JP2648006B2 - Circuit board for EMI measures - Google Patents

Circuit board for EMI measures

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JP2648006B2
JP2648006B2 JP23733090A JP23733090A JP2648006B2 JP 2648006 B2 JP2648006 B2 JP 2648006B2 JP 23733090 A JP23733090 A JP 23733090A JP 23733090 A JP23733090 A JP 23733090A JP 2648006 B2 JP2648006 B2 JP 2648006B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はEMI対策用回路基板に関し、より詳しくは、
絶縁層の形成された紙・フェノール樹脂基板やガラス・
エポキシ樹脂基板などの回路基板上に、スクリーン印刷
等で導電性ペーストを塗布後、加熱硬化することにより
導電性塗膜を形成し、回路基板上に構成された電子回路
からの不要な電磁波の輻射あるいは他の機器から放射さ
れた不要な電磁波を効果的に抑制できる信頼性、生産性
に優れたEMI(電磁波障害)対策用回路基板に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a circuit board for EMI countermeasures.
Paper or phenolic resin substrate or glass with an insulating layer
After applying a conductive paste on a circuit board such as an epoxy resin board by screen printing, etc., heat and cure it to form a conductive coating film, and radiate unnecessary electromagnetic waves from the electronic circuit configured on the circuit board Also, the present invention relates to a circuit board for EMI (electromagnetic interference) countermeasures, which is excellent in reliability and productivity, which can effectively suppress unnecessary electromagnetic waves radiated from other devices.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、テレビ、ラジオ、パーソナルコンピューターや
家庭用テレビゲーム等において、回路の高周波部分等に
絶縁層を介して導電性ペーストを塗布し、加熱硬化して
導電層を形成することにより、不要な電磁波を抑制する
EMI対策用回路基板が提案されている(実公昭55−29276
号、特開昭62−213192号、特開昭62−295498号、特開昭
63−15498号、特開平1−175292号各公報)。
Conventionally, in a television, a radio, a personal computer, a home video game, and the like, unnecessary electromagnetic waves are generated by applying a conductive paste to a high-frequency portion of a circuit or the like via an insulating layer and curing by heating to form a conductive layer. Curb
A circuit board for EMI countermeasures has been proposed (June 55-29276).
JP-A-62-213192, JP-A-62-295498, JP-A-62-295498
63-15498, JP-A-1-175292).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

前述のEMI対策用回路基板(以後EMI基板と略す)のシ
ールド電極層には導電性ペーストが用いられる。導電性
ペーストの中でも特に銅ペーストは、銀ペーストに比べ
て、安価なこととマイグレーション(電圧印加時に水分
が存在すると銅がイオン化し、これが還元析出して樹枝
状に成長し回路をショートさせる現象)が起こりにくい
ことから、銀ペーストに替わる新しい導体として注目さ
れている。しかるに、導電性ペーストを電磁波ノイズ抑
制(EMI抑制)基板用の導体として用いた場合には、極
めて厳しい耐マイグレーション性が要求されるため、現
在の銅ペーストでは全く不完全で問題を残している。マ
イグレーションが生じれば、回路の誤動作につながる重
大事故となるため、この問題はEMI基板の普及を妨げる
最大の不安材料となっている。現在ではもっぱらエポキ
シ系の中間絶縁層及びオーパーコート層に特別な工夫を
施す方法で急場をしのいではいるものの、銅ペースト自
身での基本的解決が待たれている。上記欠点に対して、
銅ペースト側からの検討例はほとんどないが、例えば耐
マイグレーション性の改良については、銅金属中に少量
の亜鉛を添加する方法(特開昭63−312997号)等が提案
されているが、依然として未解決のままである。
A conductive paste is used for the shield electrode layer of the EMI countermeasure circuit board (hereinafter abbreviated as EMI board). Among the conductive pastes, copper paste is particularly inexpensive and migration compared to silver paste (a phenomenon in which copper is ionized when moisture is present at the time of applying a voltage, which is reduced and deposited, grows in a dendritic manner, and causes a short circuit). Because it is difficult to occur, it is attracting attention as a new conductor replacing silver paste. However, when a conductive paste is used as a conductor for an electromagnetic noise suppression (EMI suppression) substrate, extremely strict migration resistance is required. If migration occurs, it will be a serious accident leading to malfunction of the circuit, so this problem is the greatest concern that prevents the spread of EMI boards. At present, although a quick solution has been devised exclusively by applying a special measure to the epoxy-based intermediate insulating layer and the overcoat layer, a basic solution using the copper paste itself is expected. For the above disadvantages,
Although there are few studies from the copper paste side, for example, a method of adding a small amount of zinc to copper metal has been proposed for improving the migration resistance (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-312997). Remains unresolved.

さらに、現在の銅ペーストは硬化塗膜状態での密着性
はそこそこ良好であるが、一般に柔軟性を欠き、部品実
装時などに受ける機械的ショックに弱いという欠点を有
している。そこで銅ペーストの硬化条件を厳しく調整す
ることで硬化塗膜の可とう性を向上させている。この銅
ペースト塗膜の可とう性の改良についても直接的な改善
事例は少ないが、関連性の深い密着性を意識したバイン
ダーの改良例は多くみられる。例えば、樹脂及びポリオ
ールとポリエステル樹脂または/およびアルキド樹脂を
用いて金属や絶縁層との密着性の改善を試みた例(特開
昭62−253675号)や、メラミン樹脂とアクリル樹脂との
混合物を用いて金属との密着性の改善を試みた例(特開
昭63−83178号)などがあるが、いずれの方法において
も要求を十分に満たすには至っていない。
Furthermore, although the current copper paste has fairly good adhesion in the state of a cured coating film, it generally has a disadvantage in that it lacks flexibility and is vulnerable to mechanical shocks when components are mounted. Therefore, the flexibility of the cured coating film is improved by strictly adjusting the curing conditions of the copper paste. Although there are few examples of direct improvement of the flexibility of the copper paste coating film, there are many examples of improvement of the binder in consideration of closely related adhesion. For example, an attempt was made to improve the adhesion between a metal or an insulating layer using a resin or a polyol and a polyester resin or / and an alkyd resin (Japanese Patent Laid-Open No. 62-253675), or a mixture of a melamine resin and an acrylic resin. There is an example in which the adhesion to metal is attempted to be improved by using the method (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-83178), but none of these methods has sufficiently satisfied the requirements.

また、現在のEMI基板は製造工程が多く、かつ製造に
時間がかかるため、生産性やコストの面で非常に問題に
なっている。これはEMI基板の絶縁層に硬化時間の長い
熱硬化性レジストインクを用いていることに起因する。
そこでより硬化時間の短い活性エネルギー線硬化型レジ
ストインクを絶縁層に用いることが検討されている。し
かしながら、従来のEMI基板ではその絶縁層に活性エネ
ルギー線硬化型レジストインクを用いた場合、種々の不
都合を生じる。例えば、EMI基板中のシールド層の導電
性が低下し、電磁波ノイズの抑制効果が減少する、ある
いは従来のEMI基板のシールド層に用いられる銅ペース
トが、絶縁層を形成した後のアースパターンと密着不良
を引き起こす。これは従来のEMI基板に用いられる銅ペ
ーストが厚い酸化銅被膜に密着しやすいことに起因す
る。活性エネルギー線硬化型レジストインクを絶縁層と
して用いた場合、絶縁層が形成された後のアースパター
ン表面には酸化銅の厚い被膜が形成されない。そのため
に銅ペーストがアースパターンと密着しないからだと考
えられる。つまり、活性エネルギー線硬化型レジストイ
ンクをEMI基板の絶縁層として用いる場合、銅ペースト
は厚い酸化銅被膜の形成されていないアースパターン、
即ち金属銅に密着する必要がある。
In addition, the current EMI substrate has many manufacturing steps and takes a long time to manufacture, so that it is very problematic in terms of productivity and cost. This is because a thermosetting resist ink having a long curing time is used for the insulating layer of the EMI substrate.
Therefore, use of an active energy ray-curable resist ink having a shorter curing time for the insulating layer has been studied. However, in the conventional EMI substrate, various problems occur when an active energy ray-curable resist ink is used for the insulating layer. For example, the conductivity of the shield layer in the EMI board is reduced, and the effect of suppressing electromagnetic wave noise is reduced. Cause a defect. This is because the copper paste used for the conventional EMI substrate easily adheres to the thick copper oxide film. When the active energy ray-curable resist ink is used as the insulating layer, a thick copper oxide film is not formed on the surface of the ground pattern after the insulating layer is formed. This is probably because the copper paste does not adhere to the ground pattern. In other words, when the active energy ray-curable resist ink is used as the insulating layer of the EMI substrate, the copper paste is an earth pattern without a thick copper oxide film,
That is, it is necessary to adhere to metallic copper.

したがって、上記の理由により、活性エネルギー線硬
化型レジストインクを絶縁層に用いたEMI基板を製造す
ることは困難であり、前述のマイグレーションや可とう
性と同様にその改善が強く要望されている。
Therefore, it is difficult to manufacture an EMI substrate using an active energy ray-curable resist ink for an insulating layer for the above-mentioned reason, and there is a strong demand for improvement of the EMI substrate as well as the above-described migration and flexibility.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明者らはかかる現状に鑑みて、信頼性が高く生産
性の高いEMI基板を提供するためにEMI基板の耐マイグレ
ーション性、可とう性の改善および活性エネルギー線硬
化型レジストインクを絶縁層として使用可能なEMI基板
について鋭意検討した結果、EMI基板中のシールド層に
用いられる導電性ペーストに関してポリ−ヒドロキシス
チレン誘導体又はポリ−ヒドロキシスチレン系共重合体
及び/又はその誘導体と、熱硬化性樹脂とをバインダー
成分として用いて、導電性粉末を配合すれば、金属表面
の電気化学的活性度を低下させ、かつ塗膜中の残留内部
応力の低減等が可能で、更に酸化銅被膜の形成されてい
ない(即ち金属銅)アースパターン表面にも密着するこ
とが可能で、上記目的を達成できることを見出し、本発
明を完成したものである。
In view of the present situation, the present inventors have developed an EMI substrate having improved migration resistance and flexibility and an active energy ray-curable resist ink as an insulating layer in order to provide a highly reliable and highly productive EMI substrate. As a result of intensive studies on usable EMI substrates, a poly-hydroxystyrene derivative or a poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or a derivative thereof with respect to a conductive paste used for a shield layer in the EMI substrate, and a thermosetting resin, Is used as a binder component, and the conductive powder is blended, it is possible to reduce the electrochemical activity of the metal surface, reduce the residual internal stress in the coating film, etc., and further form a copper oxide coating. The present invention has been found to be able to adhere to the surface of a non-existent (that is, metallic copper) ground pattern and to achieve the above object, and has completed the present invention.

即ち本発明は、基板、該基板の少なくとも一方主面上
に形成されかつアースパターンを含む回路パターンが形
成された導電層、該アースパターンの部分を除いて該基
板上に該導電層を覆うように形成された絶縁層、及び該
絶縁層の全部あるいは一部を覆うように形成され、かつ
該アースパターンに接続されたシールド電極層を備え、
該シールド電極層がポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又
はポリ−ヒドロキシスチレン系共重合体及び/又はその
誘導体と、熱硬化性樹脂とを含有する導電性ペーストか
ら形成されていることを特徴とするEMI対策用回路基板
を提供するものである。
That is, the present invention provides a substrate, a conductive layer formed on at least one main surface of the substrate and having a circuit pattern including a ground pattern formed thereon, and covering the conductive layer on the substrate except for the portion of the ground pattern. And a shield electrode layer formed so as to cover all or a part of the insulating layer, and connected to the ground pattern,
The EMI countermeasure wherein the shield electrode layer is formed from a conductive paste containing a poly-hydroxystyrene derivative or a poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or a derivative thereof and a thermosetting resin. A circuit board is provided.

本発明のEMI基板は更にシールド電極層を覆うように
第2の絶縁層を形成することが好ましい。
It is preferable that the EMI substrate of the present invention further includes a second insulating layer formed so as to cover the shield electrode layer.

本発明のEMI基板の好ましい実施態様について図1を
用いて説明する。なお、図1は本発明のEMI基板の一例
を示す断面図である。
A preferred embodiment of the EMI substrate of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a sectional view showing an example of the EMI substrate of the present invention.

EMI基板は図1に示すように基板1、回路パターン2
やアースパターン3などの導電層、絶縁層7、シールド
電極層として導電性ペースト8、第2の絶縁層9で構成
され、必要に応じてスルホール5、表面実装用部品ラン
ド4が形成される。EMI基板は片面、両面あるいは多層
基板のいずれでもよいが、図1は両面基板の例である。
The EMI board is a board 1 and a circuit pattern 2 as shown in FIG.
And a conductive layer such as a ground pattern 3, an insulating layer 7, a conductive paste 8 as a shield electrode layer, and a second insulating layer 9. A through hole 5 and a surface mounting component land 4 are formed as necessary. The EMI substrate may be a single-sided, double-sided or multilayer substrate, but FIG. 1 is an example of a double-sided substrate.

基板1はガラス・エポキシ樹脂、紙・フェノール樹
脂、ポリイミドフィルム等の合成樹脂基板やセラミック
スのような絶縁材料からなる。
The substrate 1 is made of a synthetic resin substrate such as glass / epoxy resin, paper / phenol resin, or polyimide film, or an insulating material such as ceramics.

基板1上の導電層は回路パターン2、アースパターン
3、表面実装用部品ランド4等からなり、例えば銅箔を
エッチングして必要な回路を形成する。基板1には必要
に応じてスルホール5があけられる。両面基板では両面
の導電層(例えば回路パターン2同志)を接続する場
合、スルホール5の内壁にめっき層6を形成し、その両
端が対応するそれぞれの回路パターン2に接続される。
また、スルホール5が単に部品の挿入孔である場合はめ
っき層6は不要である。
The conductive layer on the substrate 1 includes a circuit pattern 2, an earth pattern 3, a surface mounting component land 4, and the like. For example, a copper foil is etched to form a necessary circuit. A through hole 5 is formed in the substrate 1 as necessary. When connecting conductive layers (for example, circuit patterns 2) on both surfaces of a double-sided board, a plating layer 6 is formed on the inner wall of the through hole 5, and both ends thereof are connected to the corresponding circuit patterns 2 respectively.
When the through hole 5 is simply a component insertion hole, the plating layer 6 is unnecessary.

基板1上の導電層はアースパターン3、表面実装用部
品ランド4を除いて絶縁層7によって覆われる。この絶
縁層7は後の工程の半田の付着を防止し、後述の導電性
ペースト8との絶縁性を確保するために形成される。絶
縁層7は熱硬化性レジストインク、紫外線硬化型レジス
トインクや電子線硬化型レジストインク等の活性エネル
ギー線硬化型レジストインクなどからなり、単独または
併用して使われ、1層あるいは多層で形成される。
The conductive layer on the substrate 1 is covered with the insulating layer 7 except for the ground pattern 3 and the surface land 4 for surface mounting. The insulating layer 7 is formed in order to prevent the adhesion of solder in a later step and to secure insulation with a conductive paste 8 described later. The insulating layer 7 is made of a thermosetting resist ink, an ultraviolet ray-curable resist ink, an active energy ray-curable resist ink such as an electron beam-curable resist ink, or the like, and is used alone or in combination to form a single layer or a multilayer. You.

導電性ペースト8は絶縁層7の上を全面あるいは一部
と絶縁層7で覆われていないアースパターン3を覆う。
これによって導電性ペースト8はアースパターン3と接
続される。
The conductive paste 8 covers the whole or a part of the insulating layer 7 and the ground pattern 3 which is not covered with the insulating layer 7.
Thereby, conductive paste 8 is connected to ground pattern 3.

本発明のEMI基板中のシールド電極層に用いられる導
電性ペースト8について具体的に述べると、導電性粉
末、有機バインダー、及び溶剤を含み、該有機バインダ
ーがポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ−ヒドロ
キシスチレン系共重合体及び/又はその誘導体と、熱硬
化性樹脂とを含有する導電性ペーストが用いられる。
Specifically, the conductive paste 8 used for the shield electrode layer in the EMI substrate of the present invention includes a conductive powder, an organic binder, and a solvent, and the organic binder is a poly-hydroxystyrene derivative or a poly-hydroxystyrene. A conductive paste containing a system copolymer and / or a derivative thereof and a thermosetting resin is used.

本発明において、ポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又
はポリ−ヒドロキシスチレン系共重合体及び/又はその
誘導体としては、特に例えば下記一般式(I)で表され
るポリ−ヒドロキシスチレン誘導体、又は下記一般式
(II)で表されるポリ−ヒドロキシスチレン系共重合体
及び/又はその誘導体が有効に用いられる。
In the present invention, the poly-hydroxystyrene derivative or the poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or a derivative thereof is particularly preferably, for example, a poly-hydroxystyrene derivative represented by the following general formula (I) or a poly-hydroxystyrene derivative represented by the following general formula (II) )) And / or a derivative thereof is effectively used.

〔式中;nはn≧3で、一般式(I)の有機高分子の重量
平均分子量が200万になるまでの任意の数、 ;k,p,uは、0≦k≦2,0≦p≦2,1≦u≦2の数、ただし
k+p+u>1 ;R1〜R3はH又は炭素数1〜5のアルキル基、 ;Y,Zは同種又は異種であり、かつ −SO3M, −OCH3, −CR4R5OR6, 又は炭素数1〜18のアルキルもしくはアリール基から選
ばれるものである。
[Wherein, n is n ≧ 3 and an arbitrary number until the weight average molecular weight of the organic polymer of the general formula (I) reaches 2,000,000; k, p, u are 0 ≦ k ≦ 2,0 ≦ p ≦ 2, 1 ≦ u ≦ 2, where k + p + u>1; R 1 to R 3 are H or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; Y and Z are the same or different, and —SO 3 M, −OCH 3 , −CR 4 R 5 OR 6 , Or an alkyl or aryl group having 1 to 18 carbon atoms.

(但し、式中 ;MはH,アルカリ金属,アルカリ土類金属又はアミン類な
どの有機カチオン ;Y4はハロゲン ;Y2-〜Y3-はハロゲンイオン,有機酸アニオン,無機酸
アニオンなどの対イオン ;WはSまたはO ;R4〜R8は同種または異種であって直鎖または分岐鎖ア
ルキル基あるいはヒドロキシアルキル基等のアルキル誘
導体基または芳香族基またはH、さらにR4とR7はN基と
で環を形成していてもかまわない。
(Wherein, M is an organic cation such as H, an alkali metal, an alkaline earth metal or an amine; Y 4 is a halogen; Y 2 -to Y 3- is a halogen ion, an organic acid anion, an inorganic acid anion, etc. A counter ion; W is S or O; R 4 to R 8 are the same or different and are a linear or branched alkyl group or an alkyl derivative group such as a hydroxyalkyl group or an aromatic group, or H, further R 4 and R 7 May form a ring with the N group.

;R9〜R15は同種または異種であって、直鎖または分岐鎖
アルキル基、あるいはヒドロキシアルキル基等のアルキ
ル誘導体基、芳香族基、またはH ;q,sは0又は1 ;tは1 ;rは0,1又は2を示す)〕 〔式中;m>0,n≧3で、それぞれ一般式(II)の有機高
分子の重量平均分子量が200万になるまでの任意の数、 ;k,p,uは、0≦k≦2,0≦p≦2,1≦u≦2の数、ただし
k+p+u>0 ;R1〜R3はH又は炭素数1〜5のアルキル基、 ;Xは重合性のビニル系単量体、 ;Y,Zは同種又は異種であり、かつ −SO3M, −Y1,−OCH3, −CR4R5OR6, 又は炭素数1〜18のアルキルもしくはアリール基から選
ばれるものである。
R 9 to R 15 are the same or different and are linear or branched alkyl groups, or alkyl derivative groups such as hydroxyalkyl groups, aromatic groups, or H; q, s is 0 or 1; t is 1 ; r represents 0, 1 or 2)] [Wherein, m> 0, n ≧ 3, an arbitrary number until the weight average molecular weight of the organic polymer of the general formula (II) reaches 2,000,000; k, p, u are 0 ≦ k ≦ 2,0 ≦ p ≦ 2,1 ≦ u ≦ 2, where k + p + u>0; R 1 to R 3 are H or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; X is a polymerizable vinyl monomer; Y and Z are the same or different, and -SO 3 M, −Y 1 , −OCH 3 , −CR 4 R 5 OR 6 , Or an alkyl or aryl group having 1 to 18 carbon atoms.

(但し、式中 ;MはH,アルカリ金属,アルカリ土類金属又はアミン類な
どの有機カチオン ;Y1,Y4はハロゲン ;Y2-〜Y3-はハロゲンイオン,有機酸アニオン,無機酸
アニオンなどの対イオン ;WはSまたは0 ;R4〜R8は同種または異種であって直鎖または分岐鎖ア
ルキル基あるいはヒドロキシアルキル基等のアルキル誘
導体基または芳香族基またはH、さらにR4とR7はN基と
で環を形成していてもかまわない。
(Wherein, M is an organic cation such as H, alkali metal, alkaline earth metal or amine; Y 1 and Y 4 are halogens; Y 2 to Y 3 are halogen ions, organic acid anions, and inorganic acids. counterions such anions; W is S or 0; R 4 to R 8 are the same or different straight-chain or branched-chain alkyl group or an alkyl derivative group or an aromatic group, or H, such as a hydroxyalkyl group, further R 4 And R 7 may form a ring with the N group.

;R9〜R15は同種または異種であって、直鎖または分岐鎖
アルキル基、あるいはヒドロキシアルキル基等のアルキ
ル誘導体基、芳香族基、またはH ;q,s,tは0又は1 ;rは0,1又は2を示す)〕 本発明においてシールド電極層とは、本発明に用いら
れる導電性ペーストを加熱硬化させて得られる1×10-2
Ω・cm以下の比抵抗(体積固有抵抗)を有する硬化体も
しくは硬化塗膜を意味するものとする。
R 9 to R 15 are the same or different, and a linear or branched alkyl group, or an alkyl derivative group such as a hydroxyalkyl group, an aromatic group, or H; q, s, t is 0 or 1; Represents 0, 1 or 2)] In the present invention, the shield electrode layer is 1 × 10 −2 obtained by heating and curing the conductive paste used in the present invention.
It means a cured product or a cured coating film having a specific resistance (volume resistivity) of Ω · cm or less.

本発明のEMI基板に用いられる上記ポリ−ヒドロキシ
スチレン誘導体又はポリ−ヒドロキシスチレン系共重合
体及び/又はその誘導体と熱硬化性樹脂の種類と配合比
とを調整することによって、それらの相乗効果を最大に
引き出し、また両者を配合することによって初めて、金
属表面の活性度や硬化塗膜状態での収縮力、残留内部応
力を制御することが可能で、これらの効果によって、シ
ールド電極層の耐マイグレーション性や可とう性が高ま
り、EMI基板としての信頼性が確保される。
The synergistic effect of the poly-hydroxystyrene derivative or the poly-hydroxystyrene-based copolymer used in the EMI substrate of the present invention and / or the derivative thereof and the thermosetting resin is adjusted by adjusting the kind and the mixing ratio thereof. For the first time, it is possible to control the activity of the metal surface, the shrinkage force in the cured coating state, and the residual internal stress by combining the two components to the maximum extent. The flexibility and flexibility are enhanced, and the reliability as an EMI substrate is ensured.

また、上記ポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ
−ヒドロキシスチレン系共重合体及び/又はその誘導体
と熱硬化性樹脂の相乗効果によって、活性エネルギー線
硬化型レジストインクを用いた絶縁層形成後のアースパ
ターン、即ち厚い酸化銅被膜が形成されていないアース
パターンにも導電性ペーストが密着するようになり、活
性エネルギー線硬化型絶縁層の使用が可能となるため生
産性に優れたEMI基板の製造が達成できる。
In addition, due to the synergistic effect of the poly-hydroxystyrene derivative or the poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or the derivative thereof and a thermosetting resin, an earth pattern after forming an insulating layer using an active energy ray-curable resist ink, That is, the conductive paste comes into close contact with the ground pattern on which the thick copper oxide film is not formed, and the active energy ray-curable insulating layer can be used, so that the production of an EMI substrate excellent in productivity can be achieved. .

本発明のEMI基板に用いられる有機バインダー成分の
一つポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ−ヒドロ
キシスチレン系共重合体及び/又はその誘導体としては
前記一般式(I)、(II)で表されるものが挙げられる
が、一般式(I)、(II)において、k,m,n,p,uはそれ
ぞれ整数とは規定せず、ある一定の範囲の任意の数(実
数)である。重合体を構成する単量体について考えるな
らば、k,m,n,p,uは当然整数である。しかしながら重合
体はその性質において混合物であり、そして重合体の性
質はその混合物の性質としてとらえる方が、その個々の
構成単位を問題にするよりも正しい。従って、本発明の
EMI基板に用いられる有機バインダーにおいて、前記一
般式(I)、(II)は平均組成として表示してある。
One of the organic binder components used for the EMI substrate of the present invention is a poly-hydroxystyrene derivative or a poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or a derivative thereof represented by the general formula (I) or (II). In general formulas (I) and (II), k, m, n, p and u are not defined as integers, but are arbitrary numbers (real numbers) within a certain range. When considering the monomers constituting the polymer, k, m, n, p and u are naturally integers. However, the polymer is a mixture in its properties, and it is more correct to consider the properties of the polymer as the properties of the mixture than to consider its individual building blocks. Therefore, the present invention
In the organic binder used for the EMI substrate, the general formulas (I) and (II) are shown as an average composition.

上記一般式(I)で表されるポリ−ヒドロキシスチレ
ン誘導体は、一般式(I)においてYまたはZで表され
るような置換基を有するところの、ヒドロキシスチレ
ン、イソプロペニルフェノール(ヒドロキシ−α−メチ
ルスチレン)あるいはヒドロキシ−α−エチルスチレン
等のヒドロキシスチレン誘導体の単独重合体であり得
る。重合単位のヒドロキシスチレンあるいはイソプロペ
ニルフェノールなどはオルソ体、メタ体、パラ体あるい
はこれらの混合物であってもよいが、パラ体あるいはメ
タ体が好ましい。
The poly-hydroxystyrene derivative represented by the general formula (I) is a compound having a substituent represented by Y or Z in the general formula (I), such as hydroxystyrene, isopropenylphenol (hydroxy-α- (Methylstyrene) or a homopolymer of a hydroxystyrene derivative such as hydroxy-α-ethylstyrene. The polymerized units such as hydroxystyrene and isopropenylphenol may be in an ortho-form, a meta-form, a para-form or a mixture thereof, but a para-form or a meta-form is preferred.

またヒドロキシスチレン単位の置換基 −SO3Mまたは におけるMのアルカリ金属またはアルカリ土類金属とし
てはLi,Na,K,Mg,Ca,Sr,Ba等が適当である。
The substituents of the hydroxystyrene unit -SO 3 M or As the alkali metal or alkaline earth metal of M in the above, Li, Na, K, Mg, Ca, Sr, Ba and the like are suitable.

またヒドロキシスチレン単位の置換基 におけるR4〜R8は同種または異種であって、炭素数1〜
36の直鎖または分岐鎖アルキル基、あるいはヒドロキシ
アルキル基、アミノアルキル基、ホスホアルキル基、メ
ルカプトアルキル基等のアルキル誘導体基、または炭素
数1〜16の直鎖、分岐鎖アルキル基で置換されたフェニ
ル基等の芳香族基等の中から選択されるものであり、R6
とR7は環を形成していてもかまわない。好ましくは、直
鎖または分岐鎖アルキル基、ヒドロキシアルキル基、あ
るいは炭素数1〜5の直鎖または分岐鎖アルキル基で置
換された芳香族基が挙げられる。
Also, a substituent of the hydroxystyrene unit R 4 to R 8 are the same or different and have 1 to 1 carbon atoms.
36 straight-chain or branched-chain alkyl groups, or alkyl derivative groups such as hydroxyalkyl groups, aminoalkyl groups, phosphoalkyl groups, mercaptoalkyl groups, or straight-chain or branched-chain alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms R 6 is selected from aromatic groups such as a phenyl group.
And R 7 may form a ring. Preferably, a linear or branched alkyl group, a hydroxyalkyl group, or an aromatic group substituted with a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is used.

またヒドロキシスチレン単位の置換基 におけるR9〜R15は同種または異種であって、H又は炭
素数1〜36の直鎖または分岐鎖アルキル基あるいはヒド
ロキシアルキル基、アミノアルキル基、メルカプトアル
キル基、ホスホアルキル基等のアルキル誘導体基、また
は炭素数1〜16の直鎖または分岐鎖アルキル基で置換さ
れたフェニル基等の芳香族基等の中から選択されるもの
であって、好ましくは炭素数1〜8の直鎖または分岐鎖
アルキル基、ヒドロキシアルキル基、あるいは炭素数1
〜5の直鎖または分岐鎖アルキル基で置換された芳香族
基が挙げられる。
Also, a substituent of the hydroxystyrene unit R 9 to R 15 are the same or different, and are H or a linear or branched alkyl group having 1 to 36 carbon atoms or an alkyl derivative group such as a hydroxyalkyl group, an aminoalkyl group, a mercaptoalkyl group, or a phosphoalkyl group. Or an aromatic group such as a phenyl group substituted with a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, and preferably a straight-chain or branched chain having 1 to 8 carbon atoms. Chain alkyl group, hydroxyalkyl group or carbon number 1
And aromatic groups substituted with a straight-chain or branched-chain alkyl group.

アミノ基、リン酸基、スルホン基等の極性基(水酸
基、芳香環は含まない)はポリヒドロキシスチレン誘導
体の金属粉末との親和性、反応性を高める点で特に重要
であり、その好ましい極性基密度の範囲は、分子量500
単位当たり平均0.01〜5個の間にある。極性基密度が0.
01未満だと金属粉末との親和性が悪くて問題となり、5
個を超えると得られる耐マイグレーション性が低下して
問題となるからである。耐マイグレーション性向上の点
からはアミノ基系、メチロール基及びリン系の極性基が
好ましい。水酸基は耐マイグレーション性向上及び絶縁
層との密着性向上にとって重要であり、直接置換基とし
てついていた方が、またその数が多い方が効果がよく発
揮されるので好ましい。
Polar groups (excluding hydroxyl groups and aromatic rings) such as amino groups, phosphoric acid groups, and sulfone groups are particularly important in terms of enhancing the affinity and reactivity of the polyhydroxystyrene derivative with the metal powder. Density range is molecular weight 500
On average between 0.01 and 5 per unit. Polar group density is 0.
If it is less than 01, the affinity for the metal powder is poor and a problem occurs.
This is because if the number exceeds the limit, the obtained migration resistance is reduced, which causes a problem. From the viewpoint of improving migration resistance, amino-based, methylol-based and phosphorus-based polar groups are preferred. The hydroxyl group is important for improving the migration resistance and the adhesion to the insulating layer, and it is preferable that the hydroxyl group is directly provided as a substituent, and that the larger the number thereof, the better the effect is exhibited.

上記一般式(II)で表されるポリ−ヒドロキシスチレ
ン系共重合体及び/又はその誘導体は、一般式(II)に
おいてYまたはZで表されるような置換基を有するかあ
るいは有しないところの、ヒドロキシスチレン、イソプ
ロペニルフェノール(ヒドロキシ−α−メチルスチレ
ン)あるいはヒドロキシ−α−エチルスチレン等同士の
共重合体あるいはこれらのヒドロキシスチレン系単量体
と他の重合性のビニル系単量体(X)との共重合体であ
り得る。重合単位のヒドロキシスチレンあるいはイソプ
ロペニルフェノールなどはオルソ体、メタ体、パラ体あ
るいはこれらの混合物であってもよいが、パラ体あるい
はメタ体が好ましい。
The poly-hydroxystyrene-based copolymer represented by the general formula (II) and / or a derivative thereof has a substituent having or not having a substituent represented by Y or Z in the general formula (II). , A copolymer of hydroxystyrene, isopropenylphenol (hydroxy-α-methylstyrene) or hydroxy-α-ethylstyrene, or a copolymer of these hydroxystyrene monomers and other polymerizable vinyl monomers (X )). The polymerized units such as hydroxystyrene and isopropenylphenol may be in an ortho-form, a meta-form, a para-form or a mixture thereof, but a para-form or a meta-form is preferred.

また共重合体である場合の他のビニル系単量体(X)
としては、アニオン系、カチオン系等のイオン性単量体
やノニオン性単量体、メタクリレート、ビニルエステ
ル、ビニルエーテル、マレート、フマレート、α−オレ
フィンなどの公知の化合物を挙げることができる。
Other vinyl monomers (X) in the case of a copolymer
Examples thereof include known compounds such as anionic and cationic ionic monomers and nonionic monomers, methacrylate, vinyl ester, vinyl ether, malate, fumarate, and α-olefin.

これらの化合物の具体例としては、不飽和カルボン酸
単量体、不飽和スルホン酸単量体、不飽和リン酸単量
体、α,β−不飽和カルボン酸アミド、α,β−不飽和
カルボン酸のエステル、不飽和カルボン酸の置換アミド
類、α,β−不飽和カルボン酸のニトリル、酢酸ビニ
ル、塩化ビニル、クロル酢酸ビニルなどの外、ジビニル
ベンゼン等のジビニル化合物、ビニリデン化合物、スチ
レンに代表される芳香族ビニル化合物、ビニルピリジン
やビニルピロリドンに代表される複素環ビニル化合物、
ビニルケトン化合物、ビニルエーテル化合物、ビニルア
ミド化合物、エチレン、プロピレン等のモノオレフィン
化合物、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共
役ジオレフィン化合物、アリルアルコール、酢酸アリル
等のアリル化合物、並びにグリシジルメタクリレート等
で代表される単量体の群から選択される1種以上の単量
体が使用される。また、この場合におけるヒドロキシス
チレン単位あるいはイソプロペニルフェノール単位など
のヒドロキシスチレン系単位と他のビニル系単量体との
割合はモル比で1/10〜20/1までが適当である。
Specific examples of these compounds include unsaturated carboxylic acid monomers, unsaturated sulfonic acid monomers, unsaturated phosphoric acid monomers, α, β-unsaturated carboxylic acid amides, α, β-unsaturated carboxylic acids. Representatives of acid esters, substituted amides of unsaturated carboxylic acids, nitriles of α, β-unsaturated carboxylic acids, vinyl acetate, vinyl chloride, vinyl chloroacetate, divinyl compounds such as divinylbenzene, vinylidene compounds, and styrene. Aromatic vinyl compounds, heterocyclic vinyl compounds represented by vinylpyridine and vinylpyrrolidone,
Vinyl ketone compounds, vinyl ether compounds, vinyl amide compounds, monoolefin compounds such as ethylene and propylene, conjugated diolefin compounds such as butadiene, isoprene, and chloroprene, allyl compounds such as allyl alcohol and allyl acetate, and monomers represented by glycidyl methacrylate One or more monomers selected from the group of bodies are used. In this case, the ratio of hydroxystyrene units such as hydroxystyrene units or isopropenylphenol units to other vinyl monomers is suitably from 1/10 to 20/1 in molar ratio.

またヒドロキシスチレン系単位の置換基 −SO3Mまたは におけるMのアルカリ金属またはアルカリ土類金属とし
てはLi,Na,K,Mg,Ca,Sr,Ba等が適当である。
The substituent of a hydroxy styrene units -SO 3 M or As the alkali metal or alkaline earth metal of M in the above, Li, Na, K, Mg, Ca, Sr, Ba and the like are suitable.

またヒドロキシスチレン系単位の置換基 におけるR4〜R8は同種または異種であって、炭素数1〜
36の直鎖または分岐鎖アルキル基、あるいはヒドロキシ
アルキル基、アミノアルキル基、ホスホアルキル基、メ
ルカプトアルキル基等のアルキル誘導体基、または炭素
数1〜16の直鎖、分岐鎖アルキル基で置換されたフェニ
ル基等の芳香族基等の中から選択されるものであり、R6
とR7は環を形成していてもかまわない。好ましくは、直
鎖または分岐鎖アルキル基、ヒドロキシアルキル基、あ
るいは炭素数1〜5の直鎖または分岐鎖アルキル基で置
換された芳香族基が挙げられる。
Also, the substituent of the hydroxystyrene-based unit R 4 to R 8 are the same or different and have 1 to 1 carbon atoms.
36 straight-chain or branched-chain alkyl groups, or alkyl derivative groups such as hydroxyalkyl groups, aminoalkyl groups, phosphoalkyl groups, mercaptoalkyl groups, or straight-chain or branched-chain alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms R 6 is selected from aromatic groups such as a phenyl group.
And R 7 may form a ring. Preferably, a linear or branched alkyl group, a hydroxyalkyl group, or an aromatic group substituted with a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is used.

またヒドロキシスチレン系単位の置換基 におけるR9〜R15は同種または異種であって、H又は炭
素数1〜36の直鎖または分岐鎖アルキル基あるいはヒド
ロキシアルキル基、アミノアルキル基、メルカプトアル
キル基、ホスホアルキル基等のアルキル誘導体基、また
は炭素数1〜16の直鎖または分岐鎖アルキル基で置換さ
れたフェニル基等の芳香族基等の中から選択されるもの
であって、好ましくは炭素数1〜8の直鎖または分岐鎖
アルキル基、ヒドロキシアルキル基、あるいは炭素数1
〜5の直鎖または分岐鎖アルキル基で置換された芳香族
基が挙げられる。
Also, the substituent of the hydroxystyrene-based unit R 9 to R 15 are the same or different, and are H or a linear or branched alkyl group having 1 to 36 carbon atoms or an alkyl derivative group such as a hydroxyalkyl group, an aminoalkyl group, a mercaptoalkyl group, or a phosphoalkyl group. Or an aromatic group such as a phenyl group substituted with a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 16 carbon atoms, and preferably a straight-chain or branched chain having 1 to 8 carbon atoms. Chain alkyl group, hydroxyalkyl group or carbon number 1
And aromatic groups substituted with a straight-chain or branched-chain alkyl group.

アミノ基、リン酸基、スルホン基等の極性基(水酸
基、芳香環は含まない)は有機高分子の金属粉末との親
和性、反応性を高める点で特に重要であり、その好まし
い極性基密度の範囲は、分子量500単位当たり平均0.01
〜5個の間にある。極性基密度が0.01未満だと金属粉末
との親和性が悪くて問題となり、5個を超えると耐マイ
グレーション性が低下して問題となるからである。耐マ
イグレーション性向上の点からはアミノ基系、メチロー
ル基及びリン系の極性基が好ましい。水酸基は耐マイグ
レーション性向上及び絶縁層との密着性向上にとって重
要であり、直接置換基としてついていた方が、またその
数が多い方が効果がよく発揮されるので好ましい。
Polar groups (excluding hydroxyl groups and aromatic rings) such as amino groups, phosphoric acid groups, and sulfone groups are particularly important in increasing the affinity and reactivity with organic polymer metal powder, and the preferred polar group density Range is 0.01 on average per 500 molecular weight units
It is between ~ 5. If the density of the polar group is less than 0.01, the affinity with the metal powder is poor, and if it exceeds 5, the migration resistance is lowered, which causes a problem. From the viewpoint of improving migration resistance, amino-based, methylol-based and phosphorus-based polar groups are preferred. The hydroxyl group is important for improving the migration resistance and the adhesion to the insulating layer, and it is preferable that the hydroxyl group is directly provided as a substituent, and that the larger the number thereof, the better the effect is exhibited.

本発明に用いられる導電性ペーストの有機バインダー
成分として用いることのできる前記一般式(I)で表さ
れるポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又は前記一般式
(II)で表されるポリ−ヒドロキシスチレン系共重合体
及び/又はその誘導体は、その重量平均分子量(w)
が1000〜200万の範囲にあることが好ましく、1000〜100
万の範囲にあることが更に好ましい。この理由はポリ−
ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ−ヒドロキシスチレ
ン系共重合体及び/又はその誘導体の分子量が本発明の
いくつかの効果に大きな影響を与えるからである。つま
り、ポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ−ヒドロ
キシスチレン系共重合体及び/又はその誘導体は、硬化
塗膜中ではソフトセグメント−残留内部応力の緩和作用
部分−としての役割と、金属粉表面に緻密な絶縁膜の形
成あるいは前述の厚い酸化銅被膜が形成されていないア
ースパターン(即ち金属銅表面)との密着性を発揮する
役割を担っており、wが1000未満では耐マイグレーシ
ョン性、塗膜の可とう性、金属銅に対する密着性の改善
が得られにくい。またwが200万を越えると、ブチル
カルビトール等の溶剤に対する溶解性およびペースト中
に配合する熱硬化性樹脂との相溶性が低下して問題とな
る。
The poly-hydroxystyrene derivative represented by the general formula (I) or the poly-hydroxystyrene-based copolymer represented by the general formula (II), which can be used as an organic binder component of the conductive paste used in the present invention. The combined and / or derivative thereof has a weight average molecular weight (w)
Is preferably in the range of 10 to 2,000,000, and 1000 to 100
More preferably, it is in the range of 10,000. The reason for this is poly-
This is because the molecular weight of the hydroxystyrene derivative or the poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or its derivative greatly affects some effects of the present invention. That is, the poly-hydroxystyrene derivative or the poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or the derivative thereof serves as a soft segment in the cured coating film—a portion that acts to alleviate residual internal stress—and has a fine structure on the surface of the metal powder. It plays the role of forming an insulating film or exhibiting adhesion to an earth pattern (that is, the surface of metallic copper) on which the above-mentioned thick copper oxide film is not formed. It is difficult to improve flexibility and adhesion to metallic copper. On the other hand, if w exceeds 2,000,000, the solubility in a solvent such as butyl carbitol and the compatibility with the thermosetting resin blended in the paste are reduced, which is problematic.

ポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ−ヒドロキ
シスチレン系共重合体及び/又はその誘導体のほとんど
は熱可塑性樹脂なので、熱硬化性樹脂を併用することが
好ましい。
Most of the poly-hydroxystyrene derivative or the poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or its derivative is a thermoplastic resin, and thus it is preferable to use a thermosetting resin in combination.

本発明に用いられる導電性ペーストに有効に用いられ
る熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、ユリア樹
脂、アミノ樹脂、アルキッド樹脂、ケイ素樹脂、フラン
樹脂、不飽和または飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル・ポリオール樹
脂、アクリル樹脂等の公知の熱硬化性樹脂を用いること
が出来る。特にレゾール型フェノール系樹脂、アミノ樹
脂が好ましい。アミノ樹脂の中でもアルキルエーテル化
メラミン樹脂が有効で、重量平均分子量が1000〜2.5万
の範囲でかつアルキルエーテル化度が20〜80%の範囲の
ものが好ましい。
The thermosetting resin effectively used in the conductive paste used in the present invention includes phenolic resin, urea resin, amino resin, alkyd resin, silicon resin, furan resin, unsaturated or saturated polyester resin, epoxy resin, polyurethane resin Known thermosetting resins such as polyester polyol resin and acrylic resin can be used. In particular, resol type phenolic resins and amino resins are preferred. Among amino resins, alkyl etherified melamine resins are effective, and those having a weight average molecular weight in the range of 1,000 to 25,000 and a degree of alkyl etherification in the range of 20 to 80% are preferable.

上記のアミノ樹脂とポリ−ヒドロキシスチレン誘導体
又はポリ−ヒドロキシスチレン系共重合体及び/又はそ
の誘導体との硬化反応には公知の酸性触媒を用いると極
めて有効で、本発明のEMI基板のシールド電極層の耐久
性やシールド電極層と接触する絶縁層およびアースパタ
ーンとの密着性に優れた導電性塗膜が形成される。酸性
触媒としては、塩酸、リン酸等の鉱酸の他、リノール
酸、オレイン酸等の有機脂肪酸、オレイン酸フェノー
ル、リノール酸フェノール等のアルキルフェノール類、
シュウ酸、酒石酸、パラトルエンスルホン酸またはその
アミン塩などの有機酸等、公知の酸が使用できる。
It is extremely effective to use a known acidic catalyst for the curing reaction between the amino resin and the poly-hydroxystyrene derivative or the poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or the derivative thereof. A conductive coating film having excellent durability and adhesion to an insulating layer and an earth pattern in contact with the shield electrode layer is formed. Examples of the acidic catalyst include mineral acids such as hydrochloric acid and phosphoric acid, linoleic acid, organic fatty acids such as oleic acid, phenol oleate, alkylphenols such as phenol linoleate,
Known acids such as organic acids such as oxalic acid, tartaric acid, paratoluenesulfonic acid or amine salts thereof can be used.

導電性ペーストに使用される前述の熱硬化性樹脂は単
独あるいは2種以上混合して使用してもよい。
The aforementioned thermosetting resins used for the conductive paste may be used alone or in combination of two or more.

本発明に用いられる導電性ペースト中のバインダー成
分の配合割合は、溶剤を除く全重量に対して5〜50重量
%、好ましくは5〜40重量%であり、5重量%未満の場
合はバインダーの絶対量が不足して密着性が低下し、さ
らに得られる導電性ペーストの流動性が悪くなり、印刷
性が低下すると共に加熱硬化時に導電性粉末が酸化され
やすくなり、EMI基板の可とう性、シールド電極層の導
電性の低下をまねく。バインダーの量が50重量%を超え
るときは逆に導電性粉末の絶対量が不足し、EMI基板と
して必要な導電性が得られない。
The compounding ratio of the binder component in the conductive paste used in the present invention is 5 to 50% by weight, preferably 5 to 40% by weight, based on the total weight excluding the solvent. Insufficient absolute amount lowers the adhesion, lowers the fluidity of the resulting conductive paste, lowers printability and easily oxidizes the conductive powder during heat curing, and reduces the flexibility of the EMI substrate. This leads to a decrease in the conductivity of the shield electrode layer. When the amount of the binder is more than 50% by weight, the absolute amount of the conductive powder is insufficient, so that the conductivity required for the EMI substrate cannot be obtained.

前記一般式(I)で表されるポリ−ヒドロキシスチレ
ン誘導体又は前記一般式(II)で表されるポリ−ヒドロ
キシスチレン系共重合体及び/又はその誘導体(A)と
熱硬化性樹脂(B)との配合重量比(A/B)は5/95〜95/
5の範囲が適当であり、好ましくは10/90〜70/30の範囲
である。
A poly-hydroxystyrene derivative represented by the general formula (I) or a poly-hydroxystyrene-based copolymer represented by the general formula (II) and / or a derivative (A) thereof and a thermosetting resin (B) And the weight ratio (A / B) of 5/95 to 95 /
A range of 5 is appropriate, preferably a range of 10/90 to 70/30.

本発明に用いられる導電性ペースト中の導電性粉末と
しては、銅粉末、銀粉末、ニッケル粉末、アルミニウム
粉末等の金属粉末、及び表面に上記金属の被覆層を有す
る粉末が挙げられるが、特に銅粉末が好ましい。導電性
粉末の形態は樹脂状、フレーク状、球状、不定形のいず
れの形態であってもよいが、好ましくは、電解により生
成した樹脂状の電解銅粉、あるいは球状粉である。平均
粒子径は30μm以下であることが好ましく、高密度、多
接触点充填の点から1〜10μmの樹脂状粉がより好まし
い。
Examples of the conductive powder in the conductive paste used in the present invention include metal powders such as copper powder, silver powder, nickel powder, and aluminum powder, and powders having a coating layer of the metal on the surface. Powders are preferred. The form of the conductive powder may be any of resin, flake, sphere, and amorphous. Preferably, the conductive powder is resin-like electrolytic copper powder generated by electrolysis or spherical powder. The average particle diameter is preferably 30 μm or less, and more preferably 1 to 10 μm resinous powder from the viewpoint of high density and multi-contact point filling.

本発明に用いられる導電性ペースト中の導電性粉末の
配合量は、溶剤を除く全重量に対して50重量%以上90重
量%未満の範囲が好ましく、さらに好ましくは60〜88重
量%、特に好ましくは75〜88重量%である。配合量が50
重量%未満ではEMI基板に関して十分な導電性が得られ
ず、逆に90重量%以上では導電性粉末が十分バインドさ
れず、得られる塗膜ももろくなり、EMI基板の可とう
性、耐マイグレーション性、シールド電極層とアースパ
ターンや絶縁層との密着性が低下する。
The amount of the conductive powder in the conductive paste used in the present invention is preferably in the range of 50% by weight or more and less than 90% by weight, more preferably 60 to 88% by weight, and particularly preferably, based on the total weight excluding the solvent. Is 75-88% by weight. Compounding amount is 50
If the amount is less than 90% by weight, sufficient conductivity cannot be obtained with respect to the EMI substrate. On the other hand, if the amount is more than 90% by weight, the conductive powder is not sufficiently bound, and the resulting coating film becomes brittle, and the flexibility and migration resistance of the EMI substrate. In addition, the adhesion between the shield electrode layer and the earth pattern or the insulating layer is reduced.

本発明に用いられる導電性ペーストには、導電性粉末
の酸化防止または分散性付与あるいは硬化触媒を目的と
して、飽和あるいは不飽和脂肪酸またはその金属塩や高
級脂肪族アミンの中から選ばれる1種または2種以上の
添加剤を用いてもよい。好ましい飽和脂肪酸としては、
例えばパルミチン酸、ステアリン酸、アラキン酸などが
挙げられ、好ましい不飽和脂肪酸としては、例えばオレ
イン酸、リノール酸などが挙げられる。それらの金属塩
としては、例えばナトリウム塩、カリウム塩などが挙げ
られる。また、不飽和脂肪酸を60%以上含有するよう
な、例えば大豆油、ゴマ油、オリーブ油、サフラワー油
などの植物油を用いることも可能である。
In the conductive paste used in the present invention, one or more selected from saturated or unsaturated fatty acids or metal salts and higher aliphatic amines for the purpose of preventing oxidation of the conductive powder or imparting dispersibility or curing catalyst. Two or more additives may be used. Preferred saturated fatty acids include
For example, palmitic acid, stearic acid, arachiic acid and the like are mentioned, and preferable unsaturated fatty acids are, for example, oleic acid and linoleic acid. Examples of such metal salts include sodium salts and potassium salts. It is also possible to use vegetable oils such as soybean oil, sesame oil, olive oil, safflower oil and the like containing 60% or more of unsaturated fatty acids.

上記の如き飽和あるいは不飽和脂肪酸またはその金属
塩の添加量は導電性粉末100重量部に対して添加剤の総
和が0.1〜20重量部が好ましく、さらに好ましくは0.5〜
10重量部である。0.1重量部未満の場合は添加効果がほ
とんど現れず、20重量部を超える場合は添加量に見合う
分散性の向上が得られないばかりでなく、逆に得られる
塗膜の導電性やその耐久性が低下してしまう。
The amount of the saturated or unsaturated fatty acid or the metal salt thereof as described above is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.5 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of the conductive powder.
10 parts by weight. If the amount is less than 0.1 part by weight, the effect of addition is hardly exhibited.If the amount exceeds 20 parts by weight, not only the dispersibility cannot be improved corresponding to the amount added, but also the conductivity and durability of the obtained coating film. Will decrease.

また、本発明に用いられる導電性ペースト中の高級脂
肪族アミンはアミノ基を有する有機化合物であれば何で
も使用可能であり、他の置換基をもっていてもよい。例
えば、α−オレフィンから導かれるヒドロキシル基をも
ったアミンであってもよい。しかし、導電性粉末と共に
用いることの必要性から、例えば溶剤に溶けない固体の
ものなどは使用できない。好ましいものは炭素数8〜22
の高級脂肪族アミンである。かかる高級アミンとして
は、ステアリルアミン、パルミチルアミン、ベヘニルア
ミンのような飽和モノアミン、オレイルアミンのような
不飽和モノアミン、ステアリルプロピレンジアミン、オ
レイルプロピレンジアミンのようなジアミン等が挙げら
れる。
The higher aliphatic amine in the conductive paste used in the present invention may be any organic compound having an amino group, and may have another substituent. For example, an amine having a hydroxyl group derived from an α-olefin may be used. However, for example, a solid that is insoluble in a solvent cannot be used due to the necessity of using it with a conductive powder. Preferred are those having 8 to 22 carbon atoms.
Is a higher aliphatic amine. Examples of such higher amines include saturated monoamines such as stearylamine, palmitylamine and behenylamine, unsaturated monoamines such as oleylamine, and diamines such as stearylpropylenediamine and oleylpropylenediamine.

前記高級脂肪族アミンは、導電性粉末100重量部に対
してその総和が0.1〜10重量部の割合で用いられるのが
好ましい。
The higher aliphatic amine is preferably used in a total amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the conductive powder.

本発明に用いられる導電性ペーストには、導電性粉末
の酸化防止のため、必要に応じて公知の還元剤またはキ
レート剤を1種または2種以上用いることができる。好
ましい還元剤としては、例えば亜リン酸、次亜リン酸等
の無機系還元剤、およびヒドロキノン、カテコール類、
アスコルビン酸類、ヒドラジン化合物、ホルマリン、水
素化ホウ素化合物、還元糖類、エチレンジアミン4酢酸
などのアミノポリカルボン酸類、オルトアミノフェノー
ルなどのアミノフェノール類等が挙げられる。
In the conductive paste used in the present invention, one or more known reducing agents or chelating agents can be used as necessary to prevent oxidation of the conductive powder. Preferred reducing agents include, for example, phosphorous acid, inorganic reducing agents such as hypophosphorous acid, and hydroquinone, catechols,
Examples include ascorbic acids, hydrazine compounds, formalin, borohydride compounds, reducing sugars, aminopolycarboxylic acids such as ethylenediaminetetraacetic acid, and aminophenols such as orthoaminophenol.

本発明に用いられる導電性ペーストにおいて還元剤ま
たはキレート剤を用いる場合は、導電性粉末100重量部
に対して0.1〜20重量部が好ましく、さらに好ましくは
0.5〜10重量部である。
When using a reducing agent or a chelating agent in the conductive paste used in the present invention, preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the conductive powder.
0.5 to 10 parts by weight.

本発明に用いられる導電性ペーストを製造するには、
例えば、まずポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ
−ヒドロキシスチレン系共重合体及び/又はその誘導体
を溶剤に溶して、次いで熱硬化性樹脂と導電性粉末とを
加え、これをディスパーやボールミルや三本ロール等に
より十分均一に混練して導電性ペーストを調製する。
To produce the conductive paste used in the present invention,
For example, first, a poly-hydroxystyrene derivative or a poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or a derivative thereof is dissolved in a solvent, and then a thermosetting resin and a conductive powder are added. A conductive paste is prepared by kneading the mixture sufficiently using a roll or the like.

ここで用いることのできる溶剤としては、アルコール
類、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、
ブチルカルビトール等のエチレン系もしくはプロピレン
系のグリコールエーテル類、アジピン酸ジメチル等の2
塩基酸ジエステル類などの公知の溶剤が使用できる。ま
たこれらを混合して用いることもできる。
Solvents that can be used here include alcohols, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate,
Ethylene or propylene glycol ethers such as butyl carbitol;
Known solvents such as basic acid diesters can be used. These can be used in combination.

図1に示すように、本発明に用いられる導電性ペース
ト8は、塗布またはスクリーン印刷によってアースパタ
ーン3に接続するように絶縁層7上の全面あるいは一部
にコートされ、これを加熱あるいは活性エネルギー線等
により硬化させることによって、有効なシールド電極層
を有したEMI基板を作製することができる。このEMI基板
は静電シールドとしても有効に活用することができる。
As shown in FIG. 1, the conductive paste 8 used in the present invention is coated on the entire surface or a part of the insulating layer 7 so as to be connected to the ground pattern 3 by coating or screen printing. By curing with a wire or the like, an EMI substrate having an effective shield electrode layer can be manufactured. This EMI substrate can also be effectively used as an electrostatic shield.

さらにシールド電極層すなわち導電性ペースト8を覆
って第2の絶縁層9が形成される。絶縁層9は熱硬化性
レジストインク、紫外線硬化型レジストインクや電子線
硬化型レジストインク等の活性エネルギー線硬化型レジ
ストインクなどからなり、単独または併用して使われ、
1層あるいは多層で形成され、後の工程の半田の付着を
防止する。
Further, a second insulating layer 9 is formed to cover the shield electrode layer, that is, the conductive paste 8. The insulating layer 9 is made of a thermosetting resist ink, an active energy ray-curable resist ink such as an ultraviolet ray-curable resist ink or an electron beam-curable resist ink, and is used alone or in combination.
It is formed as a single layer or a multilayer, and prevents the adhesion of solder in a later step.

不要な電磁波を抑制する本発明のEMI基板の作用につ
いて説明する。
The operation of the EMI substrate of the present invention for suppressing unnecessary electromagnetic waves will be described.

従来の回路基板はシールド電極層、即ち導電性ペース
ト8がなく、回路パターン2の隣接するパターン間で浮
遊容量ないしは分布容量が形成される。本発明のEMI基
板では回路パターン2の隣接するパターン間よりもさら
に接近してシールド電極層(導電性ペースト8)が存在
するために回路パターン2とシールド電極層の間で分布
容量が形成されている。したがって、回路パターン2に
誘導された不要周波数成分のエネルギーは、形成された
分布容量を介して導電性ペースト8に流れる。導電性ペ
ースト8は導電層のアースパターン3に接続されて高周
波的にアースされているため、前述の導電性ペースト8
に流れ込んだ不要周波数成分のエネルギーはアースパタ
ーン3に流れることになる。したがって、不要周波数成
分のエネルギーは回路パターン2に蓄積されることがな
い。また、前述のように回路基板それ自体において不要
な周波数成分のエネルギーが除去されるため、それにケ
ーブル等を接続しても、そのケーブルを通して不要な電
磁波の輻射が生じることがない。
The conventional circuit board does not have the shield electrode layer, that is, the conductive paste 8, and a floating capacitance or a distributed capacitance is formed between adjacent patterns of the circuit pattern 2. In the EMI board of the present invention, the distributed capacitance is formed between the circuit pattern 2 and the shield electrode layer since the shield electrode layer (conductive paste 8) exists closer to the circuit pattern 2 than between the adjacent patterns. I have. Therefore, the energy of the unnecessary frequency component induced in the circuit pattern 2 flows to the conductive paste 8 through the formed distributed capacitance. Since the conductive paste 8 is connected to the ground pattern 3 of the conductive layer and grounded at a high frequency, the conductive paste 8 described above is used.
The energy of the unnecessary frequency component flowing into the ground pattern 3 flows into the ground pattern 3. Therefore, the energy of the unnecessary frequency component is not accumulated in the circuit pattern 2. Further, since unnecessary frequency component energy is removed from the circuit board itself as described above, even if a cable or the like is connected to the circuit board, unnecessary electromagnetic wave radiation does not occur through the cable.

〔実施例〕〔Example〕

以下、実施例および比較例に基づいて本発明を詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるも
のではない。実施例および比較例において「部」とは
「重量部」を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited only to these Examples. In the examples and comparative examples, “parts” means “parts by weight”.

実施例1 図1に示すようなプリント配線基板を作製した。Example 1 A printed wiring board as shown in FIG. 1 was produced.

即ち、基板1として銅張り積層板を用い、まずスルホ
ール5をあけて、スルホール5の内壁に無電解めっきも
しくは電解めっきを施しめっき層6を形成した。その
後、エッチングにより必要なプリント配線回路(回路パ
ターン2、アースパターン3、表面実装用部品ランド
4)を基板1上に形成した。
That is, a copper-clad laminate was used as the substrate 1, a through hole 5 was first opened, and the inner wall of the through hole 5 was subjected to electroless plating or electrolytic plating to form a plating layer 6. Thereafter, a required printed wiring circuit (circuit pattern 2, ground pattern 3, surface mounting component land 4) was formed on the substrate 1 by etching.

次に、回路パターン2を覆うようにスクリーン印刷に
より紫外線硬化型レジストインクを塗布し、1500mJ/cm2
の条件で硬化し、更に同様の操作を2回行い膜厚が約50
μmの絶縁層7を形成した。この絶縁層7とアースパタ
ーン3を覆うようにスクリーン印刷により銅ペースト
(表1に組成を示す)を塗布し、160℃×30minの条件で
硬化させ、膜厚が約20μmの導電性ペースト層8を形成
した。さらに、導電性ペースト層8を覆うようにスクリ
ーン印刷により紫外線硬化型レジストインクを塗布し、
1500mJ/cm2の条件で硬化させ、膜厚が約15μmの第2の
絶縁層9を形成した。
Next, an ultraviolet curable resist ink is applied by screen printing so as to cover the circuit pattern 2, and 1500 mJ / cm 2
And then the same operation was repeated twice to obtain a film thickness of about 50
A μm insulating layer 7 was formed. A copper paste (the composition is shown in Table 1) is applied by screen printing so as to cover the insulating layer 7 and the earth pattern 3 and is cured at 160 ° C. for 30 minutes to obtain a conductive paste layer 8 having a thickness of about 20 μm. Was formed. Further, an ultraviolet curable resist ink is applied by screen printing so as to cover the conductive paste layer 8,
The composition was cured under the condition of 1500 mJ / cm 2 to form a second insulating layer 9 having a thickness of about 15 μm.

実施例2 実施例1の絶縁層に用いた紫外線硬化型レジストイン
クの代わりに熱硬化性レジストインクを用い、このイン
クを140℃×20minで硬化させ、3コート3ベークして絶
縁層7及び9を形成した。また、導電性ペースト8を塗
布する前に導電性ペースト8と接触するプリント配線回
路(例えばアースパターン3)部分を酸等でエッチング
し、回路表面の酸化銅層を除去する。
Example 2 A thermosetting resist ink was used in place of the UV-curable resist ink used for the insulating layer in Example 1, and this ink was cured at 140 ° C. for 20 minutes, and 3 coats and 3 bake were performed to form insulating layers 7 and 9 Was formed. Before the conductive paste 8 is applied, a portion of the printed wiring circuit (for example, the ground pattern 3) that is in contact with the conductive paste 8 is etched with an acid or the like to remove the copper oxide layer on the circuit surface.

なお、実施例2における銅ペーストの組成は表1に示
す。
The composition of the copper paste in Example 2 is shown in Table 1.

比較例1 表1に示す組成の銅ペーストを用い、実施例1と同様
にしてプリント配線板を作製した。
Comparative Example 1 A printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 using a copper paste having the composition shown in Table 1.

試験例 実施例1〜2及び比較例1で得られたEMI基板の信頼
性を評価するために、下記に示す方法により耐マイグレ
ーション性、密着性、及び電磁波抑制効果(輻射レベ
ル)を測定した。
Test Example In order to evaluate the reliability of the EMI substrates obtained in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1, migration resistance, adhesion, and electromagnetic wave suppression effect (radiation level) were measured by the following methods.

<耐マイグレーション性> 試験 60℃、95%相対湿度の条件下で実施例および比較例の
それぞれにおいて、一部の回路パターン2と導電性ペー
スト層8の間で直流電圧50Vを印加し、絶縁抵抗を測定
し、絶縁抵抗が108Ωに達するまでの時間Tを比較例1
のT0と比較して、以下の基準で評価した。結果を表1に
示す。
<Migration resistance> Test Under the conditions of 60 ° C and 95% relative humidity, in each of the examples and comparative examples, a DC voltage of 50 V was applied between some of the circuit patterns 2 and the conductive paste layer 8, and the insulation resistance was measured. And the time T until the insulation resistance reaches 10 8 Ω was measured.
In comparison with the T 0, it was evaluated according to the following criteria. Table 1 shows the results.

A:T/T0>2 B:1.5<T/T0≦2 C:1<T/T0≦1.5 D:T/T0≦1 試験 不飽和型プレッシャークッカー装置を用いて、121
℃、95%相対湿度、2kg/cm2の条件下で実施例および比
較例のそれぞれにおいて、一部の回路パターン2と導電
性ペースト層8の間で直流電圧50Vを印加し、絶縁抵抗
を測定し、絶縁抵抗が108Ωに達するまでの時間Tを比
較例1のT0と比較して、以下の基準で評価した。結果を
表1に示す。
A: T / T 0 > 2 B: 1.5 <T / T 0 ≦ 2 C: 1 <T / T 0 ≦ 1.5 D: T / T 0 ≦ 1 Test Using an unsaturated pressure cooker, 121
C., 95% relative humidity, 2 kg / cm 2 , in each of the examples and comparative examples, applying a DC voltage of 50 V between some of the circuit patterns 2 and the conductive paste layer 8 to measure the insulation resistance Then, the time T required for the insulation resistance to reach 10 8 Ω was compared with T 0 of Comparative Example 1 and evaluated according to the following criteria. Table 1 shows the results.

A:T/T0>2 B:1.5<T/T0≦2 C:1<T/T0≦1.5 D:T/T0≦1 <密着性> 密着性は碁盤目テープはく離試験を用いた。A: T / T 0 > 2 B: 1.5 <T / T 0 ≦ 2 C: 1 <T / T 0 ≦ 1.5 D: T / T 0 ≦ 1 <Adhesion> For adhesion, use a cross cut tape peeling test. Was.

実施例及び比較例のプリント配線板において、導電性
ペースト8とアースパターン3とが密着している部分の
塗膜について評価を行った。
In the printed wiring boards of the example and the comparative example, the coating film in the portion where the conductive paste 8 and the ground pattern 3 are in close contact with each other was evaluated.

碁盤目試験とは、導電性ペースト8の硬化塗膜に1mm
の間隔でタテ、ヨコ11本ずつのアースパターン3に達す
る線を引き、100個の碁盤目を作る。その上にセロハン
テープを張り付け、真上の方向に一気に引きはがす方法
である。そして、碁盤目の残った個数/100によって、下
記基準でその密着性を評価した。結果を表1に示す。
The cross-cut test means that the cured coating of conductive paste 8
Draw a line that reaches the earth pattern 3 with 11 vertical and horizontal lines at intervals of to make 100 grids. This is a method in which cellophane tape is stuck on top of it, and it is peeled off at a stretch just above. Then, the adhesion was evaluated based on the following criteria based on the number of remaining grids / 100. Table 1 shows the results.

評価基準 ○:100/100(はく離なし) ×:100/100未満 <電磁波抑制効果(輻射レベル)> 実施例及び比較例のプリント配線基板に所定の部品を
実装し、電磁波ノイズ測定用基板(イ)を作製する。ま
た、実施例及び比較例の導電性ペースト層8および絶縁
層9を印刷していない基板(即ちシールド電極層をもた
ない基板)に前述と同様に所定の部品を実装し電磁波ノ
イズ測定用基板(ロ)を作製する。
Evaluation criteria ○: 100/100 (no peeling) ×: less than 100/100 <Electromagnetic wave suppression effect (radiation level)> A predetermined component was mounted on the printed wiring boards of the examples and comparative examples, and a board for electromagnetic wave noise measurement (a ) Is prepared. In addition, a predetermined component is mounted on a substrate on which the conductive paste layer 8 and the insulating layer 9 of the example and the comparative example are not printed (that is, a substrate having no shield electrode layer) in the same manner as described above, and the electromagnetic wave noise measurement substrate is formed. (B) is prepared.

電磁波抑制効果の測定は、VCCl、3m法の技術基準に基
づいて行った。具体的には、オープンサイトにおいて、
アンテナを垂直及び水平に固定し、30〜1000MHzの周波
数帯域について垂直偏波および水平偏波の放射ノイズ強
度を測定する。
The measurement of the electromagnetic wave suppression effect was performed based on the technical standard of the VCCl, 3m method. Specifically, on the open site,
The antenna is fixed vertically and horizontally, and the radiation noise intensity of vertically polarized waves and horizontally polarized waves is measured for a frequency band of 30 to 1000 MHz.

前述の基板(イ)、(ロ)の回路を作動させて前記測
定法に基づいて測定を行い、その結果(水平偏波)を図
2に示す。図2より、(イ)の電界強度の強い周波数
(65MHzおよび115MHz)を選び、その時の(イ)と
(ロ)の電界強度の差を電磁波抑制効果(ΔE)として
表2に示した。
The circuits of the above-mentioned substrates (a) and (b) are operated to perform measurement based on the above-mentioned measuring method, and the result (horizontal polarization) is shown in FIG. From FIG. 2, the frequencies (65 MHz and 115 MHz) where the electric field strength is strong (a) are selected, and the difference between the electric field strengths (a) and (b) at that time is shown in Table 2 as the electromagnetic wave suppression effect (ΔE).

さらに、実施例及び比較例の基板(イ)を耐湿試験
(60℃、95%相対湿度、2000時間)にかけ、試験終了後
に放射ノズル強度を測定した。そして、65MHzおよび115
MHzの周波数における電界強度と前述の基板(ロ)の電
界強度とを比較し、その差を電磁波抑制効果(ΔE′)
として表2に示した。なお、耐湿試験前後において、電
界強度の差の変化は少ない方が良い。
Further, the substrates (a) of the examples and the comparative examples were subjected to a humidity resistance test (60 ° C., 95% relative humidity, 2000 hours), and after the test, the radiation nozzle strength was measured. And 65MHz and 115
The electric field intensity at the frequency of MHz is compared with the electric field intensity of the above-mentioned substrate (b), and a difference between the electric field intensity and the electromagnetic wave suppression effect (ΔE ')
The results are shown in Table 2. It is better that the change in the difference in electric field strength before and after the moisture resistance test is small.

上記耐湿試験前後の電磁波抑制効果から本発明のEMI
基板の信頼性を評価した。
The EMI of the present invention based on the electromagnetic wave suppression effect before and after the above moisture resistance test
The reliability of the substrate was evaluated.

〔発明の効果〕 本発明のEMI基板は上記のようにシールド電極層とし
てポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ−ヒドロキ
シスチレン系共重合体及び/又はその誘導体と熱硬化性
樹脂とをバインダー成分として含む導電性ペーストを用
いたところに大きな特徴を有している。
[Effect of the Invention] As described above, the EMI substrate of the present invention has a conductive property containing a poly-hydroxystyrene derivative or a poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or a derivative thereof and a thermosetting resin as a binder component as a shield electrode layer. The use of a conductive paste has a great feature.

表1より、導電性ペーストにポリ−ヒドロキシスチレ
ン誘導体又はポリ−ヒドロキシスチレン系共重合体及び
/又はその誘導体を用いたEMI基板(実施例1及び2)
は、耐マイグレーション性に優れ、かつEMI基板の絶縁
層に熱硬化性または活性エネルギー線硬化型レジストイ
ンクのいずれのレジストインクを用いても優れた密着性
を示す。これらのことから、EMI基板の耐マイグレーシ
ョン性が大幅に改良され、かつ活性エネルギー線硬化型
レジストインクを用いたEMI基板の作製が可能になる。
From Table 1, it can be seen that an EMI substrate using a poly-hydroxystyrene derivative or a poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or a derivative thereof as the conductive paste (Examples 1 and 2)
Exhibits excellent migration resistance, and exhibits excellent adhesion even when a thermosetting or active energy ray-curable resist ink is used for the insulating layer of the EMI substrate. For these reasons, the migration resistance of the EMI substrate is significantly improved, and the EMI substrate can be manufactured using the active energy ray-curable resist ink.

したがって、例えば本発明のEMI基板に前述のポリ−
ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ−ヒドロキシスチレ
ン系共重合体及び/又はその誘導体を含む導電性ペース
トを用いれば、従来のEMI基板の大きな欠点とされてい
た信頼性、生産性の大幅な改善を測ることが可能であ
る。
Therefore, for example, the above-mentioned poly-
By using a hydroxystyrene derivative or a conductive paste containing a poly-hydroxystyrene copolymer and / or a derivative thereof, it is possible to measure a significant improvement in reliability and productivity, which have been regarded as major drawbacks of conventional EMI substrates. It is possible.

また図2及び表2より、本発明のEMI基板は、シール
ド電極層を持たない従来のプリント配線板と比較して優
れた電磁波抑制効果を示すことが分かる。さらに表2よ
り、シールド電極層(導電性ペースト層)に前述のポリ
−ヒドロキシスチレン誘導体又はポリ−ヒドロキシスチ
レン系共重合体及び/又はその誘導体を用いた本発明の
EMI基板は、耐湿試験後も電磁波抑制効果を維持してお
り、このことから本発明のEMI基板は信頼性にたいへん
優れていることが分かる。
From FIG. 2 and Table 2, it can be seen that the EMI substrate of the present invention exhibits an excellent electromagnetic wave suppressing effect as compared with a conventional printed wiring board having no shield electrode layer. Further, from Table 2, the present invention using the above-mentioned poly-hydroxystyrene derivative or poly-hydroxystyrene-based copolymer and / or its derivative for the shield electrode layer (conductive paste layer) is shown.
The EMI substrate maintains the effect of suppressing electromagnetic waves even after the moisture resistance test, which indicates that the EMI substrate of the present invention is very excellent in reliability.

以上から、本発明のEMI基板を用いれば耐マイグレー
ション性等の信頼性が高く、かつ生産性の高いEMI基板
を提供することが可能になる。
As described above, by using the EMI substrate of the present invention, it is possible to provide an EMI substrate having high reliability such as migration resistance and high productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

図1は本発明のEMI基板の一例を示す断面図、図2はシ
ールド電極層を持たない従来基板(イ)とシールド電極
層を含むEMI基板(ロ)の電磁波抑制効果(輻射レベ
ル)を示す図である。 1:基板 2:回路パターン 3:アースパターン 4:表面実装用部品ランド 5:スルホール 6:スルホール内壁のめっき層 7:絶縁層 8:導電性ペースト(シールド電極層) 9:絶縁層
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the EMI substrate of the present invention, and FIG. 2 shows the electromagnetic wave suppression effect (radiation level) of the conventional substrate (a) having no shield electrode layer and the EMI substrate (b) including the shield electrode layer. FIG. 1: Board 2: Circuit pattern 3: Ground pattern 4: Surface mount component land 5: Through hole 6: Plating layer on the inner wall of through hole 7: Insulation layer 8: Conductive paste (shield electrode layer) 9: Insulation layer

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板、該基板の少なくとも一方主面上に形
成されかつアースパターンを含む回路パターンが形成さ
れた導電層、該アースパターンの部分を除いて該基板上
に該導電層を覆うように形成された絶縁層、及び該絶縁
層の全部あるいは一部を覆うように形成され、かつ該ア
ースパターンに接続されたシールド電極層を備え、該シ
ールド電極層がポリ−ヒドロキシスチレン誘導体又はポ
リ−ヒドロキシスチレン系共重合体及び/又はその誘導
体と、熱硬化性樹脂とを含有する導電性ペーストから形
成されていることを特徴とするEMI対策用回路基板。
1. A substrate, a conductive layer formed on at least one main surface of the substrate and having a circuit pattern including an earth pattern formed thereon, and covering the conductive layer on the substrate except for a portion of the earth pattern. And a shield electrode layer formed so as to cover all or a part of the insulating layer and connected to the ground pattern, wherein the shield electrode layer is made of a poly-hydroxystyrene derivative or a poly-hydroxystyrene. An EMI countermeasure circuit board formed of a conductive paste containing a hydroxystyrene-based copolymer and / or a derivative thereof and a thermosetting resin.
【請求項2】請求項1記載の回路基板上に、シールド電
極層を覆うように第2の絶縁層を形成した請求項1記載
のEMI対策用回路基板。
2. The EMI countermeasure circuit board according to claim 1, wherein a second insulating layer is formed on the circuit board according to claim 1 so as to cover the shield electrode layer.
【請求項3】導電性ペーストが銅ペーストである請求項
1又は2記載のEMI対策用回路基板。
3. The EMI countermeasure circuit board according to claim 1, wherein the conductive paste is a copper paste.
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