JP2631022B2 - Method for manufacturing magneto-optical recording medium - Google Patents

Method for manufacturing magneto-optical recording medium

Info

Publication number
JP2631022B2
JP2631022B2 JP2073083A JP7308390A JP2631022B2 JP 2631022 B2 JP2631022 B2 JP 2631022B2 JP 2073083 A JP2073083 A JP 2073083A JP 7308390 A JP7308390 A JP 7308390A JP 2631022 B2 JP2631022 B2 JP 2631022B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
magneto
optical recording
recording medium
recording layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2073083A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH03272888A (en
Inventor
誠 柏谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2073083A priority Critical patent/JP2631022B2/en
Priority to US07/673,382 priority patent/US5698312A/en
Publication of JPH03272888A publication Critical patent/JPH03272888A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2631022B2 publication Critical patent/JP2631022B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光磁気記録媒体に関するものであり特にバ
イアス磁場特性に優れ、かつ記録再生使用耐久性に優れ
た光磁気記録媒体の製造方法に関するものである。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magneto-optical recording medium, and more particularly to a method of manufacturing a magneto-optical recording medium having excellent bias magnetic field characteristics and excellent recording / reproducing use durability. Things.

[従来技術及びその問題点] 近年、光磁気記録媒体はレーザー光による書き込み読
み出しが可能な光磁気ディスクとして、大容量のデータ
ファイルなどに広く利用されている。
[Prior Art and its Problems] In recent years, magneto-optical recording media have been widely used as large-capacity data files as magneto-optical discs that can be written and read by laser light.

この光磁気記録媒体は、ガラス、プラスチックなどの
透明基板上に、スパッタ法によりSi3N4,SiO2あるいはSi
AlN等の第1誘電体保護層(エンハンス層とも称され
る。)、TbFeCo,GdTbFeCo等の遷移金属及び希土類金属
を主体とする記録層、その上にAl,Al−Ti,Al−Ta等の金
属反射層の薄膜を積層した3層構成もしくは前記記録層
と金属反射層との間に第2誘電体保護層がある4層構成
の光磁気記録層を有する形態が高いC/Nが得られるので
広く使用されている。
This magneto-optical recording medium is made of Si 3 N 4 , SiO 2 or Si on a transparent substrate such as glass or plastic by sputtering.
A first dielectric protection layer (also referred to as an enhancement layer) such as AlN, a recording layer mainly composed of a transition metal such as TbFeCo and GdTbFeCo, and a rare earth metal, and a recording layer mainly composed of Al, Al-Ti, and Al-Ta; A high C / N is obtained in a configuration having a magneto-optical recording layer having a three-layer configuration in which thin films of a metal reflective layer are stacked or a four-layer configuration in which a second dielectric protective layer is provided between the recording layer and the metal reflective layer. So widely used.

そのほかには、遷移金属と希土類金属を主体とする合
金の単一層もしくは遷移金属を主体とする薄膜と希土類
金属を主体とする薄膜をそれぞれ数Å乃至数10Åの厚さ
で交互に少なくとも2層以上積層したいわゆる交互積層
膜の光磁気記録層を有する光磁気記録媒体がある。
In addition, a single layer of an alloy mainly composed of a transition metal and a rare earth metal, or a thin film mainly composed of a transition metal and a thin film mainly composed of a rare earth metal are alternately formed in a thickness of several to several tens of at least two layers each. There is a magneto-optical recording medium having a magneto-optical recording layer of a so-called alternately laminated film.

透明基板の片面に光磁気記録層を有する2枚の媒体を
光磁気記録層がある面を内側に向けて貼り合わせた両面
記録型の貼合わせタイプの光磁気記録媒体もある。
There is also a double-sided recording type magneto-optical recording medium in which two media having a magneto-optical recording layer on one surface of a transparent substrate are bonded with the surface having the magneto-optical recording layer facing inward.

そして、前記光磁気記録層を構成している各層は、通
常、各層の構成金属をターゲットとして使用し、低圧の
不活性ガス雰囲気下でスパッタリング法により成膜され
る数100Åから数千Åの厚さの薄膜である。
Each of the layers constituting the magneto-optical recording layer is usually formed by sputtering using a constituent metal of each layer as a target under a low-pressure inert gas atmosphere, and has a thickness of several hundreds to several thousand degrees. It is a thin film.

光磁気記録媒体への情報の記録に際しては、まず媒体
に消去用のバイアス磁場を印加しつつレーザービームを
一様に照射して記録層のキュリー温度まで加熱し、すで
に書き込まれた記録情報を消去して外部からバイアス磁
場を印加することにより、記録層を一定の方向に磁化
し、ついで、書き込み用のバイアス磁場を印加しつつレ
ーザービームによる記録情報の書き込みが行われる。
When recording information on a magneto-optical recording medium, the medium is first irradiated with a laser beam while applying a bias magnetic field for erasing, and heated to the Curie temperature of the recording layer to erase the recorded information that has already been written. Then, by applying a bias magnetic field from the outside, the recording layer is magnetized in a certain direction, and then the recording information is written by a laser beam while applying a bias magnetic field for writing.

C/Nと前記バイアス磁場(Hb)との関係は、一般にバ
イアス磁場に比例してC/Nは大きくなるが、C/Nの変化が
飽和する飽和バイアス磁場(Hbs)が媒体固有の特性と
して存在する。そして、この飽和バイアス磁場を小さく
することは、すなわち前記の消去、書き込み時に必要な
バイアス磁場を小さくできると言うことであり、また同
時に同じバイアス磁場を印加したとしても飽和バイアス
磁場が小さい媒体を使用した方がC/Nを向上させる上で
有利となる。
Generally, the relationship between C / N and the bias magnetic field (Hb) is such that C / N increases in proportion to the bias magnetic field, but the saturation bias magnetic field (Hbs) at which the change in C / N saturates is a characteristic inherent to the medium. Exists. Reducing the saturation bias magnetic field means that the bias magnetic field required for erasing and writing can be reduced, and a medium having a small saturation bias magnetic field is used even when the same bias magnetic field is applied at the same time. This is advantageous for improving C / N.

消去及び書き込み時に必要な前記バイアス磁場(Hb)
を小さくすることは、バイアス磁場印加用磁石を小さく
できることになるので、ドライブの小型化にとっても有
利となる。
The bias magnetic field (Hb) required for erasing and writing
Is smaller, it is possible to reduce the size of the bias magnetic field applying magnet, which is advantageous for miniaturization of the drive.

また、最近光磁気記録媒体の使用形態が多用化してお
り、オーバーライト記録の要求が強いが、その際も必要
なバイアス磁場(Hb)を小さくすることは、装置の小型
化、アクセスタイムの短縮に必須の要件となることが予
測される。
Recently, the use of magneto-optical recording media has become more frequent, and there is a strong demand for overwrite recording. In this case, reducing the required bias magnetic field (Hb) can reduce the size of the device and shorten the access time. It is expected that this will be an essential requirement.

しかし、バイアス磁場に対して以上のような要求があ
るにもかかわらず、実際には、消去、記録に必要なバイ
アス磁場が安定している光磁気記録媒体を得ることが難
しく、100乃至700Oeの範囲でばらつきがあった。バイア
ス磁場は、実用上100乃至700Oe、望ましくは200乃至300
Oe程度を安定して得られることが望まれるのであるが、
実際には、従来の製造方法ではそのばらつきが大きく、
バイアス特性の優れた光磁気記録媒体を安定して得るの
が難しかった。
However, despite the above requirements for the bias magnetic field, in practice, it is difficult to obtain a magneto-optical recording medium in which the bias magnetic field required for erasing and recording is stable, and 100 to 700 Oe is required. There was variation in the range. The bias magnetic field is practically 100 to 700 Oe, preferably 200 to 300 Oe.
It is hoped that Oe can be obtained stably,
In fact, the conventional manufacturing method has a large variation,
It has been difficult to stably obtain a magneto-optical recording medium having excellent bias characteristics.

バイアス特性を制御する方法として、例えば遷移金属
希土類金属を記録層とする場合、その組成比を変えたり
また他の金属を添加する方法が、MAG−87−177、J.App
l.Phys.61(7)(1987),J.Appl.Phys.26(2)(198
7),J.Appl.Phys.61(8)(1987)等に開示されている
が、やはりばらつきが大きく100乃至700Oeの間でかなり
ばらついてしまった。
As a method of controlling bias characteristics, for example, when a transition metal rare earth metal is used as a recording layer, a method of changing the composition ratio or adding another metal is described in MAG-87-177, J. App.
l.Phys.61 (7) (1987), J.Appl.Phys.26 (2) (198)
7), J. Appl. Phys. 61 (8) (1987), etc., but the dispersion was large and varied considerably between 100 and 700 Oe.

光磁気記録媒体に要求される実用上の特性として、前
記のバイアス特性の他に重要なものとして、消去−記録
−再生の繰り返し耐久性(EWR耐久性)がある。すなわ
ち、光磁気記録媒体を何万回と繰り返し使用してもその
特性が劣化しないことが望まれている。そして実際に
は、媒体の光磁気記録層の同一部部分に消去−記録−再
生を繰り返し行ったときのC/Nの低下の度合で評価さ
れ、一般的には、10万回の繰り返しでC/Nの低下が4dB以
内にあることが望まれている。このEWR特性を改良する
ために例えば前記の交互積層膜の光磁気記録層の場合、
その積層周期を小さくすることも、ある程度は効果があ
った。
In addition to the above-mentioned bias characteristics, another important characteristic required for the magneto-optical recording medium is the repetition durability of erasure-recording-reproduction (EWR durability). That is, it is desired that the characteristics are not deteriorated even when the magneto-optical recording medium is repeatedly used tens of thousands of times. In practice, it is evaluated by the degree of decrease in C / N when erasure-recording-reproduction is repeatedly performed on the same part of the magneto-optical recording layer of the medium. It is desired that the decrease in / N be within 4 dB. In order to improve the EWR characteristics, for example, in the case of the magneto-optical recording layer of the above-mentioned alternately laminated film,
Reducing the stacking cycle also had some effect.

しかしその方法でも充分ではなく、しばしば10万回も
走行を続けるとC/Nの劣化が4dB以上になることがあっ
た。
However, that method was not enough, and the C / N deterioration sometimes reached 4 dB or more after 100,000 runs.

また、このEWR特性にあっても、前記のバイアス磁場
の場合と同様、実際には同一組成で作られているにもか
かわらず、特性のばらつきがかなりあった。
Even in the case of the EWR characteristics, as in the case of the above-mentioned bias magnetic field, there was considerable variation in characteristics even though actually made of the same composition.

[発明が解決しようとする問題点] 本発明は、前記従来技術の問題点に鑑みなされたもの
であり、バイアス特性及びEWR特性のばらつきの少ない
光磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的として
いる。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention has been made in view of the problems of the related art, and has as its object to provide a method of manufacturing a magneto-optical recording medium with less variation in bias characteristics and EWR characteristics. And

[問題点を解決するための手段] 発明者は、透明基板上に金属反射層がある光磁気記録
層を成膜する際に特に金属反射層の薄膜の成膜条件に着
目して鋭意検討を重ねた結果、記録層及び金属反射層を
成膜するときのスパッタリング装置のスパッタ室内の残
留ガスの存在量が前記本発明の目的を達成する上で重要
であることを突き止め、本発明に至った。
[Means for Solving the Problems] The inventors of the present invention have made intensive studies when forming a magneto-optical recording layer having a metal reflective layer on a transparent substrate, paying particular attention to the conditions for forming the thin film of the metal reflective layer. As a result of the superposition, the present inventors have found that the amount of the residual gas present in the sputtering chamber of the sputtering apparatus when forming the recording layer and the metal reflection layer is important for achieving the object of the present invention, leading to the present invention. .

すなわち、前記本発明の目的は、透明基板上に記録層
を低圧の不活性ガスが存在する雰囲気下でスパッタリン
グ法により成膜した後に、水素ガスの残留量が不活性ガ
スに対して10000ppm以下である雰囲気下で前記記録層の
上方に金属反射層をスパッタリング法により成膜する光
磁気記録媒体の製造方法により達成される。
That is, the object of the present invention is, after forming a recording layer on a transparent substrate by a sputtering method in an atmosphere in which a low-pressure inert gas is present, the residual amount of hydrogen gas is 10,000 ppm or less with respect to the inert gas. This is achieved by a method for manufacturing a magneto-optical recording medium in which a metal reflective layer is formed above the recording layer by a sputtering method under an atmosphere.

本発明による光磁気記録媒体の光磁気記録層の成膜
は、スパッタリング法で行うことができる。通常成膜は
1×10-3乃至20×10-3Torrの低圧のAr,He,Ne等の不活性
ガス条件下でなされるが、真空層内には、不活性ガス以
外の種々のガスが残留している。例えば、窒素、水、水
素、酸素とかそのほかCH、OH等の原子団の形でも残留し
ている。記録層を成膜後その上に金属反射層を成膜する
際の不活性ガス雰囲気中に残留する前記の種々のガスの
内、特に水素の残留量を不活性ガスに対して特定量以下
とすることが本発明による光磁気記録媒体のバイアス特
性及びEWR特性を良好な状態で安定に得るために重要で
あり、さらに窒素ガスの残留量を特定量以下とすること
で更にその効果は大きくなる。また、この本発明による
効果は、金属反射層がAl単体もしくはAl系合金主体とし
たものであって、記録層が遷移金属及び希土類金属の合
金を主体とする場合に大きい。
The formation of the magneto-optical recording layer of the magneto-optical recording medium according to the present invention can be performed by a sputtering method. Usually, film formation is performed under a low-pressure inert gas condition of 1 × 10 −3 to 20 × 10 −3 Torr, such as Ar, He, and Ne. Remains. For example, they remain in the form of atomic groups such as nitrogen, water, hydrogen, oxygen, and CH and OH. Of the various gases remaining in the inert gas atmosphere when the metal reflective layer is formed thereon after forming the recording layer, the remaining amount of hydrogen, in particular, is less than a specific amount with respect to the inert gas. It is important to stably obtain the bias characteristics and EWR characteristics of the magneto-optical recording medium according to the present invention in a good state, and the effect is further enhanced by reducing the residual amount of nitrogen gas to a specific amount or less. . The effect of the present invention is great when the metal reflective layer is mainly composed of Al alone or an Al-based alloy, and the recording layer is mainly composed of an alloy of a transition metal and a rare earth metal.

従って、本発明の光磁気記録媒体の製造方法において
は、前記金属反射層の成膜の際の水素ガスの残留量は、
不活性ガスの10000ppm以下望ましくは、1000ppm以下特
に望ましくは、100ppm以下である。
Therefore, in the method for manufacturing a magneto-optical recording medium of the present invention, the residual amount of hydrogen gas when forming the metal reflective layer is:
The inert gas content is 10,000 ppm or less, preferably 1,000 ppm or less, particularly preferably 100 ppm or less.

また、同時に窒素ガスの残留量は、1000ppm以下望ま
しくは100ppm以下特に望ましくは、10ppm以下にするこ
とによって、本発明の目的をなお一層有効に達成するこ
とが出来る。
At the same time, the object of the present invention can be more effectively achieved by setting the residual amount of nitrogen gas to 1000 ppm or less, preferably 100 ppm or less, particularly preferably 10 ppm or less.

光磁気記録媒体の製造方法においては、金属反射層の
スパッタリング法成膜時に、スパッタ室内の水素や窒素
の残留量を少なくすることによって成膜された金属反射
層の表面に吸着したり、内部に混入したりして光磁気記
録媒体を使用しているうちに、金属反射層にあるこれら
のガスが熱で遊離して記録層を侵しEWR特性を低下させ
るのではないかと考えられる。
In a method of manufacturing a magneto-optical recording medium, during deposition of a metal reflective layer by sputtering, the residual amount of hydrogen or nitrogen in the sputtering chamber is reduced so that the metal is adsorbed on the surface of the formed metal reflective layer, It is thought that these gases in the metal reflective layer may be released by heat and corrode the recording layer and deteriorate the EWR characteristics while the magneto-optical recording medium is used by mixing.

また、残留水素や窒素ガスが成膜されている金属反射
層の膜質に影響を及ぼして、近接している記録層にも影
響を与えこれが特性のばらつきを大きくしているものと
思われる。
Further, it is considered that the residual hydrogen or nitrogen gas affects the film quality of the metal reflective layer on which the film is formed, and also affects the adjacent recording layer, thereby increasing the variation in characteristics.

しかし、スパッタ室内に残留する各種のガスの内、な
ぜ水素ガスと窒素ガスがバイアス特性及びEWR特性に大
きく影響するのか不明な点が多いがおそらく金属に対す
る化学的な活性が高いためもしくは膜の構造に与える影
響が大きいためではないかとも推定される。本発明によ
る光磁気記録媒体の光磁気記録層がその記録層と金属反
射層の間に第2誘電体保護層がある4層構成の場合であ
っても、本発明の前記の効果は同様に発現される。4層
構成の光磁気記録層にあっては、カー楕円率を小さくし
て記録感度の位相差をなくすために前記第2誘電体保護
層の膜厚を150乃至500Åと非常に小さくするので金属反
射層からの遊離ガス分子は充分に遮断されずに記録層に
影響するものと思われる。
However, among the various gases remaining in the sputtering chamber, there are many unclear reasons why hydrogen gas and nitrogen gas have a large effect on the bias characteristics and EWR characteristics. It is also presumed that this is because the effect on the air pressure is large. Even when the magneto-optical recording layer of the magneto-optical recording medium according to the present invention has a four-layer structure in which the second dielectric protection layer is provided between the recording layer and the metal reflective layer, the above-described effect of the present invention is similarly obtained. Is expressed. In the case of a four-layered magneto-optical recording layer, the second dielectric protection layer has a very small thickness of 150 to 500 ° in order to reduce the Kerr ellipticity and eliminate the phase difference in recording sensitivity. It is considered that free gas molecules from the reflective layer are not sufficiently blocked and affect the recording layer.

スパッタリングの際のスパッタ室内に残留する水素ガ
スの発生源としては種々考えられる。例えば、不活性ガ
ス中の不純物として元々存在していた水素、水の分子が
スパッタリング中にスパッタ室内の金属製のシールド板
などの金属を触媒として分解した生成物としての水素、
有機化合物が分解してできた水素などがある。
There are various possible sources of hydrogen gas remaining in the sputtering chamber during sputtering. For example, hydrogen which originally existed as an impurity in the inert gas, hydrogen as a product in which molecules of water were decomposed as a catalyst by a metal such as a metal shield plate in the sputtering chamber during sputtering,
There is hydrogen formed by the decomposition of organic compounds.

窒素ガスについても、不活性ガス中に不純物として存
在していたもの、不活性ガスの配管から混入して来るも
の、完全に排気しきれずにスパッタ室内に残留する空気
から由来するもの等がある。
Nitrogen gas also includes those present as impurities in the inert gas, those coming from the piping of the inert gas, and those derived from air remaining in the sputtering chamber without being completely exhausted.

本発明の光磁気記録媒体の製造方法において、金属反
射層を成膜する際のスパッタ室内の水素ガス及び窒素ガ
スの残留量を制御する種々の方法がある。例えば、真空
層及び基板を充分に排気処理する方法でよく、基板の排
気処理の場合基板が熱変形を起こさない程度の温度で熱
処理して脱ガスする。真空層中で基板の加熱処理を行っ
てもよい。スパッタ室の場合も排気を充分に行えば良い
のだが、基板の場合と同様外部からもしくは内部から加
熱処理を行うことが効果的である。このようにして主に
スパッタ室及び基板を充分に脱ガスした上で、金属反射
層の成膜の際は、拡散ポンプ、クライオポンプ、ターボ
ポンプ等の排気装置の能力とオリフィス制御装置とを作
動させて水素ガスの濃度更に窒素ガスの濃度を調節す
る。残留ガス濃度を調節する方法は他にも考えられ、以
上の方法はその1例であることは言うまでもない。
In the method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to the present invention, there are various methods for controlling the residual amounts of hydrogen gas and nitrogen gas in a sputtering chamber when forming a metal reflective layer. For example, a method of sufficiently exhausting the vacuum layer and the substrate may be employed. In the case of exhausting the substrate, heat treatment is performed at a temperature that does not cause thermal deformation of the substrate, and degassing is performed. The substrate may be subjected to heat treatment in a vacuum layer. In the case of the sputtering chamber, it is sufficient to sufficiently exhaust the gas. However, it is effective to perform the heat treatment from the outside or the inside similarly to the case of the substrate. After the sputtering chamber and the substrate are sufficiently degassed in this way, when forming the metal reflective layer, the capacity of the exhaust device such as a diffusion pump, a cryopump, and a turbo pump and the orifice control device are operated. Then, the concentration of hydrogen gas and the concentration of nitrogen gas are adjusted. Other methods for adjusting the residual gas concentration are conceivable, and it is needless to say that the above method is one example.

本発明では、金属反射膜の成膜中は水素ガスの残留量
さらには窒素ガスの残留量を前記の範囲にすることによ
って、消去や記録時に必要なバイアス磁場を700Oe以下
にすることができ、そのばらつきもかなり小さくするこ
とが出来る。そして、EWR特性がかなり改良されるので
ある。本発明による光磁気記録媒体の光磁気記録層の成
膜はスパッタリング法で行うことが出来る。成膜の際は
スパッタ室内に低圧の不活性ガスを導入する。前記不活
性ガスとしては、Ar,He、Kr、Neなどが使用できるが、
中でもArが価格及び成膜速度の面から最も望ましい。
In the present invention, by setting the residual amount of the hydrogen gas and the residual amount of the nitrogen gas within the above range during the formation of the metal reflective film, the bias magnetic field required for erasing and recording can be reduced to 700 Oe or less, The variation can be considerably reduced. And the EWR characteristics are considerably improved. The formation of the magneto-optical recording layer of the magneto-optical recording medium according to the present invention can be performed by a sputtering method. During film formation, a low-pressure inert gas is introduced into the sputtering chamber. As the inert gas, Ar, He, Kr, Ne and the like can be used,
Among them, Ar is most desirable in terms of cost and film forming speed.

本発明による光磁気記録媒体における前記金属反射層
の材料としては、各種の金属単体及び合金を使用するこ
とが出来る。例えば、Al,Al−Cu、Al−Ti,Al−Ta,Ni,Ni
−Cu,Au,Cu,Cu−Zn、Al−Cr、Pt等の金属をスパッタリ
ング法により、第2誘電体保護層上に成膜した薄膜が使
用できる。中でも単体のAlもしくはAlの合金が本発明の
目的を達成する上で好適である。
As the material of the metal reflection layer in the magneto-optical recording medium according to the present invention, various kinds of simple metals and alloys can be used. For example, Al, Al-Cu, Al-Ti, Al-Ta, Ni, Ni
-A thin film in which a metal such as Cu, Au, Cu, Cu-Zn, Al-Cr, and Pt is formed on the second dielectric protection layer by a sputtering method can be used. Among them, simple Al or an alloy of Al is suitable for achieving the object of the present invention.

本発明による光磁気記録媒体の前記金属反射層の膜厚
は300乃至1000Å、更に400乃至800Åであることが好ま
しい。
The thickness of the metal reflective layer of the magneto-optical recording medium according to the present invention is preferably from 300 to 1,000, more preferably from 400 to 800.

前記金属反射層の膜厚が300Å未満であると光が透過
し易くなり、C/Nが低下してしまう。1000Å以上である
と熱容量が大きくなる結果感度が低下するので好ましく
ない。
If the thickness of the metal reflective layer is less than 300 °, light is easily transmitted, and C / N is reduced. If it is more than 1000 °, the heat capacity is increased and the sensitivity is lowered, which is not preferable.

本発明による光磁気記録媒体の光磁気記録層が3層構
成である場合、透明基板上にエンハンス層、記録層及び
前記金属反射層をこの順でスパッタリング法で順次積層
して真空成膜法で成膜される。光磁気記録層が4層構成
である場合には、前記記録層と前記金属反射層の間に第
2誘電体保護層が設けられる。
When the magneto-optical recording layer of the magneto-optical recording medium according to the present invention has a three-layer structure, an enhancement layer, a recording layer, and the metal reflection layer are sequentially laminated on a transparent substrate in this order by a sputtering method and a vacuum film forming method. A film is formed. When the magneto-optical recording layer has a four-layer configuration, a second dielectric protection layer is provided between the recording layer and the metal reflection layer.

前記エンハンス層は誘電体からなる層であって前記透
明基板上に800乃至1300Åの厚さで成膜される。
The enhance layer is a layer made of a dielectric material and is formed on the transparent substrate to a thickness of 800 to 1300 °.

前記エンハンス層の材料としては、例えば、SiOx,SiN
x、TaOx、AlNx,SiAl及びZnS等の酸化物、窒化物及び硫
化物などの誘電体が使用される。中でも、光学的特性、
保護機能の面から、Siの窒化物、Alの窒化物もしくはそ
れらの混合物、SiAl等が好ましい。
As the material of the enhance layer, for example, SiOx, SiN
Dielectrics such as oxides, nitrides and sulfides such as x, TaOx, AlNx, SiAl and ZnS are used. Among them, optical properties,
From the viewpoint of the protection function, Si nitride, Al nitride or a mixture thereof, SiAl, and the like are preferable.

前記エンハンス層の上には記録層が、200乃至300Åの
膜厚で成膜される。
On the enhance layer, a recording layer is formed with a thickness of 200 to 300 °.

前記記録層は、遷移金属及び希土類金属を主体とする
非晶質の合金薄膜であることが望ましく本発明の方法が
最も有効に作用する。
The recording layer is preferably an amorphous alloy thin film mainly composed of a transition metal and a rare earth metal, and the method of the present invention works most effectively.

前記記録層の組成となりうる遷移金属としては、例え
ばFe、Co、Ni等を、希土類金属としては、Tb,Gd,Dy,Sm,
Nd等を使用することが出来る。そして、前記記録層の組
成の具体例としては、GdCo,GdFe,TbFe,DyFe,GdFeTb,TbF
eCo,DyFeCo,TbFeNi,GdFeCo,NdDyFeCo等が挙げられる。
中でも、TdFeCoが製造上の許容度が大きいため最も好ま
しく、更にその組成中にCr,Ti,Ta,Nb,Pt等が0.5乃至10a
t%望ましくは3乃至8at%含有された組成であること
が、実用上充分な耐腐食性を有する上で好ましい。さら
にPt−Co系の合金も記録層の組成として好ましい。
Examples of transition metals that can be the composition of the recording layer include Fe, Co, and Ni, and rare earth metals include Tb, Gd, Dy, Sm, and the like.
Nd or the like can be used. And, as a specific example of the composition of the recording layer, GdCo, GdFe, TbFe, DyFe, GdFeTb, TbF
eCo, DyFeCo, TbFeNi, GdFeCo, NdDyFeCo and the like.
Among them, TdFeCo is most preferable because of its large manufacturing tolerance, and further contains 0.5 to 10a of Cr, Ti, Ta, Nb, Pt, etc. in its composition.
It is preferable that the composition contains t%, preferably 3 to 8 at%, in order to have practically sufficient corrosion resistance. Further, a Pt—Co alloy is also preferable as the composition of the recording layer.

本発明による光磁気記録媒体の光磁気記録層が4層構
成の場合、前記記録層の上には、記録層を保護するため
の無機物の保護層が200乃至600Åの膜厚で成膜される。
When the magneto-optical recording layer of the magneto-optical recording medium according to the present invention has a four-layer structure, an inorganic protective layer for protecting the recording layer is formed to a thickness of 200 to 600 ° on the recording layer. .

無機物の保護層は、前記エンハンス層と同じく通常、
誘電体の薄膜である。
The inorganic protective layer is usually the same as the enhance layer,
It is a dielectric thin film.

本発明による光磁気記録媒体の基板は、高速回転にお
いても記録消去が効果的になされるように、その機械特
性、得に面振れ加速度や面振れが少なくすることが望ま
しい。
It is desirable that the substrate of the magneto-optical recording medium according to the present invention has its mechanical characteristics and, in particular, its surface runout acceleration and surface runout reduced so that recording and erasing can be performed effectively even at high speed rotation.

前記透明基板の材質としては、ポリカーボネート、ポ
リメチルメタクリレート、エポキシ樹脂、ガラス等が使
用される。中でも、ポリカーボネート、ポリメチルメタ
クリレート、エポキシ樹脂等の樹脂基板がコスト的に好
ましく、特に、ポリカーボネートは、吸水率が比較的小
さく、ガラス転移温度が高いなどの利点を有しているの
で特に好ましい。
As the material of the transparent substrate, polycarbonate, polymethyl methacrylate, epoxy resin, glass and the like are used. Among them, resin substrates such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, and epoxy resin are preferable in terms of cost, and polycarbonate is particularly preferable because it has advantages such as a relatively low water absorption and a high glass transition temperature.

本発明による光磁気記録媒体は、前記のように基板上
に各層を成膜して光磁気記録層が形成され、さらにその
上面及び側面を紫外線硬化樹脂等の有機樹脂保護層で被
覆することにより、また基板の記録層を設けた側とは反
対の面にも紫外線硬化樹脂等の層を設けることによって
光磁気記録媒体の保存安定性を更に高めることもでき
る。
The magneto-optical recording medium according to the present invention, by forming each layer on the substrate as described above to form a magneto-optical recording layer, and further covering the upper surface and side surfaces thereof with an organic resin protective layer such as an ultraviolet curable resin. The storage stability of the magneto-optical recording medium can be further improved by providing a layer of an ultraviolet curable resin or the like on the surface of the substrate opposite to the side on which the recording layer is provided.

また、ホットメル接着剤やエポキシ系接着剤等より成
る接着剤層を介して、基板の光磁気記録層の内面を外側
に向けて、貼合わせることにより機械特性の優れた両面
記録型の光磁気記録媒体とすることもできる。
In addition, a double-sided recording type magneto-optical recording having excellent mechanical properties is performed by bonding the inner surface of the magneto-optical recording layer of the substrate to the outside through an adhesive layer made of a hot-mel adhesive or an epoxy-based adhesive. It can also be a medium.

[発明の効果] 透明基板上に少なくとも記録層及び金属反射層を有す
る光磁気記録媒体において、前記金属反射層をスパッタ
リング法で成膜する際に、スパッタ室内の雰囲気ガス中
における残留水素ガス更に残留窒素ガスの含有量を特定
量より少なくすることにより、光磁気記録媒体のバイア
ス特性及びEWR特性を改良することが出来る。
[Effects of the Invention] In a magneto-optical recording medium having at least a recording layer and a metal reflective layer on a transparent substrate, when the metal reflective layer is formed by a sputtering method, residual hydrogen gas in an atmosphere gas in a sputtering chamber is further reduced. By making the content of nitrogen gas smaller than the specified amount, the bias characteristics and EWR characteristics of the magneto-optical recording medium can be improved.

本発明の新規な特徴を以下の実施例及び比較例−によ
って具体的に説明する。
The novel features of the present invention will be specifically described with reference to the following Examples and Comparative Examples.

(実施例) 1.6μmピッチの案内溝がある径130mm、厚さ1.2mmの
ポリカーボネート基板をスパッタ装置の回転基板ホルダ
ー上にセットして、スパッタ室内にアルゴンガスを導入
して、ガス圧を1乃至5mTorrとした。
(Example) A polycarbonate substrate having a diameter of 130 mm and a thickness of 1.2 mm with a guide groove of 1.6 μm pitch was set on a rotating substrate holder of a sputtering apparatus, and argon gas was introduced into the sputtering chamber to reduce the gas pressure to 1 to 3. 5 mTorr.

そして、マグネトロンスパッタ法によりまずエンハン
ス層として、1100Åの厚さのSiNxの薄膜を成膜した。
Then, an SiNx thin film having a thickness of 1100 mm was formed as an enhance layer by magnetron sputtering.

ついで、FeCoCr合金のターゲット及びTbのターゲット
に電力を印加して、二元同時スパッタにより、前記エン
ハンス層上にTb18Fe68Co8Cr6成る組成の記録層を250Å
の厚さで成膜した。
Then, power was applied to the target of FeCoCr alloy and the target of Tb, and the recording layer having a composition of Tb 18 Fe 68 Co 8 Cr 6 was formed on the enhanced layer by a simultaneous dual sputtering method for 250 minutes.
The thickness was formed as follows.

しかる後、前記記録層の上に第2誘電体保護層とし
て、SiNxの薄膜を250Åの厚さで成膜した。
Thereafter, a 250-nm-thick SiNx thin film was formed as a second dielectric protection layer on the recording layer.

ついで、スパッタ室に取り付けた残留ガス測定装置で
スパッタ室内の水素ガス及び窒素ガスを脱ガスの時間及
びクライオポンプの排気力を変えることによって制御し
ながら第1表に示すAからEまで5種の条件下で前記第
2誘電体保護層の上に金属反射層として、 の薄膜を500Åの膜厚で成膜して、前記基板上にエンハ
ンス層、記録層、第2誘電体保護層及び金属反射層より
成る4層構成の光磁気記録層を有する光磁気記録媒体の
試料を各条件下で100枚ずつ作成した。
Next, while controlling the hydrogen gas and the nitrogen gas in the sputtering chamber by changing the degassing time and the exhaust power of the cryopump with the residual gas measuring device attached to the sputtering chamber, five kinds of A to E shown in Table 1 were obtained. Under the conditions, a thin film having a thickness of 500 mm is formed on the second dielectric protection layer as a metal reflection layer, and an enhancement layer, a recording layer, a second dielectric protection layer and a metal reflection layer are formed on the substrate. Under each condition, 100 samples of a magneto-optical recording medium having a magneto-optical recording layer having a four-layer structure were prepared.

前記金属反射層の成膜時の水素ガス及び窒素ガスの残
留量の制御幅は、アルゴンガス分圧にたいする分圧濃度
をppmで表して第1表のように変化させた。
The control width of the residual amounts of the hydrogen gas and the nitrogen gas at the time of forming the metal reflective layer was changed as shown in Table 1 by expressing the partial pressure concentration with respect to the partial pressure of the argon gas in ppm.

そして、ガスの残留量の測定は、4重極質量分析計に
作動排気装置を取り付けて行った。その方法は、まず分
析管内を作動排気してイオンを生成し前記4重極電極を
通して質量を分離して2次電子倍増管で増幅して検出し
た。この時の作動排気の減圧比は1×10-3Torrとなるよ
うにした。一方スパッタリング成膜で使用するアルゴン
ガスをバラトロン真空計でモニターしつつその値がディ
スプレー上で1×10-3Torr減圧された値となるようにエ
ミッションの電圧を決めた。測定値の算出に当たって
は、各検出元素固有の補正係数で補正したこと、分析チ
ャンバー内の排気を充分に行って各残留ガス成分の分圧
が5×10-11Torr以下になるまで充分に排気を行ったこ
と、分析装置の構造を工夫して1×10-9Torr程度の微量
ガスまで検出できるようにした。
And the measurement of the residual amount of gas was performed by attaching a working exhaust device to the quadrupole mass spectrometer. In this method, first, the inside of the analysis tube was operated and evacuated to generate ions, the mass was separated through the quadrupole electrode, amplified by a secondary electron multiplier, and detected. At this time, the pressure reduction ratio of the working exhaust was set to 1 × 10 −3 Torr. On the other hand, while monitoring the argon gas used for sputtering film formation with a Baratron vacuum gauge, the emission voltage was determined such that the value was reduced by 1 × 10 −3 Torr on the display. In calculating the measured values, correction was performed using the correction coefficient specific to each detection element, and the exhaust inside the analysis chamber was sufficiently performed to exhaust sufficiently until the partial pressure of each residual gas component became 5 × 10 −11 Torr or less. In addition, the structure of the analyzer was devised so that a trace gas of about 1 × 10 −9 Torr could be detected.

以上のようにして得た光磁気記録媒体の試料のバイア
ス磁場特性及びEWR特性を以下の方法で評価した。
The bias magnetic field characteristics and EWR characteristics of the sample of the magneto-optical recording medium obtained as described above were evaluated by the following methods.

バイアス磁場特性の評価:NA=0.55のピックアップ及
び波長830nmの半導体レーザーを装備したドライブで回
転数を2400回転にしてサーボをかけながらピクアップを
追従させて記録再生を行った。記録に当たっては、8mW
のレーザーパワー及びバイアス磁場0乃至700Oeで消去
して、5.5mWのレーザーパワー、バイアス磁場0乃至700
Oe及び記録周波数4.93MHzの条件で0.75μmのピットを
記録した。尚、消去と書き込み時のバイアス磁場の値は
同一にした。次に1.5mWのレーザーパワーで読み取りス
ペクトル・アナライザーでC/Nを測定し、この測定をバ
イアス磁場を変えながら行って、C/Nが飽和し初めて飽
和C/N値から−1dBとなるバイアス磁場の値をもってバイ
アス磁場値とした。
Evaluation of bias magnetic field characteristics: Recording and reproduction were performed by following a pic-up while performing servo while setting the rotation speed to 2400 with a drive equipped with a pickup with NA = 0.55 and a semiconductor laser with a wavelength of 830 nm. 8mW for recording
Laser power and bias magnetic field 0 to 700 Oe, 5.5mW laser power, bias magnetic field 0 to 700
A pit of 0.75 μm was recorded under the conditions of Oe and a recording frequency of 4.93 MHz. Note that the values of the bias magnetic field at the time of erasing and writing were the same. Next, read C / N with a spectrum analyzer using a laser power of 1.5 mW and measure the C / N while changing the bias magnetic field.The bias magnetic field becomes -1 dB from the saturated C / N value for the first time after the C / N is saturated. The value of was used as the bias magnetic field value.

EWR特性の評価:前記ドライブを使用して8mWのレーザ
ーパワー及び300Oeの印加磁場で消去し、5.5mWのレーザ
ーパワー及び300Oeの印加磁場の条件で記録して、1.5mW
のレーザーパワーでスペクトル・アナライザーでC/Nを
読み取った。この消去−記録−再生のサイクルを同一ト
ラック位置で10万回繰り返し、10万回目のC/Nと初期のC
/Nとの差を求めてその劣化の度合を評価した。
Evaluation of EWR characteristics: Erasing with the above drive using 8mW laser power and 300Oe applied magnetic field, recording under 5.5mW laser power and 300Oe applied magnetic field, 1.5mW
The C / N was read with a spectrum analyzer at a laser power of. This erase-record-reproduce cycle is repeated 100,000 times at the same track position, and the 100,000th C / N and initial C
/ N was determined and the degree of deterioration was evaluated.

得られた結果を第1表に示す。 Table 1 shows the obtained results.

(比較例) 前記実施例において、脱ガス時間及びクライオポンプ
の排気能力を変えることによって、金属反射膜成膜時の
残留ガス濃度を第2表のようにFからK迄の6種の条件
に変化させた以外は、実施例と同一の条件で各条件下で
100枚づつの光磁気記録媒体の試料を作成した。
(Comparative Example) In the above embodiment, the residual gas concentration at the time of forming the metal reflective film was changed to six conditions from F to K as shown in Table 2 by changing the degassing time and the exhaust capacity of the cryopump. Except for changing, under each condition under the same conditions as in the example
Samples of 100 magneto-optical recording media were prepared.

バイアス磁場特性及びEWR特性の評価結果が第2表で
ある。
Table 2 shows the evaluation results of the bias magnetic field characteristics and the EWR characteristics.

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明基板上に記録層を低圧の不活性ガスが
存在する雰囲気下でスパッタリング法により成膜した後
に、水素ガスの残留量が不活性ガスに対して10000ppm以
下である雰囲気下で前記記録層の上方に金属反射層をス
パッタリング法により成膜する光磁気記録媒体の製造方
法。
After a recording layer is formed on a transparent substrate by a sputtering method in an atmosphere in which a low-pressure inert gas is present, the recording layer is formed in an atmosphere in which a residual amount of hydrogen gas is 10,000 ppm or less with respect to the inert gas. A method for manufacturing a magneto-optical recording medium, comprising forming a metal reflective layer above the recording layer by a sputtering method.
【請求項2】透明基板上に記録層を低圧の不活性ガスが
存在する雰囲気下でスパッタリング法により成膜した後
に、水素ガスの残留量が不活性ガスに対して10000ppm以
下でありかつ窒素ガスの残留量が不活性ガスに対して10
00ppm以下である雰囲気下で前記記録層の上方に金属反
射層をスパッタリング法により成膜する光磁気記録媒体
の製造方法。
2. After a recording layer is formed on a transparent substrate by a sputtering method in an atmosphere in which a low-pressure inert gas is present, the residual amount of hydrogen gas is 10,000 ppm or less with respect to the inert gas and nitrogen gas is used. Residual amount of inert gas is 10
A method for producing a magneto-optical recording medium, wherein a metal reflective layer is formed by a sputtering method above the recording layer under an atmosphere of 00 ppm or less.
JP2073083A 1990-03-22 1990-03-22 Method for manufacturing magneto-optical recording medium Expired - Lifetime JP2631022B2 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2073083A JP2631022B2 (en) 1990-03-22 1990-03-22 Method for manufacturing magneto-optical recording medium
US07/673,382 US5698312A (en) 1990-03-22 1991-03-22 Magneto-optical recording medium and method for making the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2073083A JP2631022B2 (en) 1990-03-22 1990-03-22 Method for manufacturing magneto-optical recording medium

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03272888A JPH03272888A (en) 1991-12-04
JP2631022B2 true JP2631022B2 (en) 1997-07-16

Family

ID=13508086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2073083A Expired - Lifetime JP2631022B2 (en) 1990-03-22 1990-03-22 Method for manufacturing magneto-optical recording medium

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2631022B2 (en)

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01173454A (en) * 1987-12-28 1989-07-10 Mitsubishi Kasei Corp Magneto-optical recording medium

Also Published As

Publication number Publication date
JPH03272888A (en) 1991-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3178025B2 (en) Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same
US5901118A (en) Magneto-optical recording medium having a readout layer and a recording layer
JPH0325737A (en) Magneto-optical recording medium
JP2631022B2 (en) Method for manufacturing magneto-optical recording medium
JP2631024B2 (en) Method for manufacturing magneto-optical recording medium
US4992336A (en) Magneto-optical recording medium
JP2631023B2 (en) Method for manufacturing magneto-optical recording medium
US5698312A (en) Magneto-optical recording medium and method for making the same
JP2670846B2 (en) Optical recording medium
GB2158281A (en) Optical recording medium
JPH01173455A (en) Magneto-optical recording medium
JPH0695402B2 (en) Optical information recording medium
JPH04143945A (en) Magneto-optical recording medium and its manufacture
JPH0695403B2 (en) Optical information recording medium
JPH07121918A (en) Magneto-optic recording medium
JP2655587B2 (en) Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same
JP2754658B2 (en) Magneto-optical recording medium
JPH02128346A (en) Magneto-optical disk
JPS63291234A (en) Magneto-optical recording medium
JP2987301B2 (en) Magneto-optical recording medium
JPH04134651A (en) Magneto-optical recording medium and production thereof
JP2957425B2 (en) Magneto-optical disk and method of manufacturing the same
JPH0877623A (en) Magneto-optical disc
JPS62298954A (en) Magneto-optical disk
JPH07121921A (en) Manufacture of magneto-optical disk

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080425

Year of fee payment: 11

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090425

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090425

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100425

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term