JP2627750B2 - エアゾール化粧料 - Google Patents
エアゾール化粧料Info
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/89—Polysiloxanes
- A61K8/891—Polysiloxanes saturated, e.g. dimethicone, phenyl trimethicone, C24-C28 methicone or stearyl dimethicone
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- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/02—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by special physical form
- A61K8/04—Dispersions; Emulsions
- A61K8/046—Aerosols; Foams
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は日焼け止め化粧料に用いるエアゾール化粧料
関する。
関する。
［従来の技術］ 肌を褐色や小麦色に日焼けさせることは健康美の表現
として或はファッションとしての意識がある若年層を中
心に、積極的に日焼けしたいと考えている人が多く、彼
等は化粧料を全身に塗布し強烈な太陽光線下に肌を晒し
ている。しかし近年、紫外線から肌を保護する意識が高
まり化粧料中にも、ひぶくれ・紅斑等の原因となる紫外
線（波長290nm〜320nm）を吸収する紫外線吸収剤が配合
されるようになってきている。
として或はファッションとしての意識がある若年層を中
心に、積極的に日焼けしたいと考えている人が多く、彼
等は化粧料を全身に塗布し強烈な太陽光線下に肌を晒し
ている。しかし近年、紫外線から肌を保護する意識が高
まり化粧料中にも、ひぶくれ・紅斑等の原因となる紫外
線（波長290nm〜320nm）を吸収する紫外線吸収剤が配合
されるようになってきている。
しかしながら、紫外線に過敏な人や長いあいだ太陽光
線に肌を晒したことがない人はもちろんのこと、健常人
が真夏の強烈な太陽光線で適度な日焼けを楽しむには、
化粧料中に紫外線吸収剤を多量に配合しなければならな
い。
線に肌を晒したことがない人はもちろんのこと、健常人
が真夏の強烈な太陽光線で適度な日焼けを楽しむには、
化粧料中に紫外線吸収剤を多量に配合しなければならな
い。
ところがほとんどの紫外線吸収剤は皮膚刺激性を有す
るものがあり、その紫外線吸収効果とはうらはらに、多
量に配合した製品を繰り返し塗布すると皮膚に炎症を起
こしたり皮膚を変色させることがある。従って紫外線吸
収剤を多量に配合することは紫外線によるひぶくれや紅
斑防止に対しては効果があるものの好ましいことではな
い。
るものがあり、その紫外線吸収効果とはうらはらに、多
量に配合した製品を繰り返し塗布すると皮膚に炎症を起
こしたり皮膚を変色させることがある。従って紫外線吸
収剤を多量に配合することは紫外線によるひぶくれや紅
斑防止に対しては効果があるものの好ましいことではな
い。
更に従来の日焼け止め化粧料は耐水性が十分でなく、
海水浴や水泳などで水中に入った場合、多量に汗をかい
た場合などに流れ落ちやすく再塗布を忘れたときなど思
わぬ炎症の原因となる。又プールにおいては基剤である
油分が溶出するため使用出来ず、水汚染の一因となる等
の欠点が有った。
海水浴や水泳などで水中に入った場合、多量に汗をかい
た場合などに流れ落ちやすく再塗布を忘れたときなど思
わぬ炎症の原因となる。又プールにおいては基剤である
油分が溶出するため使用出来ず、水汚染の一因となる等
の欠点が有った。
［問題点を解決するための手段］ 本発明者等は、従来の日焼け止め化粧料のこれらの欠
点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、高分子量シリコ
ーンと紫外線吸収剤と噴射剤を配合した日焼け止め化粧
料は、紫外線吸収効果が著しく増大し、更に耐水性が向
上することを見出した。
点を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、高分子量シリコ
ーンと紫外線吸収剤と噴射剤を配合した日焼け止め化粧
料は、紫外線吸収効果が著しく増大し、更に耐水性が向
上することを見出した。
本発明によれば、少ない紫外線吸収剤量で目的とする
紫外線吸収効果をもたせることができるので皮膚安全性
が高く、エアゾールであることにより均一な薄膜を皮膚
上に塗布でき、耐水性にもすぐれ、プールでも使用可能
な日焼け止め化粧料を得る事が出来る。
紫外線吸収効果をもたせることができるので皮膚安全性
が高く、エアゾールであることにより均一な薄膜を皮膚
上に塗布でき、耐水性にもすぐれ、プールでも使用可能
な日焼け止め化粧料を得る事が出来る。
すなわち本発明は、高分子量シリコーン、紫外線吸収
剤および噴射剤を含有する事を特徴とする日焼け止め化
粧料を提供するものである。
剤および噴射剤を含有する事を特徴とする日焼け止め化
粧料を提供するものである。
以下、本発明の構成について詳述する。
本発明で使用する高分子量シリコーンは下記の一般式で
表される高分子量のもので、式中の平均重合度ｎは3,00
0〜20,000でありR1はメチル基または一部がフェニル基
を表し、R2はメチル基または水酸基を表す。分子量でい
うと、約22万〜150万程度であり、性状は常温で軟質ゴ
ム状を呈している。
表される高分子量のもので、式中の平均重合度ｎは3,00
0〜20,000でありR1はメチル基または一部がフェニル基
を表し、R2はメチル基または水酸基を表す。分子量でい
うと、約22万〜150万程度であり、性状は常温で軟質ゴ
ム状を呈している。
一般式 具体的な構造を化学名で示せば、ジメチルポリシロキ
サン、メチルフェニルポリシロキサン、末端水酸基含有
ジメチルポリシロキサン、末端水酸基含有メチルフェニ
ルポリシロキサンなどが挙げられる。
サン、メチルフェニルポリシロキサン、末端水酸基含有
ジメチルポリシロキサン、末端水酸基含有メチルフェニ
ルポリシロキサンなどが挙げられる。
従来、重合度が３〜650の範囲のジメチルポリシロキ
サンは化粧料成分として使用されているが、本発明のご
とき高分子量のシリコーンを化粧料に配合した例は全く
みられない。
サンは化粧料成分として使用されているが、本発明のご
とき高分子量のシリコーンを化粧料に配合した例は全く
みられない。
本発明における高分子量シリコーンの配合量は化粧料
全量中の１〜50重量％、好ましくは１〜30重量％であ
る。１％未満では十分な効果が得られず、50％を超える
と溶解しにくくなる。
全量中の１〜50重量％、好ましくは１〜30重量％であ
る。１％未満では十分な効果が得られず、50％を超える
と溶解しにくくなる。
本発明において用いられる紫外線吸収剤としては公知
の紫外線吸収剤が全て有効に用いうる。
の紫外線吸収剤が全て有効に用いうる。
代表的な紫外線吸収剤を以下に列記する。
安息香酸系のものとして、 パラアミノ安息香酸（以下PABAと略す） グリセリルPABA エチルジヒドロキシプロピルPABA Ｎ−エトキシレートPABAエチルエステル Ｎ−ジメチルPABAエチルエステル Ｎ−ジメチルPABAブチルエステル Ｎ−ジメチルPABAアミルエステル オクチルジメチルPABA アントラニリック酸系のものとして、 ホモメンチル−Ｎ−アセチルアントラニレート サリチル酸系のものとして、 アミルサリシレート メンチルサリシレート ホモメンチルサリシレート オクチルサリシレート フェニルサリシレート ベンジルサリシレート Ｐ−イロプロパノールフェニルサリシレート 桂皮酸系のものとして、 オクチルシンナメート エチル−４−イソプロピルシンナメート エチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート メチル−2,4−ジイソプロピルシンナメート プロピル−ｐ−メトキシシンナメート イソプロピル−ｐ−メトキシシンナメート イソアミル−ｐ−メトキシシンナメート ２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート ２−エトキシエチル−ｐ−メトキシシンナメート シクロヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート エチル−α−シアノ−β−フェニルシンナメート ２−エチルヘキシル−α−シアノ−β−フェニルシンナ
メート グリセリルモノ−２−エチルヘキサノイルジパラメトキ
シシンナメート ベンゾフェノン系のものとして 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン 2,2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン 2,2′ジヒドロキシ−4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン 2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン ２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４′−メチルベンゾフ
ェノン ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン ４−フェニルベンゾフェノン ２−エチルヘキシル−４′−フェニルベンゾフェノン−
２−カルボキシレート ２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン ４−ヒドロキシ−３−カルボキシベンゾフェノン その他のものとして、 ３−（４′−メチルベンジリデン）−d,1−カンファー ３−ベンジリデン−d,1−カンファー ウロカニン酸 ウロカニン酸エチルエステル ２−フェニル−５−メチルベンゾキサゾール 2,2′−ヒドロキシ−５−メチルフェニルベンゾトリア
ゾール ２−（２′−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）
ベンゾトリアゾール ジベンザラジン ジアニソイルメタン ４−メトキシ−４′−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン ５−（３、３−ジメチル−２−ノルボニリデン）−３−
ペンタン−２−オン などがあげられる。
メート グリセリルモノ−２−エチルヘキサノイルジパラメトキ
シシンナメート ベンゾフェノン系のものとして 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン 2,2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン 2,2′ジヒドロキシ−4,4′−ジヒドロキシベンゾフェノ
ン 2,2′,4,4′−テトラヒドロキシベンゾフェノン ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン ２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４′−メチルベンゾフ
ェノン ２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン ４−フェニルベンゾフェノン ２−エチルヘキシル−４′−フェニルベンゾフェノン−
２−カルボキシレート ２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン ４−ヒドロキシ−３−カルボキシベンゾフェノン その他のものとして、 ３−（４′−メチルベンジリデン）−d,1−カンファー ３−ベンジリデン−d,1−カンファー ウロカニン酸 ウロカニン酸エチルエステル ２−フェニル−５−メチルベンゾキサゾール 2,2′−ヒドロキシ−５−メチルフェニルベンゾトリア
ゾール ２−（２′−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）
ベンゾトリアゾール ジベンザラジン ジアニソイルメタン ４−メトキシ−４′−ｔ−ブチルジベンゾイルメタン ５−（３、３−ジメチル−２−ノルボニリデン）−３−
ペンタン−２−オン などがあげられる。
紫外線吸収剤の配合量および組合せは求める紫外線吸
収効果に応じて決定されるが、紫外線吸収効果を考慮す
ると0.05wt％以上必要である。
収効果に応じて決定されるが、紫外線吸収効果を考慮す
ると0.05wt％以上必要である。
上限は皮膚安全性面から個々に異なるが、たとえばホ
モメンチルサリシレートでは15wt％、オクチルジメチル
PABAは8wt％、2,2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノンでは3wt％である。
モメンチルサリシレートでは15wt％、オクチルジメチル
PABAは8wt％、2,2′−ジヒドロキシ−４−メトキシベン
ゾフェノンでは3wt％である。
本発明において用いられる噴射剤は通常エアゾール製
品に用いられる噴射剤を用いることが出来る。具体例を
あげるとフロン11、フロン12、フロン21、フロン113、
フロン114等のフロンガス、プロパン、イソブタン、ノ
ルマルブタンおよびその混合物である液化石油ガス（以
下LPGと略す）等の液化ガスである。これらの噴射剤に
加えてジメチルエーテル、炭酸ガス、窒素ガスを用いて
もよい。これらのガスは単独でもまた２種以上を混合し
て用いることも出来る。
品に用いられる噴射剤を用いることが出来る。具体例を
あげるとフロン11、フロン12、フロン21、フロン113、
フロン114等のフロンガス、プロパン、イソブタン、ノ
ルマルブタンおよびその混合物である液化石油ガス（以
下LPGと略す）等の液化ガスである。これらの噴射剤に
加えてジメチルエーテル、炭酸ガス、窒素ガスを用いて
もよい。これらのガスは単独でもまた２種以上を混合し
て用いることも出来る。
配合量は５〜95重量％であり、５％未満では良好な噴
射状態が得られない。
射状態が得られない。
上記の必須構成成分に加えて塗布薄膜に可塑性を付与す
る目的で、低沸点パラフィン系炭化水素、たとえばエク
ソン社製のアイソパー（登録商標）Ａ、同Ｃ、同Ｄ、同
Ｅ、同Ｇ、同Ｈ、同Ｋ、同Ｌ、同Ｍ、シェル社製のシェ
ルゾール（登録商標）71、フィリップ社製のソルトロー
ル（登録商標） 100、同130、同220、または、低沸点鎖状シリコーン、
たとえばヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリ
シロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ヘキサデカ
メチルヘプタシロキサン、低沸点環状シリコーン、たと
えばオクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチル
シクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシ
ロキサンなどを配合すると更に良好なものが得られる。
る目的で、低沸点パラフィン系炭化水素、たとえばエク
ソン社製のアイソパー（登録商標）Ａ、同Ｃ、同Ｄ、同
Ｅ、同Ｇ、同Ｈ、同Ｋ、同Ｌ、同Ｍ、シェル社製のシェ
ルゾール（登録商標）71、フィリップ社製のソルトロー
ル（登録商標） 100、同130、同220、または、低沸点鎖状シリコーン、
たとえばヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリ
シロキサン、デカメチルテトラシロキサン、ヘキサデカ
メチルヘプタシロキサン、低沸点環状シリコーン、たと
えばオクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチル
シクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシ
ロキサンなどを配合すると更に良好なものが得られる。
本発明のエアゾール組成物には上記の必須構成成分に
加えて、水性成分および適切な界面活性剤を配合し、乳
化技術を駆使することによって耐水性を失わない範囲で
油中水型または水中油型の乳化組成物とすることも可能
である。
加えて、水性成分および適切な界面活性剤を配合し、乳
化技術を駆使することによって耐水性を失わない範囲で
油中水型または水中油型の乳化組成物とすることも可能
である。
本発明のエアゾール化粧料には上記の成分に加えて、
化粧品にもちいられる一般的な原料、たとえばメチルパ
ラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン、ブチルパ
ラベン等の防腐剤、トコフェロール、ブチルヒドロキシ
アニソール、ジブチルヒドロキシトルエン等の酸化防止
剤、β−カロチン、γ−オリザノール、エチニルエスト
ラジオール、トコフェニルアセテート等の薬剤、酸化チ
タン、亜鉛華、マイカ、ベントナイト、カオリン、タル
ク、マイカチタン、オキシ塩化ビスマス、無水ケイ酸等
の粉末、グアニン、ラミネート樹脂パール剤、マイカー
チタン系パール剤等のパール剤、酸化鉄、グンジョウ、
酸化クロム、コバルトブルー等の無機顔料、スダンII
I、キニザニングリーンSS、キノリンエローSS等の染
料、スパン系、ツイーン系、POEアルキルエーテル系、P
OEアルキルエステル系、POE−POP系、グリセリン脂肪酸
エステル系、POEグリセリン脂肪酸エステル系等の界面
活性剤、プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、1,3−ブチレングリコール、グリセリン、ポリエチ
レングリコール等の保湿剤、流動パラフィン、スクワラ
ン、ラノリン誘導体、各種エステル油等の油分、香料を
目的に応じて配合できる。
化粧品にもちいられる一般的な原料、たとえばメチルパ
ラベン、エチルパラベン、プロピルパラベン、ブチルパ
ラベン等の防腐剤、トコフェロール、ブチルヒドロキシ
アニソール、ジブチルヒドロキシトルエン等の酸化防止
剤、β−カロチン、γ−オリザノール、エチニルエスト
ラジオール、トコフェニルアセテート等の薬剤、酸化チ
タン、亜鉛華、マイカ、ベントナイト、カオリン、タル
ク、マイカチタン、オキシ塩化ビスマス、無水ケイ酸等
の粉末、グアニン、ラミネート樹脂パール剤、マイカー
チタン系パール剤等のパール剤、酸化鉄、グンジョウ、
酸化クロム、コバルトブルー等の無機顔料、スダンII
I、キニザニングリーンSS、キノリンエローSS等の染
料、スパン系、ツイーン系、POEアルキルエーテル系、P
OEアルキルエステル系、POE−POP系、グリセリン脂肪酸
エステル系、POEグリセリン脂肪酸エステル系等の界面
活性剤、プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、1,3−ブチレングリコール、グリセリン、ポリエチ
レングリコール等の保湿剤、流動パラフィン、スクワラ
ン、ラノリン誘導体、各種エステル油等の油分、香料を
目的に応じて配合できる。
次に本発明の効果について説明する。
［実験例−１］ 表−１の配合に従い試料を調製した。試料を透明な石
英ガラス板に塗布厚５μ用のアプリケーターで塗布し分
光光度計により波長308nmの吸光度を測定した。また吸
光度からSPF値＜SUN PROTECTION FACTOR＞＝（紫外線吸
収剤を使用した皮膚に最少の紅斑をひきおこすに必要な
紫外線エネルギー量）÷（紫外線吸収剤を使用しない皮
膚に最少の紅斑をひきおこすに必要な紫外線エネルギー
量）を推定した。また、試料の耐水性の評価として、腕
に試料を塗布した直後と、一定流水で水洗した後での紫
外線吸収剤量をエタノールによる抽出で定量し、紫外線
吸収剤の残存率〈％〉＝（水洗後の皮膚上の紫外線吸収
剤量）÷（水洗前の皮膚上の紫外線吸収剤量）×100で
表した。また真夏に二時間海水浴をして各試料を背中に
塗布した部分の24時間後の日焼の評価を紅斑の程度で評
価した。
英ガラス板に塗布厚５μ用のアプリケーターで塗布し分
光光度計により波長308nmの吸光度を測定した。また吸
光度からSPF値＜SUN PROTECTION FACTOR＞＝（紫外線吸
収剤を使用した皮膚に最少の紅斑をひきおこすに必要な
紫外線エネルギー量）÷（紫外線吸収剤を使用しない皮
膚に最少の紅斑をひきおこすに必要な紫外線エネルギー
量）を推定した。また、試料の耐水性の評価として、腕
に試料を塗布した直後と、一定流水で水洗した後での紫
外線吸収剤量をエタノールによる抽出で定量し、紫外線
吸収剤の残存率〈％〉＝（水洗後の皮膚上の紫外線吸収
剤量）÷（水洗前の皮膚上の紫外線吸収剤量）×100で
表した。また真夏に二時間海水浴をして各試料を背中に
塗布した部分の24時間後の日焼の評価を紅斑の程度で評
価した。
吸光度は高分子量シリコーン（R1およびR2はメチル
基,n＝7000）の濃度が増すにつれて増大し、紅斑の程度
も著しく減少している。またオクチルジメチルPABAの皮
膚上の残存率は高分子量シリコーンの配合量が増すにつ
れて高くなる。
基,n＝7000）の濃度が増すにつれて増大し、紅斑の程度
も著しく減少している。またオクチルジメチルPABAの皮
膚上の残存率は高分子量シリコーンの配合量が増すにつ
れて高くなる。
［実験例−２］ 表−２の配合量により試料を調製した。調製した試料
を透明な石英ガラス板に塗布厚５μ用のアプリケーター
で塗布し、分光光度計により波長306nmの吸光度を測定
した。また残存率については実験例−１と同様に行っ
た。
を透明な石英ガラス板に塗布厚５μ用のアプリケーター
で塗布し、分光光度計により波長306nmの吸光度を測定
した。また残存率については実験例−１と同様に行っ
た。
ホモメンチルサリシレートが配合されてなければ高分
子量シリコーン（R1の10％がフェニル基で残りメチル
基，R2はメチル基,n＝15000）が配合されても吸光度は
影響を受けないが、ホモメンチルサリシレートが配合さ
れた場合、高分子量シリコーンが配合された試料のほう
がいずれも吸光度が高く、30％〜50％増大していること
を示している。
子量シリコーン（R1の10％がフェニル基で残りメチル
基，R2はメチル基,n＝15000）が配合されても吸光度は
影響を受けないが、ホモメンチルサリシレートが配合さ
れた場合、高分子量シリコーンが配合された試料のほう
がいずれも吸光度が高く、30％〜50％増大していること
を示している。
実施例−10 （１）エチルジヒドロキシピロピルPABA 0.7wt％ （２）ジメチルポリシロキサン5cs 10.0 （３）高分子量シリコーン 25.0 （R1およびR2はメチル基,n＝8000） （４）ジクロロジフルオロメタン（フロン12） 5.0 （５）ジクロロテトラフルオロエタン（フロン114） 55.0 （６）LPG 4.0 （７）香料 0.3 （１）（２）（３）（７）を70℃で撹拌溶解し、エアゾ
ール缶に充填後バルブをクリンプし、（４）（５）
（６）を充填した。なおこのものの吸光度（測定法は実
験例と同じ）は0.36であり、高分子量シリコーンを除い
た場合（フロン114）に置換）0.20しい地下価値。紫外
線吸収剤の水洗後の残存率はそれぞれ98％、20％であっ
た。
ール缶に充填後バルブをクリンプし、（４）（５）
（６）を充填した。なおこのものの吸光度（測定法は実
験例と同じ）は0.36であり、高分子量シリコーンを除い
た場合（フロン114）に置換）0.20しい地下価値。紫外
線吸収剤の水洗後の残存率はそれぞれ98％、20％であっ
た。
実施例−11 （１）イソプロピル−ｐ−メトキシシンナメート 3.0wt％ （２）高分子量シリコーン 30.0 （R1の10％がフェニル基で残りは メチル基、R2はメチル基， ｎ＝15000） （３）ミリスチン酸イソプロピル 10.0 （４）揮発性イソパラフィン 5.0 （５）香料 適量 （６）トリクロフルオロメタン（フロン11） 12.0 （７）ジクロロテトラフルオロエタン（フロン114） 40.0 （１）〜（５）を70℃にて撹拌溶解し、エアゾール缶
に充填後、バルブをクリンプし、（６）（７）を充填し
た。
に充填後、バルブをクリンプし、（６）（７）を充填し
た。
このものの吸光度は0.71であり、高分子量シリコーン
を除いた場合（フロン114に置換）は0.50であった。紫
外線吸収剤の残存率はそれぞれ95％、32％であった。
を除いた場合（フロン114に置換）は0.50であった。紫
外線吸収剤の残存率はそれぞれ95％、32％であった。
実施例−12 （１）ホモメンチルサリシレート 10.0wt％ （２）２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェノー
ル）ベンゾトリアゾール 4.0 （３）高分子量シリコーン 10.0 （R1の５％がフェニル基で残りは メチル基、R2は水酸基、 ｎ＝20000） （４）メチルフェニルポリシロキサン （ｎ＝100） 15.0 （５）ミリスチン酸イソプロピル 10.0 （６）香料 適量 （７）炭酸ガス 10.0 （８）LPG 41.0 （１）〜（６）を70℃にて撹拌溶解し、エアゾール缶
に充填後、バルブを取り付けクランプし、（７）（８）
を充填した。
ル）ベンゾトリアゾール 4.0 （３）高分子量シリコーン 10.0 （R1の５％がフェニル基で残りは メチル基、R2は水酸基、 ｎ＝20000） （４）メチルフェニルポリシロキサン （ｎ＝100） 15.0 （５）ミリスチン酸イソプロピル 10.0 （６）香料 適量 （７）炭酸ガス 10.0 （８）LPG 41.0 （１）〜（６）を70℃にて撹拌溶解し、エアゾール缶
に充填後、バルブを取り付けクランプし、（７）（８）
を充填した。
このものの310nmの吸光度は2.8であり、高分子量シリ
コーンを除いた場合（メチルフェニルポリシロキサンｎ
＝100に置換）は2.0であった。紫外線吸収剤の水洗後の
残存率は、それぞれ87％、24％であった。
コーンを除いた場合（メチルフェニルポリシロキサンｎ
＝100に置換）は2.0であった。紫外線吸収剤の水洗後の
残存率は、それぞれ87％、24％であった。
実施例−13 （１）オクチルジメチルPABA 3.0wt％ （２）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾ フェノン 3.0 （３）グリセリルモノ−２−エチルヘキサ ノイルジパラメトキシシンナ メート 4.0 （４）スクワラン 5.0 （５）オクタメチルシクロテトラシロ キサン 10.0 （６）高分子量シリコーン 10.0 （R1の10％がフェニル基で残りは メチル基、R2はメチル基、 ｎ＝15000） （７）LPG 10.0 （８）ジクロロジフルオロメタン（フロン12）10.0 （９）ジクロロテトラフルオロエタン（フロン114） 45.0 （１）〜（６）を70℃にて撹拌溶解し、エアゾール缶
に充填、バルブを取り付けクランプ後、噴射剤（７）
（８）（９）を充填した。なおこのものの吸光度は3.8
であった。高分子量シリコーンをフロン114に置換した
場合は2.8であった。紫外線吸収剤の洗浄後の残存率は
それぞれ96％、30％であった。
に充填、バルブを取り付けクランプ後、噴射剤（７）
（８）（９）を充填した。なおこのものの吸光度は3.8
であった。高分子量シリコーンをフロン114に置換した
場合は2.8であった。紫外線吸収剤の洗浄後の残存率は
それぞれ96％、30％であった。
［発明の効果］ 本発明の組成物は、高分子量シリコーン、噴射剤、紫
外線吸収剤を配合する事により、紫外線吸収効果が高め
られ、同じ吸収率を得ようとする場合少量の紫外線吸収
剤そのものによってひきおこされっる皮膚刺激を低下さ
せることができる。また高分子量シリコーンの効果によ
り耐水性が向上することから思わぬ日焼けによるひぶく
れや紅斑を避けることが可能になった。
外線吸収剤を配合する事により、紫外線吸収効果が高め
られ、同じ吸収率を得ようとする場合少量の紫外線吸収
剤そのものによってひきおこされっる皮膚刺激を低下さ
せることができる。また高分子量シリコーンの効果によ
り耐水性が向上することから思わぬ日焼けによるひぶく
れや紅斑を避けることが可能になった。
Claims (1)
- 【請求項１】（Ａ）一般式 （R1はメチル基または一部がフェニル基を表し、R2はメ
チル基または水酸基を表す。また、ｎは3,000〜20,000
の整数を表す。） で表される高分子量シリコーンの一種または二種以上
と、 （Ｂ）フロンガス及び／又は液化石油ガスの一種又は二
種以上と （Ｃ）紫外線吸収剤 とを含有する事を特徴とするエアゾール化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62233067A JP2627750B2 (ja) | 1987-09-17 | 1987-09-17 | エアゾール化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62233067A JP2627750B2 (ja) | 1987-09-17 | 1987-09-17 | エアゾール化粧料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6475416A JPS6475416A (en) | 1989-03-22 |
| JP2627750B2 true JP2627750B2 (ja) | 1997-07-09 |
Family
ID=16949284
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62233067A Expired - Fee Related JP2627750B2 (ja) | 1987-09-17 | 1987-09-17 | エアゾール化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2627750B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2740038B1 (fr) | 1995-10-20 | 1998-01-02 | Lafon Labor | Composition pour l'administration transdermique |
| NL1006944C2 (nl) | 1997-09-04 | 1999-03-11 | Mark Hans Emanuel | Chirurgische endoscopische snij-inrichting. |
| DE10324704B4 (de) | 2003-05-30 | 2008-08-21 | Olympus Winter & Ibe Gmbh | Ureter-Resektoskop |
| US8062214B2 (en) | 2004-08-27 | 2011-11-22 | Smith & Nephew, Inc. | Tissue resecting system |
| JP4895509B2 (ja) * | 2005-02-09 | 2012-03-14 | Ｈｏｙａ株式会社 | 内視鏡用処置具 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6267015A (ja) * | 1985-09-18 | 1987-03-26 | Sunstar Inc | 日焼け止め化粧料 |
-
1987
- 1987-09-17 JP JP62233067A patent/JP2627750B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6475416A (en) | 1989-03-22 |
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Legal Events
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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