JP2620094B2 - 図形パタ−ンの計測方法 - Google Patents

図形パタ−ンの計測方法

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JP2620094B2
JP2620094B2 JP63003549A JP354988A JP2620094B2 JP 2620094 B2 JP2620094 B2 JP 2620094B2 JP 63003549 A JP63003549 A JP 63003549A JP 354988 A JP354988 A JP 354988A JP 2620094 B2 JP2620094 B2 JP 2620094B2
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英彦 高野
昭一 木村
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工業技術院長
株式会社 アマダ
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、加工機の自動化に伴うマテリアル・ハンド
リング等に際して、部材の位置や姿勢角を計測する場合
に有効に利用できるパターン認識技術に関するものであ
り、特に、そのパターン認識に際して図形パターンの位
置及び姿勢を短時間に正確に計測する方法に関するもの
である。
[従来の技術] 物体をテレビカメラ等により2次元的な図形パターン
として撮像し、その図形パターンの基準パターンに対す
る姿勢角や位置ずれ等を計測するには、従来から提案さ
れている各種パターン認識技術あるいはその他の方法を
利用することができる。
本発明者らも、上述した図形パターンの姿勢角や位置
ずれを非常に簡単な装置で極めて容易に判別可能にした
計測方法を、先に特願昭62−256804号(特開平1−9918
1号)により提案している。
この既提案の計測方法は、検出した図形パターンを2
値化して、その輪郭部における各頂点の抽出を行い、そ
の頂点のデータに基づいて基準パターンとの比較による
パターンマッチングを行うと共に、特定の頂点を特徴点
コーナーとして、両パターンの対応する特徴点コーナー
の座標関係から、アフィン逆変換により基準パターンに
対する図形パターンの姿勢角と位置ずれを計測するもの
である。
しかるに、上記計測方法の実施に際し、図形パターン
の認識精度を高めるために、1024×1024という大容量メ
モリを用いることを考えると、図形パターンの輪郭追跡
により頂点検出を行う場合に、大量のデータ処理を行う
ために長時間を必要とすることになる。
そして、加工機の加工速度や精度などとの関連で、図
形パターンの認識を非常に短時間で行うことが要求さ
れ、しかも高精度な姿勢、位置ずれの認識を要求される
ことが少なくないことから、このような点を考慮する
と、テレビカメラ等のパターン入力装置により2次元的
な図形パターンとして取込む際には比較的高精度に、従
って大量のデータを取込み、それらのデータを処理する
際には、何らかの手段により高速処理を可能にし、最終
的には高精度な測定をすることが望まれる。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、高精度な姿勢や位置ずれの計測を行
うことを前提として、大量の図形パターンのデータを取
込みながら、そのデータによる高精度な形状認識に先立
ち、上記大量のデータから予め概略的な輪郭形状を高速
で計測し、その後に必要部分のみを高精度に計測して、
計測精度を維持しながら処理時間の短縮を可能にするこ
とにある。
[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため、本発明の図形パターン計測
方法は、計測対象物体の図形パターンを2値化して、そ
の輪郭部における各頂点の抽出を行い、図形パターンの
特定の頂点が、基準パターンにおけるどの頂点に対応す
るかの判定を行い、この判定は、図形パターンにおける
特定の頂点の並びを順次一つずつずらして両者が一致す
るか否かの判定を繰返すことであって、この判定によっ
てパターンマッチングを行うと共に、アフィン逆変換に
必要な図形パターンの特定の2頂点を特徴点コーナーと
し、それに対応する基準パターン上の2点の特徴点コー
ナーとの座標関係から、アフィン逆変換により所期の計
測値である図形パターンの基準パターンに対する姿勢角
及び位置ずれを計測する図形パターンの計測方法におい
て、上記計測対象物体の輪郭部における各頂点の抽出
は、2値化された計測対象物体の図形パターンが記憶さ
れたメモリを、バッファの値に応じて複数ピクセル飛び
毎に飛び飛びに読み出すことによって、計測対象物体の
輪郭部における概略的な頂点を抽出することであって、
この概略的な頂点の周辺のみについて1ピクセル毎の処
理による輪郭追跡を行い、上記特定の頂点の検出を行う
ことによって、計測対象物体の姿勢角及び位置ずれを計
測することを特徴とするものである。
[実施例] 以下に本発明の実施例について詳述する。
計測域に置かれた物体の姿勢角や位置の計測に際し、
その対象物体をテレビカメラ等のパターン入力装置によ
り2次元的な図形パターンとして取込み、その走査線上
の各サンプル点についての出力をAD変換によりサンプル
点の明暗に応じた2値化信号とし、これによって得られ
た2値化マトリクス・パターンの処理により図形パター
ンの姿勢角や位置の計測を行う場合に、一旦概略的な形
状、即ち、図形パターンにおける輪郭部上の頂点の数や
概略的な位置を実時間的に計測し、この概略的な計測の
結果に基づき、必要部分のみを正確に計測すれば、図形
パターンの全体を処理して正確な姿勢角や位置の計測を
行う場合に比して、実質的に同程度の精度での計測を非
常に短時間に行うことが可能になる。
本発明は、このように大量の図形パターンのデータを
取込みながら、その大量のデータから予め概略的な輪郭
形状を高速に計測し、この概略的な計測の結果に基づ
き、必要部分のみを正確に計測しようとするものである
が、このような方法は、本発明者らが先に提案している
アフィン逆変換による図形パターンの姿勢角・位置計測
方法においても好適なものである。
先ず、上記アフィン逆変換を利用した姿勢角・位置計
測方法について説明すると、同計測方法においては、計
測対象の図形パターンとして、テレビカメラ等のパター
ン入力装置により2値化したマトリクス・パターンとし
て画像処理装置に入力された図形パターンが用いられ
る。この場合に、図形パターンの認識精度を高めるため
に、1024×1024程度の比較的大容量メモリが用いられ
る。
画像処理装置においては、図形パターンの姿勢角や位
置を高精度に計測する場合、そのマトリクス・パターン
における相隣接する2×2のメッシュポイントに着目
し、それらの4つのポイントにおけるいずれのデータが
2値化された0または1であるかによって、図形パター
ンの輪郭、即ち実部と空部の間の境界線におけるデータ
を、その輪郭線の方向に関して分類し、さらに図形パタ
ーンの輪郭線に沿ってその分類付けされたデータを追跡
して、輪郭線を構成する線分の交差部分である図形パタ
ーンの頂点を検出し、その座標が求められる。
なお、このような頂点検出の方法は、本発明者が既に
特公昭56−47581号により提案している方法であり、こ
こでは図形パターンの輪郭線に沿っての分類付けをパタ
ーン変換と、またパターン変換を利用した頂点検出を輪
郭追跡による頂点検出と呼ぶ。
一方、上記図形パターンが基準位置にある場合の基準
パターンは、他の図形パターンと共に画像処理装置内の
記憶装置に予め記憶させておき、上記頂点検出を行った
図形パターンについては、アフィン逆変換によって基準
パターンに対する姿勢角・位置ずれを計測するに先立っ
て、どの基準パターンと対応関係を有するか、また図形
パターンにおける特定の頂点が対比する基準パターンの
頂点のデータ群のどれに対応するのかが判別される。
このような図形パターンと基準パターンとの対比関係
の判定には、本発明者らが、先に特願昭62−256804号
(特開平1−99181号)において詳細に開示しているよ
うに、図形パターンの頂点の数、コーナーのタイプ、マ
スクの数等を利用するのが好ましいが、それ以外の要素
を用いることもできる。なお、上記コーナーのタイプと
は、図形の内側からみて、頂角が180゜未満の頂点を凸
コーナー、180゜以上のものを凹コーナーと名付けたと
きの、凸コーナー及び凹コーナーの配列の態様により表
わされる図形のタイプ、また、マスクの数とは、図形パ
ターン中において凸コーナーと凹コーナーの並び方が特
定の態様にある部分の数を意味している。
このようなパターンマッチングにおいて一致する基準
パターンが存在した場合は、図形パターンの特定の頂点
が基準パターンにおけるどの頂点に対応するかの判定を
行うが、この判定は、図形パターンにおける頂点の並び
を順次一つずつずらして両者が一致するか否かの判定を
繰返すことにより行われる。
このようにして、アフィン逆変換に必要な特定の2頂
点を特徴点コーナーとし、それに対応する基準パターン
上の2点の特徴点コーナーとの座標関係から、アフィン
逆変換により所期の計測値である図形パターンの基準パ
ターンに対する姿勢角及び位置が求められる。
上述した方法においては、データの処理速度について
特に考慮していないため、大容量メモリを用いて大量の
図形パターンのデータを取込み、その大量のデータにお
ける図形パターンの輪郭追跡において1ピクセル毎に操
作していては、非常に時間がかかることになる。そこ
で、本発明においては、上述した高精度な形状認識に先
立ち、上記大量のデータから予め概略的な輪郭形状を高
速で計測する。
第1図は、本発明に基づき、大量の図形パターンのデ
ータを取込みながら、予め概略的な輪郭形状を高速で計
測可能にするためのハードウェアを示している。ここ
で、メモリ1は1024×1024の密なマトリクス・パターン
を記憶する領域を示す。
これは、物理的に同じ所をメモリマップにおける論理
アドレスを変えた空間に配置することにより、それらの
アクセス法を異ならしめたもので、上記メモリマップに
おけるエリア1をアクセスするときには、1アドレス単
位の正規のリード・ライトを可能にし、またエリア2を
アクセスするときには、アドレスバス上の信号によりデ
コーダを介してゲートを制御し、アドレス信号にそのゲ
ートを通してバッファにセットされた値が加算されてリ
ード・ライトされるようにしている。上記バッファは、
外部からその値を自由に設定可能にしたものであり、従
って、このバッファの値に応じて複数ピクセル飛び毎の
アクセスが論理的にリニアに実現される。
第2図は、操作する単位を2ピクセルとした場合の画
像メモリを模式的に示すもので、輪郭追跡による頂点検
出においてパターン変換処理も上記と同様な方法で実施
でき、その結果はメモリ2に記憶する。同図では、測定
対象の輪郭を太い実線により、正確な頂点位置を☆印に
より、画像メモリ上における輪郭追跡の軌跡をハッチン
グにより、その輪郭追跡により検出される頂点を○印に
より示している。
このようにして、操作する単位を1ピクセルではな
く、2ピクセル、4ピクセル、・・とすれば原理的に、
1/4,1/16・・のメモリ容量となるので、輪郭追跡による
頂点検出のための処理時間もそれに比例して小さくな
る。しかも、このように操作する単位を1ピクセル、2
ピクセル、4ピクセルと変えていっても、輪郭追跡を行
うソフトウエアに改変を加える必要はない。さらに、操
作するピクセルの単位をバッファに自由に設定できるの
で、計測対象となる図形パターンの複雑さの程度が事前
にわかっていれば、それに対応した値を設定して、適切
な概略形状の計測を行うことが可能になる。
このような計測により輪郭部の各頂点の概略的な位置
を求め、図形パターンの概略的な輪郭形状の計測を行っ
た後は、それらの頂点のデータに基づいて基準パターン
との比較によるパターンマッチングを行ったうえで、先
に説明した手段により、特定の2頂点を特徴点コーナー
として検出し、それらの特徴点コーナーの周辺のみにつ
いて、先に説明した輪郭追跡による正確な頂点検出を、
メモリにおける1ピクセル毎の処理によって行う。この
場合には、特徴点コーナーの周辺のみについて処理する
ため、頂点検出を1ピクセル毎の操作によって行って
も、非常に速く処理することができる。
次いで、図形パターンと基準パターンとの対応する特
徴点コーナーの座標関係から、アフィン逆変換により基
準パターンに対する図形パターンの姿勢角と位置ずれを
計測する。
[発明の効果] 以上に詳述した本発明の方法によれば、高精度な姿勢
や位置ずれの計測を行うことを前提として、大量の図形
パターンのデータを取込みながら、そのデータによる高
精度な形状認識に先立ち、上記大量のデータから予め概
略的な輪郭形状を高速で計測し、その後に必要部分のみ
を高精度に計測するので、計測精度を維持しながら処理
時間を短縮することができ、しかも図形パターンの輪郭
追跡を行うソフトウエアに改変を加える必要がなく、そ
れを高精度な計測と概略的な計測に共用することもでき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る計測方法を実施するハードウエア
ついての説明図、第2図は操作する単位を2ピクセルと
した場合の画像メモリを模式的に示す説明図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き 合議体 審判長 矢田 歩 審判官 谷川 洋 審判官 石井 研一 (56)参考文献 特開 昭59−142677(JP,A) 特公 平6−64610(JP,B2) 特公 昭56−47581(JP,B2)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】計測対象物体の図形パターンを2値化し
    て、その輪郭部における各頂点の抽出を行い、図形パタ
    ーンの特定の頂点が、基準パターンにおけるどの頂点に
    対応するかの判定を行い、この判定は、図形パターンに
    おける特定の頂点の並びを順次一つずつずらして両者が
    一致するか否かの判定を繰返すことであって、この判定
    によってパターンマッチングを行うと共に、 アフィン逆変換に必要な図形パターンの特定の2頂点を
    特徴点コーナーとし、それに対応する基準パターン上の
    2点の特徴点コーナーとの座標関係から、アフィン逆変
    換により所期の計測値である図形パターンの基準パター
    ンに対する姿勢角及び位置ずれを計測する図形パターン
    の計測方法において、 上記計測対象物体の輪郭部における各頂点の抽出は、2
    値化された計測対象物体の図形パターンが記憶されたメ
    モリを、バッファの値に応じて複数ピクセル飛び毎に飛
    び飛びに読み出すことによって、計測対象物体の輪郭部
    における概略的な頂点を抽出することであって、 この概略的な頂点の周辺のみについて1ピクセル毎の処
    理による輪郭追跡を行い、上記特定の頂点の検出を行う
    ことによって、計測対象物体の姿勢角及び位置ずれを計
    測する図形パターンの計測方法。
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