R3及びR4は独立に水
素又はＣ１〜３アルキル基、Ｃ３〜７シクロアルキル
基、Ｃ１〜３アルキルチオ基、フェニル基、フェニルチ
オ基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）であり、そしてｎが２ないし５の場合、R3及びR4
の各々は独立に水素、Ｃ１〜２アルキル基、Ｃ３〜７シ
クロアルキル基又はR3及びR4の一つのみフェニル基又は
置換されたフェニル基であり、 R5は水素、ハロゲン、Ｃ１〜10アルキル基、フェニル
基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）、又は ａ） tert−ブチルジメチルシリルオキシ−Ｃ１〜10ア
ルキル基のようなトリアルキルシリルオキシ−Ｃ１〜10
アルキル基、アルキルジアリールシリルオキシ−Ｃ
１〜10アルキル基などのヒドロキシル保護基、 ｂ） トリフェニルメチルチオ−Ｃ１〜10アルキル基、 ｃ） Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜５アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜５アルキル基であるか、又は
R8及びR9はそれらが付着している窒素原子と共にピペリ
ジニル基、モルホリニル基、ピロリジニル基、ピペラジ
ニル基又はチオモルホリニル基から選ばれる複素環を形
成する。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜５アルキル基又
はフェニル基である。）、 から選ばれる基であり、 Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲン、トリフルオロメチ
ル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３アルキル−オキシ
基、Ｃ１〜３アルキル−チオ基、ジ（Ｃ１〜３アルキ
ル） であり、そしてORは （式中、R11は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又
はアルキルジアリールシリルオキシ基であり、Ａは （R13は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又はアル
キルジアリールシリルオキシ基である。）であり、ａ、
ｂ、ｃ、ｄは単結合を表わすか、ａ、ｂ、ｃ、又はｄの
一つは二重結合を表わすか、若しくはａ及びｃの両方又
はｂ及びｄの両方は二重結合を表わす。但しａが二重結
合の場合、Ａは である）、又は （式中、ＥはCH2−CH2又はCH＝CHであり、R15、R16、R
17、R18及びR19は独立に水素、ハロゲン、Ｃ１〜４アル
キル基、Ｃ１〜４ハロアルキル基、オキシ−Ｃ１〜４ア
ルキル基、Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アル
キル基、Ｃ８〜12アラルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アル
キル基、C7又はC11アロイールオキシ−Ｃ１〜４アルキ
ル基、若しくはオキシ−である。但しR15、R16、R17、R
18及びR19の一つはオキシ−Ｃ１〜４アルキル基又はオ
キシ−（オキシ−は酸素がビフェニル部分の芳香族環に
直接結合している）である。）である。〕の抗高コレス
テロール血症化合物の製造のための新規なアシル化法に
する。
上記本発明においてORが であり、R5がトリアルキルシリルオキシ−Ｃ１〜３アル
キル基、トリフェニルメチルチオ−Ｃ１〜３アルキル
基、Ｃ１〜３アルカノイルオキシ−Ｃ１〜３アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜３アルキル基であ
る。）、 （R8、R9は独立にＣ１〜３アルキル基である。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜３アルキル基又
はフェニル基である。）、Ｘ及びＹで置換されたフェニ
ル基、又はＣ１〜３アルキル基から成る群より選ばれ、
R1はメチル基であり、R11は水素又はトリアルキルシリ
ルオキシ基又はアルキルジアリールシリルオキシ基であ
り、ａ、ｂ、ｃ、ｄはすべて単結合であるか又はａ、
ｂ、ｃ、ｄの一つは二重結合であるか又はｂ及びｄは二
重結合であり、R2がメチル基、R3及びR4は水素であり、 （ここでR13が水素又はトリアルキルシリルオキシ基又
はアルキルジアリールシリルオキシ基である。）である
製造法は好ましく、また、同じく上記本発明においてOR
が （式中、ＥはCH＝CHであり、R15、R16、R17、R18、R19
は独立にメチル基、オキシ−メチル基、フルオロ、水素
又はオキシ−である。但しR15、R16、R17、R18又はR19
のうちの一つはオキシ又はオキシ−メチル基である。）
である製造法も好ましい。これらの好ましい製法を用い
て製造した化合物をフッ化テトラブチルアンモニウム及
び希酸で処理することからなる構造式（Ｉ）′： 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2はメチル基； R3及びR4は水素であり； R6はＣ１〜３アルキル基、置換されたフェニル基（置
換基はＸ及びＹ（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲン、ト
リフルオロメチル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３ア
ルキル−オキシ基、Ｃ１〜３アルキル−チオ基、ジ（Ｃ
１〜３アルキル） である）である。）又は ａ）ヒドロキシ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｂ）チオ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜３アルカノイルオキシ−Ｃ１〜３アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜３アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜３アルキル基である。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜３アルキル基又
はフェニル基である。） から選ばれる基であり、 そしてOR′は （式中、Ｒ′11は水素又は水酸基でありＡ′は （Ｒ′13は水素又は水酸基である。）である。ａ、ｂ、
ｃ、ｄは単結合を表わすか、ａ、ｂ、ｃ、又はｄの一つ
は二重結合を表すか、若しくはｂ及びｄの両方は二重結
合を表す。但しａが二重結合の場合、Ａ′は である）である。〕の化合物、及び構造式（Ｉ）″： 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2は独立に水素又はＣ１〜10アルキル基、又は
R1及びR2はそれらが付着している炭素原子と共に炭素原
子３ないし８個の炭素環を形成し;R3及びR4は独立に水
素又はＣ１〜３アルキル基、Ｃ３〜７シクロアルキル
基、Ｃ１〜３アルキルチオ基、フェニル基、フェニルチ
オ基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）であり、そしてｎが２ないし５の場合、R3及びR4
の各々は独立に水素、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ３〜７シ
クロアルキル基又はR3及びR4の一つのみフェニル基又は
置換されたフェニル基であり； Ｒ′６は水素、ハロゲン、Ｃ１〜10アルキル基、フェ
ニル基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹ
（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲン、トリフルオロメチ
ル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３アルキル−オキシ
基、Ｃ１〜３アルキル−チオ基、 である）である。）又は ａ）ヒドロキシ−Ｃ１〜10アルキル基、 ｂ）チオ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜５アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜５アルキル基であるか、又は
R8及びR9はそれらが付着している窒素原子と共にピペリ
ジニル基、モルホリニル基、ピロリジニル基、ピペラジ
ニル基又はチオモルホリニル基から選ばれる複素環を形
成する）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜５アルキル基又
はフェニル基である。）、 から選ばれる基であり、 そしてOR″は （式中、ＥはCH＝CHであり、R15、R16、R17、R18及びR
19は独立に水素、フルオロ、メチル基、オキシ−メチル
基、若しくはオキシである。但しR15、R16、R17、R18及
びR19のうちの一つはオキシ−メチル基又はオキシ−で
ある）。である〕の化合物の製法もそれぞれ本発明に含
まれる。
キル基、トリフェニルメチルチオ−Ｃ１〜３アルキル
基、Ｃ１〜３アルカノイルオキシ−Ｃ１〜３アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜３アルキル基であ
る。）、 （R8、R9は独立にＣ１〜３アルキル基である。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜３アルキル基又
はフェニル基である。）、Ｘ及びＹで置換されたフェニ
ル基、又はＣ１〜３アルキル基から成る群より選ばれ、
R1はメチル基であり、R11は水素又はトリアルキルシリ
ルオキシ基又はアルキルジアリールシリルオキシ基であ
り、ａ、ｂ、ｃ、ｄはすべて単結合であるか又はａ、
ｂ、ｃ、ｄの一つは二重結合であるか又はｂ及びｄは二
重結合であり、R2がメチル基、R3及びR4は水素であり、 （ここでR13が水素又はトリアルキルシリルオキシ基又
はアルキルジアリールシリルオキシ基である。）である
製造法は好ましく、また、同じく上記本発明においてOR
が （式中、ＥはCH＝CHであり、R15、R16、R17、R18、R19
は独立にメチル基、オキシ−メチル基、フルオロ、水素
又はオキシ−である。但しR15、R16、R17、R18又はR19
のうちの一つはオキシ又はオキシ−メチル基である。）
である製造法も好ましい。これらの好ましい製法を用い
て製造した化合物をフッ化テトラブチルアンモニウム及
び希酸で処理することからなる構造式（Ｉ）′： 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2はメチル基； R3及びR4は水素であり； R6はＣ１〜３アルキル基、置換されたフェニル基（置
換基はＸ及びＹ（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲン、ト
リフルオロメチル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３ア
ルキル−オキシ基、Ｃ１〜３アルキル−チオ基、ジ（Ｃ
１〜３アルキル） である）である。）又は ａ）ヒドロキシ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｂ）チオ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜３アルカノイルオキシ−Ｃ１〜３アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜３アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜３アルキル基である。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜３アルキル基又
はフェニル基である。） から選ばれる基であり、 そしてOR′は （式中、Ｒ′11は水素又は水酸基でありＡ′は （Ｒ′13は水素又は水酸基である。）である。ａ、ｂ、
ｃ、ｄは単結合を表わすか、ａ、ｂ、ｃ、又はｄの一つ
は二重結合を表すか、若しくはｂ及びｄの両方は二重結
合を表す。但しａが二重結合の場合、Ａ′は である）である。〕の化合物、及び構造式（Ｉ）″： 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2は独立に水素又はＣ１〜10アルキル基、又は
R1及びR2はそれらが付着している炭素原子と共に炭素原
子３ないし８個の炭素環を形成し;R3及びR4は独立に水
素又はＣ１〜３アルキル基、Ｃ３〜７シクロアルキル
基、Ｃ１〜３アルキルチオ基、フェニル基、フェニルチ
オ基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）であり、そしてｎが２ないし５の場合、R3及びR4
の各々は独立に水素、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ３〜７シ
クロアルキル基又はR3及びR4の一つのみフェニル基又は
置換されたフェニル基であり； Ｒ′６は水素、ハロゲン、Ｃ１〜10アルキル基、フェ
ニル基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹ
（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲン、トリフルオロメチ
ル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３アルキル−オキシ
基、Ｃ１〜３アルキル−チオ基、 である）である。）又は ａ）ヒドロキシ−Ｃ１〜10アルキル基、 ｂ）チオ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜５アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜５アルキル基であるか、又は
R8及びR9はそれらが付着している窒素原子と共にピペリ
ジニル基、モルホリニル基、ピロリジニル基、ピペラジ
ニル基又はチオモルホリニル基から選ばれる複素環を形
成する）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜５アルキル基又
はフェニル基である。）、 から選ばれる基であり、 そしてOR″は （式中、ＥはCH＝CHであり、R15、R16、R17、R18及びR
19は独立に水素、フルオロ、メチル基、オキシ−メチル
基、若しくはオキシである。但しR15、R16、R17、R18及
びR19のうちの一つはオキシ−メチル基又はオキシ−で
ある）。である〕の化合物の製法もそれぞれ本発明に含
まれる。
本発明はヒンダードアルコール（hindered alcoho
l）及び／又はヒンダード酸塩化物のアシル化の改良法
である。この基礎的原理はアルコールとの反応において
アルカリ金属臭化物／ジアルキルアミノピリジンを使用
して酸塩化物を活性化することである。本来生成した状
態のアシル化剤（２）の構造は未知であるが、それは酸
臭化物（2a）であるが、若しくは溶媒がピリジンの場
合、ピリジニウム複合体（2b）又はジアルキルアミノピ
リジニウム複合体（2c）であることができる。
l）及び／又はヒンダード酸塩化物のアシル化の改良法
である。この基礎的原理はアルコールとの反応において
アルカリ金属臭化物／ジアルキルアミノピリジンを使用
して酸塩化物を活性化することである。本来生成した状
態のアシル化剤（２）の構造は未知であるが、それは酸
臭化物（2a）であるが、若しくは溶媒がピリジンの場
合、ピリジニウム複合体（2b）又はジアルキルアミノピ
リジニウム複合体（2c）であることができる。
下図は典型的な反応工程を示している。
上図の（１）ないし（５）において、酸塩化物（１）
を溶媒中でアルカリ金属臭化物と反応させ、次いでジア
ルキルアミノピリジンを付加させる。この方法により、
より短時間（６〜８時間）且つより低温（70℃）で出発
物質をほとんど完全に消費してアルコール（３）をアシ
ル化してエステル（４）とする高度に反応性のアシル化
剤を得ることができる。この発明の反応条件はシリル保
護基と調和するので不飽和副産物（６）の生成は極めて
わずか（１〜２％）である。反応混合物の純度の増加は
単離工程を大きく簡素化する。
を溶媒中でアルカリ金属臭化物と反応させ、次いでジア
ルキルアミノピリジンを付加させる。この方法により、
より短時間（６〜８時間）且つより低温（70℃）で出発
物質をほとんど完全に消費してアルコール（３）をアシ
ル化してエステル（４）とする高度に反応性のアシル化
剤を得ることができる。この発明の反応条件はシリル保
護基と調和するので不飽和副産物（６）の生成は極めて
わずか（１〜２％）である。反応混合物の純度の増加は
単離工程を大きく簡素化する。
上述のように、本発明によるアシル化法は酸塩化物自
体を使用するよりも利点があり、更にまた本発明は酸臭
化物を使用することと比較しても有利である。本発明は
容易に製造し精製され、加水分解に対して比較的安定な
ことより無期限に保存することが可能な酸塩化物を使用
する。これに対して、酸臭化物の製造には高価で入手の
困難な試薬を必要とし、又酸臭化物の蒸留精製はその高
沸点と不安定性により妨げられる。
体を使用するよりも利点があり、更にまた本発明は酸臭
化物を使用することと比較しても有利である。本発明は
容易に製造し精製され、加水分解に対して比較的安定な
ことより無期限に保存することが可能な酸塩化物を使用
する。これに対して、酸臭化物の製造には高価で入手の
困難な試薬を必要とし、又酸臭化物の蒸留精製はその高
沸点と不安定性により妨げられる。
開示した発明は、本発明の改良条件無しには低収率で
ある酸塩化物とアルコールの間のすべてのアシル化反応
に適用することができる。この発明は特にヒンダードア
ルコール及び酸塩化物反応剤並びに通常のアシル化条件
下では排除されるような反応剤に適用することができ
る。
ある酸塩化物とアルコールの間のすべてのアシル化反応
に適用することができる。この発明は特にヒンダードア
ルコール及び酸塩化物反応剤並びに通常のアシル化条件
下では排除されるような反応剤に適用することができ
る。
この発明の一つの実施態様はORがタイプ（ｉ）のアル
コールのアルコキシ残基である開示の方法で製造される
化合物である。
コールのアルコキシ残基である開示の方法で製造される
化合物である。
この発明の方法で製造される化合物のなかで、この実
施態様の一つのクラスにはR5がトリアルキルシリルオキ
シ−Ｃ１〜３アルキル基である式（Ｉ）の化合物があ
る。サブクラスとしてR1がメチル基、R11が水素であ
り、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄの一
つが二重結合又はｂとｄが二重結合として製造される化
合物がある。このサブクラスの例は下記の化合物であ
る。
施態様の一つのクラスにはR5がトリアルキルシリルオキ
シ−Ｃ１〜３アルキル基である式（Ｉ）の化合物があ
る。サブクラスとしてR1がメチル基、R11が水素であ
り、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄの一
つが二重結合又はｂとｄが二重結合として製造される化
合物がある。このサブクラスの例は下記の化合物であ
る。
ａ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
−４−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−ブチリルオ
キシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a
（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４
（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,6
−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オン ｂ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
−４−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−ペンタノイ
ルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,
8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−
４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,
6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オン この実施態様の第二のクラスにはR5がトリフェニルチ
オＣ１〜３アルキル基として製造される化合物がある。
サブクラスには、R1がメチル基、R11が水素であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄの一つが
二重結合又はｂとｄが二重結合として製造される化合物
がある。このサブクラスの例は下記の化合物である。
−４−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−ブチリルオ
キシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a
（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４
（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,6
−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オン ｂ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
−４−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−ペンタノイ
ルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,
8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−
４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,
6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オン この実施態様の第二のクラスにはR5がトリフェニルチ
オＣ１〜３アルキル基として製造される化合物がある。
サブクラスには、R1がメチル基、R11が水素であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄの一つが
二重結合又はｂとｄが二重結合として製造される化合物
がある。このサブクラスの例は下記の化合物である。
ａ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
−４−トリフェニルメチルチオ−ブチリルオキシ）−２
（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキ
サヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert
−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒド
ロ−2H−ピラン−２−オン 上の実施態様の第三のクラスにはR5がＣ１〜３アルカ
ノイルオキシＣ１〜３アルキル基として製造される化合
物がある。サブクラスには、R1がメチル基、R11が水素
であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄ
の一つが二重結合又はｂとｄが二重結合として製造され
る化合物がある。このサブクラスの例は下記の化合物で
ある。
−４−トリフェニルメチルチオ−ブチリルオキシ）−２
（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキ
サヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert
−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒド
ロ−2H−ピラン−２−オン 上の実施態様の第三のクラスにはR5がＣ１〜３アルカ
ノイルオキシＣ１〜３アルキル基として製造される化合
物がある。サブクラスには、R1がメチル基、R11が水素
であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄ
の一つが二重結合又はｂとｄが二重結合として製造され
る化合物がある。このサブクラスの例は下記の化合物で
ある。
ａ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（４−カルボメト
キシ−2,2−ジメチルブチリルオキシ）−２（Ｓ）,6
（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロ
ナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−
ピラン−２−オン この実施態様の第四のクラスにはR5がＣ１〜３アルキ
ルオキシアシル（CH2）ｍ（ｍは０ないし３として製造
される化合物である。サブクラスにはR1がメチル基、R
11が水素であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又は
ｂ、ｃ、ｄの一つが二重結合又はｂとｄが二重結合とし
て製造される化合物がある。このサブクラスの例は下記
の化合物である。
キシ−2,2−ジメチルブチリルオキシ）−２（Ｓ）,6
（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロ
ナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−
ピラン−２−オン この実施態様の第四のクラスにはR5がＣ１〜３アルキ
ルオキシアシル（CH2）ｍ（ｍは０ないし３として製造
される化合物である。サブクラスにはR1がメチル基、R
11が水素であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又は
ｂ、ｃ、ｄの一つが二重結合又はｂとｄが二重結合とし
て製造される化合物がある。このサブクラスの例は下記
の化合物である。
ａ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（４−アセチルオ
キシ−2,2−ジメチルブチリルオキシ）−２（Ｓ）,6
（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロ
ナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−
ピラン−２−オン ｂ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
ブチリルオキシ）−６（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシ
リルメチル−２（Ｓ）−メチル−1,2,4a（Ｒ）5,6,7,8,
8a（Ｒ）−オキタヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−
４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,
6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オン この実施態様の第五のクラスにはR5がジ（Ｃ１〜３ア
ルキル） として製造される化合物がある。サブクラスにはR1がメ
チル基、R11が水素であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単
結合又はｂ、ｃ、ｄの一つが二重結合又はｂとｄが二重
結合として製造される化合物がある。このサブクラスの
例は下記の化合物である。
キシ−2,2−ジメチルブチリルオキシ）−２（Ｓ）,6
（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロ
ナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチル
ジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−
ピラン−２−オン ｂ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
ブチリルオキシ）−６（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシ
リルメチル−２（Ｓ）−メチル−1,2,4a（Ｒ）5,6,7,8,
8a（Ｒ）−オキタヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−
４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,
6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オン この実施態様の第五のクラスにはR5がジ（Ｃ１〜３ア
ルキル） として製造される化合物がある。サブクラスにはR1がメ
チル基、R11が水素であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単
結合又はｂ、ｃ、ｄの一つが二重結合又はｂとｄが二重
結合として製造される化合物がある。このサブクラスの
例は下記の化合物である。
ａ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
−４−（Ｎ−メチルアセタミド）−ブチリルオキシ）−
２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘ
キサヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−２−オン この実施態様の第六のクラスには、R5がＣ１〜３アル
キルチオ−（CH2）ｍ基、フェニルチオ−（CH2）ｍ基、
又はＣ１〜３アルキルスルフィニル−（CH2）ｍ又はフ
ェニルスルフィニル−（CH2）ｍ基として製造される化
合物がある。サブクラスにはR1がメチル基、R11が水素
であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄ
の一つが二重結合又はｂとｄが二重結合として製造され
る化合物がある。このサブクラスの例は下記の化合物で
ある。
−４−（Ｎ−メチルアセタミド）−ブチリルオキシ）−
２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘ
キサヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−２−オン この実施態様の第六のクラスには、R5がＣ１〜３アル
キルチオ−（CH2）ｍ基、フェニルチオ−（CH2）ｍ基、
又はＣ１〜３アルキルスルフィニル−（CH2）ｍ又はフ
ェニルスルフィニル−（CH2）ｍ基として製造される化
合物がある。サブクラスにはR1がメチル基、R11が水素
であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄ
の一つが二重結合又はｂとｄが二重結合として製造され
る化合物がある。このサブクラスの例は下記の化合物で
ある。
ａ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
−４−チオメチルブチリルオキシ−２（Ｓ）、６（Ｒ）
−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチ
ル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン
−２−オン この実施態様の第七のクラスにはR5がフェニル基又は
Ｘ及びＹで置換されたフェニル基として製造される化合
物がある。サブクラスにはR1がメチル基、R11が水素で
あり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄの
一つが二重結合又はｂとｄが二重結合として製造される
化合物がある。このサブクラスの例は下記の化合物であ
る。
−４−チオメチルブチリルオキシ−２（Ｓ）、６（Ｒ）
−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチ
ル−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン
−２−オン この実施態様の第七のクラスにはR5がフェニル基又は
Ｘ及びＹで置換されたフェニル基として製造される化合
物がある。サブクラスにはR1がメチル基、R11が水素で
あり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべて単結合又はｂ、ｃ、ｄの
一つが二重結合又はｂとｄが二重結合として製造される
化合物がある。このサブクラスの例は下記の化合物であ
る。
ａ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
−４−フェニルブチリルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−
ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル
−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチル
シリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン−
２−オン この実施態様の第八のクラスにはR5がＣ１〜３アルキ
ル基として製造される化合物がある。サブクラスにはR1
がメチル基、R11が水素であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべ
て単結合又はｂ、ｃ、ｄの一つが二重結合又はｂとｄが
二重結合として製造される化合物がある。このサブクラ
スの例は下記の化合物である。
−４−フェニルブチリルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−
ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル
−１（Ｓ）エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチル
シリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン−
２−オン この実施態様の第八のクラスにはR5がＣ１〜３アルキ
ル基として製造される化合物がある。サブクラスにはR1
がメチル基、R11が水素であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄがすべ
て単結合又はｂ、ｃ、ｄの一つが二重結合又はｂとｄが
二重結合として製造される化合物がある。このサブクラ
スの例は下記の化合物である。
ａ） ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチル
ヘキサノイルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−
1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）
エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オン この発明の他の実施態様はORが種類（ii）のアルコー
ルのアルコキシ残基である開示の方法で製造される化合
物である。
ヘキサノイルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−
1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）
エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキ
シ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オン この発明の他の実施態様はORが種類（ii）のアルコー
ルのアルコキシ残基である開示の方法で製造される化合
物である。
この実施態様の一つのクラスには、種類（ii）のアル
コールにおいてＥがCH2−CH2又はCH＝CHであり、R15、R
16、R17、R18及びR19は独立に水素、フルオロ、Ｃ
１〜４アルキル基又はヒドロキシＣ１〜４アルキル基と
して製造される化合物がある。サブクラスには種類（i
i）のアルコールのＥがCH＝CHであるこの発明の方法に
より製造される式（Ｉ）の化合物がある。このサブクラ
スの例は下記の化合物である。
コールにおいてＥがCH2−CH2又はCH＝CHであり、R15、R
16、R17、R18及びR19は独立に水素、フルオロ、Ｃ
１〜４アルキル基又はヒドロキシＣ１〜４アルキル基と
して製造される化合物がある。サブクラスには種類（i
i）のアルコールのＥがCH＝CHであるこの発明の方法に
より製造される式（Ｉ）の化合物がある。このサブクラ
スの例は下記の化合物である。
ａ） （4R,6S）−Ｅ−６−〔２−（3,5−ジメチル−
４′−フルオロ−３′−ヒドロキシメチル〔1,1′−ビ
フェニル〕−２−イル）フテニル〕−3,4,5,6−テトラ
ヒドロ−４−ヒドロキシ−2H−ピラン−２−オン 前記実施態様に含まれる第二のサブクラスには、種類
（ii）のアルコールのＥがCH2CH2である式（Ｉ）の化合
物があり、このサブクラスの例は下記の化合物である。
４′−フルオロ−３′−ヒドロキシメチル〔1,1′−ビ
フェニル〕−２−イル）フテニル〕−3,4,5,6−テトラ
ヒドロ−４−ヒドロキシ−2H−ピラン−２−オン 前記実施態様に含まれる第二のサブクラスには、種類
（ii）のアルコールのＥがCH2CH2である式（Ｉ）の化合
物があり、このサブクラスの例は下記の化合物である。
ａ） （4R,6S）−６−〔２−（3,5−ジメチル−４′−
フルオロ−３′−ヒドロキシメチル〔1,1′−ビフェニ
ル〕−２−イル）エチル〕−3,4,5,6−テトラヒドロ−
４−ヒドロキシ−2H−ピラン−２−オン この発明において酸塩化物、アルコール、アルカリ金
属臭化物及びジアルキルアミノピリジン触媒は如何なる
順序で混合することもできる。好ましくは酸塩化物はア
ルコールと混合する前に適当な溶媒中、不活性ガス下で
約10〜15分無水アルカリ金属臭化物と混合する。適当な
溶媒の例はピリジン、1,2−ジクロロエタン、二塩化メ
チレン、トリエチルアミン並びにテトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル及び二塩化メチレンとピリジンとの混
合物である。
フルオロ−３′−ヒドロキシメチル〔1,1′−ビフェニ
ル〕−２−イル）エチル〕−3,4,5,6−テトラヒドロ−
４−ヒドロキシ−2H−ピラン−２−オン この発明において酸塩化物、アルコール、アルカリ金
属臭化物及びジアルキルアミノピリジン触媒は如何なる
順序で混合することもできる。好ましくは酸塩化物はア
ルコールと混合する前に適当な溶媒中、不活性ガス下で
約10〜15分無水アルカリ金属臭化物と混合する。適当な
溶媒の例はピリジン、1,2−ジクロロエタン、二塩化メ
チレン、トリエチルアミン並びにテトラヒドロフラン、
ジエチルエーテル及び二塩化メチレンとピリジンとの混
合物である。
好ましい溶媒はビリジンである。好ましいアルカリ金
属臭化物は臭化リチウムである。
属臭化物は臭化リチウムである。
アルカリ金属臭化物の酸塩化物に対するモル比率は、
1.0モル当量の酸塩化物に対して1.0〜10.0モル当量のア
ルカリ金属臭化物の間で変動することができる。アルカ
リ金属臭化物は使用前乾燥し、その後大気に曝さないこ
とが重要である。
1.0モル当量の酸塩化物に対して1.0〜10.0モル当量のア
ルカリ金属臭化物の間で変動することができる。アルカ
リ金属臭化物は使用前乾燥し、その後大気に曝さないこ
とが重要である。
酸塩化物のアルコールに対するモル比率は、1.0モル
当量のアルコールに対して2.0ないし3.0モル当量の酸塩
化物の範囲で変動することができる。好ましい比率は１
当量のアルコールに対して２当量の酸塩化物である。酸
塩化物はアルコール及び適当な触媒により処理される。
当量のアルコールに対して2.0ないし3.0モル当量の酸塩
化物の範囲で変動することができる。好ましい比率は１
当量のアルコールに対して２当量の酸塩化物である。酸
塩化物はアルコール及び適当な触媒により処理される。
使用する触媒は４−（ジメチルアミノ）ピリジン、４
−ピロリジノピリジン、４−（2,5−ジメチル）ピロリ
ジノピリジンを含むN,N−ジアルキルアミノピリジン及
び環状アルキルアミノピリジン並びにN,N,N′,N′−テ
トラメチル−Ｎ″−４−ピリニジル−グアニジンであ
る。好ましい触媒は４−（ジメチルアミノ）ピリジンで
ある。使用する触媒量は1.0モル当量の酸塩化物に対し
て約0.1モル当量である。
−ピロリジノピリジン、４−（2,5−ジメチル）ピロリ
ジノピリジンを含むN,N−ジアルキルアミノピリジン及
び環状アルキルアミノピリジン並びにN,N,N′,N′−テ
トラメチル−Ｎ″−４−ピリニジル−グアニジンであ
る。好ましい触媒は４−（ジメチルアミノ）ピリジンで
ある。使用する触媒量は1.0モル当量の酸塩化物に対し
て約0.1モル当量である。
反応剤、溶媒及び触媒の混合物は25〜75℃、好ましく
は70〜75℃で６〜８時間加熱する。
は70〜75℃で６〜８時間加熱する。
反応剤のアルコールがタイプ（ｉ）である方法を使用
する場合、前駆物質である出発物質はコンパクチン、メ
ビノリン及びそれらのデヒドロ及びテトラヒドロアナロ
グであり、それ等は容易に入手し得るか又は米国特許第
3,983,140号、米国特許第4,049,495号、米国特許第4,23
1,938号、米国特許第4,294,846号及び米国特許第4,343,
814号に開示された発酵法、並びに米国特許第4,351,844
号に開示された水素添加法により製造することができ
る。ポリヒドロナフチル環の６位にヒドロキシメチル基
又は保護されたヒドロキシメチル基を含む反応剤は1987
年１月９日出願し、係属中の米国特許願第001933号に開
示された方法により製造することができる。次いで適当
な式（７）の出発物質は米国特許第4,444,784号に開示
された条件により加水分解されて式（８）の化合物が得
られる。式（８）の化合物のラクトン部分の４−ヒドロ
キシ官能基は適当な保護剤により保護され、こゝには米
国特許第4,444,784号に開示の方法によるジメチル−ｔ
−ブチルシリル基を例示する。次いで適当な酸塩化物、
アルカリ金属臭化物及びジアルキルアミノピリジン触媒
を使用して８′−水酸基のアシル化を実行する。シリル
保護基は米国特許第4,444,784号に記述された方法によ
り、フッ化テトラブチルアンモニウムで処理することに
より除去する。トリフェニルメチル保護基は希酸で処理
することにより除去する。
する場合、前駆物質である出発物質はコンパクチン、メ
ビノリン及びそれらのデヒドロ及びテトラヒドロアナロ
グであり、それ等は容易に入手し得るか又は米国特許第
3,983,140号、米国特許第4,049,495号、米国特許第4,23
1,938号、米国特許第4,294,846号及び米国特許第4,343,
814号に開示された発酵法、並びに米国特許第4,351,844
号に開示された水素添加法により製造することができ
る。ポリヒドロナフチル環の６位にヒドロキシメチル基
又は保護されたヒドロキシメチル基を含む反応剤は1987
年１月９日出願し、係属中の米国特許願第001933号に開
示された方法により製造することができる。次いで適当
な式（７）の出発物質は米国特許第4,444,784号に開示
された条件により加水分解されて式（８）の化合物が得
られる。式（８）の化合物のラクトン部分の４−ヒドロ
キシ官能基は適当な保護剤により保護され、こゝには米
国特許第4,444,784号に開示の方法によるジメチル−ｔ
−ブチルシリル基を例示する。次いで適当な酸塩化物、
アルカリ金属臭化物及びジアルキルアミノピリジン触媒
を使用して８′−水酸基のアシル化を実行する。シリル
保護基は米国特許第4,444,784号に記述された方法によ
り、フッ化テトラブチルアンモニウムで処理することに
より除去する。トリフェニルメチル保護基は希酸で処理
することにより除去する。
式（10）の好ましく置換された酸塩化物は商業的に入
手し得るか又は標準の化学変換法を用いて公知の出発物
質から製造することができる。そのような変換の特別な
例は下記の文献に見出される。
手し得るか又は標準の化学変換法を用いて公知の出発物
質から製造することができる。そのような変換の特別な
例は下記の文献に見出される。
R5が の場合： 1986年５月５日出願し、係属中の米国特許第859,534
号及び米国特許願第859,525号（ここに引例により挿入
される）。典型的な製造例では、フェニル酢酸及びＸ、
Ｙで置換されたフェニル酢酸はα位でアルキル化され
る。次いで酸は塩化オキザリルを用いて酸塩化物に置換
される。
号及び米国特許願第859,525号（ここに引例により挿入
される）。典型的な製造例では、フェニル酢酸及びＸ、
Ｙで置換されたフェニル酢酸はα位でアルキル化され
る。次いで酸は塩化オキザリルを用いて酸塩化物に置換
される。
R5が の場合： 1986年５月５日及び1986年５月５日にそれぞれ出願
し、係属中の米国特許第859,534号（ここに引例として
挿入される）。好ましく置換されたジエステルはモノエ
ステルに変換され、これは塩化オキザリルで処理して所
望のエステルで置換された酸塩化物が形成される。
し、係属中の米国特許第859,534号（ここに引例として
挿入される）。好ましく置換されたジエステルはモノエ
ステルに変換され、これは塩化オキザリルで処理して所
望のエステルで置換された酸塩化物が形成される。
R5が の場合： 1986年５月５日出願し、係属中の米国特許第859,529
号（ここに引例として挿入される）。上述のように製造
したエステルで置換された酸塩化物をR8R9で置換された
アミンで処理してアミドで置換されたエステルを得、こ
れを更にアミドで置換された酸に変化し、最後に塩化オ
キザリルで処理して所望のアミドで置換された酸塩化物
を得る。
号（ここに引例として挿入される）。上述のように製造
したエステルで置換された酸塩化物をR8R9で置換された
アミンで処理してアミドで置換されたエステルを得、こ
れを更にアミドで置換された酸に変化し、最後に塩化オ
キザリルで処理して所望のアミドで置換された酸塩化物
を得る。
R5が の場合： 1986年５月５日及び1986年５月５日にそれぞれ出願
し、係属中の米国特許第859,5340号及び米国特許第859,
513号（ここに引例として挿入される）。典型的な製造
例では、ブロモエステルを適当なアルキル又はアリール
メルカプタンで処理してチオ置換エステルを形成し、次
いでこれをチオ置換酸に変換し、塩化オキザリルで処理
して所望のチオ置換酸塩化物を得る。スルフィニル又は
スルホニル誘導体への変換は３−クロロ過安息香酸で酸
化することにより実行することができる。
し、係属中の米国特許第859,5340号及び米国特許第859,
513号（ここに引例として挿入される）。典型的な製造
例では、ブロモエステルを適当なアルキル又はアリール
メルカプタンで処理してチオ置換エステルを形成し、次
いでこれをチオ置換酸に変換し、塩化オキザリルで処理
して所望のチオ置換酸塩化物を得る。スルフィニル又は
スルホニル誘導体への変換は３−クロロ過安息香酸で酸
化することにより実行することができる。
R1及びR2が炭素環を形成する酸塩化物は、炭素環置換
エステルからこれを更に標準の化学反応を用いてα位を
置換することにより形成することができる。
エステルからこれを更に標準の化学反応を用いてα位を
置換することにより形成することができる。
反応剤であるタイプ（ii）のアルコールは標準の化学
変換法を用いて出発物質から製造され、そのような方法
の特別な例は1986年１月31日それぞれ出願し、係属中の
米国特許第902,894号及び米国特許願第824,900号に記述
されている。
変換法を用いて出発物質から製造され、そのような方法
の特別な例は1986年１月31日それぞれ出願し、係属中の
米国特許第902,894号及び米国特許願第824,900号に記述
されている。
次の実施例はこの発明を例証するものであり、ここに
添付の特許請求の範囲に明らかにした発明を制限するも
のと考えるべきではない。
添付の特許請求の範囲に明らかにした発明を制限するも
のと考えるべきではない。
実施例１ ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（４−アセチルオキシ−
2,2−ジメチルブチリルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−
ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル
−１（Ｓ）〕エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン
−２−オンの製造 オーバーヘッド撹拌器、熱電対、及び凝縮器を取り付
けた乾燥した50Lの三つ首丸底フラスコに2,2−ジメチル
−４−アセトキシブチリルクロリド（1,639kg、8.51モ
ル）及び6.8Lの乾燥ピリジンを添加し、窒素ガス下で撹
拌した。無水臭化リチウム（1.46kg、16.98モル）をフ
ラスコの首に固定したプラスチック袋から15分間に渡っ
て分割添加した。市販の無水臭化リチウム（アルドリッ
チ（Aldrich）、99＋％）は使用前真空下135℃で３日間
乾燥した。
2,2−ジメチルブチリルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−
ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル
−１（Ｓ）〕エチル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン
−２−オンの製造 オーバーヘッド撹拌器、熱電対、及び凝縮器を取り付
けた乾燥した50Lの三つ首丸底フラスコに2,2−ジメチル
−４−アセトキシブチリルクロリド（1,639kg、8.51モ
ル）及び6.8Lの乾燥ピリジンを添加し、窒素ガス下で撹
拌した。無水臭化リチウム（1.46kg、16.98モル）をフ
ラスコの首に固定したプラスチック袋から15分間に渡っ
て分割添加した。市販の無水臭化リチウム（アルドリッ
チ（Aldrich）、99＋％）は使用前真空下135℃で３日間
乾燥した。
内部温度はピリジン／酸塩化物混合物に臭化リチウム
を添加する間55〜60℃に上昇し、色は黄赤色から赤褐色
に変化した。
を添加する間55〜60℃に上昇し、色は黄赤色から赤褐色
に変化した。
混合物は室温で10〜15分間撹拌した。5.4Lの乾燥ピリ
ジン中６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−ヒドロキシ−２
（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキ
サヒドロナフチル−１（Ｓ）〕エチル〕−４（Ｒ）−te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−２−オン（1.856kg、4.76モル）の
溶液を一度に添加した。４−（ジメチルアミノ）ピリジ
ン（104g、0.85モル）を添加し、混合物を窒素ガス下で
75℃に加熱した。反応混合物は加熱中黒褐色に変化し
た。反応の進行は高速液体クロマトグラフで検査した。
反応は典型的には98〜99％変換まで行なった（通常75℃
で６〜８時間）。生産物含有％は通常91〜94％であっ
た。この時の副産物の不飽和ラクトンの濃度水準は約1.
5〜1.8％であった。加熱を延長するとこの不純物の水準
は増加した。
ジン中６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−ヒドロキシ−２
（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,8a（Ｒ）−ヘキ
サヒドロナフチル−１（Ｓ）〕エチル〕−４（Ｒ）−te
rt−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,6−テトラヒ
ドロ−2H−ピラン−２−オン（1.856kg、4.76モル）の
溶液を一度に添加した。４−（ジメチルアミノ）ピリジ
ン（104g、0.85モル）を添加し、混合物を窒素ガス下で
75℃に加熱した。反応混合物は加熱中黒褐色に変化し
た。反応の進行は高速液体クロマトグラフで検査した。
反応は典型的には98〜99％変換まで行なった（通常75℃
で６〜８時間）。生産物含有％は通常91〜94％であっ
た。この時の副産物の不飽和ラクトンの濃度水準は約1.
5〜1.8％であった。加熱を延長するとこの不純物の水準
は増加した。
反応混合物を室温まで冷却し、ピリジンの一部（6L）
を真空下で除去した。
を真空下で除去した。
粘重、褐色の混合物を4Lの酢酸エチル及び2kgの水で
希釈し、15℃に冷却し、この間にpHを６規定HCl（7700m
l）で2.7に調節した。
希釈し、15℃に冷却し、この間にpHを６規定HCl（7700m
l）で2.7に調節した。
酸を温度を20℃以下に保つような速度で添加した。pH
はpHメーターで検査した。
はpHメーターで検査した。
更に酢酸エチル（8L）を激しく撹拌しながら添加し、
相を分離した。更に水相を12L及び8L量の酢酸エチルで
抽出した。合併した水相を6Lの1.2規定HCl溶液、8Lの飽
和NaHCO3溶液で２回、及び8Lの飽和ブラインで洗浄し、
窒素ガス下Na2SO4上で乾燥し、濾過し真空下で蒸発して
粘重、黒褐色の油状物を得、これを直接次工程で使用し
た。標記化合物をヘキサン中25％酢酸エチルを用いてシ
リカゲル上のカラムクロマトグラフにより精製し、溶離
した。純粋な生産物を無色の油状物として得た。1 H NMR（250MHz、CDCl3）： 5.90（d,1H,J＝10.0Hz）、5.77（dd,1H,J＝10.0、6.3H
z）、5.50（t,1H,J＝3.75Hz）、5.28〜5.44（m,1H）、
4.44〜4.71（m,1H）、4.22〜4.36（m,1H）、3.93〜4.19
（m,2H）、0.40〜2.75（m,24H;2.01に3Hシングレット、
1.19に3Hシングレット、1.18に3Hシングレット、1.07に
3Hダブレット（Ｊ＝7.5Hz）、0.87に12Hシングレット
（tert−ブチル及びメチル）、0.70（s,3H）、0.65（s,
3H）を含む）。IR（そのまま）3020、2960、2940、173
8、1475、1370、1240cm-1。
相を分離した。更に水相を12L及び8L量の酢酸エチルで
抽出した。合併した水相を6Lの1.2規定HCl溶液、8Lの飽
和NaHCO3溶液で２回、及び8Lの飽和ブラインで洗浄し、
窒素ガス下Na2SO4上で乾燥し、濾過し真空下で蒸発して
粘重、黒褐色の油状物を得、これを直接次工程で使用し
た。標記化合物をヘキサン中25％酢酸エチルを用いてシ
リカゲル上のカラムクロマトグラフにより精製し、溶離
した。純粋な生産物を無色の油状物として得た。1 H NMR（250MHz、CDCl3）： 5.90（d,1H,J＝10.0Hz）、5.77（dd,1H,J＝10.0、6.3H
z）、5.50（t,1H,J＝3.75Hz）、5.28〜5.44（m,1H）、
4.44〜4.71（m,1H）、4.22〜4.36（m,1H）、3.93〜4.19
（m,2H）、0.40〜2.75（m,24H;2.01に3Hシングレット、
1.19に3Hシングレット、1.18に3Hシングレット、1.07に
3Hダブレット（Ｊ＝7.5Hz）、0.87に12Hシングレット
（tert−ブチル及びメチル）、0.70（s,3H）、0.65（s,
3H）を含む）。IR（そのまま）3020、2960、2940、173
8、1475、1370、1240cm-1。
実施例２ ６（Ｒ）−〔２−〔８（Ｓ）−（2,2−ジメチルブチリ
ルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,
8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−
４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,
6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オンの製造 臭化リチウム（2.95g,34ミリモル、無水）を窒素ガス
下で無水ピリジン（13ml）中2,2−ジメチルブチリルク
ロリド（2.28g、17ミリモル）の溶液に可及的速やかに
添加した。温度が25℃に戻ったとき、ピリジン（10ml）
中アルコール（3.71g、8.51ミリモル）及び４−（ジメ
チルアミノ）ピリジン（0.208g、1.7ミリモル）の溶液
を添加した。混合物を70℃で3.5時間撹拌した。混合物
を室温で冷却し、水（100ml）に注入し、100mlの酢酸エ
チルで抽出を２回行なった。合併した有機抽出液は50ml
の1.2規定のHClで２回、50mlの飽和NaHCO3溶液、50mlの
飽和ブラインで洗浄し、無水Na2SO4上で乾燥し、濾過し
真空下で蒸発して標記化合物を無色油状物として得た。1 H NMR（300MHz、CDCl3）： 5.97（d,1H,J＝9.75Hz）、5.75（dd,1H,J＝9.75、6.15H
z）、5.75（dd,1H,J＝9.75、6.15Hz）、5.43〜5.52（m,
1H）、5.26〜5.35（m,1H）、4.48〜4.64（m,1H）、4.22
〜4.33（m,1H）、2.17〜2.65（m,5H）、0.70〜2.05（m,
35H;1.11及び1.08ppmに二つの3Hシングレット並びに0.8
5ppmに9Hシングレット）、0.06（s,3H）、0.05（s,3
H）。
ルオキシ）−２（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,8,
8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）エチル〕−
４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−3,4,5,
6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オンの製造 臭化リチウム（2.95g,34ミリモル、無水）を窒素ガス
下で無水ピリジン（13ml）中2,2−ジメチルブチリルク
ロリド（2.28g、17ミリモル）の溶液に可及的速やかに
添加した。温度が25℃に戻ったとき、ピリジン（10ml）
中アルコール（3.71g、8.51ミリモル）及び４−（ジメ
チルアミノ）ピリジン（0.208g、1.7ミリモル）の溶液
を添加した。混合物を70℃で3.5時間撹拌した。混合物
を室温で冷却し、水（100ml）に注入し、100mlの酢酸エ
チルで抽出を２回行なった。合併した有機抽出液は50ml
の1.2規定のHClで２回、50mlの飽和NaHCO3溶液、50mlの
飽和ブラインで洗浄し、無水Na2SO4上で乾燥し、濾過し
真空下で蒸発して標記化合物を無色油状物として得た。1 H NMR（300MHz、CDCl3）： 5.97（d,1H,J＝9.75Hz）、5.75（dd,1H,J＝9.75、6.15H
z）、5.75（dd,1H,J＝9.75、6.15Hz）、5.43〜5.52（m,
1H）、5.26〜5.35（m,1H）、4.48〜4.64（m,1H）、4.22
〜4.33（m,1H）、2.17〜2.65（m,5H）、0.70〜2.05（m,
35H;1.11及び1.08ppmに二つの3Hシングレット並びに0.8
5ppmに9Hシングレット）、0.06（s,3H）、0.05（s,3
H）。
実施例３〜15 実施例１及び２の方法により式（Ｉ）の次の化合物が
製造される。
製造される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス アール．ヴアーホーヴエン アメリカ合衆国，07016 ニユージヤー シイ，クランフオード，オーク レーン 106 (56)参考文献 特開 昭62−33133（ＪＰ，Ａ)
Claims (10)
- 【請求項１】次の構造式の化合物 を溶媒中でアルカリ金属臭化物、ジアルキルアミノピリ
ジン及び構造式（ｉ）の化合物 又は構造式（ii）の化合物 （式中、Ｒ′15、Ｒ′16、Ｒ′17、Ｒ′18、Ｒ′19は後
述するR15、R16、R17、R18又はR19がオキシ−C1-4アル
キル基又はオキシ−の場合、Ｒ′15、Ｒ′16、Ｒ′17、
Ｒ′18又はＲ′19はそれぞれヒドロキシ−Ｃ１〜４アル
キル基又は水酸基であることを条件として、それぞれR
15、R16、R17、R18、R19と定義される。）と混合して化
合物（Ｉ）を収得することから成る構造式（Ｉ） 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2は独立に水素又はＣ１〜10アルキル基、又はR1
及びR2はそれらが付着している炭素原子と共に炭素原子
３ないし８個の炭素環を形成し； R3及びR4は独立に水素又はＣ１〜３アルキル基、Ｃ
３〜７シクロアルキル基、Ｃ１〜３アルキルチオ基、フ
ェニル基、フェニルチオ基又は置換されたフェニル基
（置換基はＸ及びＹ（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲ
ン、トリフルオロメチル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ
１〜３アルキル−オキシ基、Ｃ１〜３アルキル−チオ
基、 である。）である。）であり、そしてｎが２ないし５の
場合、R3及びR4の各々は独立に水素、Ｃ１〜３アルキル
基、Ｃ３〜７シクロアルキル基又はR3及びR4の一つのみ
フェニル基又は置換されたフェニル基であり； R5は水素、ハロゲン、Ｃ１〜10アルキル基、フェニル基
又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）又は ａ）トリアルキルシリルオキシ−Ｃ１〜10アルキル基又
はアルキルジアリールシリルオキシ−Ｃ１〜10アルキル
基、 ｂ）トリフェニルメチルチオ−Ｃ１〜10アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜５アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜５アルキル基であるか、又は
R8及びR9はそれらが付着している窒素原子と共にピペリ
ジニル基、モリホリニル基、ピロリジニル基、ピペラジ
ニル基又はチオモルホリニル基から選ばれる複素環を形
成する。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜５アルキル基又
はフェニル基である。）、 から選ばれる基であり、 そしてORは （式中、R11は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又
はアルキルジアリールシリルオキシ基であり、Ａは （R13は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又はアル
キルジアリールシリルオキシ基である。）であり、ａ、
ｂ、ｃ、ｄは単結合を表すか、ａ、ｂ、ｃ、又はｄの一
つは二重結合を表すか、若しくはａ及びｃの両方又はｂ
及びｄの両方は二重結合を表す。但しａが二重結合の場
合、Ａは である）、又は （式中、ＥはCH2−CH2又はCH＝CHであり、R15、R16、R
17、R18及びR19は独立に水素、ハロゲン、Ｃ１〜４アル
キル基、Ｃ１〜４ハロアルキル基、オキシ−Ｃ１〜４ア
ルキル基、Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アル
キル基、Ｃ８〜12アラルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アル
キル基、C7又はC11アロイールオキシ−Ｃ１〜４アルキ
ル基、若しくはオキシ−である。但しR15、R16、R17、R
18及びR19の一つはオキシ−Ｃ１〜４アルキル基又はオ
キシ−である）である。〕の化合物の製造法。 - 【請求項２】ORは であり、R5はトリアルキルシリルオキシ−Ｃ１〜３アル
キル基、トリフェニルメチルチオ−Ｃ１〜３アルキル
基、Ｃ１〜３アルカノイルオキシ−Ｃ１〜３アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜３アルキル基であ
る。）、 （R8、R9は独立にＣ１〜３アルキル基である。） （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜３アルキル基又
はフェニル基である。）、Ｘ及びＹで置換されたフェニ
ル基、又はC1-3アルキル基から成る群より選ばれ、R1は
メチル基であり、R11は水素又はトリアルキルシリルオ
キシ基又はアルキルジアリールシリルオキシ基であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄはすべて単結合であるか又はａ、ｂ、
ｃ、ｄの一つは二重結合であるか又はｂ及びｄは二重結
合であり、R2はメチル基、R3及びR4は水素であり、Ａは （ここでR13は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又
はアルキルジアリールシリルオキシ基である。）である
請求項１記載の製造法。 - 【請求項３】R5はＣ１〜３アルカノイルオキシ−Ｃ
１〜３アルキル基である請求項２記載の製造法。 - 【請求項４】製造される化合物は６（Ｒ）−〔２−〔８
（Ｓ）−（４−アセチルオキシ−2,2−ジメチルブチリ
ルオキシ）−２−（Ｓ）,6（Ｒ）−ジメチル−1,2,6,7,
8,8a（Ｒ）−ヘキサヒドロナフチル−１（Ｓ）〕エチ
ル〕−４（Ｒ）−tert−ブチルジメチルシリルオキシ−
3,4,5,6−テトラヒドロ−2H−ピラン−２−オンである
請求項３の製造方法。 - 【請求項５】ORは （式中、ＥはCH＝CHであり、R15、R16、R17、R18、R19
は独立にメチル基、オキシ−メチル基、フルオロ、水素
又はオキシ−である。但しR15、R16、R17、R18及びR19
のうちの一つはオキシ又はオキシ−メチル基である。）
である請求項１の製造法。 - 【請求項６】アルカリ金属臭化物は臭化リチウムであ
り、溶媒はピリジンである請求項１の製造法。 - 【請求項７】ジアルキルアミノピリジン触媒はジ（Ｃ
１〜５アルキル）アミノピリジン、４−ピロリジノピリ
ジン、４（2,5−ジメチルピロリジノ）ピリジン及びN,
N,N′,N′−テトラメチル−Ｎ″−４−ピリジニル−グ
アニジンから成る群より選ばれる請求項１の製造法。 - 【請求項８】ジアルキルアミノピリジン触媒は４−（ジ
メチルアミノ）ピリジンである請求項７の製造法。 - 【請求項９】請求項２の製造方法により製造された構造
式 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2はメチルであり、 R3及びR4は水素であり、 R5はＣ１〜３アルキル基、置換されたフェニル基（置換
基はＸ及びＹ（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲン、トリ
フルオロメチル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３アル
キル−オキシ基、Ｃ１〜３アルキル−チオ基、ジ（Ｃ
１〜３アルキル） である）である。）又は ａ）トリアルキルシリルオキシ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｂ）トリフェニルメチルチオ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜３アルカノイルオキシ−Ｃ１〜３アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜３アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜３アルキル基である。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜３アルキル基又
はフェニル基である。） から選ばれる基であり、 そしてORは 〔式中、R11は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又
はアルキルジアリールシリルオキシ基であり、Ａは （R13は水素又はトリアルキルシリルオキシ基又はアル
キルジアリールシリルオキシ基である。）であり、ａ、
ｂ、ｃ、ｄは単結合を表わすか、ａ、ｂ、ｃ、又はｄの
一つは二重結合を表すか、若しくはｂ及びｄの両方は二
重結合を表す。但しａが二重結合の場合、Ａは である）である。〕の化合物をフッ化テトラブチルアン
モニウム及び希酸で処理することから成る、構造式： 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2はメチル基： R3及びR4は水素であり： R6はＣ１〜３アルキル基、置換されたフェニル基（置換
基はＸ及びＹ（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲン、トリ
フルオロメチル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ１〜３アル
キル−オキシ基、Ｃ１〜３アルキル−チオ基、ジ（Ｃ
１〜３アルキル） である）である。）又は ａ）ヒドロキシ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｂ）チオ−Ｃ１〜３アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜３アルカノルオキシ−Ｃ１〜３アルキル基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜３アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜３アルキル基である。）、 （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜３アルキル基又
はフェニル基である。） から選ばれる基であり、 そしてOR′は （式中、Ｒ′11は水素又は水酸基でありＡ′は （Ｒ′13は水素又は水酸基である。）である。ａ、ｂ、
ｃ、ｄは単結合を表すか、ａ、ｂ、ｃ、又はｄの一つは
二重結合を表すか、若しくはｂ及びｄの両方は二重結合
を表す。但しａが二重結合の場合、Ａ′は である）である。〕の化合物の製造方法。 - 【請求項１０】請求項５の製造方法により製造された構
造式： 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2は独立に水素又はＣ１〜10アルキル基、又はR1
及びR2はそれらが付着している炭素原子と共に炭素原子
３ないし８個の炭素環を形成し； R3及びR4は独立に水素又はＣ１〜３アルキル基、Ｃ
３〜７シクロアルキル基、Ｃ１〜３アルキルチオ基、フ
ェニル基、フェニルチオ基又は置換されたフェニル基
（置換基はＸ及びＹ（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲ
ン、トリフルオロメチル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ
１〜３アルキル−オキシ基、Ｃ１〜３アルキル−チオ
基、 である）である。）であり、そしてｎが２ないし５の場
合、R3及びR4の各々は独立に水素、Ｃ１〜３アルキル
基、Ｃ３〜７シクロアルキル基又はR3及びR4の一つのみ
フェニル基又は置換されたフェニル基であり； R5は水素、ハロゲン、Ｃ１〜10アルキル基、フェニル基
又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）又は ａ）トリアルキルシリルオキシ−Ｃ１〜10アルキル基又
はアルキルジアリールシリルオキシ−Ｃ１〜10アルキル
基、 ｂ）トリフェニルメチルチオ−Ｃ１〜10アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜５アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜５アルキル基であるか、又は
R8及びR9はそれらが付着している窒素原子と共にピペリ
ジニル基、モルホリニル基、ピロリジニル基、ピペラジ
ニル基又はチオモルホリニル基から選ばれる複素環を形
成する。） （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜５アルキル基又
はフェニル基である。）、 から選ばれる基であり、 そしてORは （式中、ＥはCH＝CHであり、R15、R16、R17、R18及びR
19は独立に水素、フルオロ、メチル基、オキシ−メチル
基、若しくはオキシ−である。但しR15、R16、R17、R18
及びR19のウチノ一つはオキシ−メチル基又はオキシ−
である）。である〕の化合物をフッ化テトラブチルアン
モニウム及び希酸で処理することから成る、構造式： 〔式中、ｎは０ないし５であり、 R1及びR2は独立に水素又はＣ１〜10アルキル基、又はR1
及びR2はそれらが付着している炭素原子と共に炭素原子
３ないし８個の炭素環を形成し； R3及びR4は独立に水素又はＣ１〜３アルキル基、Ｃ
３〜７シクロアルキル基、Ｃ１〜３アルキルチオ基、フ
ェニル基、フェニルチオ基又は置換されたフェニル基
（置換基はＸ及びＹ（Ｘ及びＹは独立に水素、ハロゲ
ン、トリフルオロメチル基、Ｃ１〜３アルキル基、Ｃ
１〜３アルキル−オキシ基、Ｃ１〜３アルキル−チオ
基、 である）である。）であり、そしてｎが２ないし５の場
合、R3及びR4の各々は独立に水素、Ｃ１〜３アルキル
基、Ｃ３〜７シクロアルキル基又はR3及びR4の一つのみ
フェニル基又は置換されたフェニル基であり； Ｒ′６は水素、ハロゲン、Ｃ１〜10アルキル基、フェニ
ル基又は置換されたフェニル基（置換基はＸ及びＹであ
る。）又は ａ）ヒドロキシ−Ｃ１〜10アルキル基、 ｂ）チオ−Ｃ１〜10アルキル基、 ｃ）Ｃ１〜８アルカノイルオキシ−Ｃ１〜４アルキル
基、 （ｍは０ないし３であり、R7はＣ１〜５アルキル基であ
る。）、 （R8及びR9は独立にＣ１〜５アルキル基であるか、又は
R8及びR9はそれらが付着している窒素原子と共にピペリ
ジニル基、モルホリニル基、ピロリジニル基、ピペラジ
ニル基又はチオモルホリニル基から選ばれる複素環を形
成する。） （ｑは０ないし２であり、R10はＣ１〜５アルキル基又
はフェニル基である。）、 から選ばれる基であり、 そしてOR″は （式中、ＥはCH＝CHであり、R15、R16、R17、R18及びR
19は独立に水素、フルオロ、メチル基、若しくはオキシ
−メチル基、若しくはオキシである。但しR15、R16、R
17、R18及びR19のうちの一つはオキシ−メチル基又はオ
キシ−である。）である。〕の化合物の製造方法。
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|---|---|
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