JP2625652B2 - Memory device - Google Patents

Memory device

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JP2625652B2
JP2625652B2 JP7031805A JP3180595A JP2625652B2 JP 2625652 B2 JP2625652 B2 JP 2625652B2 JP 7031805 A JP7031805 A JP 7031805A JP 3180595 A JP3180595 A JP 3180595A JP 2625652 B2 JP2625652 B2 JP 2625652B2
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silicon dioxide
magnetic
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memory device
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邦夫 関根
陽一郎 田中
教嗣 川島
正之 砂井
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Toshiba Corp
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は磁気記録媒体を用いた
メモリ装置に係り、特に記録磁性層の上に二酸化硅素薄
膜および潤滑層を有する磁気記録媒体を用いたメモリ装
置に関する。
The present invention relates to a memory device using a magnetic recording medium, and more particularly to a memory device using a magnetic recording medium having a silicon dioxide thin film and a lubricating layer on a recording magnetic layer.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、情報処理技術の発達に伴ってメモ
リ装置が担う情報量は飛躍的に増加し、フロッピーディ
スクやハードディスクなどの磁気記録媒体に対する大容
量化の要求もますます高まっている。この要求に応える
ため高密度記録の可能な磁気記録媒体の研究・開発が活
発になされている。特に、現在一般に使用されている塗
布型磁気記録媒体に対し、記録磁性層としてCo−Cr
などの金属磁性薄膜をスパッタや蒸着により形成した金
属薄膜磁気記録媒体が高密度記録に適した媒体として有
望視されている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of information processing technology, the amount of information carried by memory devices has increased dramatically, and there has been an increasing demand for large-capacity magnetic recording media such as floppy disks and hard disks. To meet this demand, research and development of magnetic recording media capable of high-density recording have been actively conducted. In particular, for a coating type magnetic recording medium generally used at present, Co-Cr is used as a recording magnetic layer.
Metal thin-film magnetic recording media formed by sputtering or vapor-depositing a metal magnetic thin film such as described above are promising as media suitable for high-density recording.

【0003】ところで、塗布型媒体では磁性粉をバイン
ダ等と混ぜて基体上に塗布することにより記録磁性層が
形成されるため、磁性層中に潤滑剤を混入させることが
容易であり、それによって媒体と磁気ヘッドとの間の潤
滑性を維持し、媒体およびヘッドの耐久性を十分に得る
ことができる。
In the case of a coating type medium, a recording magnetic layer is formed by mixing a magnetic powder with a binder or the like and coating the mixture on a substrate. Therefore, it is easy to mix a lubricant into the magnetic layer. Lubricity between the medium and the magnetic head can be maintained, and sufficient durability of the medium and the head can be obtained.

【0004】これに対し、金属薄膜媒体では記録磁性層
中に潤滑剤を混入させることが困難であるため、フェラ
イト製などの硬い材質の磁気ヘッドが媒体上を走行する
と、媒体凝固やヘッドの表面にスクラッチ等の損傷が生
じ易くなる。この場合には、媒体およびヘッドの耐久性
が損われるばかりでなく、媒体やヘッドの摩耗粉の付着
により媒体・ヘッド間の距離が増大してスペーシング・
ロスが大きくなり、記録再生周波数特性が著しく劣化す
る。
On the other hand, since it is difficult to mix a lubricant into a recording magnetic layer in a metal thin film medium, when a magnetic head made of a hard material such as ferrite runs over the medium, the medium solidifies and the surface of the head is hardened. Damages such as scratches are more likely to occur. In this case, not only the durability of the medium and the head is impaired, but also the distance between the medium and the head is increased due to the adhesion of wear powder on the medium and the head, and the spacing and the spacing are increased.
The loss increases, and the recording / reproducing frequency characteristics deteriorate significantly.

【0005】そこで、金属薄膜媒体の場合には記録磁性
層上に潤滑剤を塗布することが考えられるが、スパッタ
リング等により形成された膜は表面性が非常に良好であ
るため、潤滑剤のぬれ性が悪く、従ってこの上に潤滑剤
を十分な付着力で、しかも均一に塗布することは困難で
あり、上述した問題は依然として解決されない。
Therefore, in the case of a metal thin film medium, it is conceivable to apply a lubricant on the recording magnetic layer. However, since the film formed by sputtering or the like has a very good surface property, the lubricant is wet. Therefore, it is difficult to apply the lubricant with sufficient adhesion and evenly thereon, and the above-mentioned problem still remains.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、記
録磁性層を金属薄膜で形成した場合でも潤滑層を十分な
付着力で均一に形成することが可能であって、媒体自身
および磁気ヘッドの耐久性を著しく高めることができ、
記録再生特性も良好な磁気記録媒体を用いたメモリ装置
を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to enable a lubricating layer to be formed uniformly with a sufficient adhesive force even when a recording magnetic layer is formed of a metal thin film. Can significantly increase the durability of
An object of the present invention is to provide a memory device using a magnetic recording medium having good recording and reproduction characteristics.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、記録磁性層上に二酸化珪素薄膜が形成
され、該二酸化珪素薄膜の組成式をSiO 2-X としたと
き、Xが0<X<0.5の範囲に選定されるとともに、
二酸化珪素薄膜上に潤滑層が形成されてなる磁気記録
媒体と、この磁気記録媒体上で情報の記録再生を行う
ともにに、該磁気記録媒体上を接触した状態で走行する
磁気ヘッドとを備えたことを特徴とするメモリ装置を提
供する。
To achieve the above object, according to the solution to ## in this onset bright, it is silicon dioxide thin film is formed on the recording magnetic layer, and the composition formula of the silicon dioxide film was SiO 2-X
X is selected in the range of 0 <X <0.5,
A magnetic recording medium lubricant layer on the silicon dioxide thin film is formed, when recording and reproducing information on the magnetic recording medium
In both, it provides a memory device comprising a kite and a <br/> magnetic head that travels in contact over the magnetic recording medium.

【0008】[0008]

【作用】メモリ装置に用いられる磁気記録媒体の記録磁
性層の上に二酸化硅素薄膜を形成することは公知であ
り、また潤滑層を形成することも公知であるが、この発
明に特に二酸化硅素薄膜を酸素欠損の状態にすることに
よって、潤滑層を塗布し易くしたものである。このよう
な酸素の欠損が生じた二酸化硅素薄膜は、例えば酸素欠
乏雰囲気でのスパッタリングなどの方法で容易に形成が
可能である。
It is well known to form a silicon dioxide thin film on a recording magnetic layer of a magnetic recording medium used in a memory device, and it is also known to form a lubricating layer. Is in an oxygen-deficient state to facilitate the application of the lubricating layer. The silicon dioxide thin film having such oxygen deficiency can be easily formed by a method such as sputtering in an oxygen-deficient atmosphere.

【0009】このように酸素欠損が生じている二酸化硅
素薄膜を介して潤滑層が形成されていることにより、潤
滑層が良好に、かつ均一に形成された磁気記録媒体が提
供される。これは二酸化硅素薄膜に酸素欠損が生じる
と、硅素原子に弧立電子対が生じ、酸素欠損がない二酸
化硅素薄膜に比べて活性化され、二酸化硅素薄膜とその
上に形成される潤滑層との結合力が強められるためであ
る。
Since the lubricating layer is formed via the silicon dioxide thin film in which oxygen deficiency has occurred, a magnetic recording medium having a good and uniform lubricating layer can be provided. This is because, when oxygen deficiency occurs in the silicon dioxide thin film, an arc-shaped electron pair is generated in the silicon atom, which is activated as compared with the silicon dioxide thin film having no oxygen deficiency. This is because the bonding force is strengthened.

【0010】ここで、二酸化硅素薄膜の酸素欠損の程度
は二酸化硅素薄膜の組成式をSiO2-X としたとき、X
が0<X<0.5の範囲内にあることが望ましい。Xが
この範囲内におさまる程度に二酸化硅素薄膜を酸素欠損
状態にすると、二酸化硅素薄膜自身の程度を十分に維持
しつつ、潤滑層との結合力を非常に効果的に高めること
ができる。
Here, the degree of oxygen deficiency in the silicon dioxide thin film is expressed by the following formula when the composition formula of the silicon dioxide thin film is SiO 2 -X.
Is preferably in the range of 0 <X <0.5. When the silicon dioxide thin film is made to be in an oxygen deficient state so that X falls within this range, the bonding force with the lubricating layer can be very effectively increased while the degree of the silicon dioxide thin film itself is sufficiently maintained.

【0011】[0011]

【実施例】図1は、この発明の一実施例にかかるメモリ
装置に用いられる磁気記録媒体を示す断面図である。図
において、基体1は樹脂製のフィルム状基体であり、こ
の基体1上に記録磁性層として例えば直流マグネトロン
スパッリングにより厚さ0.5μmのCo−Cr合金薄
膜2が形成されている。垂直磁気記録媒体の場合、この
Co−Cr合金薄膜2は膜面に垂直な方向に磁化容易軸
を持つように配向される。そして、Co−Cr合金薄膜
2上に厚さ200オングストロ−ム程度の二酸化硅素薄
膜3が形成され、さらにこの二酸化硅素薄膜3の上に液
体潤滑層4が塗布・形成されている。
FIG. 1 is a sectional view showing a magnetic recording medium used in a memory device according to an embodiment of the present invention. In the drawing, a substrate 1 is a resin-made film-shaped substrate, and a 0.5 μm-thick Co—Cr alloy thin film 2 is formed as a recording magnetic layer on the substrate 1 by, for example, DC magnetron sputtering. In the case of a perpendicular magnetic recording medium, the Co—Cr alloy thin film 2 is oriented so as to have an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface. A silicon dioxide thin film 3 having a thickness of about 200 Å is formed on the Co—Cr alloy thin film 2, and a liquid lubricating layer 4 is applied and formed on the silicon dioxide thin film 3.

【0012】二酸化硅素薄膜3は例えば二酸化硅素ター
ゲットを用いれた高周波スパッタリングにより形成され
る。この場合、スパッタ用真空室を予め10-7Torr
程度まで真空に引き、不純物ガスを十分除いた後酸素ガ
スを通常の二酸化硅素(SiO2 )の形成の場合より少
なめに、すなわち10-7〜10-3Torr程度まで導入
し、その後アルゴンガスを導入して、全圧を10-2To
rr程度にして行なった。このようにして形成された二
酸化硅素薄膜3は酸素欠損状態にあり、その組成式はS
iO2-X となる。この場合、Xの値はスパッタ雰囲気の
酸素分圧および薄膜速度によって、0より大きい範囲で
任意に制御することが可能である。また、Xの値の測定
は例えば(100)Siウエハ上に0.3μm程度のS
iO2-Xを形成して、RBS(ラザフォードバックスキ
ャッタリング)により分析をすることで行なうことがで
きる。こうして形成された二酸化硅素薄膜3は、酸素欠
損状態により活性化しているため、その上に液体潤滑剤
を塗布して潤滑層4を形成する際、潤滑剤のぬれ性が良
く均一に塗布することができる。また、二酸化硅素薄膜
3と潤滑層4との結合力も強くなる。従って、磁気記録
媒体および磁気ヘッドの耐久性向上に大きく寄与するこ
とができる。
The silicon dioxide thin film 3 is formed by, for example, high frequency sputtering using a silicon dioxide target. In this case, the vacuum chamber for sputtering is previously set to 10 −7 Torr.
After evacuating to a vacuum and removing the impurity gas sufficiently, oxygen gas is introduced in a smaller amount than in the case of forming normal silicon dioxide (SiO 2 ), that is, up to 10 −7 to 10 −3 Torr, and then argon gas is introduced. Introduce the total pressure to 10 -2 To
This was performed at about rr. The silicon dioxide thin film 3 thus formed is in an oxygen deficient state, and its composition formula is S
iO 2-X . In this case, the value of X can be arbitrarily controlled within a range larger than 0 by the oxygen partial pressure of the sputtering atmosphere and the thin film speed. The value of X is measured, for example, on a (100) Si wafer by using S
It can be performed by forming iO 2-X and performing analysis by RBS (Rutherford back scattering). Since the silicon dioxide thin film 3 thus formed is activated due to the state of oxygen deficiency, when the liquid lubricant is applied thereon to form the lubrication layer 4, it is necessary to uniformly apply the lubricant with good wettability. Can be. Further, the bonding force between the silicon dioxide thin film 3 and the lubricating layer 4 is also increased. Therefore, it can greatly contribute to the improvement of the durability of the magnetic recording medium and the magnetic head.

【0013】表1はスパッタ雰囲気の酸素分圧比と成膜
速度によりXの値を変えた場合の耐久性の変化を調べた
実験結果を示すものである。但し、実験は上述した構成
の磁気記録媒体をフロッピーディスクの形態に作成し、
このディスクを毎分300回転で回転走行させながら、
フェライト磁気ヘッドをディスク上の同一トラックに接
触させて行なった。ここで、耐久性は媒体(ディスク)
およびヘッドの少なくとも一方が著しい損傷を受けるま
での走行回数(パス)である。著しい損傷とは媒体の場
合、二酸化硅素薄膜3およびCo−Cr合金薄膜2の少
なくとも一部がけずれて、基体1の表面が露出した状態
をいう。
Table 1 shows the experimental results of examining the change in durability when the value of X is changed depending on the oxygen partial pressure ratio in the sputtering atmosphere and the film forming rate. However, in the experiment, the magnetic recording medium with the above configuration was created in the form of a floppy disk,
While rotating this disc at 300 revolutions per minute,
The test was performed by bringing a ferrite magnetic head into contact with the same track on the disk. Here, the durability is the medium (disk)
And the number of passes (pass) until at least one of the heads is significantly damaged. In the case of a medium, significant damage refers to a state where at least a part of the silicon dioxide thin film 3 and the Co—Cr alloy thin film 2 is displaced, and the surface of the base 1 is exposed.

【0014】[0014]

【表1】 以上の結果から、Xの値が零より大きいとき、すなわち
二酸化硅素薄膜3を構成する酸素の原子数が硅素の原子
数の2倍未満になると、耐久性が著しく向上することが
わかる。特にXの値が0.1<X<0.3の範囲内が好
適であり、この範囲内にすると耐久性は300万パス以
上と、Xが零の場合に比べて1桁以上も向上し、最大で
は実に300万パスを越える値が得られる。要求される
耐久性の程度は用途等によって異なるが、50万パス以
上あれば、メモリ装置としてほぼ実用に耐えることがで
きる。従って、Xの値は上述した0.1<X<0.3の
範囲にあることが特に望ましい。
[Table 1] From the above results, it can be seen that when the value of X is larger than zero, that is, when the number of oxygen atoms constituting the silicon dioxide thin film 3 is less than twice the number of silicon atoms, the durability is significantly improved. Particularly, it is preferable that the value of X is in the range of 0.1 <X <0.3. When the value of X is in this range, the durability is improved to 3,000,000 passes or more, which is one digit or more as compared with the case where X is zero. At the maximum, a value exceeding 3,000,000 passes can be obtained. The required degree of durability varies depending on the application and the like, but if the number of passes is 500,000 or more, the memory device can be almost practically used. Therefore, it is particularly desirable that the value of X be in the range of 0.1 <X <0.3 described above.

【0015】なお、Xの値が0.5を越える耐久性がピ
ークから下がってくるのは酸素欠損状態になると潤滑層
4の付着性が向上する反面、二酸化硅素薄膜3自身の硬
度が減少してゆくからである。しかしながら、Xが零の
場合よりも耐久性が低下するのは上記の実験結果から類
推されるようにXの値が非常に大きく、例えば2に近く
なって、二酸化硅素薄膜3が二酸化硅素としての性質を
失い、硅素に近くなったときであるから、その状態では
二酸化硅素薄膜という呼称そのものが成立しなくなる。
When the value of X exceeds 0.5, the durability decreases from the peak because the adhesion of the lubricating layer 4 is improved in the oxygen-deficient state, but the hardness of the silicon dioxide thin film 3 itself decreases. Because it goes. However, the reason why the durability is lower than when X is zero is that the value of X is very large, for example, close to 2, as inferred from the above experimental results, and the silicon dioxide thin film 3 Since it loses its properties and becomes closer to silicon, in that state the name itself of the silicon dioxide thin film no longer holds.

【0016】このように、この発明によれば二酸化硅素
薄膜の組成式をSiO2-X としたとき、Xを0<X<
0.5の範囲に選定することとして酸素欠損状態とする
ことにより、その上に形成される潤滑層の付着力を増大
させて、磁気記録媒体自身および磁気ヘッドの耐久性を
著しく高めることができ、また潤滑層が均一に形成され
ることが信号再生出力の低下や変動が小さくなり、エラ
ー率を減少させることが可能となる。なお、かかる作用
効果は、上記したフロッピーディスクの場合に限られ
ず、ハードディスク等の他の磁気記録媒体を用いたメモ
リ装置にも適用が可能である。
As described above, according to the present invention, when the composition formula of the silicon dioxide thin film is SiO 2 -X , X is 0 <X <
By selecting an oxygen deficiency state in the range of 0.5, the adhesion of the lubricating layer formed thereon can be increased, and the durability of the magnetic recording medium itself and the magnetic head can be significantly increased. In addition, the uniform formation of the lubricating layer reduces the reduction and fluctuation of the signal reproduction output, thereby reducing the error rate. Such an effect is not limited to the above-described floppy disk, but can be applied to a memory device using another magnetic recording medium such as a hard disk.

【0017】図2は、この発明の他の実施例にかかるメ
モリ装置に用いられる磁気記録媒体を示すもので、非磁
性基体11上に蒸着法により記録磁性層としてのCo−
Cr合金薄膜12が形成され、その上に二酸化硅素薄膜
13が例えばマグネトロンスパッタリングにより形成さ
れ、さらにその上に固体潤滑層14がスパッタリングに
より形成されている。二酸化硅素薄膜13は酸素分圧が
アルゴン分圧の10%程度のアルゴン雰囲気中でスパッ
タリング形成されることにより、やはり酸素欠損の状態
となっている。このように形成された磁気記録媒体にお
いても、前記実施例で説明した磁気記録媒体と同様に優
れた耐久性が得られる。
FIG. 2 shows a magnetic recording medium used in a memory device according to another embodiment of the present invention.
A Cr alloy thin film 12 is formed, a silicon dioxide thin film 13 is formed thereon by, for example, magnetron sputtering, and a solid lubricating layer 14 is further formed thereon by sputtering. Since the silicon dioxide thin film 13 is formed by sputtering in an argon atmosphere having an oxygen partial pressure of about 10% of the argon partial pressure, the silicon dioxide thin film 13 is also in an oxygen deficient state. In the magnetic recording medium thus formed, excellent durability can be obtained as in the magnetic recording medium described in the above embodiment.

【0018】この発明は上述した実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施
することが可能である。例えば記録磁性層としてはCo
−Cr合金薄膜を例示したが、Co−CrーNi合金薄
膜等でもよく、特にこの発明は表面に潤滑層を形成する
必要のある金属薄膜を記録磁性層とする磁気記録媒体に
有効である。また、基体および潤滑層の材質も種々選択
することができる。さらに、この発明は垂直磁気記録媒
体のみでなく、面内磁気記録媒体にも適用することがで
きる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified without departing from the gist thereof. For example, as the recording magnetic layer, Co
Although a -Cr alloy thin film has been exemplified, a Co-Cr-Ni alloy thin film may be used. In particular, the present invention is effective for a magnetic recording medium in which a metal thin film on which a lubricating layer must be formed on the surface is used as a recording magnetic layer. Further, various materials for the base and the lubricating layer can be selected. Further, the present invention can be applied not only to a perpendicular magnetic recording medium but also to a longitudinal magnetic recording medium.

【0019】[0019]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によるとC
o−Cr合金薄膜のような金属薄膜を記録磁性層とした
磁気記録媒体においても、媒体と磁気ヘッドとの間の潤
滑作用が十分に行なわれるので、媒体やヘッドの摩耗・
損傷が著しく減少し、耐久性が大幅に向上する。
As described above, according to the present invention, C
Even in a magnetic recording medium using a metal thin film such as an o-Cr alloy thin film as a recording magnetic layer, the lubrication between the medium and the magnetic head is sufficiently performed.
Damage is significantly reduced and durability is greatly improved.

【0020】また、潤滑層として例えば液体潤滑剤を塗
布する場合、二酸化硅素薄膜と潤滑剤とのぬれ性がよく
均一な厚さに潤滑剤を塗布することができるため、スペ
ーシング・ロスが減少して信号再生時の出力低下および
出力変動が小さくなり、エラー率も減少する。従って、
記録再生特性が向上する。
When a liquid lubricant is applied as the lubricating layer, for example, the lubricant can be applied to a uniform thickness with good wettability between the silicon dioxide thin film and the lubricant, so that the spacing loss is reduced. As a result, output reduction and output fluctuation during signal reproduction are reduced, and the error rate is also reduced. Therefore,
Recording and reproduction characteristics are improved.

【0021】さらに、二酸化硅素薄膜は例えば記録磁性
層を形成するCo−Cr系合金膜等の磁性金属薄膜に比
べて材質が硬いため、媒体表面を機械的に保護しスクラ
ッチ等を入りにくくするのみならず、記録磁性層を外気
から遮断することにより耐腐蝕性をも向上させる効果が
あることはいうまでもない。
Further, since the silicon dioxide thin film is harder than a magnetic metal thin film such as a Co—Cr alloy film forming a recording magnetic layer, the medium surface is mechanically protected to prevent scratches and the like from entering. However, it goes without saying that shielding the recording magnetic layer from the outside air has the effect of improving the corrosion resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 この発明の一実施例に係る磁気記録媒体の断
面図。
FIG. 1 is a sectional view of a magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention.

【図2】 この発明の他の実施例に係る磁気記録媒体の
断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of a magnetic recording medium according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 樹脂製フィルム状基体 2 Co−Cr合金薄膜(記録磁性層) 3 二酸化硅素薄膜 4 液体潤滑層 11 非磁性基体 12 Co−Cr合金薄膜(記録磁性層) 13 二酸化硅素薄膜 14 固体潤滑層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Resin film-like base | substrate 2 Co-Cr alloy thin film (recording magnetic layer) 3 Silicon dioxide thin film 4 Liquid lubrication layer 11 Non-magnetic base 12 Co-Cr alloy thin film (recording magnetic layer) 13 Silicon dioxide thin film 14 Solid lubrication layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 砂井 正之 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1 株式 会社東芝 総合研究所内 (56)参考文献 特開 昭59−154642(JP,A) 特開 昭58−220244(JP,A) 特開 昭52−127203(JP,A) 特開 昭58−185029(JP,A) 特公 平6−12568(JP,B2) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Masayuki Sunai 1 Toshiba, Komukai Toshiba-cho, Saisaki-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Prefecture Toshiba Research Institute, Inc. (56) References JP-A-58-220244 (JP, A) JP-A-52-127203 (JP, A) JP-A-58-185029 (JP, A) JP-B-6-12568 (JP, B2)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 記録磁性層上に二酸化珪素薄膜が形成さ
れ、該二酸化珪素薄膜の組成式をSiO 2-X としたと
き、Xが0<X<0.5の範囲に選定されるとともに、
二酸化珪素薄膜上に潤滑層が形成されてなる磁気記録
媒体と、この磁気記録媒体上で情報の記録再生を行う
ともにに、該磁気記録媒体上を接触した状態で走行する
磁気ヘッドとを備えたことを特徴とするメモリ装置。
1. A thin film of silicon dioxide is formed on the recording magnetic layer, and the composition formula of the silicon dioxide film was SiO 2-X
X is selected in the range of 0 <X <0.5,
A magnetic recording medium lubricant layer on the silicon dioxide thin film is formed, when recording and reproducing information on the magnetic recording medium
In both, the memory device comprising a kite and a <br/> magnetic head that travels in contact over the magnetic recording medium.
【請求項2】 前記記録磁性層は、金属薄膜であること
を特徴とする請求項1記載のメモリ装置。
2. The memory device according to claim 1, wherein said recording magnetic layer is a metal thin film.
【請求項3】 前記記録磁性層を形成する金属薄膜は、
Co−Cr系合金であることを特徴とする請求項2記載
のメモリ装置。
3. The metal thin film forming the recording magnetic layer,
3. The memory device according to claim 2, wherein the memory device is a Co-Cr alloy.
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JPH0612568B2 (en) * 1984-11-12 1994-02-16 株式会社東芝 Magnetic recording medium

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JPH07201038A (en) 1995-08-04

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