JP2664489B2 - 地下環境シミュレーション装置 - Google Patents
地下環境シミュレーション装置Info
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- JP2664489B2 JP2664489B2 JP20774889A JP20774889A JP2664489B2 JP 2664489 B2 JP2664489 B2 JP 2664489B2 JP 20774889 A JP20774889 A JP 20774889A JP 20774889 A JP20774889 A JP 20774889A JP 2664489 B2 JP2664489 B2 JP 2664489B2
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- Japan
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- atmosphere
- hermetic chamber
- chamber
- inert gas
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高レベル放射性廃棄物等の処分環境である
深地層環境を模擬的に実現するためのシミュレーション
装置に関するものである。
深地層環境を模擬的に実現するためのシミュレーション
装置に関するものである。
近年、該燃料サイクルより発生する高レベル放射性廃
棄物の処分に関する研究開発が進められるにつれ、その
処分環境である地下環境を模擬的に実現し、その雰囲気
下で実験を行う必要性が高まっている。
棄物の処分に関する研究開発が進められるにつれ、その
処分環境である地下環境を模擬的に実現し、その雰囲気
下で実験を行う必要性が高まっている。
第２図は、地中の雰囲気を模擬形成しながら金属の腐
食試験を行うための装置の一例を示したものである。図
において、試験槽90内には試験溶液91が満たされ、この
試験溶液91内で窒素と酸素の混合ガスがバブリング装置
93によってバブリングされることにより、試験溶液91の
溶存酸素濃度が一定に保たれている。また、試験槽90の
周囲には恒温槽96が配設され、これによって試験溶液91
の液温が略一定に保たれている。そして、この状態で試
験溶液91内に放射性廃棄物処理用容器の材料等からなる
試験片95が浸漬されることにより、その腐食試験が行わ
れる。
食試験を行うための装置の一例を示したものである。図
において、試験槽90内には試験溶液91が満たされ、この
試験溶液91内で窒素と酸素の混合ガスがバブリング装置
93によってバブリングされることにより、試験溶液91の
溶存酸素濃度が一定に保たれている。また、試験槽90の
周囲には恒温槽96が配設され、これによって試験溶液91
の液温が略一定に保たれている。そして、この状態で試
験溶液91内に放射性廃棄物処理用容器の材料等からなる
試験片95が浸漬されることにより、その腐食試験が行わ
れる。
上記のような放射性廃棄物等が実際に廃棄処分される
場所は、数百ｍ以上の深度をもつ地下であるが、このよ
うな奥深い地下に存する地下水中の溶存酸素濃度は例え
ば数ppbと極微小であり、酸化還元電位が−220mV〜−35
0mVと極めて還元性の強い雰囲気が形成されていると考
えられている。
場所は、数百ｍ以上の深度をもつ地下であるが、このよ
うな奥深い地下に存する地下水中の溶存酸素濃度は例え
ば数ppbと極微小であり、酸化還元電位が−220mV〜−35
0mVと極めて還元性の強い雰囲気が形成されていると考
えられている。
ところが、上記第２図の装置のように、大気中で腐食
試験を行う装置では、深い地中に存在する低酸素、低炭
酸ガス濃度の雰囲気を作り出すことは実質上不可能であ
り（溶液中の酸素濃度は数十ppm）、実際の地下環境に
おける物質の挙動と一致したデータは得られにくい。
試験を行う装置では、深い地中に存在する低酸素、低炭
酸ガス濃度の雰囲気を作り出すことは実質上不可能であ
り（溶液中の酸素濃度は数十ppm）、実際の地下環境に
おける物質の挙動と一致したデータは得られにくい。
本発明は、このような事情に鑑み、低酸素濃度、低炭
酸ガス濃度を有する地下環境を模擬的に再生し、これに
よって地下環境内での物質の挙動を的確に把握すること
ができる地下環境シミュレーション装置を提供すること
を目的とする。
酸ガス濃度を有する地下環境を模擬的に再生し、これに
よって地下環境内での物質の挙動を的確に把握すること
ができる地下環境シミュレーション装置を提供すること
を目的とする。
本発明は、内外の雰囲気が遮断された気密チェンバ
と、この気密チェンバ内の空気を排出する排気手段と、
上記気密チェンバ内に不活性ガスを封入する不活性ガス
供給装置と、上記気密チェンバ内の不純物を除去するこ
とにより気密チェンバ内の不活性ガス雰囲気を維持する
雰囲気制御手段とを備えたものである（請求項１）。
と、この気密チェンバ内の空気を排出する排気手段と、
上記気密チェンバ内に不活性ガスを封入する不活性ガス
供給装置と、上記気密チェンバ内の不純物を除去するこ
とにより気密チェンバ内の不活性ガス雰囲気を維持する
雰囲気制御手段とを備えたものである（請求項１）。
さらに、上記雰囲気制御手段を、気密チェンバ内の不
純物を除去するとともに、この気密チェンバ内に所望の
雰囲気を形成するための混合ガスを導入するように構成
すれば、より効果的である（請求項２）。
純物を除去するとともに、この気密チェンバ内に所望の
雰囲気を形成するための混合ガスを導入するように構成
すれば、より効果的である（請求項２）。
また、上記気密チェンバ内に試験用物品を搬出入する
ためのドアロック装置を設ければ、より好ましい（請求
項３）。
ためのドアロック装置を設ければ、より好ましい（請求
項３）。
上記構成によれば、気密チェンバ内の空気を排出した
後、同チェンバ内に不活性ガスを封入することによって
気密チェンバ内に不活性ガス雰囲気が形成される。さら
に、気密チェンバ接続部等からの漏れ込みや、気密チェ
ンバ内への試験片の搬入等で同チェンバ内に不純物が導
入されても、この不純物が雰囲気制御手段によって除去
されることにより、気密チェンバ内の不活性ガス雰囲気
が維持される。
後、同チェンバ内に不活性ガスを封入することによって
気密チェンバ内に不活性ガス雰囲気が形成される。さら
に、気密チェンバ接続部等からの漏れ込みや、気密チェ
ンバ内への試験片の搬入等で同チェンバ内に不純物が導
入されても、この不純物が雰囲気制御手段によって除去
されることにより、気密チェンバ内の不活性ガス雰囲気
が維持される。
さらに、請求項２記載の装置によれば、気密チェンバ
内に特定の混合ガスが導入されることにより、気密チェ
ンバ内に種々の所望雰囲気が形成される。
内に特定の混合ガスが導入されることにより、気密チェ
ンバ内に種々の所望雰囲気が形成される。
第１図は、本発明の一実施例における地下環境シミュ
レーション装置を示したものである。
レーション装置を示したものである。
この装置は、内外の雰囲気が完全に遮断された気密チ
ェンバ10を備えている。この気密チェンバ10には、フィ
ルタ12を介して真空ポンプ（排気手段）14が接続される
とともに、内部に不純窒素やアルゴン、ヘリウム等の不
活性ガスを収容した不活性ガス供給装置16、および気密
チェンバ10内の雰囲気を制御する雰囲気制御装置20が接
続されている。
ェンバ10を備えている。この気密チェンバ10には、フィ
ルタ12を介して真空ポンプ（排気手段）14が接続される
とともに、内部に不純窒素やアルゴン、ヘリウム等の不
活性ガスを収容した不活性ガス供給装置16、および気密
チェンバ10内の雰囲気を制御する雰囲気制御装置20が接
続されている。
雰囲気制御装置20は、脱酸素塔21、冷却塔22、送風機
23、一対の水吸着塔241,242、および一対の炭酸ガス吸
着塔251,252を順に備え、水吸着塔241,242同士、および
炭酸ガス吸着塔251,252同士は各々並列に配されてい
る。さらに、この雰囲気制御装置20には、上記水吸着塔
241,242および炭酸ガス吸着塔251,252に置換脱着用の不
活性ガスを封入するための不活性ガス供給装置26と、気
密チェンバ10内に酸素を含む混合ガスを供給する混合ガ
ス制御装置27とが設けられている。また、各通路の適所
には弁28が配設され、その開閉によってガスの通路が適
宜切換えられるようになっている。
23、一対の水吸着塔241,242、および一対の炭酸ガス吸
着塔251,252を順に備え、水吸着塔241,242同士、および
炭酸ガス吸着塔251,252同士は各々並列に配されてい
る。さらに、この雰囲気制御装置20には、上記水吸着塔
241,242および炭酸ガス吸着塔251,252に置換脱着用の不
活性ガスを封入するための不活性ガス供給装置26と、気
密チェンバ10内に酸素を含む混合ガスを供給する混合ガ
ス制御装置27とが設けられている。また、各通路の適所
には弁28が配設され、その開閉によってガスの通路が適
宜切換えられるようになっている。
一方、上記気密チェンバ10には２つのドアロック装置
30が設けられている。各ドアロック装置30は、内側ゲー
トバルブ31および外側ゲートバルブ32を備え、両ゲート
バルブ31,32で囲まれた空間に上記雰囲気制御装置20が
接続されている。また、一方のドアロック装置30の外側
部には試料脱気設備34が連結され、この試料脱気設備34
で脱気処理された試料がドアロック装置30を通じて気密
チェンバ10内に導入されるようになっている。なお、こ
の試料脱気設備34は気密チェンバ10に直接接続されてい
なくてもよく、試料脱気設備34で処理した試料を別の気
密移送容器内に収容した状態で気密チェンバ10内に対し
て搬出入するようにしてもよい。
30が設けられている。各ドアロック装置30は、内側ゲー
トバルブ31および外側ゲートバルブ32を備え、両ゲート
バルブ31,32で囲まれた空間に上記雰囲気制御装置20が
接続されている。また、一方のドアロック装置30の外側
部には試料脱気設備34が連結され、この試料脱気設備34
で脱気処理された試料がドアロック装置30を通じて気密
チェンバ10内に導入されるようになっている。なお、こ
の試料脱気設備34は気密チェンバ10に直接接続されてい
なくてもよく、試料脱気設備34で処理した試料を別の気
密移送容器内に収容した状態で気密チェンバ10内に対し
て搬出入するようにしてもよい。
次に、この装置において行われる地下環境雰囲気シミ
ュレーション動作を説明する。
ュレーション動作を説明する。
まず、真空ポンプ14の作動により気密チェンバ10内の
エアが排出され、気密チェンバ10内が略真空状態となっ
た後、不活性ガス供給装置16の作動によって気密チェン
バ10内に不活性ガスが封入される。この排気とガス供給
とが繰返されることによって、気密チェンバ10内におけ
る酸素等の不純物がほぼ取除かれ、気密チェンバ10内に
不活性ガス雰囲気が形成される。
エアが排出され、気密チェンバ10内が略真空状態となっ
た後、不活性ガス供給装置16の作動によって気密チェン
バ10内に不活性ガスが封入される。この排気とガス供給
とが繰返されることによって、気密チェンバ10内におけ
る酸素等の不純物がほぼ取除かれ、気密チェンバ10内に
不活性ガス雰囲気が形成される。
さらに、この状態から雰囲気制御装置20が作動するこ
とにより、残存する微量の不純物が気密チェンバ10から
除去され、気密チェンバ10内に所望の雰囲気が形成され
る。
とにより、残存する微量の不純物が気密チェンバ10から
除去され、気密チェンバ10内に所望の雰囲気が形成され
る。
具体的に、図の状態では、送風機23の作動によって、
気密チェンバ10内のガスが回収通路291を通じて脱酸素
塔21内に取込まれ、ガス中の酸素が除去される。その
後、ガス中の水分が冷却塔22で凝縮分離され、さらに水
吸着塔241で吸着される。また、炭酸ガスは炭酸ガス吸
着塔251で除去され、このようにして不純物が除去され
たガスは再給通路292を通じて気密チェンバ10内に返還
される。このような一連の動作によって、気密チェンバ
10内の不活性ガス雰囲気が維持される。
気密チェンバ10内のガスが回収通路291を通じて脱酸素
塔21内に取込まれ、ガス中の酸素が除去される。その
後、ガス中の水分が冷却塔22で凝縮分離され、さらに水
吸着塔241で吸着される。また、炭酸ガスは炭酸ガス吸
着塔251で除去され、このようにして不純物が除去され
たガスは再給通路292を通じて気密チェンバ10内に返還
される。このような一連の動作によって、気密チェンバ
10内の不活性ガス雰囲気が維持される。
一方、炭酸ガス吸着塔252および水吸着塔242に対して
は、不活性ガス供給装置26から不活性ガスが供給され、
各吸着塔内の吸着剤に吸着されている炭酸ガスおよび水
分が上記不活性ガスで置換脱着され、大気中に放出され
る。このような置換脱着と上記吸着とが、水吸着塔241
および炭酸ガス吸着塔251と、水吸着塔242および炭酸ガ
ス吸着塔252との間で交互に繰返されることにより、気
密チェンバ10内の不純物除去が連続して行われる。
は、不活性ガス供給装置26から不活性ガスが供給され、
各吸着塔内の吸着剤に吸着されている炭酸ガスおよび水
分が上記不活性ガスで置換脱着され、大気中に放出され
る。このような置換脱着と上記吸着とが、水吸着塔241
および炭酸ガス吸着塔251と、水吸着塔242および炭酸ガ
ス吸着塔252との間で交互に繰返されることにより、気
密チェンバ10内の不純物除去が連続して行われる。
さらに、この雰囲気制御装置20は、必要に応じて混合
ガス供給装置27の作動により気密チェンバ10内に再給通
路292を通じて微量の混合ガスを封入する。この混合ガ
スの成分および量は、所望の模擬雰囲気に応じて設定さ
れ、例えば低酸素濃度の雰囲気を形成したい場合には、
それに対応する窒素−酸素混合ガスが気密チェンバ10内
に供給される。
ガス供給装置27の作動により気密チェンバ10内に再給通
路292を通じて微量の混合ガスを封入する。この混合ガ
スの成分および量は、所望の模擬雰囲気に応じて設定さ
れ、例えば低酸素濃度の雰囲気を形成したい場合には、
それに対応する窒素−酸素混合ガスが気密チェンバ10内
に供給される。
このようにして所望の雰囲気が形成された後、試料脱
気設備34で脱気処理された試料が気密チェンバ10内に搬
入される。この試料は、地下環境を形成する水やベント
ナイト等の粘土類、あるいは放射性廃棄物処理用容器を
形成する金属材料等、種々のものが適用可能であり、こ
の試料に試料脱気設備34で乾燥処理、加熱処理等が施さ
れ、その表面に付着している酸素ガスや炭酸ガスが除去
された後に、試料がドアロック装置30を介して気密チェ
ンバ10内に搬入される。
気設備34で脱気処理された試料が気密チェンバ10内に搬
入される。この試料は、地下環境を形成する水やベント
ナイト等の粘土類、あるいは放射性廃棄物処理用容器を
形成する金属材料等、種々のものが適用可能であり、こ
の試料に試料脱気設備34で乾燥処理、加熱処理等が施さ
れ、その表面に付着している酸素ガスや炭酸ガスが除去
された後に、試料がドアロック装置30を介して気密チェ
ンバ10内に搬入される。
詳しくは、まず外側のゲートバルブ32が開いて試料が
両ゲートバルブ31,32の間に搬入され、その後にゲート
バルブ32が閉じる。次いで、この試料が搬入されている
ゲートバルブ31,32間の空間の雰囲気が、雰囲気制御装
置20の作動によって気密チェンバ10内の雰囲気と同等の
状態にされ、この状態で内側のゲートバルブ31が開いて
試料が気密チェンバ10内に搬入される。
両ゲートバルブ31,32の間に搬入され、その後にゲート
バルブ32が閉じる。次いで、この試料が搬入されている
ゲートバルブ31,32間の空間の雰囲気が、雰囲気制御装
置20の作動によって気密チェンバ10内の雰囲気と同等の
状態にされ、この状態で内側のゲートバルブ31が開いて
試料が気密チェンバ10内に搬入される。
このような操作によって、気密チェンバ10内の雰囲気
をほぼ変動させずに試料が搬入される。また、搬入され
る試料に微量の不純物が付着している場合も、この不純
物が雰囲気制御装置20で除去されることにより、気密チ
ェンバ10内の雰囲気は所望の状態に維持される。さら
に、メンテナンス等で気密チェンバ10内に物の搬入を行
わなければならない場合も、この搬入をもう一方のドア
ロック装置30を通じて行うことにより、気密チェンバ10
内の雰囲気を維持することができる。
をほぼ変動させずに試料が搬入される。また、搬入され
る試料に微量の不純物が付着している場合も、この不純
物が雰囲気制御装置20で除去されることにより、気密チ
ェンバ10内の雰囲気は所望の状態に維持される。さら
に、メンテナンス等で気密チェンバ10内に物の搬入を行
わなければならない場合も、この搬入をもう一方のドア
ロック装置30を通じて行うことにより、気密チェンバ10
内の雰囲気を維持することができる。
さらに、このような装置に、気密チェンバ10内の温度
を検知する手段と、その温度をフィードバック制御する
手段とを付設し、気密チェンバ10内の温度を所望の値に
保つようにすれば、より実際の地下環境に近い雰囲気を
実現することができる。また、上記温度を変化させて気
密チェンバ10内での化学変化を促進させることにより、
地下環境において長期間に亘って起こる現象を短期間の
実験で確証することも可能になる。
を検知する手段と、その温度をフィードバック制御する
手段とを付設し、気密チェンバ10内の温度を所望の値に
保つようにすれば、より実際の地下環境に近い雰囲気を
実現することができる。また、上記温度を変化させて気
密チェンバ10内での化学変化を促進させることにより、
地下環境において長期間に亘って起こる現象を短期間の
実験で確証することも可能になる。
なお、この実施例では、気密チェンバ10内に所望の雰
囲気を形成した後に試料を搬入する場合を説明している
が、試料が水等の液体やベントナイト等の粉体でなく、
真空引きを行っても差支えのないものであれば、気密チ
ェンバ10内に試料を搬入した後に雰囲気を形成するよう
にしてもよい。
囲気を形成した後に試料を搬入する場合を説明している
が、試料が水等の液体やベントナイト等の粉体でなく、
真空引きを行っても差支えのないものであれば、気密チ
ェンバ10内に試料を搬入した後に雰囲気を形成するよう
にしてもよい。
以上のように本発明は、気密チェンバ内の排気および
気密チェンバ内への不活性ガス供給を行い、さらに雰囲
気制御手段で気密チェンバ内の不活性ガス雰囲気を維持
するようにしたものであるので、従来のように大気中で
シミュレーションを行う装置に比べ、より地下環境の雰
囲気に近い低酸素、低炭酸ガス濃度の雰囲気を実現する
ことができ、従来不可能であった、地下環境で起こる地
球科学的な現象等を容易に確認することができる効果が
ある。
気密チェンバ内への不活性ガス供給を行い、さらに雰囲
気制御手段で気密チェンバ内の不活性ガス雰囲気を維持
するようにしたものであるので、従来のように大気中で
シミュレーションを行う装置に比べ、より地下環境の雰
囲気に近い低酸素、低炭酸ガス濃度の雰囲気を実現する
ことができ、従来不可能であった、地下環境で起こる地
球科学的な現象等を容易に確認することができる効果が
ある。
さらに、特定の混合ガスを気密チェンバ内に供給する
ように雰囲気制御手段を構成すれば、様々な雰囲気を自
由に設定することができ、より実際の地下環境に即した
環境で実験等を行うことができる効果がある。
ように雰囲気制御手段を構成すれば、様々な雰囲気を自
由に設定することができ、より実際の地下環境に即した
環境で実験等を行うことができる効果がある。
第１図は本発明の一実施例における地下環境シミュレー
ション装置の全体構成図、第２図は従来の金属腐食実験
用装置を示す全体構成図である。 10……気密チェンバ、14……真空ポンプ（排気手段）、
16……不活性ガス供給装置、20……雰囲気制御装置、27
……混合ガス供給装置。
ション装置の全体構成図、第２図は従来の金属腐食実験
用装置を示す全体構成図である。 10……気密チェンバ、14……真空ポンプ（排気手段）、
16……不活性ガス供給装置、20……雰囲気制御装置、27
……混合ガス供給装置。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松田 文夫 東京都武蔵野市吉祥寺南町３―36―10 神鋼社宅304 (56)参考文献 特開 昭62−284296（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−23457（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−55560（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】内外の雰囲気が遮断された気密チェンバ
と、この気密チェンバ内の空気を排出する排気手段と、
上記気密チェンバ内に不活性ガスを封入する不活性ガス
供給装置と、上記気密チェンバ内の不純物を除去するこ
とにより気密チェンバ内の不活性ガス雰囲気を維持する
雰囲気制御手段とを備えたことを特徴とする地下環境シ
ミュレーション装置。 - 【請求項２】上記雰囲気制御手段は、気密チェンバ内の
不純物を除去するとともに、この気密チェンバ内に所望
の雰囲気を形成するための混合ガスを導入するように構
成されていることを特徴とする請求項１記載の地下環境
シミュレーション装置。 - 【請求項３】請求項１記載の地下環境シミュレーション
装置において、気密チェンバ内に試験用物品を搬出入す
るためのドアロック装置を設けたことを特徴とする地下
環境シミュレーション装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20774889A JP2664489B2 (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | 地下環境シミュレーション装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20774889A JP2664489B2 (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | 地下環境シミュレーション装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0371040A JPH0371040A (ja) | 1991-03-26 |
| JP2664489B2 true JP2664489B2 (ja) | 1997-10-15 |
Family
ID=16544889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20774889A Expired - Fee Related JP2664489B2 (ja) | 1989-08-09 | 1989-08-09 | 地下環境シミュレーション装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2664489B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1300567C (zh) * | 2004-12-14 | 2007-02-14 | 武汉理工大学 | 多功能环境模拟装置 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19722111C2 (de) * | 1996-05-28 | 2002-07-11 | Kobe Steel Ltd | Simulator für unterirdische Umgebungen |
| JP3805581B2 (ja) * | 1999-10-06 | 2006-08-02 | 株式会社神戸製鋼所 | 実地下環境模擬装置 |
| JP2006053151A (ja) * | 2005-08-12 | 2006-02-23 | Kobe Steel Ltd | 実地下環境模擬装置 |
| JP4915094B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2012-04-11 | 株式会社Ｉｈｉ | 地盤・地下水モデル試験方法及び装置 |
| JP6449757B2 (ja) * | 2015-11-17 | 2019-01-09 | 日本電信電話株式会社 | 試験装置および試験方法 |
-
1989
- 1989-08-09 JP JP20774889A patent/JP2664489B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1300567C (zh) * | 2004-12-14 | 2007-02-14 | 武汉理工大学 | 多功能环境模拟装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0371040A (ja) | 1991-03-26 |
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