JP2616952B2 - Semiconductor pressure sensor - Google Patents

Semiconductor pressure sensor

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JP2616952B2
JP2616952B2 JP63087704A JP8770488A JP2616952B2 JP 2616952 B2 JP2616952 B2 JP 2616952B2 JP 63087704 A JP63087704 A JP 63087704A JP 8770488 A JP8770488 A JP 8770488A JP 2616952 B2 JP2616952 B2 JP 2616952B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体圧力センサに係り、特に半導体圧力セ
ンサを構成するダイヤフラム型半導体チップのレーザト
リミング(回路調整)に関する。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor pressure sensor, and more particularly to laser trimming (circuit adjustment) of a diaphragm type semiconductor chip constituting a semiconductor pressure sensor.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

ダイヤフラム型半導体圧力センサ(例えばシリコン圧
力センサ)は、ダイヤフラムの変形に伴う応力によつて
抵抗素子の抵抗値が変化する、いわゆるピエゾ抵抗効果
を利用した圧力センサで、近年、半導体技術の進歩に伴
い、工業計測,医療,自動車等の分野で広く利用されつ
つある。この種の圧力センサの従来例としては、月刊誌
「センサ技術」(1985年5月号,発行社 情報調査会)
の第32頁〜第35頁に記載されたものや、特開昭62−7217
8号公報等に開示されたものがある。
A diaphragm-type semiconductor pressure sensor (for example, a silicon pressure sensor) is a pressure sensor using a so-called piezoresistance effect in which the resistance value of a resistance element changes due to a stress caused by deformation of a diaphragm. , Is being widely used in fields such as industrial measurement, medical care, and automobiles. A conventional example of this type of pressure sensor is the monthly magazine “Sensor Technology” (May 1985 issue, Information Research Committee of the publisher).
On pages 32 to 35, and JP-A-62-7217.
There is one disclosed in Japanese Patent Publication No. 8 and the like.

第4図に、この半導体圧力センサの第1の従来例とし
て絶対圧型のセンサを例示する。
FIG. 4 illustrates an absolute pressure sensor as a first conventional example of the semiconductor pressure sensor.

第4図において、1′はシリコンチップで、裏面に凹
加工を施してダイヤフラム1′aが形成される。ダイヤ
フラム1′aには、拡散抵抗による歪ゲージ(図示せ
ず)が配設される。シリコンチップ1′は、シリコンチ
ップと熱膨脹係数が一致するか又は近似する台座2(例
えばパイレックスガラス#7740)にアノデイックボンデ
イングにより接合される。台座2には、被測定圧力を導
入するための通路2aが形成される。シリコンチップ1′
は、そのダイヤフラムの圧力検知面が通路2aの開口に対
向するようにして、台座2上に固定支持される。
In FIG. 4, reference numeral 1 'denotes a silicon chip, on which a diaphragm 1'a is formed by performing a concave process on the back surface. The diaphragm 1'a is provided with a strain gauge (not shown) based on diffusion resistance. The silicon chip 1 'is bonded to the pedestal 2 (for example, Pyrex glass # 7740) whose thermal expansion coefficient matches or approximates that of the silicon chip by anodic bonding. The pedestal 2 is formed with a passage 2a for introducing the measured pressure. Silicon chip 1 '
Is fixedly supported on the pedestal 2 such that the pressure sensing surface of the diaphragm faces the opening of the passage 2a.

5は基盤で、被測定圧力導入孔5aを有する。基盤5の
上面には、シリコンチップ1′付の台座2がメタライズ
層3を介した半田により接合される。このメタライズ層
3は、第1層が台座2の材質と接合強度の強いTiもしく
はCr,Ni−Crなどの接着層よりなり、第2層が多層構造
材料の層間拡散を防止するNiもしくはW,Mo,Ptなどの拡
散防止層よりなり、第3層が表面の酸化を保護するAuも
しくはPtなどの表面酸化保護層よりなる、3層で構成さ
れている。また、基盤5の下面には、圧力導入パイプ6
がろう剤(例えば、銀ろう,銅ろう)を用いて接合され
る。また基盤5の中心から半円周上に4個の外部との電
気的接続を得るためのリードピン7がハーメチックシー
ルガラス8で封着される。
Reference numeral 5 denotes a base having a pressure introduction hole 5a to be measured. The pedestal 2 with the silicon chip 1 ′ is joined to the upper surface of the base 5 by soldering via the metallization layer 3. The metallized layer 3 has a first layer made of an adhesive layer of Ti or Cr, Ni-Cr or the like having a high bonding strength with the material of the pedestal 2, and a second layer formed of Ni or W, which prevents interlayer diffusion of the multilayer structure material. The third layer is composed of a diffusion prevention layer of Mo, Pt or the like, and the third layer is composed of three layers of a surface oxidation protection layer of Au or Pt for protecting the surface from oxidation. A pressure introducing pipe 6 is provided on the lower surface of the base 5.
Are joined using a brazing agent (for example, silver brazing or copper brazing). Further, four lead pins 7 for obtaining electrical connection with the outside on a semicircle from the center of the base 5 are sealed with hermetic seal glass 8.

9は金属製のキヤップで、基盤5上にプロジエクシヨ
ン溶接により接合され、キヤップ内は基準圧(例えば真
空圧)の状態に保たれ、基準圧室11を形成する。基準圧
室11中にシリコンチップ1′付の台座2が配置される。
Reference numeral 9 denotes a metal cap which is joined to the base 5 by projection welding. The inside of the cap is maintained at a reference pressure (for example, vacuum pressure) to form a reference pressure chamber 11. The pedestal 2 with the silicon chip 1 ′ is arranged in the reference pressure chamber 11.

このような圧力センサは、パイプ6,圧力導入孔5a,圧
力導入通路2aを介してダイヤフラム1aの圧力検知面に被
測定圧力を導入する。ダイヤフラム1aは基準圧と被測定
圧力との差圧により変形し、その時の歪ゲージの出力が
リード線10及びリードピン7を介して外付のハイブリッ
トIC(増幅回路,温度補償回路)に送られ、被測定圧力
が検出される。この圧力センサは、基準圧を真空圧とす
れば絶対圧型のセンサとなる。
Such a pressure sensor introduces a measured pressure to the pressure detection surface of the diaphragm 1a via the pipe 6, the pressure introduction hole 5a, and the pressure introduction passage 2a. The diaphragm 1a is deformed by the differential pressure between the reference pressure and the measured pressure, and the output of the strain gauge at that time is sent to an external hybrid IC (amplifier circuit, temperature compensation circuit) via the lead wire 10 and the lead pin 7, The measured pressure is detected. This pressure sensor is an absolute pressure sensor if the reference pressure is a vacuum pressure.

この種の半導体圧力センサは、同一設計で製造されて
も、回路特性にばらつきが生じるため、通常は、増幅回
路等に組込まれる回路調整素子(抵抗)にレーザ等を照
射して抵抗の一部を削り取り、このようにして回路トリ
ミング(特性調整)を行つている。
Even if these types of semiconductor pressure sensors are manufactured with the same design, circuit characteristics may vary. And circuit trimming (characteristic adjustment) is performed in this manner.

また、最近では半導体技術の進歩により、シリコンチ
ップに歪ゲージ付ダイヤフラムを形成する他に、従来外
付けされていた増幅回路,温度補償回路もダイヤフラム
型のシリコンチップに一体に形成するものが実用化され
ている。
Recently, due to advances in semiconductor technology, in addition to forming a diaphragm with a strain gauge on a silicon chip, an amplifier circuit and a temperature compensation circuit, which were conventionally externally mounted, have been practically integrated with a diaphragm-type silicon chip. Have been.

ところで、このようなダイヤフラム・増幅回路・温度
補償回路一体型のシリコンチップを、絶対圧センサとし
て用いた場合、このシリコンチップに形成される回路を
相対圧センサと同様に大気中でトリミングすると、次の
ような不具合が生じる。すなわち、大気圧で回路トリミ
ングを行つた後に、これを圧力センサのキヤップ内に基
準圧(真空圧)の下で組込んだ場合、ダイヤフラムの圧
力検知面側に大気がかかり、反圧力検知面側が真空圧と
なる。その結果、センサが被測定圧を検出する前からダ
イヤフラムに多少の変形が生じ出力のずれが生じ、せつ
かくトリミングを行つても回路特性の精度が低下する。
従来は、このような問題に対し充分な配慮がされていな
かつた。
By the way, when such a silicon chip integrated with a diaphragm, an amplification circuit, and a temperature compensation circuit is used as an absolute pressure sensor, the circuit formed on the silicon chip is trimmed in the atmosphere in the same manner as a relative pressure sensor. The following problems occur. That is, if the circuit is trimmed at atmospheric pressure and then incorporated into the pressure sensor cap under the reference pressure (vacuum pressure), the atmosphere is applied to the pressure sensing surface side of the diaphragm, and the counter pressure sensing surface side It becomes vacuum pressure. As a result, the diaphragm is slightly deformed before the sensor detects the pressure to be measured, causing a shift in the output, and the precision of the circuit characteristics is reduced even if the trimming is performed.
Conventionally, sufficient consideration has not been given to such a problem.

一般的には、絶対圧センサとして用いる場合には、セ
ンサにキヤップを被着する前に、予め基準圧の雰囲気の
下でシリコンチップの回路トリミングを行い、その後で
キヤップの被着を行う手法が採用されていた。
In general, when used as an absolute pressure sensor, a method of performing circuit trimming of a silicon chip under an atmosphere of a reference pressure in advance before applying the cap to the sensor, and thereafter applying the cap. Was adopted.

しかしながら、このような手法によれば、トリミング
後にキヤップを被着するので、トリミング前後に基準圧
が変動すると、トリミング時の基準圧とキヤップ取付後
のセンサ内の基準圧にずれが生じ、回路特性のトリミン
グ精度を必ずしも充分に満足させるものではなかつた。
However, according to such a method, since the cap is applied after trimming, if the reference pressure fluctuates before and after the trimming, a difference occurs between the reference pressure at the time of trimming and the reference pressure in the sensor after the cap is attached, and the circuit characteristic is reduced. Does not always fully satisfy the trimming accuracy of

以上の問題を解消するために、近年では、センサ部
材,出力調整用抵抗および動作表示素子を密閉封止する
外装ケースを光透過部材で構成して、この外装ケースで
センサ部材,出力調整用抵抗及び動作表示素子を密閉封
止し、ケース内を絶対圧にした後に、この外装ケースを
介して出力調整用抵抗にレーザ光を照射して回路トリミ
ングを行う手法が提案されている。第5図にその一例を
示す。図中、第4図と同一符号は同一部分を示す。
In order to solve the above problems, in recent years, an exterior case for hermetically sealing the sensor member, the output adjustment resistor, and the operation display element is formed of a light transmitting member. In addition, a method has been proposed in which the operation display element is hermetically sealed and the inside of the case is made to have an absolute pressure, and then the output adjusting resistor is irradiated with laser light through the outer case to perform circuit trimming. FIG. 5 shows an example. In the figure, the same reference numerals as those in FIG. 4 indicate the same parts.

第5図に示すように、シリコンチップ1の回路出力側
は、基盤5上にシリコンチップ1及び台座2を搭載後
に、Au細線10(φ30μm)を介してリードピン7と接続
される。その後、基準圧に設定された雰囲気中で後述す
るキヤップ9aが基盤5上に気密状態で被着される。
As shown in FIG. 5, the circuit output side of the silicon chip 1 is connected to the lead pin 7 via the Au thin wire 10 (φ30 μm) after mounting the silicon chip 1 and the pedestal 2 on the base 5. Thereafter, a cap 9a, which will be described later, is hermetically attached to the base 5 in an atmosphere set to the reference pressure.

キヤップ9aは、例えば石英ガラス,サフアイアガラス
等のように良好なレーザ透過性を有する材料で形成さ
れ、キヤップ9aは、基盤5に、例えばアノデイックボン
デイング又は符号3で示したものと同様の3層のメタラ
イズ層13を介し半田付けを行うことで被着され、シリコ
ンチップ1及び台座2の周りに基準圧室11が形成され
る。
The cap 9a is formed of a material having a good laser transmittance, such as quartz glass, sapphire glass, etc., and the cap 9a is mounted on the base 5 by, for example, anodic bonding or a material similar to the one indicated by reference numeral 3. The reference pressure chamber 11 is formed around the silicon chip 1 and the pedestal 2 by soldering through the metallized layer 13 of the layer.

しかして、このような圧力センサにおいてレーザトリ
ミングを行う場合には、矢印に示す如く、大気中からレ
ーザ透過性キヤップ9aを介して、レーザを透過させ、基
準圧中のシリコンチップ1に形成された回路調整素子に
照射して、トリミングが行われる(これを第2の従来例
とする)。
When laser trimming is performed in such a pressure sensor, as shown by the arrow, the laser is transmitted from the atmosphere via the laser-permeable cap 9a, and is formed on the silicon chip 1 at the reference pressure. The trimming is performed by irradiating the circuit adjustment element (this is referred to as a second conventional example).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be solved by the invention]

上記第2の従来例は、第1の従来例のような不具合を
なくし、高精度の回路トリミングを保証する。
The second conventional example eliminates the drawbacks of the first conventional example and guarantees highly accurate circuit trimming.

本発明の目的は、上記第2の従来例の如く、絶対圧セ
ンサにおいても高精度の回路トリミングを可能にし、ひ
いてはセンサの検出精度を高めることのできるほかに、
さらに、小形化及び圧力センサの部品を種々の実装態様
を採用し得る半導体圧力センサを提供することにある。
An object of the present invention is to enable high-precision circuit trimming even in an absolute pressure sensor as in the second conventional example, and thus to improve the detection accuracy of the sensor.
It is still another object of the present invention to provide a semiconductor pressure sensor which can be miniaturized and employ various mounting modes for components of the pressure sensor.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

上記目的は、圧力センサを構造的見地からとらえれば
次のような手段を施すことで達成される。
The above object is achieved by applying the following means if the pressure sensor is taken from a structural point of view.

すなわち、圧力を検出するためのダイヤフラム,増幅
回路,温度補償回路を形成した半導体チップと、 被測定圧力を導入する通路を有し、この被測定圧力導
入通路の開口に前記ダイヤフラムの圧力検知面を対向さ
せて前記半導体チップを固定支持する台座とを備えてな
る半導体圧力センサにおいて、 前記ダイヤフラムの反圧力検知面側の半導体チップ面
上を、設定の基準圧に保ちつつキヤップで気密に囲み、
且つ前記キヤップは、レーザを透過させる材料で前記半
導体チップ上に直接搭載可能な形状に形成されて、前記
半導体チップ面上に、前記ダイヤフラム面の反圧力検知
面及び前記増幅回路,温度補償回路を囲むようにして被
着して成る。
That is, it has a semiconductor chip on which a diaphragm for detecting pressure, an amplifier circuit, and a temperature compensation circuit are formed, and a passage for introducing a pressure to be measured. A semiconductor pressure sensor comprising a pedestal that opposes and fixedly supports the semiconductor chip, wherein the semiconductor chip surface on the side opposite to the pressure detection surface of the diaphragm is hermetically enclosed with a cap while maintaining a set reference pressure,
In addition, the cap is formed of a material that transmits laser and is formed in a shape that can be directly mounted on the semiconductor chip, and the counter pressure detecting surface of the diaphragm surface, the amplification circuit, and the temperature compensation circuit are formed on the semiconductor chip surface. It is attached so as to surround it.

〔作用〕[Action]

上記構成によれば、いずれもダイヤフラム型半導体チ
ップの反圧力検知面がキヤップにより基準圧に保たれる
ので、絶対圧センサとして使用できる。
According to the above configuration, the counter pressure detecting surface of the diaphragm type semiconductor chip is maintained at the reference pressure by the cap, so that it can be used as an absolute pressure sensor.

また、キヤップの被着後に圧力センサの基準圧を一定
に保ち、この安定した基準圧雰囲気にダイヤフラム型半
導体チップをセットした後に、この半導体チップの回路
調整素子をレーザトリミングを行うので、外部からのア
クシデントがない限り、トリミング前後に基準圧変動が
発生しない。その結果、高精度で安定した回路トリミン
グが可能となり、ひいては、絶対圧センサとしての検出
精度を高める。
Also, after the cap is attached, the reference pressure of the pressure sensor is kept constant, and after the diaphragm type semiconductor chip is set in this stable reference pressure atmosphere, laser trimming of the circuit adjustment element of this semiconductor chip is performed. Unless there is an accident, the reference pressure does not change before and after trimming. As a result, high-precision and stable circuit trimming becomes possible, and the detection accuracy as an absolute pressure sensor is enhanced.

さらに、絶対圧(基準圧)を保持するキャップは直接
半導体チップに搭載されるので、キャップの小形化を図
ることができ、また、それにより、半導体チップ上のダ
イヤフラム,増幅回路・温度補償回路(回路調整素子
付)を覆うので、これらの圧力センサ構成要素が外部か
ら遮蔽されて有効に保護される。しかも、キャップ付の
ダイヤフラム型半導体チップとリード端子とは、従来の
キャップ(例えば第4図,第5図のキャップ)のように
台座搭載用の基盤上に半導体チップとリード端子を一括
して覆うようにして被着する必要がなく、半導体チップ
とリード端子をそれぞれを独立配置できるので、センサ
の種々の実装形態を採用することができる。
Further, since the cap for holding the absolute pressure (reference pressure) is directly mounted on the semiconductor chip, the size of the cap can be reduced, and the diaphragm on the semiconductor chip, the amplifying circuit and the temperature compensation circuit ( Since these pressure sensor components are covered from the outside, they are effectively protected. In addition, the diaphragm type semiconductor chip with the cap and the lead terminal collectively cover the semiconductor chip and the lead terminal on the base for mounting the base like a conventional cap (for example, the cap in FIGS. 4 and 5). Since the semiconductor chip and the lead terminal can be independently arranged without being attached in this manner, various mounting forms of the sensor can be adopted.

〔実施例〕〔Example〕

本発明の実施例を第1図ないし第3図に基づき説明す
る。なお、これらの図面中、既述した第4図,第5図の
従来例と同一符号は同一或いは共通する要素を示す。
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In these drawings, the same reference numerals as those in the conventional example shown in FIGS. 4 and 5 denote the same or common elements.

第1図は本発明の一実施例を示す縦断面図である。 FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing one embodiment of the present invention.

本実施例の半導体チップ(シリコンチップ)1は、シ
リコン単結晶の裏面に凹部を施してダイヤフラム1aを形
成し、且つ表面にダイヤフラム1aに対応する歪ゲージ
(拡散抵抗)及び集積化された増幅回路・温度補償回路
(回路調整素子付)が形成される。
The semiconductor chip (silicon chip) 1 of this embodiment has a diaphragm 1a formed by forming a concave portion on the back surface of a silicon single crystal, and a strain gauge (diffusion resistor) corresponding to the diaphragm 1a on the surface and an integrated amplifier circuit. -A temperature compensation circuit (with a circuit adjusting element) is formed.

本実施例のキヤップ9bは、レーザ透過性を有する材料
で形成されるが、キヤップ9bがシリコンチップ1上に直
接,接合搭載(接合は、アノデイックボンデイング等で
行われる)される点に特徴を有する。このキヤップ9b
は、シリコンチップ1のダイヤフラム1aの反圧力検知面
側,増幅回路及び温度補償回路を囲むようにして、基準
圧雰囲気の下でシリコンチップ1上に被着される。この
場合にも、キヤップ9b内は基準圧室11が形成され、ダイ
ヤフラムの1面は基準圧となり、他面(圧力検知面)は
被測定圧力がかかるので、絶対圧センサを構成し得る。
The cap 9b of the present embodiment is formed of a material having laser transmittance, and is characterized in that the cap 9b is directly mounted on the silicon chip 1 by bonding (bonding is performed by anodic bonding or the like). Have. This cap 9b
Is mounted on the silicon chip 1 under a reference pressure atmosphere so as to surround the counter pressure detecting surface side of the diaphragm 1a of the silicon chip 1, the amplification circuit and the temperature compensation circuit. Also in this case, the reference pressure chamber 11 is formed in the cap 9b, and one surface of the diaphragm becomes the reference pressure, and the other surface (pressure detection surface) receives the measured pressure, so that an absolute pressure sensor can be formed.

また、シリコンチップ1の回路トリミングを行う場合
には、レーザを大気中からガラスキヤップ9bを介して基
準圧中(キヤップ内)の回路調整素子に照射する。この
場合にも、キヤップ被着後の基準圧中でレーザトリミン
グを行うので、トリミングの前後で基準圧の変化をもた
らす事態が生ぜず、安定で高精度な半導体圧力センサが
得られると共に、キヤップ9bの小形化を図り得る。また
キヤップ9bの小形化により、センサの種々の実装形態を
採用することができる。
When the circuit trimming of the silicon chip 1 is performed, the laser is irradiated from the atmosphere to the circuit adjustment element at the reference pressure (in the cap) from the atmosphere via the glass cap 9b. Also in this case, since the laser trimming is performed at the reference pressure after the cap is attached, a situation in which the reference pressure changes before and after the trimming does not occur, and a stable and high-precision semiconductor pressure sensor can be obtained. Can be reduced in size. Further, by reducing the size of the cap 9b, various mounting forms of the sensor can be adopted.

第2図,第3図は、第1図に示した半導体圧力変換部
の実装例を示すものである。
FIGS. 2 and 3 show examples of mounting the semiconductor pressure converter shown in FIG.

このうち、第2図は、シリコンチップ1及びキヤップ
9bを備えた台座2をモールドケース(基盤)5′に接着
剤15を介して固定収納後、モールドケース5′にモール
ドキヤップ5′aを大気中で被着したものである。
FIG. 2 shows the silicon chip 1 and the cap.
The pedestal 2 provided with the base 9b is fixedly housed in a mold case (base) 5 'via an adhesive 15, and then a mold cap 5'a is attached to the mold case 5' in the atmosphere.

第3図は、シリコンチップ1付きの台座2にキヤップ
9bを接合した圧力変換部を基盤5に搭載した後、金属製
キヤップ9を大気中の雰囲気で被着したものである。
FIG. 3 shows a cap 2 on a pedestal 2 with a silicon chip 1.
After mounting the pressure conversion part to which 9b is joined on the base 5, a metal cap 9 is applied in an atmosphere of the atmosphere.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上のように本発明によれば、キヤップを被着して基
準圧を一定に保つた後にレーザトリミングを行うので、
トリミング調整を高精度に行い、ひいては、絶対圧セン
サとしての検出精度を高めることができる。また、この
種半導体圧力センサの小形化及び圧力センサの部品を対
して種々の実装態様を採用することができる。
As described above, according to the present invention, since laser trimming is performed after the cap is applied and the reference pressure is kept constant,
The trimming adjustment can be performed with high accuracy, and the detection accuracy as an absolute pressure sensor can be improved. In addition, various mounting modes can be adopted for miniaturization of this kind of semiconductor pressure sensor and for components of the pressure sensor.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す縦断面図、第2図,第
3図はその実装態様を示す断面図、第4図及び第5図
は、絶対圧センサの従来例を示す縦断面図である。 1……半導体チップ、1a……ダイヤフラム、2……台
座、2a……被測定圧力導入通路、5……基盤、9a,9b…
…レーザ透過性キヤップ、9c……キヤップ、11……基準
圧室。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an embodiment of the present invention, FIGS. 2 and 3 are sectional views showing a mounting mode thereof, and FIGS. 4 and 5 are longitudinal sectional views showing a conventional example of an absolute pressure sensor. FIG. 1 ... Semiconductor chip, 1a ... Diaphragm, 2 ... Pedestal, 2a ... Measured pressure introduction passage, 5 ... Base, 9a, 9b ...
… Laser permeable cap, 9c …… Cap, 11 …… Standard pressure chamber.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】圧力を検出するためのダイヤフラム,増幅
回路,温度補償回路を形成した半導体チップと、 被測定圧力を導入する通路を有し、この被測定圧力導入
通路の開口に前記ダイヤフラムの圧力検知面を対向させ
て前記半導体チップを固定支持する台座とを備えてなる
半導体圧力センサにおいて、 前記ダイヤフラムの反圧力検知面側の半導体チップ面上
を、設定の基準圧に保ちつつキヤップで気密に囲み、且
つ前記キヤップは、レーザを透過させる材料で前記半導
体チップ上に直接搭載可能な形状に形成されて、前記半
導体チップ面上に、前記ダイヤフラム面の反圧力検知面
及び前記増幅回路,温度補償回路を囲むようにして被着
して成ることを特徴とする半導体圧力センサ。
1. A semiconductor chip having a diaphragm for detecting pressure, an amplifier circuit, and a temperature compensation circuit, and a passage for introducing a pressure to be measured. A semiconductor pressure sensor comprising: a pedestal for fixedly supporting the semiconductor chip with the detection surface opposed to the semiconductor pressure sensor, wherein the semiconductor chip surface on the side opposite to the pressure detection surface of the diaphragm is hermetically sealed with a cap while maintaining a set reference pressure. The enclosure and the cap are formed of a material that transmits laser, and are formed in a shape that can be directly mounted on the semiconductor chip, and a counter pressure detection surface of the diaphragm surface, the amplification circuit, and the temperature compensation are formed on the semiconductor chip surface. A semiconductor pressure sensor which is attached so as to surround a circuit.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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