JP2671979B2 - Heating equipment - Google Patents

Heating equipment

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JP2671979B2
JP2671979B2 JP61125173A JP12517386A JP2671979B2 JP 2671979 B2 JP2671979 B2 JP 2671979B2 JP 61125173 A JP61125173 A JP 61125173A JP 12517386 A JP12517386 A JP 12517386A JP 2671979 B2 JP2671979 B2 JP 2671979B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、IC基板の表面に対する特定の薄膜形成な
どに用いる加熱装置に係り、特に、炉体と清浄室との遮
断などに関する。 〔従来の技術〕 一般に、半導体処理工場において、加熱装置としての
減圧CVD装置では、その炉体側と清浄空気室側とをパー
テーションで仕切り、炉体側に対して清浄空気室側の圧
力を高く設定して炉体側の不浄空気が清浄空気室側へ侵
入するのを防止している。 第6図は、従来の減圧CVD装置の前部の構成を示す。
炉体2に設置された断熱材の内部には、IC基板などを収
容して加熱処理を行う反応管(アウターチューブ)6が
設置され、この反応管6の端部は、炉体2に隣接して設
置された清浄室(スカベンジャ)8Aに臨ませられてい
る。この清浄室8Aと炉体2との間には、両者を仕切る炉
体2側4の仕切り壁10が設けられ、この仕切り壁10に対
して清浄室8Aの前面壁12が固定されている。 この減圧CVD装置において、炉体2側に対して清浄室8
A側の空気清浄化のために、内部の気圧を高く設定する
ことが行われている。清浄室8Aの気圧が高く設定された
場合、炉体2側から清浄室8A側への不浄空気の侵入は生
じないが、炉体2側と清浄室8A側との間に生じる気圧差
のため、清浄室8A側から炉体2側に矢印aで示すよう
に、気流を生じる。 このような気流によって炉体2の内部側に空気の対流
を起こすと、炉体2の温度分布が変化するので、その対
流を防止するとともに、炉体2側から清浄室8Aへの放熱
を防止するための対策として、第6図に示すように、清
浄室8Aの前面壁12の内面部には断熱材4と同様に反応管
6を覆う断熱材14が設置されているとともに、反応管6
の周囲部に生じる隙間18に繊維状の断熱材20が詰め込ま
れている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 ところで、清浄室8A側には、反応管6を開閉する自動
キャップ機構22、その自動キャップ機構22を自動的に駆
動する自動開閉機構24、反応管6の端部を封止するOリ
ングの冷却機構26、自動キャップ機構22を冷却する冷却
機構28が設置されているとともに、各冷却機構26、28に
対して冷却水を循環させる冷却水用配管などの各種の機
構が設置されており、30は冷却水を導く冷却水用配管の
接続部である。 このように清浄室8A側には各種の設備が設けられてい
るため、空間的な余裕が極めて少なく、また、清浄室8A
の外部には、その側面側にIC基板などの被処理物を移送
する昇降装置、冷却水用配管、排気ダクトなどが設置さ
れ、その正面側には移送手段が設置されている。 したがって、反応管6を洗浄する際に、清浄室8Aにお
いて、断熱材14、20を設置する作業は、空間的に非常に
困難であり、作業性が悪く、また、断熱材14、20を設置
しても気流を完全に阻止することは非常に困難である。 さらに、繊維状などの断熱材14、20を用いた場合、清
浄室8Aの下側に塵埃32の堆積が確認されており、これが
清浄室8Aならびに清浄室8Aを設置している清浄空気室側
の清浄状態を悪化させる原因になるおそれがある。 そして、従来では、反応管6の装着ごとに断熱材14、
20の設置作業が必要であり、その設置状態によって温度
プロファイルの再現性が悪く、温度制御が区々になる。 また、従来の減圧CVD装置では、第6図に示すよう
に、清浄室8Aにおいて、反応管6の端部が露出している
ため、その露出部での放熱によって、清浄室8Aの内壁お
よび雰囲気温度を上昇させる欠点がある。 そこで、この発明は、断熱材の設置作業を省略し、断
熱材による塵埃の発生および清浄室側の温度上昇を抑制
するとともに、炉体側の温度制御を良好にした加熱装置
の提供を目的とする。 〔問題点を解決するための手段〕 この発明の加熱装置は、第1図及び第2図に例示する
ように、加熱処理すべき被処理物を収納する反応管
(6)と、この反応管が炉口から前端開口部及び後端開
口部を突出させて挿入される炉体(2)と、この炉体の
前記炉口に形成されて前記反応管の前記前端開口部又は
前記後端開口部を清浄状態に維持する清浄室(8A、8B)
と、この清浄室に設置されて前記反応管を開閉するキャ
ップ機構(自動キャップ機構22、44)と、前記反応管の
開口縁部に設置された保持枠(36、46)と、この保持枠
から突出させた前記反応管の縁部に嵌められるととも
に、前記キャップ機構の前端枠と前記保持枠との間に挟
み込まれて前記反応管を密封状態に保持するOリング
(35、45)と、前記反応管の外周側で前記炉口を閉じる
閉塞部材(断熱部材48、固定枠50)と前記保持枠との間
に設置されて前記反応管を包囲する筒体であって、その
周囲に冷却水を循環させる導水管(38、52)が配置され
て前記炉口から前記清浄室側に露出している前記反応管
と前記清浄室との間の熱遮蔽をするとともに、前記保持
枠を通して前記Oリングを冷却する冷却ジャケット(34
A、34B)とを備えたことを特徴とする。 〔作用〕 このような構成によれば、加熱処理すべき被処理物を
収納する反応管が炉口から前端開口部及び後端開口部を
突出させて炉体に挿入され、その炉口に形成されて反応
管の前端開口部又は後端開口部を清浄状態に維持する清
浄室が設けられて、この清浄室に設置されたキャップ機
構を以て反応管を開閉することができる。反応管の開口
縁部には保持枠が設置され、この保持枠から突出させた
反応管の縁部にOリングが嵌められ、このOリングはキ
ャップ機構の前端枠と保持枠との間に挟み込まれ、これ
により、反応管が密封状態に保持される。 そして、水冷ジャケットは、保持枠と炉口との間に設
置されて反応管を包囲する筒体であって、その周囲に冷
却水を循環させる導水管が配置されて炉口から清浄室側
に露出している反応管と清浄室との間の熱遮蔽をすると
ともに、保持枠を通してOリングを冷却している。 このような構成により、清浄室と反応管との間の熱遮
蔽が可能になるとともに、反応管の開閉に伴う清浄室側
の温度上昇を抑制でき、空気の対流を抑制できるととも
に、炉体側の温度変化を抑え、炉体温度の安定化を図る
ことができ、加熱温度の制御が容易になる。また、Oリ
ングの熱的劣化を防止できる。さらに、断熱材が不要に
なり、断熱材による塵埃の発生や温度制御の不均一化も
抑制でき、加熱処理の精度の向上に寄与する。 〔実 施 例〕 第1図は、この発明の加熱装置の実施例を示し、この
実施例は減圧CVD装置に関するものである。 第1図に示すように、炉体2に隣接してその前部端に
は、清浄室8Aが設置され、また、炉体2の後部端には、
同様に清浄室8Bが設置されている。そして、炉体2の内
部に固定された断熱材4の内部に反応管6が挿入されて
おり、この反応管6の前部端が清浄室8A、その後部端が
清浄室8Bに臨ませられている。 清浄室8A側では、反応管6の前部端を開閉する自動キ
ャップ機構22が設けられ、この自動キャップ機構22は、
第2図に示すように、矢印Aの方向に自動開閉機構24で
自動的に開閉される。そして、反応管6の前部端縁部に
はOリング35を介在させて保持枠36が設置されていると
ともに、Oリング35を把持して自動キャップ機構22の前
端枠37が設置されている。保持枠36を介して反応管6の
端部と炉体2の端部との間には、これら両端部間に跨が
って反応管6の露出部分を覆い、炉体2と清浄室8Aとの
間を遮断する熱遮蔽手段の一例として水冷ジャケット34
Aが設置されている。水冷ジャケット34Aの周面には、第
3図に示すように、螺旋状に冷却水を循環させる導水管
38が配設されている。水冷ジャケット34Aは、第4図に
示すように、導水管38に対して保持枠36に取り付けられ
た配管接続部40から矢印Cで示すように供給される冷却
水の循環によって冷却され、反応管6からの熱を遮蔽す
る。清浄室8Aには内部空気を排気するダクト用排気口42
が設置されて、空気の清浄化が図られる。 また、清浄室8B側では、清浄室8A側と同様に、反応管
6の後端部を開閉する自動キャップ機構44が設けられ、
この自動キャップ機構44は、第2図に示すように、矢印
Bの方向に自動的に開閉される。そして、反応管6の後
部端縁部にはOリング45を介在させて気密性を保持させ
た保持枠46が設置されるとともに、Oリング45を把持し
て自動キャップ機構44の前端枠47が設置されている。炉
体2の後部端にはシリカクロスなどからなる断熱部材48
を介して固定枠50が取り付けられている。これら固定枠
50と保持枠46との間には、第5図に示すように、これら
両端部に跨がって炉体2と清浄室8Bとの間を遮断する熱
遮蔽手段の一例として水冷ジャケット34Bが設置されて
いる。水冷ジャケット34Bの周面には、螺旋状に冷却水
を循環させる導水管52が配設され、導水管52には保持枠
46に取り付けられた配管接続部53を介して供給される冷
却水が常時循環される。したがって、水冷ジャケット34
Bはその冷却水によって冷却され、反応管6からの熱を
遮蔽する。49は減圧用の排気口、54は水冷ジャケット34
Bの導水管52を固定する固定手段としての固定用パイプ
を示す。 そして、清浄室8Aと同様に、清浄室Bの内部には内部
空気を排気するダクト用排気口56が設置されて、空気の
清浄化が図られる。なお、58は清浄室8B側の正面ドアで
ある。 したがって、炉体2の端部と反応管6の端部との間に
跨がって水冷ジャケット34A、34Bが設置されると、炉体
2側と清浄室8Aまたは清浄室8B側との間が各水冷ジャケ
ット34A、34Bによって遮断され、空気の対流による炉体
2の温度の変動を抑えることができ、その制御が良好に
なり、炉体2の温度を安定化できる。 そして、反応管6の清浄室8A、8Bでの露出部分が水冷
ジャケット34A、34Bによって覆われるので、反応管6の
放熱を抑えることができ、上段炉の温度プロファイルへ
の影響を防止できる。 なお、実施例では、水冷ジャケット34A、34Bを以て熱
遮蔽手段を構成したが、導水管38、52を配設しない遮蔽
筒を以て構成してもよい。 〔発明の効果〕 以上説明したように、この発明によれば、次のような
効果が得られる。 (a) 加熱処理すべき被処理物を収納する反応管が炉
口から前端開口部及び後端開口部を突出させて炉体に導
入され、その炉口に形成されて反応管の前端開口部又は
後端開口部を清浄状態に維持する清浄室が設けられて、
この清浄室に設置されたキャップ機構を以て反応管を開
閉することができる。また、反応管の開口縁部には保持
枠が設置され、この保持枠から突出させた反応管の縁部
にOリングが嵌められ、このOリングがキャップ機構の
前端枠と保持枠との間に挟み込まれて、反応管を密封状
態に保持することができる。 そして、水冷ジャケットは保持枠と炉口との間に設置
されて反応管を包囲する筒体を成し、その周囲に冷却水
を循環させる導水管が配置されているので、この水冷ジ
ャケットにより、炉口から清浄室側に露出している反応
管と清浄室との間の熱遮蔽をすることができ、保持枠を
通してOリングを冷却することができるとともに、炉体
側と清浄室側との空気の対流を遮断でき、炉体温度の安
定化を図ることができる。 (b) 導水管によって冷却水を循環させて冷却する水
冷ジャケットを用いたことにより、断熱材が不要になる
ため、そのための作業を省略できるとともに、断熱材に
よる塵埃の発生を防止でき、清浄室側の空気の清浄化を
高めることができる。 (c) 清浄室側に露出した反応管が筒体を成す水冷ジ
ャケットによって覆われているため、清浄室側の温度上
昇を防止でき、その温度上昇による被処理物や加熱処理
への悪影響を防止することができる。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a heating device used for forming a specific thin film on the surface of an IC substrate, and more particularly to shutting off a furnace body from a clean room. [Prior Art] Generally, in a semiconductor processing factory, in a low pressure CVD apparatus as a heating apparatus, the furnace body side and the clean air chamber side are partitioned by a partition, and the pressure on the clean air chamber side is set higher than the furnace body side. The unclean air on the furnace side is prevented from entering the clean air chamber side. FIG. 6 shows the structure of the front part of a conventional low pressure CVD apparatus.
Inside the heat insulating material installed in the furnace body 2, a reaction tube (outer tube) 6 for accommodating an IC substrate and performing heat treatment is installed, and an end portion of the reaction tube 6 is adjacent to the furnace body 2. It faces the clean room (scavenger) 8A installed in the room. A partition wall 10 on the side of the furnace body 2 for partitioning the clean room 8A and the furnace body 2 is provided between the clean room 8A and the furnace body 2, and a front wall 12 of the clean room 8A is fixed to the partition wall 10. In this low pressure CVD apparatus, a clean room 8 is provided for the furnace body 2 side.
In order to clean the air on the A side, the internal pressure is set high. When the air pressure in the clean room 8A is set high, unclean air does not enter from the furnace body 2 side to the clean room 8A side, but due to the pressure difference between the furnace body 2 side and the clean room 8A side. An air flow is generated from the clean room 8A side to the furnace body 2 side as indicated by an arrow a. When air convection occurs inside the furnace body 2 by such an air flow, the temperature distribution of the furnace body 2 changes, so that convection is prevented and heat dissipation from the furnace body 2 side to the clean room 8A is prevented. As a measure to do so, as shown in FIG. 6, a heat insulating material 14 that covers the reaction tube 6 is installed on the inner surface of the front wall 12 of the clean room 8A, as well as the heat insulating material 4, and the reaction tube 6
A fibrous heat insulating material 20 is packed in a gap 18 formed around the periphery of the. [Problems to be Solved by the Invention] By the way, on the clean room 8A side, an automatic cap mechanism 22 for opening / closing the reaction tube 6, an automatic opening / closing mechanism 24 for automatically driving the automatic cap mechanism 22, and a reaction tube 6 are provided. An O-ring cooling mechanism 26 that seals the end portion, a cooling mechanism 28 that cools the automatic cap mechanism 22 are installed, and a cooling water pipe that circulates cooling water to each cooling mechanism 26, 28. Various mechanisms are installed, and 30 is a connection portion of a cooling water pipe for guiding cooling water. Since various facilities are installed on the clean room 8A side in this way, there is very little space available and the clean room 8A
An elevating device for transferring an object to be processed such as an IC substrate, a cooling water pipe, an exhaust duct, and the like are installed outside the device, and a transfer means is installed on the front side thereof. Therefore, when cleaning the reaction tube 6, the work of installing the heat insulating materials 14 and 20 in the clean room 8A is very difficult spatially, the workability is poor, and the heat insulating materials 14 and 20 are installed. Even so, it is very difficult to completely block the air flow. Furthermore, when fibrous heat insulating materials 14 and 20 are used, accumulation of dust 32 has been confirmed on the lower side of the clean room 8A. This is the clean room 8A and the clean air room side where the clean room 8A is installed. May deteriorate the cleanliness of the. In the conventional case, the heat insulating material 14 is attached every time the reaction tube 6 is attached,
20 installation work is required, and the reproducibility of the temperature profile is poor depending on the installation condition, and temperature control becomes uneven. Further, in the conventional low pressure CVD apparatus, as shown in FIG. 6, since the end of the reaction tube 6 is exposed in the clean room 8A, heat is radiated at the exposed part of the inner wall of the clean room 8A and the atmosphere. It has the drawback of increasing the temperature. Therefore, an object of the present invention is to provide a heating device that omits the work of installing a heat insulating material, suppresses the generation of dust due to the heat insulating material, and the temperature increase on the clean room side, and that enables good temperature control on the furnace body side. . [Means for Solving the Problems] As shown in FIGS. 1 and 2, the heating device of the present invention includes a reaction tube (6) for accommodating an object to be heat-treated, and this reaction tube. And a furnace body (2) into which the front end opening and the rear end opening are projected from the furnace opening, and the front end opening or the rear end opening of the reaction tube formed in the furnace opening of the furnace body. Clean room (8A, 8B) that keeps parts clean
A cap mechanism (automatic cap mechanism 22, 44) installed in the clean room to open and close the reaction tube, a holding frame (36, 46) installed at the opening edge of the reaction tube, and the holding frame. An O-ring (35, 45) that is fitted to the edge of the reaction tube that is projected from and is sandwiched between the front end frame of the cap mechanism and the holding frame to hold the reaction tube in a sealed state; A cylindrical body that is installed between a closing member (heat insulating member 48, a fixed frame 50) that closes the furnace port on the outer peripheral side of the reaction tube and the holding frame and surrounds the reaction tube, and cools the periphery thereof. A water guiding pipe (38, 52) for circulating water is arranged to provide heat shielding between the reaction chamber and the cleaning chamber exposed from the furnace opening to the cleaning chamber side, and through the holding frame, Cooling jacket (34
A, 34B) and. [Operation] According to such a configuration, the reaction tube accommodating the object to be heat-treated is inserted into the furnace body with the front end opening and the rear end opening protruding from the furnace opening, and is formed in the furnace opening. A clean chamber is provided for maintaining the front end opening or the rear end opening of the reaction tube in a clean state, and the reaction tube can be opened and closed by a cap mechanism installed in the clean chamber. A holding frame is installed at the opening edge of the reaction tube, and an O-ring is fitted to the edge of the reaction tube protruding from the holding frame. The O-ring is sandwiched between the front end frame of the cap mechanism and the holding frame. This keeps the reaction tube sealed. The water-cooling jacket is a cylindrical body that is installed between the holding frame and the furnace opening and surrounds the reaction tube, and a water guiding tube that circulates cooling water is arranged around the reaction tube from the furnace opening to the clean room side. A heat shield is provided between the exposed reaction tube and the clean room, and the O-ring is cooled through the holding frame. With such a configuration, heat can be shielded between the clean room and the reaction tube, the temperature increase on the clean room side due to the opening and closing of the reaction tube can be suppressed, the air convection can be suppressed, and the furnace body side The temperature change can be suppressed, the furnace temperature can be stabilized, and the heating temperature can be easily controlled. Further, thermal deterioration of the O-ring can be prevented. Further, since the heat insulating material is not necessary, it is possible to suppress the generation of dust due to the heat insulating material and the non-uniformity of temperature control, which contributes to the improvement of the accuracy of the heat treatment. [Examples] FIG. 1 shows an example of a heating apparatus according to the present invention. This example relates to a low pressure CVD apparatus. As shown in FIG. 1, a clean room 8A is installed adjacent to the furnace body 2 at its front end, and at the rear end of the furnace body 2,
Similarly, a clean room 8B is installed. The reaction tube 6 is inserted into the heat insulating material 4 fixed inside the furnace body 2. The front end of the reaction tube 6 faces the clean room 8A and the rear end faces the clean room 8B. ing. An automatic cap mechanism 22 that opens and closes the front end of the reaction tube 6 is provided on the clean room 8A side.
As shown in FIG. 2, the automatic opening / closing mechanism 24 automatically opens and closes in the direction of arrow A. A holding frame 36 is installed on the front end edge of the reaction tube 6 with an O-ring 35 interposed, and a front end frame 37 of the automatic cap mechanism 22 is installed by gripping the O-ring 35. . Between the end portion of the reaction tube 6 and the end portion of the furnace body 2 via the holding frame 36, the exposed portion of the reaction tube 6 is covered so as to straddle these end portions, and the furnace body 2 and the clean room 8A are covered. A water cooling jacket 34 as an example of heat shielding means for isolating
A is installed. On the peripheral surface of the water cooling jacket 34A, as shown in FIG. 3, a water pipe for spirally circulating cooling water.
38 are located. As shown in FIG. 4, the water cooling jacket 34A is cooled by the circulation of the cooling water supplied as shown by the arrow C from the pipe connecting portion 40 attached to the holding frame 36 to the water guiding pipe 38, and the reaction tube Shields heat from 6. The clean room 8A has a duct exhaust port 42 for exhausting the internal air.
Is installed to purify the air. Further, on the clean room 8B side, similarly to the clean room 8A side, an automatic cap mechanism 44 for opening and closing the rear end of the reaction tube 6 is provided,
The automatic cap mechanism 44 is automatically opened and closed in the direction of arrow B, as shown in FIG. A holding frame 46 having an O-ring 45 interposed therein to keep airtightness is installed at the rear end edge of the reaction tube 6, and the front end frame 47 of the automatic cap mechanism 44 is gripped by holding the O-ring 45. is set up. At the rear end of the furnace body 2 is a heat insulating member 48 made of silica cloth or the like.
The fixed frame 50 is attached via. These fixed frames
As shown in FIG. 5, a water cooling jacket 34B is provided between the holding frame 46 and the holding frame 46 as an example of a heat shield means that cuts off the furnace body 2 and the clean room 8B from both ends. is set up. A water guide pipe 52 that circulates the cooling water in a spiral shape is arranged on the peripheral surface of the water cooling jacket 34B, and the water guide pipe 52 has a holding frame.
The cooling water supplied through the pipe connection portion 53 attached to the 46 is constantly circulated. Therefore, the water cooling jacket 34
B is cooled by the cooling water and shields heat from the reaction tube 6. 49 is an exhaust port for decompression, 54 is a water cooling jacket 34
A fixing pipe as a fixing means for fixing the water conduit 52 of B is shown. As in the clean room 8A, a duct exhaust port 56 for exhausting the internal air is installed inside the clean room B to purify the air. Reference numeral 58 is a front door on the clean room 8B side. Therefore, when the water cooling jackets 34A and 34B are installed so as to extend between the end of the furnace body 2 and the end of the reaction tube 6, between the furnace body 2 side and the clean room 8A or the clean room 8B side. Is blocked by the water cooling jackets 34A and 34B, and fluctuations in the temperature of the furnace body 2 due to convection of air can be suppressed, the control thereof is improved, and the temperature of the furnace body 2 can be stabilized. Since the exposed portions of the reaction tube 6 in the clean chambers 8A and 8B are covered with the water cooling jackets 34A and 34B, the heat radiation of the reaction tube 6 can be suppressed, and the influence on the temperature profile of the upper furnace can be prevented. In the embodiment, the water cooling jackets 34A and 34B constitute the heat shielding means, but a shielding cylinder without the water conduits 38 and 52 may be used. [Effects of the Invention] As described above, according to the present invention, the following effects can be obtained. (A) A reaction tube accommodating an object to be heat-treated is introduced into a furnace body by projecting a front end opening and a rear end opening from a furnace opening, and is formed in the furnace opening to form a front end opening of the reaction tube. Or a clean room is provided to maintain the rear end opening in a clean state,
The reaction tube can be opened and closed with a cap mechanism installed in this clean room. A holding frame is installed at the opening edge of the reaction tube, and an O-ring is fitted to the edge of the reaction tube protruding from the holding frame. The O-ring is provided between the front end frame of the cap mechanism and the holding frame. And the reaction tube can be kept sealed. The water-cooling jacket is installed between the holding frame and the furnace opening to form a tubular body that surrounds the reaction tube, and a water guide tube for circulating cooling water is arranged around the tube body. Heat can be shielded between the reaction tube exposed from the furnace opening to the clean room side and the clean room, the O-ring can be cooled through the holding frame, and the air between the furnace body side and the clean room side can be cooled. The convection can be shut off and the temperature of the furnace body can be stabilized. (B) By using the water cooling jacket that circulates the cooling water by the water conduit to cool it, the heat insulating material is not required, so the work for it can be omitted and the generation of dust due to the heat insulating material can be prevented, and the clean room The cleaning of the side air can be increased. (C) Since the reaction tube exposed on the clean room side is covered by the water-cooling jacket that forms a cylindrical body, the temperature increase on the clean room side can be prevented, and the temperature rise on the clean room side can prevent adverse effects on the object to be processed and heat treatment can do.

【図面の簡単な説明】 第1図はこの発明の加熱装置の実施例である減圧CVD装
置を示す一部切欠断面図、第2図は第1図に示した減圧
CVD装置の自動キャップ機構の動作を示す一部切欠断面
図、第3図は水冷ジャケットの外形を示す側面図、第4
図および第5図は水冷ジャケット部分を示す断面図、第
6図は従来の減圧CVD装置の前部の構成を示す断面図で
ある。 2……炉体 6……反応管 8A、8B……清浄室 22、44……自動キャップ機構 34A、34B……水冷ジャケット 35、45……Oリング 36、46……保持枠 37、47……前端枠 38、52……導水管 48……断熱部材 50……固定枠
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a partially cutaway sectional view showing a reduced pressure CVD apparatus which is an embodiment of a heating apparatus of the present invention, and FIG. 2 is a reduced pressure shown in FIG.
Partially cutaway sectional view showing the operation of the automatic cap mechanism of the CVD apparatus, FIG. 3 is a side view showing the outer shape of the water cooling jacket, and FIG.
5 and 5 are sectional views showing a water cooling jacket portion, and FIG. 6 is a sectional view showing a configuration of a front portion of a conventional low pressure CVD apparatus. 2 ... Furnace 6 ... Reaction tubes 8A, 8B ... Clean rooms 22, 44 ... Automatic cap mechanism 34A, 34B ... Water cooling jackets 35, 45 ... O-rings 36, 46 ... Holding frames 37, 47 ... … Front end frames 38, 52 …… Water conduit 48 …… Insulation member 50 …… Fixed frame

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 1.加熱処理すべき被処理物を収納する反応管と、 この反応管が炉口から前端開口部及び後端開口部を突出
させて挿入させる炉体と、 この炉体の前記炉口に形成されて前記反応管の前記前端
開口部又は前記後端開口部を清浄状態に維持する清浄室
と、 この清浄室に設置されて前記反応管を開閉するキャップ
機構と、 前記反応管の開口縁部に設置された保持枠と、 この保持枠から突出させた前記反応管の縁部に嵌められ
るとともに、前記キャップ機構の前端枠と前記保持枠と
の間に挟み込まれて前記反応管を密封状態に保持するO
リングと、 前記反応管の外周側で前記炉口を閉じる閉塞部材と前記
保持枠との間に設置されて前記反応管を包囲する筒体で
あって、その周囲に冷却水を循環させる導水管が配置さ
れて前記炉口から前記清浄室側に露出している前記反応
管と前記清浄室との間の熱遮蔽をするとともに、前記保
持枠を通して前記Oリングを冷却する水冷ジャケット
と、 を備えたことを特徴とする加熱装置。
(57) [Claims] A reaction tube for accommodating an object to be heat-treated, a furnace body into which the reaction tube projects and inserts the front end opening and the rear end opening from the furnace opening, and the reaction tube formed in the furnace opening of the furnace body. A clean room for maintaining the front end opening or the rear end opening of the reaction tube in a clean state, a cap mechanism installed in the clean room to open and close the reaction tube, and installed at an opening edge of the reaction tube The holding frame and the edge of the reaction tube protruding from the holding frame, and is sandwiched between the front end frame of the cap mechanism and the holding frame to hold the reaction tube in a sealed state. O
A ring, a tube body that is installed between the holding member that closes the furnace port on the outer peripheral side of the reaction tube and the holding frame and surrounds the reaction tube, and a water pipe that circulates cooling water around the tube. And a water cooling jacket that cools the O-ring through the holding frame while shielding heat from the reaction chamber exposed from the furnace opening to the clean chamber side and the clean chamber. A heating device characterized in that
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