JP2648096B2 - 常圧ｃｖｄ装置 - Google Patents
常圧ｃｖｄ装置Info
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- JP2648096B2 JP2648096B2 JP17061494A JP17061494A JP2648096B2 JP 2648096 B2 JP2648096 B2 JP 2648096B2 JP 17061494 A JP17061494 A JP 17061494A JP 17061494 A JP17061494 A JP 17061494A JP 2648096 B2 JP2648096 B2 JP 2648096B2
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- Japan
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- conveyor
- pressure cvd
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大気圧下のもとで半導
体基板であるウェーハに反応ガスを吹き付けウェーハ面
に成膜を施す常圧ＣＶＤ装置に関する。
体基板であるウェーハに反応ガスを吹き付けウェーハ面
に成膜を施す常圧ＣＶＤ装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来の一例を示す常圧ＣＶＤ装置
の斜視図である。従来、この種の常圧ＣＶＤ装置は、図
３に示すように、ウェーハ１５を載置する複数のトレー
９と、これらトレー９を一方向に連結されたリンク４ａ
の積載治具に並べ載置しスプロケット４ｂの回転により
矢印の方向に移動するチェーンコンベア４と、トレー９
上のウェーハ１５を加熱するランプヒータ８と、ウェー
ハ１５の表面に反応ガスを吹き付ける３個のディスパー
ションヘッド５ａ，５ｂ，５ｃで構成されるユニット５
とを備えていた。
の斜視図である。従来、この種の常圧ＣＶＤ装置は、図
３に示すように、ウェーハ１５を載置する複数のトレー
９と、これらトレー９を一方向に連結されたリンク４ａ
の積載治具に並べ載置しスプロケット４ｂの回転により
矢印の方向に移動するチェーンコンベア４と、トレー９
上のウェーハ１５を加熱するランプヒータ８と、ウェー
ハ１５の表面に反応ガスを吹き付ける３個のディスパー
ションヘッド５ａ，５ｂ，５ｃで構成されるユニット５
とを備えていた。
【０００３】この常圧ＣＶＤ装置は、一定枚数の処理を
行うとディスパージョンヘッド５ａ，５ｂ，５ｃに反応
生成物が付着するため定期的にディスパーションヘッド
５ａ，５ｂ，５ｃの下面を清掃する必要があった。
行うとディスパージョンヘッド５ａ，５ｂ，５ｃに反応
生成物が付着するため定期的にディスパーションヘッド
５ａ，５ｂ，５ｃの下面を清掃する必要があった。
【０００４】これには常圧ＣＶＤ装置を一時停止し、デ
ィスパージョンヘッド５ａ，５ｂ，５ｃを一体化させた
ユニットを排気管７およびガス導入管６の可撓範囲まで
持ち上げディスパーションヘッド５ａ，５ｂ，５ｃの下
面を清掃し易いように露呈させ、真空掃除機等でディス
パージョンヘッド５ａ，５ｂ，５ｃの下面に付着した反
応生成物を吸引して除去していた。
ィスパージョンヘッド５ａ，５ｂ，５ｃを一体化させた
ユニットを排気管７およびガス導入管６の可撓範囲まで
持ち上げディスパーションヘッド５ａ，５ｂ，５ｃの下
面を清掃し易いように露呈させ、真空掃除機等でディス
パージョンヘッド５ａ，５ｂ，５ｃの下面に付着した反
応生成物を吸引して除去していた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の常圧Ｃ
ＶＤ装置では、ディスパージョンヘッドに付着した反応
生成物を除去するための装置の停止時間が稼働率を著し
く低下させるという問題がある。また、他の装置例で
は、清掃済みのディスパージョンヘッドのユニットを複
数準備し、これらに交換して使用するという方法もあ
る。しかしながら、配管の取外し取付けやディスパーシ
ョンヘッドとウェーハ面とのギャップ調整など多数の工
数を浪費するばかりか装置の稼働率の低下を避けること
ができない。
ＶＤ装置では、ディスパージョンヘッドに付着した反応
生成物を除去するための装置の停止時間が稼働率を著し
く低下させるという問題がある。また、他の装置例で
は、清掃済みのディスパージョンヘッドのユニットを複
数準備し、これらに交換して使用するという方法もあ
る。しかしながら、配管の取外し取付けやディスパーシ
ョンヘッドとウェーハ面とのギャップ調整など多数の工
数を浪費するばかりか装置の稼働率の低下を避けること
ができない。
【０００６】また、ディスパージョンヘッドに長い時間
を経て堆積した反応生成物は単に吸引するという方法で
は除去することが困難でいたずらに時間を浪費するだけ
であった。
を経て堆積した反応生成物は単に吸引するという方法で
は除去することが困難でいたずらに時間を浪費するだけ
であった。
【０００７】従って、本発明の目的は、定期的に清掃を
必要とすることなく長時間装置を運転できる稼働率の高
い常圧ＣＶＤ装置を提供することである。
必要とすることなく長時間装置を運転できる稼働率の高
い常圧ＣＶＤ装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、半導体
基板であるウェーハを乗せるトレイと、該ウェーハを加
熱する手段と、前記ウェーハに反応ガスを吹き付ける複
数のディスパージョンヘッドを並べ構成されるユニット
と、複数の移動部材を連結し形成される帯状部材とこの
帯状部材を一方向に送る駆動輪とで構成されるとともに
前記トレイをそれぞれの該移動部材に乗せるコンベアと
を備える常圧ＣＶＤ装置において、前記コンベアの走行
方向上の所定の間隔に介在する複数の前記トレイの所定
数を取去ってなる空間部内に前記ディスパーションヘッ
ドの下面に開口を向けて配置するとともに前記コンベア
の走行方向に平行に伸び両側に取付けられる摺動板を有
するダクトと、前記コンベアの前記空間部における両側
の前記移動部材にピンを介して回転自在に取付けられる
レバーと、このレバーの一端に取付けられる回転ブラシ
と、前記レバーの他端に取付けられる摺動部材と、前記
ダクトを押し上げて前記レバーの前記摺動部材を前記摺
動板に当接させ前記コンベアの走行に伴なって摺動させ
るとともに前記レバーを前記ピンの廻り回転させ前記回
転ブラシを前記ディスパーションヘッドの下面と接触さ
せる押上げ機構と、前記ダクトの排気口と接続される真
空ポンプとを備える常圧ＣＶＤ装置である。また、前記
ダクト内に電荷を帯びる集塵電極板を備えることが望ま
しい。
基板であるウェーハを乗せるトレイと、該ウェーハを加
熱する手段と、前記ウェーハに反応ガスを吹き付ける複
数のディスパージョンヘッドを並べ構成されるユニット
と、複数の移動部材を連結し形成される帯状部材とこの
帯状部材を一方向に送る駆動輪とで構成されるとともに
前記トレイをそれぞれの該移動部材に乗せるコンベアと
を備える常圧ＣＶＤ装置において、前記コンベアの走行
方向上の所定の間隔に介在する複数の前記トレイの所定
数を取去ってなる空間部内に前記ディスパーションヘッ
ドの下面に開口を向けて配置するとともに前記コンベア
の走行方向に平行に伸び両側に取付けられる摺動板を有
するダクトと、前記コンベアの前記空間部における両側
の前記移動部材にピンを介して回転自在に取付けられる
レバーと、このレバーの一端に取付けられる回転ブラシ
と、前記レバーの他端に取付けられる摺動部材と、前記
ダクトを押し上げて前記レバーの前記摺動部材を前記摺
動板に当接させ前記コンベアの走行に伴なって摺動させ
るとともに前記レバーを前記ピンの廻り回転させ前記回
転ブラシを前記ディスパーションヘッドの下面と接触さ
せる押上げ機構と、前記ダクトの排気口と接続される真
空ポンプとを備える常圧ＣＶＤ装置である。また、前記
ダクト内に電荷を帯びる集塵電極板を備えることが望ま
しい。
【０００９】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１０】図１（ａ）および（ｂ）は本発明の常圧Ｃ
ＶＤ装置の一実施例における主要部を示す断面図および
側面図である。この常圧ＣＶＤ装置は、図１に示すよう
に、チェーンコンベア４の走行方向上の所定の間隔に介
在する複数のトレイ９の所定数を取去ってなる空間部１
６内にディスパーションヘッド５ａ，５ｂ，５ｃの下面
に開口を向けて配置するとともに矢印Ａで示すコンベア
の走行方向に平行に伸び両側に取付けられる摺動板３ｂ
を有するダクト１と、チェーンコンベア４の空間部１６
における両側のリンク４ａにピン１１を介して回転自在
に取付けられるレバー３と、このレバー３の一端に取付
けられる回転ブラシ２と、レバー３の他端に取付けられ
るカムフロア３ａと、ダクト１を押し上げてレバー３の
カムフロア３ａを摺動板３ｂに当接させチェーンコンベ
ア４の走行に伴なって摺動させるとともにレバー３をピ
ン１１の廻り回転させ回転ブラシ２をディスパーション
ヘッド５ａ，５ｂ，５ｃの下面と接触させる昇降機１２
と、ダクト１の排気口と接続される真空ポンプ（図示せ
ず）とを備えている。
ＶＤ装置の一実施例における主要部を示す断面図および
側面図である。この常圧ＣＶＤ装置は、図１に示すよう
に、チェーンコンベア４の走行方向上の所定の間隔に介
在する複数のトレイ９の所定数を取去ってなる空間部１
６内にディスパーションヘッド５ａ，５ｂ，５ｃの下面
に開口を向けて配置するとともに矢印Ａで示すコンベア
の走行方向に平行に伸び両側に取付けられる摺動板３ｂ
を有するダクト１と、チェーンコンベア４の空間部１６
における両側のリンク４ａにピン１１を介して回転自在
に取付けられるレバー３と、このレバー３の一端に取付
けられる回転ブラシ２と、レバー３の他端に取付けられ
るカムフロア３ａと、ダクト１を押し上げてレバー３の
カムフロア３ａを摺動板３ｂに当接させチェーンコンベ
ア４の走行に伴なって摺動させるとともにレバー３をピ
ン１１の廻り回転させ回転ブラシ２をディスパーション
ヘッド５ａ，５ｂ，５ｃの下面と接触させる昇降機１２
と、ダクト１の排気口と接続される真空ポンプ（図示せ
ず）とを備えている。
【００１１】また、ダクト１の開口の幅はリンク４ａ間
の幅と同程度にし長さはユニット５の長さより稍大きめ
にする。さらに、トレー９が取除かれたチェーンコンベ
ア４の空間部１６の長さＬは少なくともダクト１の長さ
の略２倍程度必要である。一方、ダクト１の内部には、
高圧電源の電圧印加により電荷が帯びされた集塵電極板
１４が設けられている。すなわち、この集塵電極板１４
は真空ポンプで排出できない程度の微小な粒子がダクト
１外に浮遊して前後にあるトレー９のウェーハ１５を汚
染しないように粒子を吸着するために設けている。
の幅と同程度にし長さはユニット５の長さより稍大きめ
にする。さらに、トレー９が取除かれたチェーンコンベ
ア４の空間部１６の長さＬは少なくともダクト１の長さ
の略２倍程度必要である。一方、ダクト１の内部には、
高圧電源の電圧印加により電荷が帯びされた集塵電極板
１４が設けられている。すなわち、この集塵電極板１４
は真空ポンプで排出できない程度の微小な粒子がダクト
１外に浮遊して前後にあるトレー９のウェーハ１５を汚
染しないように粒子を吸着するために設けている。
【００１２】次に、この常圧ＣＶＤ装置の動作を説明す
る。まず、チエーンコンベアを走行させウェーハ１５を
載置したトレー９をリンク４ａに順次に乗せる。そして
ランプヒータでウェーハ１５を加熱し、ディスパーショ
ンヘッド５ａ，５ｂ，５ｃで反応ガスを吹き付けウェー
ハに成膜する。そして、トレー９の所定数がディスパー
ションヘッド５ａ，５ｂ，５ｃを通過したことをカウン
タが計数したら、トレー積載装置がトレー９の積載を休
止する。そして、リンク４ａ上に積載されていない状態
であるチェーンコンベア４の空間部１６が所定の長さに
なったら再びトレー積載装置がウェーハ１５を載置した
トレー９の積載を開始する。
る。まず、チエーンコンベアを走行させウェーハ１５を
載置したトレー９をリンク４ａに順次に乗せる。そして
ランプヒータでウェーハ１５を加熱し、ディスパーショ
ンヘッド５ａ，５ｂ，５ｃで反応ガスを吹き付けウェー
ハに成膜する。そして、トレー９の所定数がディスパー
ションヘッド５ａ，５ｂ，５ｃを通過したことをカウン
タが計数したら、トレー積載装置がトレー９の積載を休
止する。そして、リンク４ａ上に積載されていない状態
であるチェーンコンベア４の空間部１６が所定の長さに
なったら再びトレー積載装置がウェーハ１５を載置した
トレー９の積載を開始する。
【００１３】次に、チェーンコンベア４の走行によりト
レーを取除いてなるチェーンコンベアの空間部１６がラ
ンプヒータ室内に入るとランプヒータが消灯する。そし
て、ウェーハ１５を乗せた最後のトレー９がディスパー
ションヘッドを通過しチェーンコンベア４の空間部１６
がダクト１の開口にさしかかるとディスパージョンヘッ
ド５ａ，５ｂ，５ｃの反応ガスの吹付け排気を停止す
る。
レーを取除いてなるチェーンコンベアの空間部１６がラ
ンプヒータ室内に入るとランプヒータが消灯する。そし
て、ウェーハ１５を乗せた最後のトレー９がディスパー
ションヘッドを通過しチェーンコンベア４の空間部１６
がダクト１の開口にさしかかるとディスパージョンヘッ
ド５ａ，５ｂ，５ｃの反応ガスの吹付け排気を停止す
る。
【００１４】次に、チェーンコンベア４の空間部１６が
ダクト１の開口を包む位置に到達したら、図１（ｂ）に
示すように、昇降機１２のプランジャが上昇し、ダクト
１は案内部１３に案内され上昇し、摺動板３ｂをカムフ
ロア３ａに当接しレバー３をピン１１を支点として回転
させる。このレバー３の回転により回転ブラシ２はディ
スパージョンヘッド５ａの下面に押し付けられる。そし
て、チェーンコンベア４の走行に伴なってカムフロア３
ａは摺動板３ｂ上を回転しながら走行し回転ブラシ２は
チェーンコンベア４の走行に伴ないディスパージョンヘ
ッド５ａから５ｃまで回転しながら移動し反応生成物を
削り取る。
ダクト１の開口を包む位置に到達したら、図１（ｂ）に
示すように、昇降機１２のプランジャが上昇し、ダクト
１は案内部１３に案内され上昇し、摺動板３ｂをカムフ
ロア３ａに当接しレバー３をピン１１を支点として回転
させる。このレバー３の回転により回転ブラシ２はディ
スパージョンヘッド５ａの下面に押し付けられる。そし
て、チェーンコンベア４の走行に伴なってカムフロア３
ａは摺動板３ｂ上を回転しながら走行し回転ブラシ２は
チェーンコンベア４の走行に伴ないディスパージョンヘ
ッド５ａから５ｃまで回転しながら移動し反応生成物を
削り取る。
【００１５】ここで、回転ブラシ２の回転軸には同軸に
トルクリミッタ１０が取付けられているので、ある程度
の摩擦抵抗がないと回転しないようになっている。従っ
て、装置を稼働する前に、昇降機１２による押圧力に応
じて回転ブラシ２が円滑に回転し被着物が削り取れるよ
うに回転トルクを調整することが必要である。
トルクリミッタ１０が取付けられているので、ある程度
の摩擦抵抗がないと回転しないようになっている。従っ
て、装置を稼働する前に、昇降機１２による押圧力に応
じて回転ブラシ２が円滑に回転し被着物が削り取れるよ
うに回転トルクを調整することが必要である。
【００１６】次に、チェーンコンベア４の走行に伴ない
回転ブラシ２がディスパーションヘッド５ｃを乗り超え
ると、昇降機１２のプランジャが下降し真空ポンプの動
作が停止し研削粉の吸引を停止する。そして、ダクト１
は、図１（ａ）に示すように、コンベア４内の底部に下
降し、レバー３はピン１１を支点として回転しストッパ
３ｃにより停止される。そして、このレバー３の動作に
より回転ブラシ２は下降してリンク４ａ間に停留しカム
フロア３ａは摺動板３ｂからｈだけ離間した位置に留ま
る。
回転ブラシ２がディスパーションヘッド５ｃを乗り超え
ると、昇降機１２のプランジャが下降し真空ポンプの動
作が停止し研削粉の吸引を停止する。そして、ダクト１
は、図１（ａ）に示すように、コンベア４内の底部に下
降し、レバー３はピン１１を支点として回転しストッパ
３ｃにより停止される。そして、このレバー３の動作に
より回転ブラシ２は下降してリンク４ａ間に停留しカム
フロア３ａは摺動板３ｂからｈだけ離間した位置に留ま
る。
【００１７】さらに、チェーンコンベア４の走行により
前段のトレー９がランプヒータ室に入ると、ランプが点
灯しトレー９のウェーハ１５をウェーハを加熱する。そ
して、加熱されたウェーハ１５はチェーンコンベア４の
走行によりディスパーションヘッド５ａ下に到達する
と、反応ガスが吹き付けられウェーハ１５の表面に成膜
が施される。そして、所定数のウェーハを処理した後、
再びトレー９が取除かれてなるチェーンコンベア４の空
間部１６がディスパージョンヘッドの下部に位置させら
れると、前述の動作を繰返してディスパージョンヘッド
のクリーニングが行なわれる。
前段のトレー９がランプヒータ室に入ると、ランプが点
灯しトレー９のウェーハ１５をウェーハを加熱する。そ
して、加熱されたウェーハ１５はチェーンコンベア４の
走行によりディスパーションヘッド５ａ下に到達する
と、反応ガスが吹き付けられウェーハ１５の表面に成膜
が施される。そして、所定数のウェーハを処理した後、
再びトレー９が取除かれてなるチェーンコンベア４の空
間部１６がディスパージョンヘッドの下部に位置させら
れると、前述の動作を繰返してディスパージョンヘッド
のクリーニングが行なわれる。
【００１８】このように成膜とクリーニングを繰返して
連続して運転するので、成膜時にディスパージョンヘッ
ドに被着する反応ガス生成膜は初期に生成される膜と同
しように薄くしかも剥離し易いので容易に除去できる。
また、成膜時のチェーンコンベアの走行速度とクリーニ
ング時の走行速度とほぼ同じことから、成膜条件を変え
て再設定する必要がなく成膜とクリーニングを連続して
行なえる。
連続して運転するので、成膜時にディスパージョンヘッ
ドに被着する反応ガス生成膜は初期に生成される膜と同
しように薄くしかも剥離し易いので容易に除去できる。
また、成膜時のチェーンコンベアの走行速度とクリーニ
ング時の走行速度とほぼ同じことから、成膜条件を変え
て再設定する必要がなく成膜とクリーニングを連続して
行なえる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ディスパ
ージョンヘッドの下部を走行するコンベア上に並べられ
た多数のウェーハ載置用のトレーの複数個を取り除き空
間部を形成し、この空間部にディスパーションヘッドの
下面を研磨する回転ブラシをコンベアの両側にある移動
リンクに差し渡して設け、この空間部の下方に研磨屑を
排出する吸引ダクトを配設し、コンベアの走行に伴なっ
て回転ブラシをディスパーションヘッドの下面に押し付
け研磨し発生した研磨屑を吸引ダクトで排出することに
よって、成膜およびクリーニングが装置を停止すること
なく連続的に行なえるので、装置の稼働率を向上できる
という効果がある。
ージョンヘッドの下部を走行するコンベア上に並べられ
た多数のウェーハ載置用のトレーの複数個を取り除き空
間部を形成し、この空間部にディスパーションヘッドの
下面を研磨する回転ブラシをコンベアの両側にある移動
リンクに差し渡して設け、この空間部の下方に研磨屑を
排出する吸引ダクトを配設し、コンベアの走行に伴なっ
て回転ブラシをディスパーションヘッドの下面に押し付
け研磨し発生した研磨屑を吸引ダクトで排出することに
よって、成膜およびクリーニングが装置を停止すること
なく連続的に行なえるので、装置の稼働率を向上できる
という効果がある。
【００２０】また、チェーンコンベアの一巡毎に自動的
にディスパージョンヘッドユニットをクリーニングする
ことにより、反応生成物の堆積が薄く剥れ易いので反応
生成物を完全に除去でき定期的なクリーニングが不要と
なり、それに要する工数が大幅に削減できるとい効果が
ある。
にディスパージョンヘッドユニットをクリーニングする
ことにより、反応生成物の堆積が薄く剥れ易いので反応
生成物を完全に除去でき定期的なクリーニングが不要と
なり、それに要する工数が大幅に削減できるとい効果が
ある。
【図１】本発明の常圧ＣＶＤ装置の一実施例における主
要部を示す断面図および側面図である。
要部を示す断面図および側面図である。
【図２】従来の一例を示す常圧ＣＶＤ装置の斜視図であ
る。
る。
１ ダクト ２ 回転ブラシ ３ レバー ３ａ カムフロア ３ｂ 摺動板 ３ｃ ストッパ ４ チェーンコンベア ４ａ リンク ４ｂ スプロケット ５ ユニット ５ａ，５ｂ，５ｃ ディスパーションヘッド ６ ガス導入管 ７ 排気管 ８ ランプヒータ ９ トレー １０ トルクリミッタ １１ ピン １２ 昇降機 １３ 案内部 １４ 集塵電極板 １５ ウェーハ １６ 空間部
Claims (2)
- 【請求項１】 半導体基板であるウェーハを乗せるトレ
イと、該ウェーハを加熱する手段と、前記ウェーハに反
応ガスを吹き付ける複数のディスパージョンヘッドを並
べ構成されるユニットと、複数の移動部材を連結し形成
される帯状部材とこの帯状部材を一方向に送る駆動輪と
で構成されるとともに前記トレイをそれぞれの該移動部
材に乗せるコンベアとを備える常圧ＣＶＤ装置におい
て、前記コンベアの走行方向上の所定の間隔に介在する
複数の前記トレイの所定数を取去ってなる空間部内に前
記ディスパーションヘッドの下面に開口を向けて配置す
るとともに前記コンベアの走行方向に平行に伸び両側に
取付けられる摺動板を有するダクトと、前記コンベアの
前記空間部における両側の前記移動部材にピンを介して
回転自在に取付けられるレバーと、このレバーの一端に
取付けられる回転ブラシと、前記レバーの他端に取付け
られる摺動部材と、前記ダクトを押し上げて前記レバー
の前記摺動部材を前記摺動板に当接させ前記コンベアの
走行に伴なって摺動させるとともに前記レバーを前記ピ
ンの廻り回転させ前記回転ブラシを前記ディスパーショ
ンヘッドの下面と接触させる押上げ機構と、前記ダクト
の排気口と接続される真空ポンプとを備えることを特徴
とする常圧ＣＶＤ装置。 - 【請求項２】 前記ダクト内に配設され電荷を帯びる集
塵電極板を備えることを特徴とする請求項１記載の常圧
ＣＶＤ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17061494A JP2648096B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17061494A JP2648096B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0837155A JPH0837155A (ja) | 1996-02-06 |
| JP2648096B2 true JP2648096B2 (ja) | 1997-08-27 |
Family
ID=15908133
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17061494A Expired - Fee Related JP2648096B2 (ja) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | 常圧ｃｖｄ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2648096B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008128285A1 (en) * | 2007-04-19 | 2008-10-30 | Fitch Engineering Pty Ltd | Fume extraction apparatus and methods for extracting fumes associated with roll coating machines |
| US9950404B1 (en) * | 2012-03-29 | 2018-04-24 | Alta Devices, Inc. | High throughput polishing system for workpieces |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP17061494A patent/JP2648096B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0837155A (ja) | 1996-02-06 |
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