JP2611183B2 - Fluid circulation deaerator - Google Patents

Fluid circulation deaerator

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JP2611183B2
JP2611183B2 JP6125472A JP12547294A JP2611183B2 JP 2611183 B2 JP2611183 B2 JP 2611183B2 JP 6125472 A JP6125472 A JP 6125472A JP 12547294 A JP12547294 A JP 12547294A JP 2611183 B2 JP2611183 B2 JP 2611183B2
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gas
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gas permeable
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一司 三木
行則 森田
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工業技術院長
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、水その他の流体中から
所定の(不要な)溶存気体を除去するための脱気装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a deaerator for removing a predetermined (unnecessary) dissolved gas from water or other fluid.

【0002】[0002]

【従来の技術】いわゆる純水製造装置と呼ばれるものに
代表されるように、水その他の溶液流体を純化する装
置、すなわち流体中から固溶物(不純物)や望ましくな
い溶存気体を極力除去するための装置は、今現在はもと
より、将来的に見ても、各種半導体産業を始め、薬品産
業、食品産業、分析産業、上下水道事業等々、種々の分
野で益々もってその必要性が高まってくると思われる。
2. Description of the Related Art An apparatus for purifying water and other solution fluids, as typified by a so-called pure water production apparatus, that is, for removing solid solutions (impurities) and undesirable dissolved gases from a fluid as much as possible. The need for such equipment will increase in various fields, including the semiconductor industry, the pharmaceutical industry, the food industry, the analysis industry, and the water supply and sewerage business, as well as now and in the future. Seem.

【0003】例えば半導体産業では、望ましくない無
機、有機の不純物(細菌等の微生物も含む)の除去はも
とより、純水中に溶存している気体、例えば酸素等も徹
底的に除去したいとの要求がある。昨今のように、配線
パタンの設計ルールが極く微細化している半導体集積回
路構築技術では、例えば一個の細菌ですら、回路短絡を
起こす恐れがある。また、シリコン表面を弗酸溶液に漬
けることで水素終端化するような場合、当該水素終端を
実現する化学反応よりも酸化反応の方が優勢なため、溶
存酸素の残存も重大な問題となる。
For example, in the semiconductor industry, there is a demand for not only removing undesirable inorganic and organic impurities (including microorganisms such as bacteria) but also thoroughly removing gases, such as oxygen, dissolved in pure water. There is. In a semiconductor integrated circuit construction technology in which the design rules of wiring patterns are extremely fine as in recent years, for example, even a single bacterium may cause a short circuit. Further, in the case where hydrogen termination is performed by immersing the silicon surface in a hydrofluoric acid solution, the oxidation reaction is more dominant than the chemical reaction for realizing the hydrogen termination, and the remaining dissolved oxygen is also a serious problem.

【0004】しかるにまず、流体中からの溶存気体の脱
気という観点だけからすれば、これに適う従来技術とし
て、バブリング法と真空脱気法がある。溶存気体量は外
部分圧に比例した平衡を保つため、溶存気体の外部分圧
を下げれば溶存量も減る。バブリング法ではこれを実現
するため、例えば溶存酸素を除去するときには高純度な
不活性ガス(代表的にはアルゴンガス)を細かな泡とし
て流体中に多量に通過させる。この手法は、半導体産業
のみならず、一般的に言って電気化学の実験現場で良く
採用される。実験で目的とする反応に比し、溶存酸素
や、ある場合にはまた溶存窒素等の方が活性反応種とな
ることが多いからである。
[0004] First, from the viewpoint of degassing of dissolved gas from a fluid only, there are a bubbling method and a vacuum degassing method as conventional techniques suitable for this. Since the dissolved gas amount keeps an equilibrium in proportion to the external partial pressure, the dissolved amount is reduced by reducing the external partial pressure of the dissolved gas. To achieve this in the bubbling method, for example, when removing dissolved oxygen, a large amount of high-purity inert gas (typically argon gas) is passed through the fluid as fine bubbles. This technique is often employed not only in the semiconductor industry, but also generally in electrochemical lab sites. This is because dissolved oxygen and, in some cases, dissolved nitrogen are more likely to be active reactive species than the reaction intended in the experiment.

【0005】これに対し、真空脱気法では、文字通り流
体外部空間を真空(低圧)環境にすることで酸素等、溶
存気体の外部分圧を下げる。実際の装置では、その効率
を上げるため、真空槽中に処理対象の流体を噴霧する。
On the other hand, in the vacuum degassing method, the external partial pressure of dissolved gas such as oxygen is reduced by literally setting the fluid outer space to a vacuum (low pressure) environment. In an actual apparatus, a fluid to be treated is sprayed into a vacuum chamber in order to increase the efficiency.

【0006】一方、このような溶存気体の脱気という、
言わば単機能装置ではなく、トータルな不純物除去シス
テムとしては、図7,8に示されるような純水製造装置
60,70が提供されている。図7に示されている従来の純
水製造装置60の方から説明すると、水道から供給される
原水Wgは、まず一次純水システム61に入力され、ここで
大まかに純化される。一次純水システム61は、一般に活
性炭フィルタや透過孔径の異なる幾つかのフィルタ、逆
浸透膜等で構成される。
On the other hand, such dissolved gas degassing is called
It is not a single function device, but a pure water production system as shown in FIGS.
60 and 70 are provided. Referring to the conventional pure water producing apparatus 60 shown in FIG. 7, raw water Wg supplied from water supply is first input to a primary pure water system 61, where it is roughly purified. The primary pure water system 61 is generally composed of an activated carbon filter, several filters having different pore sizes, a reverse osmosis membrane, and the like.

【0007】一次純水システム61により処理された一次
処理水Woは、流路開閉弁63を開き、送水ポンプ62を稼働
させることでタンク64に送給され、その後、送水ポンプ
65の稼働により、二次純水システム66に入力される。二
次純水システム66は超純水システムとも呼ばれ、紫外線
励起光源、イオン交換樹脂膜、活性炭フィルタや微細径
フィルタ等で構成され、これらを通過した水の比抵抗値
が所定の基準値を越えていれば、出力流路に備えられて
いる流路開閉弁67を開くことで純水(超純水)Wpとして
取り出すことができ、基準値を越えていない場合や、取
水されなかった場合には、もう一度、入力側に戻され
る。
[0007] The primary treated water Wo treated by the primary pure water system 61 is supplied to a tank 64 by opening a flow path opening / closing valve 63 and operating a water supply pump 62, and thereafter, the water supply pump
With the operation of 65, the water is input to the secondary pure water system 66. The secondary pure water system 66 is also called an ultrapure water system, and is composed of an ultraviolet excitation light source, an ion exchange resin membrane, an activated carbon filter, a fine-diameter filter, and the like. If it exceeds, it can be taken out as pure water (ultra pure water) Wp by opening the flow path opening / closing valve 67 provided in the output flow path, and when it does not exceed the reference value or when water is not taken out Is returned to the input side again.

【0008】これに対し、図8に示される従来の純水製
造装置70の場合は、取水ラインが閉鎖循環系になってい
る。すなわち、一次純水システム61から流路開閉弁63を
介し送水ポンプ62の稼働の下に二次純水システム66に与
えられた一次処理水Woは、当該二次純水システム66で処
理された後、循環流路71に出力される。図示の場合、循
環流路71に対して複数本設けられている取水ラインにそ
れぞれ付属の流路開閉弁74が選択的に開かれれば、それ
らを介して二次純水システム66の出力純水Wpが取水され
るが、取水されなかった純水Wpは、停滞による品質の劣
化を防ぐため、循環流路開閉弁72が開かれ、循環ポンプ
73が稼働することにより、二次純水システム66の入力に
戻される。
On the other hand, in the case of the conventional pure water producing apparatus 70 shown in FIG. 8, the intake line has a closed circulation system. That is, the primary treated water Wo given from the primary pure water system 61 to the secondary pure water system 66 under the operation of the water supply pump 62 via the flow path opening / closing valve 63 was treated by the secondary pure water system 66. After that, it is output to the circulation channel 71. In the case shown in the drawing, if the attached flow passage opening / closing valves 74 are selectively opened to a plurality of water intake lines provided for the circulation flow passage 71, the output pure water of the secondary pure water system 66 is passed therethrough. Wp is withdrawn, but pure water Wp that has not been withdrawn is opened with a circulation flow path opening / closing valve 72 to prevent quality deterioration due to stagnation.
By operating 73, it is returned to the input of the secondary pure water system 66.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかし、現在提供され
ている上述のような純水製造装置60,70には、いずれも
問題がある。図7に示した装置60の場合には、貯水タン
ク64内に細菌が発生することがある。一次純水システム
61を通過した一次処理水Woの中には殆ど細菌は含まれて
いないと考えることができるが、しかし、タンク64内の
消毒が不完全だったり、例えばタンク64の壁面接合部分
や流路を構成するパイプとの接合部分等に僅かな隙間等
があると、タンク64内に細菌が混入することがある。混
入量が少なければ、そうした細菌はすぐに死滅すること
が多いが、ある程度の量となると増殖が勝ち、有機物の
増加や特定元素濃縮の原因となる。こうした問題は、装
置使用頻度が低い場合や、機器のメインテナンス時、装
置使用企業の長期休暇等による長期休止時に発生し易
く、また、タンク64以外の部分、例えば取水ラインでも
生じ易い。
However, both the pure water producing apparatuses 60 and 70 currently provided as described above have problems. In the case of the device 60 shown in FIG. 7, bacteria may be generated in the water storage tank 64. Primary pure water system
It can be considered that there is almost no bacteria in the primary treated water Wo that has passed through 61, however, the disinfection in the tank 64 is incomplete, or for example, the wall junction of the tank 64 or the flow path If there is a slight gap or the like at the joint portion with the constituent pipe, bacteria may enter the tank 64. If the amount of contamination is small, such bacteria often die immediately. However, when the amount is a certain amount, the bacteria win the growth, causing an increase in organic matter and concentration of specific elements. Such a problem is likely to occur when the frequency of use of the device is low, during maintenance of the device, during a long period of suspension due to a long vacation of the company using the device, and also in a portion other than the tank 64, for example, a water intake line.

【0010】これに対し、図8に示される純水製造装置
70の場合には、そうした欠点はかなりな程度、改善され
る。すなわち、取水口付近での水の滞りがこうした細菌
の発生を招くので、取水する以外の純水を再度、二次純
水システム66に戻すように構成することで、水質が良好
に保たれる。しかし、精緻な内部機構を有する二次純水
システム66の使用頻度がこれにより増すことになるの
で、その負担が増し、寿命が低減する。また、図7に示
す従来装置60に比せば良いとはいっても、特に二次純水
システム66への入力までの流路部分や循環流路中には、
細菌を死滅させるための積極的な機能装置は組込まれて
いないので、細菌増殖の恐れはやはり残っている。
On the other hand, a pure water producing apparatus shown in FIG.
In the case of 70, such disadvantages are considerably improved. That is, since water stagnation near the water intake causes the generation of such bacteria, pure water other than water to be taken is returned to the secondary pure water system 66 again, so that the water quality is kept good. . However, the frequency of use of the secondary pure water system 66 having a sophisticated internal mechanism is increased, thereby increasing the burden and shortening the service life. Further, although it may be better compared to the conventional device 60 shown in FIG. 7, in particular, in the flow path portion up to the input to the secondary pure water system 66 and in the circulation flow path,
The fear of bacterial growth remains, as no active functional devices for killing bacteria are incorporated.

【0011】ここで、細菌の積極的な撲滅という観点に
立つと、酸素がなければ細菌は生きて行けないから、結
局、装置出力流体中における溶存酸素濃度の低減という
課題に繋がる。と言うことはつまり、上述したような半
導体装置の作製時に要求される溶存酸素の低減という課
題の克服が、同時にまた、細菌の発生抑止効果を生み得
ることになる。
Here, from the viewpoint of the active eradication of bacteria, bacteria cannot survive without oxygen, which ultimately leads to the problem of reducing the concentration of dissolved oxygen in the fluid output from the device. In other words, overcoming the problem of reducing dissolved oxygen required at the time of manufacturing a semiconductor device as described above can simultaneously produce an effect of suppressing the generation of bacteria.

【0012】ところが、溶存酸素濃度低減という機能的
な観点だけからすれば極めて効果的な、既述の真空脱気
法やバブリング法も、図7,8に示した従来の純水製造
装置60,70に代表される既存の流体純化装置に対し、装
置として実際に組込むとなると、極めて困難であるか、
不能であることが多い。例えばバブリング法は、当該バ
ブリングを行なうための流体貯留タンクを必須とし、流
路中において流体流を安定に保ちながらバブリングする
ことはできない。一般にパイプとして構成される流体流
路内に気泡を発生させると流体の流れを妨げるからであ
る。その意味から、図8に示された従来装置70における
循環流路71を含んでなる循環系中には組込むことはでき
ない。これに対し、図7に示した従来装置60であれば、
そもそもタンク64を有しているので、例えばここでバブ
リングを行なうように改造することも考えられるが、当
該バブリング法のみにて不要な溶存気体を殆ど追い出し
得るようにし、かつその処理時間短縮のために高効率化
するには、それなりに大型な装置(タンク64)を必要と
し、したがってまた、高価な高純度不活性ガスも多量に
用いねばならない。バブリングに用いた気体の回収も困
難である。
However, the vacuum degassing method and the bubbling method described above, which are extremely effective only from the functional viewpoint of reducing the dissolved oxygen concentration, can be used in the conventional pure water producing apparatuses 60 and 60 shown in FIGS. It would be extremely difficult to actually incorporate it into an existing fluid purification device represented by 70 as a device,
Often impossible. For example, the bubbling method requires a fluid storage tank for performing the bubbling, and it is impossible to perform bubbling while maintaining a stable fluid flow in the flow path. This is because the generation of bubbles in the fluid flow path generally configured as a pipe impedes the flow of the fluid. In that sense, it cannot be incorporated in the circulation system including the circulation flow channel 71 in the conventional device 70 shown in FIG. In contrast, with the conventional device 60 shown in FIG.
Since it has the tank 64 in the first place, for example, it may be modified to perform bubbling here.However, it is possible to almost eliminate unnecessary dissolved gas only by the bubbling method, and to shorten the processing time. In order to achieve high efficiency, a relatively large apparatus (tank 64) is required, and a large amount of expensive high-purity inert gas must also be used. It is also difficult to recover the gas used for bubbling.

【0013】真空脱気法の場合にはさらに、バブリング
装置とは比ぶるもない程に装置が巨大化し、これを図
7,8に示すような純水製造装置に組込むことは、理論
的には可能であっても実際には不可能である。この手法
に従う場合、真空槽中から純水が逆流するのを防ぐた
め、少なくとも1気圧に相当する水中高さである10mを
越えた高所から注水せねばならない。したがって、真空
脱気塔と呼ばれる巨大設備の建設が不可避であり、不経
済であるばかりでなく、融通性に極めて乏しいものとな
る。
In the case of the vacuum degassing method, the size of the apparatus is so large that it is incomparable to the bubbling apparatus. It is theoretically impossible to incorporate the apparatus into a pure water production apparatus as shown in FIGS. Is possible but not actually possible. When this method is followed, in order to prevent the backflow of pure water from the vacuum chamber, water must be injected from a height higher than 10 m, which is a water height equivalent to at least one atmosphere. Therefore, the construction of a huge facility called a vacuum degassing tower is inevitable, which is not only uneconomical but also extremely inflexible.

【0014】その一方で、純水製造に限らず、一般的な
意味での流体純化に関しても、処理対象流体中から望ま
しくない溶存気体をできるだけ追い出したいとするニー
ズは高まる一方である。例えば、(1) 食品等の腐敗速度
を落とすため、水中の酸素量を下げたい,(2) 上下水道
パイプ等、各種配管中の錆の発生を防ぐため、パイプ内
水流中の溶存酸素量を下げたい,(3) 各種溶液を用いた
化学反応制御の高精度化のため、当該溶液中から目的と
する反応の阻害要因となる溶存気体を除去したい,(4)
クロマトグラフィ分析では分析対象溶液中に溶け込んだ
各種気体がノイズとしてのスペクトルピークを出現させ
るので、信号対雑音比を上げ、分析精度を上げるため
に、当該溶液中の溶存気体量を低減したい,(5) 同位体
元素を用いた放射線検出では、対象溶液中に溶け込んだ
ラドン等の放射性気体が問題になるので、これを除去し
たい,(6) タービン等にあって高圧の掛かる環境下で使
用されている流体にあっては、溶存気体が分離して気液
混合状態となり易く、重大な事故に繋がる危険を招くこ
とがあるので、溶存気体をできるだけ除去したい,等
々、実に様々、かつ切実な要求がある。
On the other hand, not only in the production of pure water but also in the purification of fluids in a general sense, there is a growing need to drive out undesired dissolved gases from the fluid to be treated as much as possible. For example, (1) reduce the amount of oxygen in water to reduce the rate of spoilage of foods, etc., (2) reduce the amount of dissolved oxygen in the water flow in pipes to prevent rust in various pipes such as water and sewer pipes. I want to lower, (3) I want to remove dissolved gas that is a factor that hinders the target reaction from the solution to improve the precision of chemical reaction control using various solutions, (4)
In chromatographic analysis, various gases dissolved in the solution to be analyzed cause spectral peaks to appear as noise, and therefore, in order to increase the signal-to-noise ratio and increase the analysis accuracy, it is desirable to reduce the amount of dissolved gas in the solution. ) Radiation detection using isotopes is problematic for radioactive gas such as radon dissolved in the target solution, so we want to remove it. (6) Used in high pressure environments such as turbines In the case of fluids, the dissolved gas is likely to separate and become a gas-liquid mixed state, which may lead to a serious accident, which may lead to serious accidents. Therefore, it is necessary to remove dissolved gas as much as possible. is there.

【0015】このような種々の要求に応えるためには、
まずもって従来のバブリング法や真空脱気法のように、
装置構造的に使途ないし使用個所に制約があるとか、維
持管理費をも含めてコスト的に高くつくものであっては
ならず、コンパクトで使用個所に余り制約のない、融通
性に優れたものでなければならない。その上で、性能的
にも満足で、純水に代表される各種流体中から不要な溶
存気体を効率的かつ高信頼度で抜くことができるもので
なければならない。本発明はまさしく、このような観点
に立って成されたものである。
[0015] In order to meet such various demands,
First of all, like the conventional bubbling method and vacuum degassing method,
It should not be expensive in terms of equipment structure or where it is used or where it is to be used, or should not be expensive in terms of maintenance and maintenance costs. Must. In addition, it must be satisfactory in terms of performance and must be able to efficiently and reliably remove unnecessary dissolved gases from various fluids represented by pure water. The present invention has been made from such a point of view.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明では、処理対象の流体を閉鎖循環流路中に流
し得るようにし、かつ、この閉鎖循環流路中の一部に小
型な装置構成で済む脱気部を設けた流体循環脱気装置を
提供する。すなわち、本発明ではまず、循環ポンプの稼
働により流体を循環させる閉鎖循環流路中に対し、一方
の開口から流入した流体が他方の開口から流出する一対
の開口と、当該一方の開口から流入した流体が他方の開
口に向かって流れるときに当該流体がその内面に沿って
流れる筒状の周壁とを有する中空筒状部材を直列に挿入
する。そして、この中空筒状部材の当該周壁の一部また
は全部を気体透過膜により構成した上で、気体透過膜の
外部空間を負圧にするか、または除去すべき所定の溶存
気体以外の気体を満たすことで正圧にする脱気部を設
け、さらに、閉鎖循環流路に対し選択的に処理対象の流
体を流入させるため、流路開閉弁を持つ流体流入路と、
閉鎖循環流路から選択的に処理済の流体を取り出すた
め、流路開閉弁を有する流体流出路とを設ける。
In order to achieve the above object, the present invention provides a method in which a fluid to be treated can flow into a closed circulation flow path, and a small-sized part of the closed circulation flow path is provided. Provided is a fluid circulation deaeration device provided with a deaeration unit that requires only a device configuration. That is, in the present invention, first, in the closed circulation channel that circulates the fluid by operating the circulation pump, a pair of openings in which the fluid flowing in from one opening flows out from the other opening, and flows in from the one opening. A hollow cylindrical member having a cylindrical peripheral wall through which the fluid flows along the inner surface when the fluid flows toward the other opening is inserted in series. Then, after part or all of the peripheral wall of the hollow cylindrical member is formed of a gas permeable membrane, the external space of the gas permeable membrane is set to a negative pressure, or a gas other than a predetermined dissolved gas to be removed is removed. A deaeration unit for providing a positive pressure by filling, and further, a fluid inflow path having a flow path opening / closing valve to selectively flow the fluid to be processed into the closed circulation flow path,
In order to selectively remove the processed fluid from the closed circulation channel, a fluid outflow channel having a channel opening / closing valve is provided.

【0017】本発明ではまた、閉鎖循環流路の一部に
は、流体を一時貯留できる密閉型のタンクを設けた流体
循環脱気装置も提案する。この場合には、当該タンクは
閉鎖循環流路の一部を構成する。したがって、上記の流
体流入路はこのタンクに対して開口していても良いし、
流体流出路がこのタンクに対して開口していても良く、
あるいはまた、両者共に、当該タンクに対して開口して
いても良い。
The present invention also proposes a fluid circulation deaerator in which a closed tank capable of temporarily storing fluid is provided in a part of the closed circulation flow path. In this case, the tank forms a part of the closed circulation channel. Therefore, the fluid inflow path may be open to this tank,
A fluid outflow channel may be open to this tank,
Alternatively, both may be open to the tank.

【0018】さらに本発明では、閉鎖循環流路中に不純
物除去用のフィルタが設けられていたり、これに代え
て、あるいはこれと共に、流体流出路にあって当該流体
流出路に設けられている流路開閉弁と閉鎖循環流路との
間の部分に不純物除去用のフィルタが設けられている流
体循環脱気装置も提案する。
Further, according to the present invention, a filter for removing impurities is provided in the closed circulation flow path, or a filter for removing impurities is provided in the fluid outflow path and provided in the fluid outflow path. There is also proposed a fluid circulation deaerator in which a filter for removing impurities is provided in a portion between the passage opening / closing valve and the closed circulation passage.

【0019】[0019]

【実施例】図1には、本発明に従って構成された一実施
例である流体循環脱気装置100 の要部概略構成が示され
ている。まず、循環ポンプ15が稼働することで、除去す
べき所定の気体を含んでいる処理対象流体Fを循環でき
る閉鎖循環流路10がある。この閉鎖循環流路10は、実際
には既存市販の中空パイプを用いて構築できる。
FIG. 1 shows a schematic configuration of a main portion of a fluid circulation deaerator 100 according to an embodiment of the present invention. First, there is a closed circulation flow path 10 that can circulate the processing target fluid F containing a predetermined gas to be removed by operating the circulation pump 15. This closed circulation channel 10 can be actually constructed using existing commercially available hollow pipes.

【0020】閉鎖循環流路10の一部には脱気部20が設け
られている。脱気部20における閉鎖循環流路10の周壁の
一部または全部は気体透過膜21となっており、この気体
透過膜21の外部空間22は、この図1中では矢印23により
模式的に示しされているように、排気されて負圧にされ
るか、または矢印24にて示されているように、除去すべ
き溶存気体以外の気体の圧気により正圧とされている。
そして、この気体透過膜21の外部空間22は、実際にはこ
れを所定の体積範囲内に限定することが便利なため、当
該気体透過膜21の周囲を高い密封性をもって覆う密閉容
器25の内部空間22となっている。
A part of the closed circulation flow path 10 is provided with a deaeration section 20. Part or all of the peripheral wall of the closed circulation flow path 10 in the deaeration section 20 is a gas permeable membrane 21, and an external space 22 of the gas permeable membrane 21 is schematically shown by an arrow 23 in FIG. As shown, the gas is exhausted to a negative pressure, or, as indicated by arrow 24, to a positive pressure by the pressure of a gas other than the dissolved gas to be removed.
Since the outer space 22 of the gas permeable membrane 21 is actually conveniently limited to a predetermined volume range, the outer space 22 of the gas permeable membrane 21 is sealed inside the sealed container 25 with high sealing properties. It is space 22.

【0021】流体Fの循環経路はこのように構成されて
いるが、処理すべき流体Fを閉鎖循環流路10中に選択的
に流入させるため、当該閉鎖循環流路10の一部に開口し
た流体流入路11と、閉鎖循環流路10中から選択的に処理
済流体Fを取り出すため、同じく閉鎖循環流路10の一部
に開口した流体流出路12が備えられ、これら流体流入路
11、流体流出路12には、それぞれ選択的にそれら流路を
開閉できる流路開閉弁13,14が設けられている。さら
に、この実施例では、溶存気体以外にも流体F中から固
溶物等、望ましくない溶解物を除去するために、それ自
体は公知のものであって良いフィルタ16が閉鎖循環流路
10中に設けられている。
The circulation path of the fluid F is configured as described above. However, in order to allow the fluid F to be treated to selectively flow into the closed circulation flow path 10, it is opened at a part of the closed circulation flow path 10. In order to selectively remove the treated fluid F from the fluid inflow channel 11 and the closed circulation channel 10, a fluid outflow channel 12 which is also open to a part of the closed circulation channel 10 is provided.
The fluid outflow passage 12 is provided with flow passage opening / closing valves 13 and 14 which can selectively open and close the flow passages, respectively. Further, in this embodiment, in order to remove undesired dissolved substances such as solid solutions from the fluid F in addition to the dissolved gas, the filter 16 which may be a known one is provided with a closed circulation flow path.
It is provided in 10.

【0022】ここで、脱気部20の具体的構成は、望まし
くは図3に示すような構成とすることができる。まず、
閉鎖循環流路10の一部の周壁に設ける気体透過膜21は、
中空筒状部材31の周壁として構成する。すなわち、一方
から流入した流体Fが他方に向けて流れて行く一対の開
口26,26があり、これら一対の開口26,26間を結ぶ内部
中空の筒状部分を有する中空筒状部材31の周壁の少なく
とも一部に対し、気体透過膜21を設ける。そして特に、
この実施例では、中空筒状部材31の周壁の全てが筒状
(後述のように、実際にはかなりな長さとなる場合が多
いので、チューブ状ないしホース状と言っても良い)の
気体透過膜21によって構成されており、換言すれば、中
空筒状部材31は中空筒状気体透過膜21そのものにより構
成されている。なお、本発明で言う気体透過膜21とは、
処理対象の流体は通過させないが脱気の対象となる気体
は透過させる程度の微細径の孔を無数に持ったものを言
い、このような部材は、後にその一例を挙げるように、
すでに市場にて容易に入手可能である。
Here, a specific configuration of the deaeration unit 20 can be desirably a configuration as shown in FIG. First,
The gas permeable membrane 21 provided on a part of the peripheral wall of the closed circulation flow path 10,
The hollow cylindrical member 31 is configured as a peripheral wall. That is, there is a pair of openings 26, 26 through which the fluid F flowing from one side flows toward the other, and a peripheral wall of a hollow cylindrical member 31 having an inner hollow cylindrical portion connecting the pair of openings 26, 26. The gas permeable membrane 21 is provided for at least a part of the above. And especially,
In this embodiment, all of the peripheral wall of the hollow cylindrical member 31 has a tubular shape (it may be called a tube shape or a hose shape because it is often a considerable length as described later). The hollow cylindrical member 31 is configured by the hollow cylindrical gas permeable membrane 21 itself. Incidentally, the gas permeable membrane 21 referred to in the present invention,
The gas to be treated does not pass through, but the gas to be degassed refers to the one with an infinite number of holes with a fine diameter enough to pass through, and such a member, as will be given later, as an example,
It is already readily available on the market.

【0023】中空筒状部材31は、この実施例では先に少
し述べたように密閉容器25内に収められ、したがって中
空筒状部材31ないし気体透過膜21の外部空間22は、実質
的に当該中空筒状部材31を収める密閉容器25の内部空間
22となっている。こうした密閉容器25には、排気装置と
圧気装置のいずれか一つを接続できる。すなわち、一般
的な排気ポンプ33で構成できる排気装置32を接続し、こ
れを稼働させれば、当該密閉容器25の内部空間である気
体透過膜21の外部空間22は矢印23で示すように排気さ
れ、相対的に負圧になる。一方、密閉容器25に対し、例
えばコンプレッサ37により構成できる気体圧送装置34を
接続し、これを稼働させれば、流体Fに対して入気させ
ても差し支えない種類の入気用気体36を貯蔵している気
体源35からの当該入気用気体36が密閉容器25の内部空間
(気体透過膜21の外部空間22)内に加圧供給され、当該
内部空間22は相対的に正圧になる。ただし、気体圧送装
置34と気体源35は必ずしも別途な機能部材でなくとも良
く、例えばいわゆるガスボンベ38であれば、これが気体
圧送装置34と気体源35とを兼ねることになる。
In this embodiment, the hollow cylindrical member 31 is housed in the closed container 25 as described above, so that the hollow cylindrical member 31 or the outer space 22 of the gas permeable membrane 21 is substantially the same as the hollow cylindrical member 31. The internal space of the closed container 25 for storing the hollow cylindrical member 31
22. Any one of an exhaust device and a pneumatic device can be connected to such a sealed container 25. That is, if an exhaust device 32 that can be constituted by a general exhaust pump 33 is connected and operated, the external space 22 of the gas permeable membrane 21 which is the internal space of the closed vessel 25 is exhausted as shown by an arrow 23. And the pressure becomes relatively negative. On the other hand, a gas pressure feeding device 34, which can be constituted by, for example, a compressor 37, is connected to the closed vessel 25, and if this is operated, an air gas 36 of a type that can be fed into the fluid F is stored. The incoming gas 36 from the gas source 35 is supplied under pressure into the internal space of the sealed container 25 (the external space 22 of the gas permeable membrane 21), and the internal space 22 becomes relatively positive pressure. . However, the gas pumping device 34 and the gas source 35 do not necessarily have to be separate functional members. For example, in the case of a so-called gas cylinder 38, this serves as both the gas pumping device 34 and the gas source 35.

【0024】中空筒状部材31、ないしこの実施例での中
空筒状気体透過膜21の一対の開口端は、それぞれ密閉容
器25に設けられたコネクタ27,27の容器内側の端部に接
続され、これらコネクタ27,27の外端部が、それぞれ、
閉鎖循環流路10を構成しているパイプ手段を一部取り除
いて形成された臨向開口端の一つ宛に結合している。こ
れにより、閉鎖循環流路10中に、中空筒状部材31ないし
この実施例での中空筒状気体透過膜21が直列に挿入され
る。
A pair of open ends of the hollow cylindrical member 31, or the hollow cylindrical gas permeable membrane 21 in this embodiment, are connected to inner ends of connectors 27, 27 provided in the closed container 25, respectively. , The outer ends of these connectors 27, 27, respectively,
The pipe means constituting the closed circulation flow path 10 is partially removed and connected to one of the facing open ends formed. Thereby, the hollow cylindrical member 31 or the hollow cylindrical gas permeable membrane 21 in this embodiment is inserted in series into the closed circulation flow path 10.

【0025】このような図3に示される脱気部20を有す
る図1に示される本流体循環脱気装置100 は、次のよう
に用いることができる。流体流入路11に付属の流路開閉
弁13を開き、所定量の流体Fを閉鎖循環流路10中に導入
した後、当該流路開閉弁13を閉じてから循環ポンプ15を
稼働させ、閉鎖循環流路10中に導入した流体Fを当該閉
鎖循環流路10中に循環させる。このとき、図3に示され
る排気装置32と気体圧送装置34の中、排気装置32が使用
されるならば、閉鎖循環流路10の一部を成している筒状
気体透過膜21の内部を通過する度に、当該気体透過膜21
の外部空間22が排気装置32により排気されて負圧になっ
ている結果、流体F中の溶存気体は相対的により分圧の
低い気体透過膜21の側に引かれて当該膜21に溶解し、さ
らにこの気体透過膜21に溶解した気体はより分圧の低い
外部空間22の側に引かれ、最終的には当該負圧となって
いる外部空間22に排出される。
The fluid circulation deaerator 100 shown in FIG. 1 having the deaerator 20 shown in FIG. 3 can be used as follows. After opening the flow path opening / closing valve 13 attached to the fluid inflow path 11 and introducing a predetermined amount of fluid F into the closed circulation flow path 10, the flow path opening / closing valve 13 is closed, and then the circulation pump 15 is operated and closed. The fluid F introduced into the circulation channel 10 is circulated through the closed circulation channel 10. At this time, if the exhaust device 32 is used among the exhaust device 32 and the gas pumping device 34 shown in FIG. 3, the inside of the cylindrical gas permeable membrane 21 forming a part of the closed circulation flow path 10 Every time it passes through the gas permeable membrane 21
As a result, the dissolved gas in the fluid F is drawn toward the gas permeable membrane 21 having a relatively lower partial pressure and dissolved in the membrane 21. Further, the gas dissolved in the gas permeable membrane 21 is drawn toward the external space 22 having a lower partial pressure, and is finally discharged to the external space 22 having the negative pressure.

【0026】こうしたメカニズムから明らかなように、
流体F中からの脱気量は、負圧の程度、流体Fの流速、
中空筒状部材31ないし筒状気体透過膜21の長さ等、種々
のパラメータによって変わるのみならず、繰返して何
回、気体透過膜21を通過するか(閉鎖循環流路10中の循
環回数を何回にするか)によって変わる。もちろん、大
い程、脱気効果は高まるが、これは処理時間との両天秤
となる。したがって、循環回数を多く採ることが許され
るならば、気体透過膜21の長さは短くでき、装置の小型
化に繋がる。
As is apparent from such a mechanism,
The amount of deaeration from the fluid F depends on the degree of negative pressure, the flow rate of the fluid F,
Not only does it vary depending on various parameters such as the length of the hollow tubular member 31 or the tubular gas permeable membrane 21, but also how many times it passes through the gas permeable membrane 21 (the number of circulations in the closed circulation flow path 10 How many times). Of course, the greater the effect, the greater the degassing effect, but this is a balance between processing time. Therefore, if the number of circulations is allowed to be large, the length of the gas permeable membrane 21 can be shortened, which leads to a reduction in the size of the device.

【0027】いずれにしても、このような脱気処理によ
り流体F中から必要程度の脱気をなしたならば、流体流
出路12に付属の流路開閉弁14を開くことで、溶存気体量
が十分に低減された流体Fを得ることができる。
In any case, if a necessary degree of deaeration is performed from the fluid F by such deaeration processing, the flow opening / closing valve 14 attached to the fluid outflow path 12 is opened to thereby determine the amount of dissolved gas. Can be obtained sufficiently.

【0028】しかるに、図3において排気装置32によっ
て気体透過膜21の外部空間22を排気するのに代えて、気
体圧送装置34を用いても、流体F中から除去すべき所定
気体の脱気は図れる。すなわち、気体源35から得られる
入気用気体36として、流体Fから除去しようとする以外
の気体を選び、これを気体圧送装置34により密閉容器25
の内部空間22に加圧供給すると、流体F内から除去しよ
うとする溶存気体にしてみれば、やはり筒状気体透過膜
21を挟んで対向する外部空間22の側の分圧の方が低くな
り、その結果、流体Fの溶存気体は、先と同じ過程を経
て、気体透過膜21の外部空間22に出て行くようになる。
したがって、こうした脱気処理は、流体F中に溶存させ
ても差し支えない気体36により、溶存させたくない気体
を置換的に除去する処理となる。
However, in FIG. 3, instead of exhausting the outer space 22 of the gas permeable membrane 21 by the exhaust device 32, a gas pumping device 34 can be used to degas a predetermined gas to be removed from the fluid F. I can do it. In other words, a gas other than the gas to be removed from the fluid F is selected as the gas for intake 36 obtained from the gas source 35, and this gas is supplied to the closed container 25 by the gas pressure feeding device 34.
When the dissolved gas to be removed from the fluid F is supplied to the internal space 22 by pressurization, the cylindrical gas permeable membrane
The partial pressure on the side of the outer space 22 opposed to the outer space 21 is lower, and as a result, the dissolved gas of the fluid F passes through the same process as before and exits to the outer space 22 of the gas permeable membrane 21. become.
Therefore, such a degassing process is a process of replacing the gas not desired to be dissolved by the gas 36 which may be dissolved in the fluid F.

【0029】なお、この原理では、流体F内から除去し
ようとする溶存気体にしてみれば気体透過膜21の外部空
間22の方が負圧に、入気用気体36にしてみれば正圧にな
るような圧力関係が生ずれば良いので、密閉容器25の内
部空間22(気体透過膜21の外部空間22)の絶対圧力値は
密閉容器外と変わりなくても(例えば内外共に1気圧で
あっても)良い場合もある。さらに、密閉容器25内に供
給する入気用気体36の純度を落とさないために、密閉容
器25には図示していないが排気口も設け、気体圧送装置
34ないしガスボンベ38から供給される入気用気体36が常
に密閉容器内部を通過して排気口から出て行く構成にす
ることもできる。
According to this principle, the outer space 22 of the gas permeable membrane 21 has a negative pressure when the dissolved gas to be removed from the fluid F is to be removed, and has a positive pressure when the dissolved gas is to be removed from the fluid F. Since it is sufficient that such a pressure relationship is generated, the absolute pressure value of the internal space 22 of the sealed container 25 (the outer space 22 of the gas permeable membrane 21) is the same as that of the outside of the sealed container (for example, 1 atm for both inside and outside). Even better) in some cases. Further, in order to prevent the purity of the gas for air supply 36 supplied into the closed vessel 25 from being lowered, the closed vessel 25 is also provided with an exhaust port (not shown),
It is also possible to adopt a configuration in which the inlet gas 36 supplied from the gas cylinder 38 always passes through the inside of the closed vessel and exits from the exhaust port.

【0030】図2は、本発明の第二実施例としての流体
循環脱気装置100 を示している。先と同一の符号は同一
ないし同様の構成要素を示しているが、図1に示される
実施例装置と異なる所は、閉鎖循環流路10中にさらに、
望ましくは密閉型の貯留タンク40が介在していること、
換言すれば、閉鎖循環流路10の一部が貯溜タンク40にな
っていることである。その他の構成は図1に示した装置
に準じて良く、また、閉鎖循環流路10中に介在させる脱
気部20に関する具体的な構成例としても、図3に示した
構成を採用することができる。ただし、閉鎖循環流路10
に対し選択的に流体Fを供給するための流路開閉弁13付
きの流体流入路11は、図示のようにこの新たに設けられ
た貯留タンク40に対して設けられて良いし、場合によっ
ては流路開閉弁14付きの流体流出路12の方も、図中、仮
想線で描かれ、ダッシュを付した符号14’,12’で示す
ように、この貯留タンク40に対して設けても良い。そう
ではなく、図2中で仮想線で描かれ、ダッシュを付した
符号11’,13’で示すように、流路開閉弁13’付きの流
体流入路11’も先の実施例と同様、閉鎖循環流路10に対
して直接に開口するように設けられても良く、この場
合、貯留タンク40は閉鎖循環流路10に対して開口する部
分以外、開口部分を持たないものとし得る。さらに、実
線で示されている流体流入路11が流体流出路であり、流
体流出路12が流体流入路となるようにして用いることも
できる。
FIG. 2 shows a fluid circulation deaerator 100 according to a second embodiment of the present invention. The same reference numerals as those described above indicate the same or similar components. However, different points from the embodiment apparatus shown in FIG.
Desirably that a closed storage tank 40 is interposed,
In other words, a part of the closed circulation channel 10 is a storage tank 40. Other configurations may be the same as those of the apparatus shown in FIG. 1, and the configuration shown in FIG. 3 may be employed as a specific configuration example of the deaerator 20 interposed in the closed circulation flow path 10. it can. However, the closed circulation channel 10
The fluid inflow path 11 with the flow path opening / closing valve 13 for selectively supplying the fluid F may be provided for the newly provided storage tank 40 as shown in the drawing, or in some cases. The fluid outflow path 12 with the flow path opening / closing valve 14 may also be provided for the storage tank 40 as shown by dashed lines 14 ′ and 12 ′ in the figure. . Rather, as shown by phantom lines in FIG. 2 and indicated by dashed reference numerals 11 ′ and 13 ′, the fluid inflow path 11 ′ with the flow path opening / closing valve 13 ′ is similar to the previous embodiment. The storage tank 40 may be provided so as to open directly to the closed circulation channel 10, and in this case, the storage tank 40 may not have an opening portion other than the portion opened to the closed circulation channel 10. Further, the fluid inflow path 11 indicated by a solid line may be used as a fluid outflow path, and the fluid outflow path 12 may be used as a fluid inflow path.

【0031】こうした図2に示される実施例装置100 で
も、先に説明した図1に示される実施例装置100 の稼働
手法と同じ手法により、脱気部20にて、閉鎖循環流路10
中に供給された流体F中から除去すべき溶存気体を効果
的に脱気することができる。しかも、図1に示される実
施例装置100 と比べると、貯留タンク40がある分、一回
の放出流体量を多くすることができる。なお、本発明で
は、貯留タンク40には閉鎖循環流路10中にて脱気部20に
より脱気した流体Fを貯留するため(しかも既述のよう
に、必要な脱気量を得るために要すれば何回でも循環脱
気処理できるので)、脱気対象気体を酸素とし、流体F
中の溶存酸素濃度を繰返し脱気により極低濃度化するこ
とで、図7に即して説明した従来の純水製造装置60にお
いて用いられているタンク64とは異なり、この貯溜タン
ク40内での細菌の発生等は起こさせないで済む。ただ
し、望ましくは貯留タンク40内にあって流体Fの貯留さ
れている以外の余剰空間は、当該流体Fにとって溶存さ
せても差し支えない気体、例えば上述のように酸素を除
去する必要があるがアルゴンや窒素等は溶存させても構
わない場合には、それらアルゴンや窒素で充填しておく
と良い。
In the embodiment apparatus 100 shown in FIG. 2 as well, the closed circulation flow path 10 in the deaeration section 20 is operated in the same manner as the operation method of the embodiment apparatus 100 shown in FIG.
The dissolved gas to be removed from the fluid F supplied therein can be effectively degassed. Moreover, as compared with the embodiment apparatus 100 shown in FIG. 1, the amount of fluid discharged at one time can be increased by the amount of the storage tank 40. In the present invention, the storage tank 40 stores the fluid F degassed by the degassing section 20 in the closed circulation flow path 10 (and as described above, in order to obtain a necessary degassing amount). The circulation degassing process can be performed as many times as necessary), so that the gas to be degassed is oxygen and the fluid F
By repeatedly reducing the dissolved oxygen concentration in the storage tank 40 to an extremely low concentration by deaeration, unlike the tank 64 used in the conventional pure water production apparatus 60 described with reference to FIG. It is not necessary to cause the generation of bacteria. However, desirably, the surplus space in the storage tank 40 other than the space in which the fluid F is stored is a gas which may be dissolved in the fluid F, for example, as described above, it is necessary to remove oxygen. And nitrogen or the like may be dissolved, it is preferable to fill them with argon or nitrogen.

【0032】ここで、図2に示される実施例装置100 を
用い、流体Fとして酸素溶存量の少ない純水を得るため
に行なった具体的な実験例を挙げる。実験装置の構成例
は図4に示す通りで、公知既存の一次純水システム61に
より処理された一次処理水WOを送水ポンプ62により図2
に示される流体流入路11から容量 100リットルの貯留タ
ンク40内に供給した。もちろん、このときには流体流入
路11に付属の流路開閉弁13をのみ開き、流体流出路12に
付属の流路開閉弁14は閉じてある。用いた一次純水シス
テム61は、活性炭フィルタ、微粒子を取り去るための1
μm 径程度の孔の開いたフィルタ、及び逆浸透膜を用い
て構成されたもので、また、タンク40内の空き空間は高
純度の窒素で満たすようにした。
Here, a specific example of an experiment conducted to obtain pure water having a small amount of dissolved oxygen as the fluid F using the apparatus 100 of the embodiment shown in FIG. 2 will be described. Configuration example of the experimental apparatus is as shown in FIG. 4, FIG. 2 primary treatment water W O treated with known existing primary pure water system 61 by the water pump 62
Was supplied into the storage tank 40 having a capacity of 100 liters from the fluid inflow path 11 shown in FIG. Of course, at this time, only the flow passage opening / closing valve 13 attached to the fluid inflow passage 11 is opened, and the flow passage opening / closing valve 14 attached to the fluid outflow passage 12 is closed. The primary pure water system 61 used was an activated carbon filter and a 1
The filter was constructed using a filter having a hole having a diameter of about μm and a reverse osmosis membrane, and an empty space in the tank 40 was filled with high-purity nitrogen.

【0033】貯溜タンク40内に一次処理水WOを満たした
後、流体流入路11の流路開閉弁13を閉じ、送水ポンプ62
も止めてから、循環ポンプ15を稼働させてタンク40内の
水を閉鎖循環流路10中に流速1リットル/分で流し、脱気部20
に通した。脱気部20では、周囲環境温度20℃の下、図3
中における排気装置32の方を選択し、排気ポンプ33とし
て用いたエンブレムポンプにより、密閉容器25の内部を
数十Torrに排気した。また、脱気部20にて既述した中空
筒状部材31として用いた気体透過膜21は、埼玉県川口市
所在の株式会社イーアールシーから型番名「ERC30
1601」として市販のもので、内径は約 1cm,長さは
約10mである。したがって、この気体透過膜21は、中空
筒状であることに間違いはないが、五感表現的には長尺
チューブ状ないしホース状のものとなっており、また、
これを一直線に伸ばして密閉容器25内に収めたのではな
く、全長約 1mの塩化ビニール製パイプ状密閉容器25内
にくねくねと曲げながら収めた。もちろん、原理的には
密閉容器25の材質に制約はない。
After filling the storage tank 40 with the primary treated water W O , the flow opening / closing valve 13 of the fluid inflow path 11 is closed, and the water supply pump 62
After stopping the operation, the circulation pump 15 is operated to flow the water in the tank 40 into the closed circulation flow path 10 at a flow rate of 1 liter / min.
Passed. In the deaeration section 20, at ambient temperature of 20 ℃,
The inside exhaust device 32 was selected, and the inside of the sealed container 25 was exhausted to several tens Torr by the emblem pump used as the exhaust pump 33. The gas permeable membrane 21 used as the hollow tubular member 31 described above in the degassing section 20 was obtained from ERC Co., Ltd., located in Kawaguchi City, Saitama Prefecture, under the model number "ERC30".
1601 ", which is about 1 cm in inner diameter and about 10 m in length. Therefore, although there is no doubt that the gas permeable membrane 21 is in the shape of a hollow cylinder, it is a long tube or hose in terms of the five senses.
Instead of being stretched straight and housed in the closed container 25, it was bent and housed in a pipe-shaped closed container 25 made of vinyl chloride of about 1 m in length. Of course, there is no restriction on the material of the sealed container 25 in principle.

【0034】このようにして、予め飽和量である8.1ppm
の酸素を溶存させた一次処理水WOを脱気部20に一度通し
ただけで、その溶存酸素量はすでに1.2ppmにまで減少し
た。そこで、この循環を三度繰返してから、流路開閉弁
14を開け、流体流出路12から取水し、溶存酸素計で計測
した所、その酸素溶存量は80ppb と大きく減少してい
た。なお、取水に際しては溶存酸素以外、不純物も除去
するために、図2中に示されるフィルタ16として、東京
都品川区所在の日本ミリポアリミテッド社市販に係る,
製品名「ミリQSP LowTOC」を用いた。このフ
ィルタは、活性炭フィルタ、1μm 径程度の孔の開いた
フィルタ、イオン交換樹脂膜で構成され、紫外光の照射
もなし得るように構成されているもので、比抵抗18.3M
Ω,有機濃度5ppb以下の純水を 0.8リットル/分で透過可能
であり、さらにナトリウム等のアルカリ金属も0.07ppb
以下に、また他の金属も0.1ppb以下にまで、除去可能と
なっている。このフィルタ性能は、本発明により脱気部
20を設けたことによっても何等阻害されることはなかっ
た。ただ、取水しているときに、循環水がタンク40に戻
る量が減るので、図2中に仮想線で示されるように、念
のため、1psiのキャッチバルブを逆止弁19としてタンク
40への入口開口近傍に設けた。
In this way, the saturated amount of 8.1 ppm
By passing once through the deaeration unit 20 the primary treated water W O in which the dissolved oxygen was dissolved, the dissolved oxygen amount was already reduced to 1.2 ppm. Therefore, after repeating this circulation three times, the flow path on-off valve
14 was opened, water was taken from the fluid outflow channel 12, and measured by a dissolved oxygen meter, the oxygen dissolved amount was greatly reduced to 80 ppb. In addition, in order to remove impurities other than dissolved oxygen at the time of water intake, as a filter 16 shown in FIG. 2, a filter 16 according to Nippon Millipore Limited, located in Shinagawa-ku, Tokyo, Japan, was used.
The product name "Milli QSP LowTOC" was used. This filter is composed of an activated carbon filter, a filter having a hole having a diameter of about 1 μm, and an ion exchange resin membrane, and is configured to be capable of irradiating ultraviolet light.
Ω, can permeate pure water with an organic concentration of 5 ppb or less at 0.8 l / min, and 0.07 ppb of alkali metals such as sodium
Below, other metals can be removed down to 0.1ppb or less. The performance of this filter is
The provision of 20 did not hinder anything. However, since the amount of circulating water returning to the tank 40 during intake is reduced, as shown by the phantom line in FIG.
It was provided near the entrance opening to 40.

【0035】上記の実験装置を一年間に亘って継続運転
したが、サンプラによる検査では貯留タンク40内に細菌
等の発生は認められなかった。
The above-mentioned experimental apparatus was continuously operated for one year, but no bacteria or the like were found in the storage tank 40 by inspection with a sampler.

【0036】本発明の効果は、この一事によっても確認
できるが、さらに、こうした溶存酸素濃度低減効果を検
証するため、(111)表面に酸化膜を有するシリコン基板を
弗酸溶液によりエッチングし、酸化膜を除去した後の水
素終端を試みた。弗酸はEL級のものを用いた。従来
は、こうした処理の前後に用いる純水中に含まれている
溶存酸素によってシリコン表面がすぐに酸化されてしま
い、水素終端が実現できないか、少なくとも稀にしか実
現できなかった。ところが、本流体循環脱気装置100 に
より処理した純水を用いて水素終端のための一連の化学
処理を施した所、劣勢な反応過程である水素終端が、優
勢な酸化反応に拒まれることなく実現できることが確認
された。
Although the effect of the present invention can be confirmed by this fact, in order to verify the effect of reducing the dissolved oxygen concentration, a silicon substrate having an oxide film on the (111) surface is etched with a hydrofluoric acid solution and oxidized. Hydrogen termination after removing the film was attempted. The hydrofluoric acid used was of EL grade. Conventionally, the silicon surface is immediately oxidized by dissolved oxygen contained in pure water used before and after such treatment, and hydrogen termination cannot be realized, or at least rarely. However, when a series of chemical treatments for hydrogen termination was performed using pure water treated by the present fluid circulation deaerator 100, hydrogen termination, which is the inferior reaction process, was not rejected by the predominant oxidation reaction. It was confirmed that it could be realized.

【0037】すなわち、図5は水素終端処理を試みたシ
リコン基板表面の走査型トンネル顕微鏡写真を忠実にト
レースし、描画したものであるが、図中で白っぽく見え
る丸味を帯びた突部が水素原子であり、(111)シリコン基
板表面がトリハイドライドの形で水素終端されている。
実際上、こうした構造が、かなりの面積範囲に亘って構
築されていた。
That is, FIG. 5 is a faithful tracing and drawing of a scanning tunneling microscopic photograph of the surface of the silicon substrate on which the hydrogen termination treatment was attempted. In FIG. 5, the rounded protrusion that looks whitish is a hydrogen atom. And the (111) silicon substrate surface is terminated with hydrogen in the form of trihydride.
In fact, such structures have been built over a considerable area.

【0038】このような実験例から理解されるように、
本発明の流体循環脱気装置100 を用いたことの実践的な
効果は甚だ大きい。かなり小型な装置構成で効率的かつ
効果的に純水等、所与の流体中から不要な溶存気体を除
去できる。従来の真空脱気法に認められたような、巨大
かつ移動不能な高経費設備を要するものとは比べものに
ならない融通性の高さである。さらに、脱気部20の構成
に明らかな通り、流体Fの流れを損なわずに連続的に所
定気体の脱気が行なえる。これは例えば、上記した排気
装置32の稼働に代えて、気体圧送装置34から気体源35中
に充填されているアルゴンとか窒素等、所定の入気用気
体36を流体F中に入気させることで、当該流体F中から
酸素等の除去すべき溶存気体を追い出す場合にもそうで
ある。この原理では、流体F中に飽和量以上の気体が溶
解することはなく、気泡が発生して流体流が損なわれる
ようなことがないからである。したがって、従来のバブ
リング装置のみによる脱気ないし入気法に比しても、本
実施例装置100 は大いに優れているし、さらに、従来の
バブリング法ではその効率を高めようとする程、タンク
が大型化し、これに連れて多量に漏れ出る入気用気体の
回収を図る必要があるが、本実施例装置100 ではその必
要がなく、したがって例えば、水素とかオゾン等、大気
環境に漏れ出すことが望ましくない気体を取扱う場合に
も、本実施例の流体循環脱気装置100 は好適に使用で
き、安全面、環境面でも優れた結果を得ることができ
る。
As can be understood from such experimental examples,
The practical effect of using the fluid circulation deaerator 100 of the present invention is extremely large. Unnecessary dissolved gas, such as pure water, can be efficiently and effectively removed from a given fluid with a fairly small device configuration. The flexibility is incomparable to those required for large, immovable and expensive equipment, such as those recognized in the conventional vacuum degassing method. Further, as is apparent from the configuration of the degassing section 20, the predetermined gas can be continuously degassed without impairing the flow of the fluid F. For example, in place of the operation of the above-described exhaust device 32, a predetermined intake gas 36 such as argon or nitrogen filled in the gas source 35 from the gas pumping device 34 is introduced into the fluid F. This also applies to the case where a dissolved gas such as oxygen to be removed is expelled from the fluid F. According to this principle, a gas having a saturation amount or more does not dissolve in the fluid F, and bubbles are not generated and the fluid flow is not impaired. Therefore, the device 100 of the present embodiment is significantly superior to the deaeration or air inlet method using only the conventional bubbling device, and further, the tank becomes so large that the efficiency of the conventional bubbling method is increased. Although it is necessary to increase the size and to collect a large amount of intake gas that leaks with this, the device 100 of the present embodiment does not need to collect the gas, and therefore, for example, it may leak into the atmospheric environment such as hydrogen or ozone. The fluid circulation deaerator 100 of this embodiment can be suitably used even when dealing with undesired gas, and excellent results can be obtained in terms of safety and environment.

【0039】ちなみに、気体圧送装置34と気体源35とを
兼ねる高純度アルゴンガスボンベ38から図3中には示
していないレギュレータを介し、ゲージ圧1気圧で密閉
容器25中に高純度アルゴンガスを圧気してみた所、上
記飽和量8.1ppmの溶存酸素を持っていた水は、脱気部20
に上記流速で一回通すだけでも900ppb以下にまで、溶存
酸素濃度が低減した。したがって、この圧気原理もま
た、本発明の実現の上で利用可能なことが分かる。
Incidentally, high-purity argon gas is supplied from the high-purity argon gas cylinder 38 serving as the gas pumping device 34 and the gas source 35 into the closed vessel 25 at a gauge pressure of 1 atm via a regulator not shown in FIG. The water which had the dissolved oxygen of the above-mentioned saturation amount of 8.1 ppm was
The concentration of dissolved oxygen was reduced to 900 ppb or less even with a single pass at the above flow rate. Therefore, it can be seen that this pneumatic principle can also be used in realizing the present invention.

【0040】なお、図1,2中の実施例装置100 では、
溶存酸素低減とは直接の関係はないが、本発明を用いた
装置を実用装置として不純物除去機能も高い装置とする
ために用いられるフィルタ16を、閉鎖循環流路10中に設
けている。こうすると、確かにフィルタリング機能は高
まるが、フィルタ16の寿命が早く尽きる場合がある。そ
こで、図中に仮想線で示すように、流体流出路12にあっ
て流路開閉弁14と閉鎖循環流路10との間に位置する部分
にこのフィルタ16を設けるように変更しても良い。図2
中において流体流出路12を仮想線の流体流出路12’で示
すようにタンク40に開口させる場合には、これに連れ、
このフィルタ16も符号16’で示す位置に変更することに
なる。このように変更すると、当然のことながら、流体
Fは流体流出路12を介して取出されるときにのみ、この
フィルタ16を通過することになるので、その寿命が延び
る。そしてまた、実際上、このようにしても、不純物除
去能力に関し、フィルタ16を閉鎖循環流路10中に設けた
場合に比し、それ程の遜色はなかった。ただ、最適に
は、図1,2中に符号17,18で示すように、閉鎖循環流
路10内に第一フィルタ17を、閉鎖循環流路10と流体流出
用流路開閉弁14との間の流体流出路部分に第二のフィル
タ17を設け、先に述べたような精密なフィルタは第二フ
ィルタ17として用い、第一フィルタとしては4μm から
1μm 径程度の孔を持つだけの簡単なフィルタを用いる
と良い。
In the embodiment apparatus 100 shown in FIGS.
Although not directly related to the reduction of dissolved oxygen, a filter 16 is provided in the closed circulation flow path 10 for using the apparatus using the present invention as a practical apparatus and having a high impurity removal function. This certainly increases the filtering function, but may shorten the life of the filter 16 in some cases. Therefore, as shown by a virtual line in the figure, the filter 16 may be changed to be provided in a portion located in the fluid outflow channel 12 and between the channel on-off valve 14 and the closed circulation channel 10. . FIG.
When the fluid outflow channel 12 is opened in the tank 40 as shown by a virtual fluid outflow channel 12 ′,
This filter 16 is also changed to the position indicated by reference numeral 16 '. Such a change would, of course, extend the life of the fluid F, as it would only pass through this filter 16 when it was withdrawn through the fluid outlet 12. Further, in practice, even in this case, the impurity removing ability is not so inferior to the case where the filter 16 is provided in the closed circulation channel 10. However, optimally, as shown by reference numerals 17 and 18 in FIGS. 1 and 2, the first filter 17 is provided in the closed circulation passage 10 and the closed circulation passage 10 and the fluid outflow opening / closing valve 14 are connected to each other. A second filter 17 is provided in the fluid outflow path between the two filters, and the precise filter as described above is used as the second filter 17, and the first filter is from 4 μm.
It is good to use a simple filter having only a hole with a diameter of about 1 μm.

【0041】さらに、図2の実施例装置の構造的な改変
例として示されている図6に示す実施例装置100 のよう
に、閉鎖循環流路10に対し複数本の流体流出路12,・・・・
を設け、その各々に流路開閉弁14,・・・・ を設けて、これ
らを選択的に開閉できるようにすれば、本流体循環脱気
装置100 は、例えば純水分配装置としても用いることが
できる。分配量に鑑みると、図示のように貯溜タンク40
がある方が良いが、原理的にはもちろん、図1に示され
る実施例装置100 に対しても同様の改造を施すことがで
きる。
Further, as in the embodiment apparatus 100 shown in FIG. 6, which is shown as a structural modification of the embodiment apparatus in FIG. 2, a plurality of fluid outflow paths 12,. ...
Are provided, and each of them is provided with a flow path opening / closing valve 14,..., So that these can be selectively opened / closed. Can be. Considering the amount of distribution, the storage tank 40
Although it is better to provide the same, the same modification can be applied to the embodiment apparatus 100 shown in FIG.

【0042】また、図6に示される装置の各分配出力後
に、公知技術に従ってバブリングを施すような場合に
も、本発明装置により処理され、出力された流体Fは、
溶存気体量がそもそも十分に低減され、バブリングに用
いる気体が溶け易い状態になっているので、バブリング
装置自体が小型で済むのみならず、バブリング処理時間
も短くできる。当然、使用気体量も大いに低減し、か
つ、使用気体の回収も容易になる。なお、分配のために
だけ、図6に示される装置100 を用いる場合には、フィ
ルタ16は不要なこともある。さらに、図6中では、図
1,2に示した実施例におけるとは異なり、閉鎖循環流
路10中を流体Fが逆方向に還流するように示されている
が、これは、流体Fの循環方向がどちらでも良いことを
示したもので、図1,2中の実施例でも、流体Fの循環
方向は逆にすることができる。
Also, when bubbling is performed according to a known technique after each distribution output of the apparatus shown in FIG. 6, the fluid F processed and output by the apparatus of the present invention is
Since the dissolved gas amount is sufficiently reduced in the first place and the gas used for bubbling is easily dissolved, not only the bubbling device itself can be reduced in size but also the bubbling processing time can be shortened. Naturally, the amount of gas used is greatly reduced, and the recovery of the used gas becomes easy. If the device 100 shown in FIG. 6 is used only for distribution, the filter 16 may not be necessary. Further, in FIG. 6, unlike the embodiment shown in FIGS. 1 and 2, the fluid F is shown to return in the closed circulation flow path 10 in the reverse direction. This indicates that the circulating direction may be either direction, and the circulating direction of the fluid F can be reversed in the embodiment shown in FIGS.

【0043】以上、本発明の望ましい実施例につき幾つ
か詳記したが、本発明の要旨構成に即する改変は任意で
ある。例えば、上述の実施例では、いずれも中空筒状部
材31そのものを筒状(チューブ状ないしホース状)の気
体透過膜21により構成していたが、そうではなく、その
内面に沿って流体Fが流れる周壁部分が剛性を持つ気体
不透過な材質から構成された中空筒状部材31を用い、当
該周壁の少なくとも一部に開けられた窓を塞ぐように、
シート状の気体透過膜21が設けられる等していても良
い。ただ、溶存気体の脱気効率(あるいはまた溶存気体
脱気のための入気用気体36の入気効率)を高めるために
気体透過膜21にはかなり長尺のものが要求される場合に
は、先に述べた製品例のように、それ自体柔軟性を持
ち、任意に曲げたりくねらせたりできるものを用いた方
が、脱気部20、ひいては本発明装置の筺体寸法を小型化
できるので望ましい。もちろん、筒状という表現も、断
面円形に限らない。矩形断面その他の中空空間を有する
ものでも良い。平滑に流れることが望ましいが、要は、
内部に流体Fが流れ得れば良い。
While some preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, modifications in accordance with the gist of the present invention are optional. For example, in each of the above-described embodiments, the hollow tubular member 31 itself is constituted by the tubular (tube-like or hose-like) gas-permeable membrane 21, but the fluid F is not formed along the inner surface. Using a hollow cylindrical member 31 made of a gas-impermeable material having a rigid surrounding wall portion to flow, so as to close a window opened in at least a part of the surrounding wall,
A sheet-shaped gas-permeable film 21 may be provided. However, if the gas permeable membrane 21 is required to be considerably long in order to increase the degassing efficiency of the dissolved gas (or the gas input efficiency of the gas 36 for degassing the dissolved gas), However, the use of a product which has flexibility in itself and can be bent or twisted arbitrarily as in the case of the above-described product example can reduce the size of the degassing section 20 and thus the housing dimensions of the device of the present invention. desirable. Of course, the expression cylindrical is not limited to a circular cross section. It may have a rectangular cross section or another hollow space. It is desirable to flow smoothly, but the point is,
It suffices if the fluid F can flow inside.

【0044】さらに、流体流入路11や流体流出路12に備
えられる流路開閉弁13,14は、できるだけ閉鎖循環流路
10に近い位置に設けられることが望ましい。これら流路
開閉弁13,14が閉じられているとき、当該流路開閉弁1
3,14と閉鎖循環流路10中の流路部分には流体Fが滞り
易いからである。これら流体流入路11ないし流体流出路
12が、閉鎖循環流路10の一部を構成するタンク40に対し
て開口するときも同様であり、タンク40内は閉鎖循環流
路10の一部として貯溜流体Fを万遍なく閉鎖循環流路10
中に循環させ得るが、タンク40とこれに開口する流路に
備えられた流路開閉弁との間の流路部分は流体Fが停留
し易い部分となる。
Further, the flow opening / closing valves 13 and 14 provided in the fluid inflow passage 11 and the fluid outflow passage 12 are provided as closed circulation passages as possible.
It is desirable to be provided at a position close to 10. When these flow path on-off valves 13 and 14 are closed,
This is because the fluid F tends to stay in the passages in the closed circulation passages 3 and 14. These fluid inflow channel 11 or fluid outflow channel
The same applies when the tank 12 is open to the tank 40 that constitutes a part of the closed circulation flow path 10. In the tank 40, the stored fluid F is uniformly distributed as a part of the closed circulation flow path 10. Road 10
Although the fluid F can be circulated inside, the flow path portion between the tank 40 and the flow path opening / closing valve provided in the flow path opening to the tank 40 is a part where the fluid F tends to stay.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明によれば、流体中から所定の溶存
気体を除去するに際し、簡単、小型、廉価で設置の融通
性に富み、かつ十分な脱気効果の得られる装置が提供さ
れる。従来は巨大な真空脱気設備とか、大型になり易く
設置融通性に乏しいバブリング装置しかなかった状況に
鑑みると、本発明による流体循環脱気装置は、各種産業
分野にとって大いなる福音となる。
According to the present invention, there is provided an apparatus which is simple, compact, inexpensive, has a high installation flexibility, and has a sufficient degassing effect when removing a predetermined dissolved gas from a fluid. . In view of the situation in which there was only a large vacuum deaerator or a bubbling device which was large in size and poor in installation flexibility, the fluid circulation deaerator according to the present invention is a great gospel for various industrial fields.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に従って構成された流体循環脱気装置の
一実施例の要部概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a main part of an embodiment of a fluid circulation deaerator configured according to the present invention.

【図2】本発明に従って構成された流体循環脱気装置の
他の一実施例の要部概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a main part of another embodiment of the fluid circulation deaerator configured according to the present invention.

【図3】本発明の流体循環脱気装置に用いる脱気部の一
構成例の概略構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of one configuration example of a deaeration unit used in the fluid circulation deaeration device of the present invention.

【図4】本発明の流体循環脱気装置を用い、純水中の酸
素溶存量を低減するための装置を構成する場合の装置構
成例の説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram of an example of a device configuration in a case where a device for reducing the amount of dissolved oxygen in pure water is configured using the fluid circulation deaerator of the present invention.

【図5】図4に示される装置構成例によって処理された
純水を用い、一連の化学処理で水素終端を試みたシリコ
ン基板表面を忠実に描画した説明図である。
5 is an explanatory diagram faithfully depicting the surface of a silicon substrate on which hydrogen termination has been attempted in a series of chemical treatments using pure water treated by the apparatus configuration example shown in FIG. 4;

【図6】本発明に従って構成された流体循環脱気装置の
さらに他の実施例の概略構成図である。
FIG. 6 is a schematic configuration diagram of still another embodiment of the fluid circulation deaerator configured according to the present invention.

【図7】従来の純水製造装置の一例の概略構成図であ
る。
FIG. 7 is a schematic configuration diagram of an example of a conventional pure water production apparatus.

【図8】従来の純水製造装置の他の例の概略構成図であ
る。
FIG. 8 is a schematic configuration diagram of another example of a conventional pure water production apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 閉鎖循環流路, 11 流体流入路, 12 流体流出路, 13 流路開閉弁, 14 流路開閉弁, 15 循環ポンプ, 16 フィルタ, 17 第一フィルタ, 18 第二フィルタ, 19 逆止弁, 20 脱気部, 21 気体透過膜, 22 気体透過膜外部空間(密閉容器内部空間), 23 排気, 24 圧気, 25 密閉容器, 31 中空筒状部材, 32 排気装置, 34 気体圧送装置, 35 気体源, 36 入気用気体, 38 ガスボンベ, 40 貯溜タンク, 61 一次純水システム, 62 二次純水システム, 100 本発明流体循環脱気装置. 10 Closed circulation channel, 11 fluid inflow channel, 12 fluid outflow channel, 13 channel on-off valve, 14 channel on-off valve, 15 circulation pump, 16 filter, 17 first filter, 18 second filter, 19 check valve, 20 Degassing part, 21 Gas permeable membrane, 22 Gas permeable membrane outer space (inside of sealed container), 23 Exhaust, 24 Compressed air, 25 Sealed container, 31 Hollow cylindrical member, 32 Exhaust device, 34 Gas pumping device, 35 Gas Source, 36 Inlet gas, 38 gas cylinder, 40 storage tank, 61 primary pure water system, 62 secondary pure water system, 100 fluid circulation deaerator of the present invention.

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 流体中から所定の溶存気体を脱気するた
めの装置であって; 循環ポンプの稼働により流体を循環させる閉鎖循環流路
と; 一方の開口から流入した上記流体が他方の開口から流出
する一対の開口と、該一方の開口から該流入した該流体
が該他方の開口に向かって流れるときに該流体がその内
面に沿って流れる筒状の周壁とを有し、該閉鎖循環流路
中に直列に挿入された中空筒状部材と; 該中空筒状部材の上記周壁の一部または全部を構成する
気体透過膜と; 該気体透過膜の外部空間を負圧にするか、または該気体
透過膜の外部空間を上記所定の溶存気体以外の気体の満
たされた正圧にする脱気部と; 上記閉鎖循環流路に対し選択的に上記流体を流入させる
ために流路開閉弁の設けられた流体流入路と; 上記閉鎖循環流路から選択的に上記流体を取り出すため
に流路開閉弁の設けられた流体流出路と; を有して成る流体循環脱気装置。
1. A device for degassing a predetermined dissolved gas from a fluid, comprising: a closed circulation flow path for circulating the fluid by operating a circulation pump; and said fluid flowing from one opening to the other opening. And a cylindrical peripheral wall through which the fluid flows along the inner surface when the fluid flowing in from one of the openings flows toward the other opening. A hollow cylindrical member inserted in series in the flow path; a gas permeable membrane constituting a part or all of the peripheral wall of the hollow cylindrical member; Or a degassing section for making the external space of the gas permeable membrane filled with a positive pressure filled with a gas other than the predetermined dissolved gas; and opening and closing a flow path for selectively flowing the fluid into the closed circulation flow path A fluid inflow passage provided with a valve; A fluid outflow passage provided with a flow passage opening / closing valve for selectively taking out the fluid.
【請求項2】 請求項1記載の装置であって; 上記脱気部における上記気体透過膜の上記外部空間は該
気体透過膜を収める密閉容器の内部空間であり; 排気装置により該密閉容器の該内部空間が排気されるこ
とで該気体透過膜の上記外部空間が上記負圧にされるこ
と; を特徴とする装置。
2. The apparatus according to claim 1, wherein the external space of the gas permeable membrane in the degassing section is an internal space of a sealed container that stores the gas permeable membrane; The internal space is evacuated to make the external space of the gas permeable membrane the negative pressure.
【請求項3】 請求項1記載の装置であって; 上記脱気部における上記気体透過膜の上記外部空間は該
気体透過膜を収める密閉容器の内部空間であり; 該密閉容器に接続した気体圧送装置により、上記脱気す
べき上記所定の溶存気体以外の気体が該密閉容器の該内
部空間に供給されることで該気体透過膜の上記外部空間
が上記正圧にされること; を特徴とする装置。
3. The apparatus according to claim 1, wherein the external space of the gas permeable membrane in the degassing section is an internal space of a closed container that stores the gas permeable film; A gas other than the predetermined dissolved gas to be degassed is supplied to the internal space of the closed container by the pressure feeding device, whereby the external space of the gas permeable membrane is set to the positive pressure. And equipment.
【請求項4】 請求項1,2または3記載の装置であっ
て; 上記閉鎖循環流路の一部には、上記流体を一時貯留でき
る密閉型のタンクを設けたこと; を特徴とする装置。
4. The apparatus according to claim 1, 2, or 3, wherein a part of the closed circulation channel is provided with a closed tank capable of temporarily storing the fluid. .
【請求項5】 請求項4記載の装置であって; 上記流体流入路は、上記タンクに対して開口しているこ
と; を特徴とする装置。
5. The apparatus according to claim 4, wherein said fluid inflow passage is open to said tank.
【請求項6】 請求項4または5記載の装置であって; 上記流体流出路は、上記タンクに対して開口しているこ
と; を特徴とする装置。
6. Apparatus according to claim 4, wherein the fluid outlet is open to the tank.
【請求項7】 請求項1,2,3,4,5または6記載
の装置であって; 上記閉鎖循環流路中に不純物除去用のフィルタが設けら
れていること; を特徴とする装置。
7. The apparatus according to claim 1, wherein a filter for removing impurities is provided in the closed circulation flow path.
【請求項8】 請求項1,2,3,4,5,6または7
記載の装置であって; 上記流体流出路にあって該流体流出路に設けられている
上記流路開閉弁と上記閉鎖循環流路との間の部分に不純
物除去用のフィルタが設けられていること; を特徴とする装置。
8. The method of claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, or 7.
An apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein a filter for removing impurities is provided in a portion of the fluid outflow channel between the flow path on-off valve provided in the fluid outflow path and the closed circulation flow path. An apparatus characterized by the above-mentioned.
【請求項9】 請求項1,2,3,4,5,6,7また
は8記載の装置であって; 上記流体流出路は複数本設けられていること; を特徴とする装置。
9. The apparatus according to claim 1, wherein a plurality of the fluid outflow passages are provided.
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