JP2626499B2 - Wafer supply device - Google Patents

Wafer supply device

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JP2626499B2
JP2626499B2 JP24186893A JP24186893A JP2626499B2 JP 2626499 B2 JP2626499 B2 JP 2626499B2 JP 24186893 A JP24186893 A JP 24186893A JP 24186893 A JP24186893 A JP 24186893A JP 2626499 B2 JP2626499 B2 JP 2626499B2
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wafer
suction pad
case
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supply device
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文男 佐藤
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体結晶のウエハー
等薄厚円板を破損することなくケースから取り出し、測
定器等の機器に高速で供給するウエハー供給装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wafer supply apparatus for taking out a thin disk such as a semiconductor crystal wafer from a case without damaging it and supplying it to a measuring instrument or the like at a high speed.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体結晶のウエハー等薄厚円板は、前
工程で多数枚が平行にセットされたケースから1枚づつ
取り出され測定器等へ検査のために供給されるが、従
来、これが作業者の手作業により行なわれていた。その
ためウエーハーを破損する危険が大きく、また供給速度
が遅い、人件費がかかる等の問題が生じていた。
2. Description of the Related Art Thin disks, such as semiconductor crystal wafers, are taken out one by one from a case in which a large number of thin disks are set in parallel in a previous process and supplied to a measuring instrument or the like for inspection. Was performed manually by the elderly. For this reason, there has been a problem that the risk of damaging the wafer is great, the supply speed is slow, and labor costs are high.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑みなされたもので、ウエハーを破損することなく、高
速でケースから取り出し、1枚づつ測定器等へ自動的に
供給することを課題とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to take out a wafer from a case at a high speed without damaging the wafer and automatically supply the wafers one by one to a measuring device. And

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、弾力的にスライド可能に吸着パッドを保
持し、その吸着パッドの旋回及び上昇下降手段を具え、
ウエハーケースと測定器の間を移動する搬送機構と、吸
着パッドがウエハーケース中のウエハーに所定以上の力
を加えたとき装置を停止させる手段とを備え、前記搬送
機構の前回の移動量を記憶し、その記憶した移動量にも
とづいて搬送機構の高速移動を制御するように構成した
ことを特徴とするウエハー供給装置にある。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention comprises a suction pad which is slidably and elastically slidable, and includes means for turning and moving the suction pad up and down.
A transfer mechanism that moves between the wafer case and the measuring instrument; and a unit that stops the apparatus when the suction pad applies a predetermined force or more to the wafer in the wafer case, and stores a previous movement amount of the transfer mechanism. In addition, there is provided a wafer supply apparatus configured to control a high-speed movement of a transfer mechanism based on the stored movement amount.

【0005】[0005]

【作用】本発明装置は上記のように構成されているの
で、搬送機構の吸着パッドの旋回、上昇下降手段によっ
て、ウエハーケース中にセットされたウエハーが例えば
垂直に並べられているときは、吸着パッドを横向に旋回
させ、ウエハーに当接する高さにして、移動し、ウエハ
ーを1枚吸着保持する。次に吸着パッドを上方に上昇さ
せて、ウエハーケースより抜き出し、測定器の方へ搬送
機構によって移動し、吸着パッドを水平に旋回させて、
測定器の位置へ達した後、吸着パッドを下降させて測定
器にウエハーを供給する。
Since the apparatus of the present invention is constructed as described above, when the wafers set in the wafer case are vertically arranged, for example, by means of turning and raising / lowering means of the suction pad of the transfer mechanism, the suction pad is used. The pad is swiveled sideways, moved to a height at which it comes into contact with the wafer, and moved to suck and hold one wafer. Next, the suction pad is lifted upward, extracted from the wafer case, moved by the transfer mechanism toward the measuring instrument, and the suction pad is turned horizontally,
After reaching the position of the measuring instrument, the suction pad is lowered to supply the wafer to the measuring instrument.

【0006】その際、吸着パッドがウエハーに当接する
とき、所定以上の力が加わった場合は、装置が停止する
のでウエハーを破損することがない。
At this time, when a force exceeding a predetermined level is applied when the suction pad comes into contact with the wafer, the apparatus is stopped, so that the wafer is not damaged.

【0007】また、搬送機構の前回の移動量は制御部で
記憶されていて、その移動量だけ高速移動し、次に低速
で移動して吸着パッドがウエハーに当接するので、能率
良くウエハーを供給できる。
Further, the previous movement amount of the transfer mechanism is stored in the control unit, and moves at a high speed by the movement amount, then moves at a low speed, and the suction pad contacts the wafer, so that the wafer can be efficiently supplied. it can.

【0008】[0008]

【実施例】本発明の一実施例を図面を参照して説明す
る。図1は本発明装置の全体を示す図であり、(a)は
正面図、(b)は搬送機構の部分側面図である。図2は
吸着パッドの部分の動作を説明する説明図であり、図3
は本発明装置の動作を示すフローチャートである。
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1A and 1B are views showing the entirety of the present invention, wherein FIG. 1A is a front view, and FIG. 1B is a partial side view of a transport mechanism. FIG. 2 is an explanatory diagram for explaining the operation of the suction pad portion, and FIG.
5 is a flowchart showing the operation of the device of the present invention.

【0009】図において、測定器14に供給されるウエ
ハー1はケース2の中へ垂直に平行に並べられている。
3は吸着パッドであり、アーム6により90度旋回可能
に保持されたリニアブッシュ4によってスライド可能に
保持されている。5はコイルスプリングであり、吸着パ
ッド3を押し出す方向に弱い力を加えている。7はアー
ム6を旋回させるパルスモーターである。そしてこれら
のユニットは、ラック9と図示しない平歯車を介してパ
ルスモーター8によって、上昇及び下降させ得るように
構成され、さらにスライドユニット10によって、ケー
ス2と測定器14の間を水平に移動するようになってい
る。そしてその移動量は、図示しない制御部で記憶でき
るように構成されている。
In the figure, wafers 1 supplied to a measuring device 14 are arranged vertically and parallel in a case 2.
Reference numeral 3 denotes a suction pad, which is slidably held by a linear bush 4 held by the arm 6 so as to be pivotable by 90 degrees. Reference numeral 5 denotes a coil spring, which applies a weak force in a direction in which the suction pad 3 is pushed out. Reference numeral 7 denotes a pulse motor for rotating the arm 6. These units are configured to be able to be raised and lowered by a pulse motor 8 via a rack 9 and a spur gear (not shown), and are further horizontally moved between the case 2 and the measuring device 14 by a slide unit 10. It has become. The movement amount is configured to be stored in a control unit (not shown).

【0010】またケース2を載置するケース受台11
は、スライドユニット12で保持されるとともに、コイ
ルスプリング13によって、図1(a)の左方向に弱い
力で押されている。そして、左方向から加わる力が一定
以上になり、ケース受台11が右方向に移動すると、図
示しないセンサーが作動して装置が停止するようになっ
ている。
Further, a case receiving table 11 on which the case 2 is placed
Is held by the slide unit 12 and is pressed by the coil spring 13 to the left in FIG. Then, when the force applied from the left direction becomes equal to or more than a certain value and the case receiving base 11 moves rightward, a sensor (not shown) is activated and the apparatus is stopped.

【0011】次に本発明装置の動作を、図2、図3を併
せて参照して説明する。運転開始時、吸着パッド3は図
1(a)における左端に、高さは上限と下限の中間の高
さで、右向きに位置する。運転がスタートすると、スラ
イドユニット10が作動し、吸着パッド3は右へ移動を
開始し、その移動量はパルスとしてカウントされる。そ
して定められた位置に達すると、移動は低速に切り替え
られ、吸着パッド3の吸引が始まる。吸着パッド3がウ
エハー1を吸着したところで右方向への移動が停止す
る。このとき、吸着パッド3はリニアブッシュ4によっ
て弾力的に保持されているのでウエハーを傷つけない。
そして制御部は、ここまでの移動量に相当するパルスカ
ウント数を記憶する。
Next, the operation of the apparatus of the present invention will be described with reference to FIGS. At the start of the operation, the suction pad 3 is located at the left end in FIG. When the operation starts, the slide unit 10 operates, and the suction pad 3 starts moving to the right, and the amount of movement is counted as a pulse. When the movement reaches the predetermined position, the movement is switched to a low speed, and suction of the suction pad 3 starts. When the suction pad 3 sucks the wafer 1, the movement to the right stops. At this time, since the suction pad 3 is elastically held by the linear bush 4, the wafer is not damaged.
Then, the control unit stores the pulse count number corresponding to the movement amount up to this point.

【0012】次に吸着パッド3が上昇し、ウエハー1を
ケース2の外へ抜き出す。次に吸着パッド3を旋回させ
て下向とし、スライドユニット10が作動し、図1
(a)における左方向へ移動する。記憶していたパルス
カウント数だけ移動すると停止し、吸着パッド3が下降
し、測定器14にウエハーを供給する。吸引を解除した
吸着パッド3は中間の高さまで上昇し、さらに旋回して
右向きとなる。
Next, the suction pad 3 is raised, and the wafer 1 is pulled out of the case 2. Next, the suction pad 3 is turned to the downward direction, and the slide unit 10 is operated.
Move to the left in (a). When it moves by the stored pulse count, it stops, the suction pad 3 descends, and supplies the wafer to the measuring device 14. The suction pad 3 from which suction has been released rises to an intermediate height, and further turns rightward.

【0013】次に、ケース2中の2枚目のウエハー1を
吸着するために、吸着パッド3は再度、右向きに移動す
るが、そのとき前に記憶していたパルスカウント数だけ
高速で移動し、その後、低速運転に切り替わる。その
後、前記したのと同様の動作で、2枚目のウエハー1を
測定器14に供給する。
Next, in order to suck the second wafer 1 in the case 2, the suction pad 3 moves rightward again, but at a high speed by the previously stored pulse count number. Then, the operation is switched to low-speed operation. Thereafter, the second wafer 1 is supplied to the measuring device 14 by the same operation as described above.

【0014】以後、同じ動作が繰り返されて、ケース2
中のウエハー1が全て無くなると、吸着パッド3を保持
したユニットが右方向へ移動したとき、右限が検出され
て装置は停止する。なお、この動作の間、ウエハーを破
損するだけの力が右方向へかかると、ケース受台11が
移動し、センサーが作動して装置は停止するので、ウエ
ハーが破損することはない。
Thereafter, the same operation is repeated, and in case 2
When all the wafers 1 in the inside are gone, when the unit holding the suction pad 3 moves rightward, the right limit is detected and the apparatus stops. During this operation, if a force enough to damage the wafer is applied in the right direction, the case receiving base 11 moves, the sensor operates and the apparatus stops, so that the wafer does not break.

【0015】[0015]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明のウ
エハー供給装置によれば、ウエハーを破損することな
く、高速で自動的に、ウエハーを1枚づつケースから取
り出し、測定器に供給できるという効果がある。
As described above in detail, according to the wafer supply apparatus of the present invention, wafers can be automatically taken out of the case one by one at a high speed and supplied to the measuring instrument without damaging the wafers. This has the effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明装置の全体を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing the entire apparatus of the present invention.

【図2】吸着パッドの部分の動作を説明する説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating an operation of a suction pad portion.

【図3】本発明装置の動作を示すフローチャートであ
る。
FIG. 3 is a flowchart showing the operation of the device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウエハー 2 ケース 3 吸着パッド 4 リニアブッシュ 5 コイルスプリング 6 アーム 7 パルスモーター 8 パルスモーター 9 ラック 10 スライドユニット 11 ケース受台 12 スライドユニット 13 コイルスプリング 14 測定器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer 2 Case 3 Suction pad 4 Linear bush 5 Coil spring 6 Arm 7 Pulse motor 8 Pulse motor 9 Rack 10 Slide unit 11 Case holder 12 Slide unit 13 Coil spring 14 Measuring instrument

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 弾力的にスライド可能に吸着パッドを保
持し、その吸着パッドの旋回及び上昇下降手段を具え、
ウエハーケースと測定器の間を移動する搬送機構と、吸
着パッドがウエハーケース中のウエハーに所定以上の力
を加えたとき装置を停止させる手段とを備え、前記搬送
機構の前回の移動量を記憶し、その記憶した移動量にも
とづいて搬送機構の高速移動を制御するように構成した
ことを特徴とするウエハー供給装置。
1. A suction pad is held slidably and slidably, and means for turning and moving the suction pad up and down are provided.
A transfer mechanism that moves between the wafer case and the measuring instrument; and a unit that stops the apparatus when the suction pad applies a predetermined force or more to the wafer in the wafer case, and stores a previous movement amount of the transfer mechanism. A wafer supply device configured to control the high-speed movement of the transfer mechanism based on the stored movement amount.
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