JP2610678B2 - Developed debris removal equipment for waterless lithographic printing plates - Google Patents
Developed debris removal equipment for waterless lithographic printing platesInfo
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- JP2610678B2 JP2610678B2 JP1041160A JP4116089A JP2610678B2 JP 2610678 B2 JP2610678 B2 JP 2610678B2 JP 1041160 A JP1041160 A JP 1041160A JP 4116089 A JP4116089 A JP 4116089A JP 2610678 B2 JP2610678 B2 JP 2610678B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は現像液を循環させながら水なし平版印刷版を
現像処理する水なし平版印刷版現像処理装置に用いられ
て、現像液に浮遊する現像かすを現像液から取り除くた
めの水なし平版印刷版の現像かす除去装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is used in a waterless lithographic printing plate developing apparatus for developing a waterless lithographic printing plate while circulating a developing solution, and floats in the developing solution. The present invention relates to an apparatus for removing developing debris from a waterless lithographic printing plate for removing developing debris from a developer.
［従来の技術］ シリコーン層をインキ反撥層とする水なしPS版につい
ては、特公昭44−23042号、特公昭46−16044号に記載さ
れた、基板上に光可溶性あるいは光不溶化性感光層とシ
リコーンゴム層を積層した水なしPS版や、特開昭48−94
504号、特開昭50−50102号に記載された、基板上に光接
着性感光層とシリコーンゴム層を積層した水なしPS版が
提案されている。これらは、湿し水を用いることなくし
て数万枚の印刷が可能である。[Prior Art] A waterless PS plate having a silicone layer as an ink repellent layer is described in JP-B-44-23042 and JP-B-46-16044, in which a photo-soluble or photo-insolubilized photosensitive layer is formed on a substrate. Waterless PS plate with a silicone rubber layer laminated and JP-A-48-94
No. 504 and JP-A-50-50102 have proposed a waterless PS plate having a photoadhesive photosensitive layer and a silicone rubber layer laminated on a substrate. These can print tens of thousands of sheets without using fountain solution.
上記した水なしPS版はアルミ等の支持体上に感光層及
びシリコーンゴム層が積層され、これらの上面は、保護
フイルムがラミネートされて、表面が保護されている。
この水なしPS版へ画像を焼き付けると露光部分すなわち
非画像部に相当する感光層は硬化して、より支持体上に
接着し、未露光部分すなわち画像部に相当する感光層は
硬化しない。この状態で、現像液が表面に塗布されると
現像液によって、未露光部分の感光層が膨潤してシリコ
ーンゴム層と共に支持体上から剥離する。この剥離した
感光層及びシリコーンゴム層のかすは、余剰の現像液と
共に現像液回収槽内へ回収され、再び循環ポンプによっ
て循環されて水なし平版印刷版へ塗布される。In the waterless PS plate described above, a photosensitive layer and a silicone rubber layer are laminated on a support made of aluminum or the like, and a protective film is laminated on the upper surface thereof to protect the surface.
When an image is printed on the waterless PS plate, the exposed layer, that is, the photosensitive layer corresponding to the non-image part is hardened and adheres more to the support, and the unexposed part, that is, the photosensitive layer corresponding to the image part is not cured. In this state, if the developing solution is applied to the surface, the developing solution causes the unexposed portion of the photosensitive layer to swell and peel off together with the silicone rubber layer from the support. The debris of the peeled photosensitive layer and silicone rubber layer together with the excess developer is collected into a developer collection tank, circulated again by a circulation pump, and applied to a waterless lithographic printing plate.
［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、余剰の現像液と共に現像液回収槽内へ
回収される現像かすは現像液回収槽内に付着して現像液
回収槽内を汚すという問題が生じる。このため現像液回
収槽内を定期的に清掃しなければならず現像液回収槽内
のメンテナンスが煩雑であった。[Problems to be Solved by the Invention] However, there is a problem that the developing residue collected in the developer collecting tank together with the excess developer adheres to the developer collecting tank and stains the developer collecting tank. For this reason, the inside of the developer recovery tank must be periodically cleaned, and maintenance in the developer recovery tank is complicated.
また循環経路の途中にフイルタを配設して、循環する
現像液から現像かすを取り除くことが考えられるが、こ
の場合にはフイルタが目詰まりして所定の量の現像液を
循環することが出来なくなるという問題が生じる。この
ためフイルタを定期的に交換する必要があり、この作業
は手間がかかる。In addition, it is conceivable to dispose a filter in the middle of the circulation path to remove the development residue from the circulating developer, but in this case, the filter is clogged and a predetermined amount of the developer can be circulated. The problem of disappearing occurs. For this reason, it is necessary to periodically replace the filter, and this operation is troublesome.
本発明は上記事実を考慮し、現像液回収槽内の現像液
中から、現像かすを取り除くことが出来、フイルタの目
詰まりを低減することが出来る水なし平版印刷版の現像
かす除去装置を得ることが目的である。In consideration of the above facts, the present invention provides a water-free planographic printing plate removing apparatus capable of removing development residue from the developer in a developer recovery tank and reducing filter clogging. That is the purpose.
［課題を解決するための手段及び作用］ 本発明は、現像液収容槽内の現像液を循環ポンプで循
環管路を循環させながら水なし平版印刷版を現像処理す
る水なし平版印刷版現像処理装置に用いられて、現像か
すを現像液から取り除くための水なし平版印刷版かす除
去装置であって、前記現像液収容槽と下部隔壁によって
仕切られた捕集槽と、前記循環管路と前記捕集槽とを接
続する分岐管路と、前記下部隔壁の上方に配置され下部
隔壁との間に現像液が捕集槽へ流入可能な貫通孔を構成
する上部隔壁と、前記捕集槽内へ配設されて下口部が捕
集槽の外方へ突出し上口部が前記上部隔壁の下端よりも
上方に位置するオーバーフロー管と、を有することを特
徴とする。[Means and Actions for Solving the Problems] The present invention relates to a waterless lithographic printing plate development process for developing a waterless lithographic printing plate while circulating a developer in a developer storage tank through a circulation pipe with a circulation pump. A waterless lithographic printing plate debris removal device used in an apparatus for removing development waste from a developer, a collection tank partitioned by the developer storage tank and a lower partition, the circulation line, and the circulation line A branch pipe connecting the collection tank, an upper partition arranged above the lower partition and forming a through-hole between the lower partition and the developer tank, the developer being able to flow into the collection tank; And an overflow pipe whose lower opening projects outward of the collection tank and whose upper opening is located above the lower end of the upper partition.
循環ポンプによって、現像液収容槽から循環管路を通
じて水なし平版印刷版現像処理装置へ送られた現像処理
後の現像液は、再び現像液処理槽へ戻される。この現像
液には現像かすが混ざっており、現像液収容槽に収容さ
れると、現像かすは現像液より比重が小さいので、現像
液の表層部に浮遊する。The developing solution sent from the developing solution storage tank to the waterless lithographic printing plate developing apparatus through the circulation pipe by the circulation pump is returned to the developing solution processing tank again. When the developer is contained in the developer storage tank, the developer waste floats on the surface layer of the developer because the developer waste has a lower specific gravity than the developer.
現像液収容槽内に現像液が溜まると、液面が上昇して
下部隔壁の上端よりも上方に位置し、現像液の表層部は
下部隔壁を乗り越えて捕集槽に流れ込む。これにより、
捕集槽内の現像液の表層部では、現像かすの集積度が高
くなる。When the developer accumulates in the developer storage tank, the liquid level rises and is located above the upper end of the lower partition, and the surface layer portion of the developer flows over the lower partition and flows into the collection tank. This allows
In the surface layer portion of the developer in the collection tank, the degree of accumulation of the development residue increases.
捕集槽から分岐管路を介して現像液を吸引すると、現
像液の液面が下がり、現像液収容槽内から捕集槽内への
現像液の定常的な流れ込みが生じるので、現像かすは現
像液収容槽内に留まらず、現像液収容槽内に付着しな
い。When the developer is sucked from the collecting tank through the branch pipe, the level of the developer drops, and a steady flow of the developer from the developer storage tank into the collection tank occurs. It does not stay in the developer storage tank and does not adhere to the developer storage tank.
ここで、捕集槽内に現像かすが集積された状態で現像
液収容槽に新たな現像液を補充すると、現像液収容槽内
の現像液の液面が上昇する。これにより、上部隔壁と下
部隔壁との間に構成された貫通孔から現像液が捕集槽へ
流入するため、捕集槽内の現像液の液面も上昇し、上部
隔壁の下端より上方に位置する。このとき、捕集槽内の
現像液の表層部に集積された現像かすは上部隔壁によっ
てせき止められ、現像液収容槽内に広がらない。Here, when a new developing solution is replenished to the developing solution storage tank in a state where the developing scum is accumulated in the collecting tank, the liquid level of the developing solution in the developing solution storing tank rises. As a result, the developer flows into the collection tank from the through-hole formed between the upper partition and the lower partition, so that the liquid level of the developer in the collection tank also rises and rises above the lower end of the upper partition. To position. At this time, the developing residue accumulated on the surface layer of the developer in the collecting tank is blocked by the upper partition wall and does not spread in the developer storage tank.
捕集槽内に配設されたオーバーフロー管の上口部は、
上部隔壁の下端よりも上方に位置しているので、捕集槽
内の現像液の液面が上昇してオバーフロー管の上口部よ
りも高くなると、現像液の表層部に集積された現像かす
がオーバーフロー管に流入する。オーバーフロー管の下
口部は捕集槽の外側へ突出しているので、オーバーフロ
ー管に流入した現像かすは外方に排出される。The upper opening of the overflow pipe arranged in the collection tank is
Since it is located above the lower end of the upper partition wall, when the liquid level of the developer in the collection tank rises and becomes higher than the upper mouth of the overflow tube, the development residue accumulated on the surface layer of the developer is removed. Flows into overflow pipe. Since the lower opening of the overflow pipe protrudes outside the collection tank, the developing waste flowing into the overflow pipe is discharged to the outside.
このように、浮遊した現像かすを捕集槽内に集積させ
ているので、オーバーフロー管から効率よく現像かすを
排出できる。As described above, since the floating development residue is accumulated in the collection tank, the development residue can be efficiently discharged from the overflow pipe.
オーバーフロー管の上口部の高さを、上部隔壁の下端
よりも上方で、かつ極力低い位置とすれば、液面が上部
隔壁の下端まで上昇する程度の僅かな現像液の補充のみ
で捕集槽内の現像液の液面がオーバーフロー管の上口部
よりも高くなり、現像かすを排出できる。If the height of the upper opening of the overflow pipe is higher than the lower end of the upper partition and as low as possible, collection is performed with only a small amount of developer replenishment, such that the liquid level rises to the lower end of the upper partition. The liquid level of the developing solution in the tank becomes higher than the upper opening of the overflow tube, so that the developing residue can be discharged.
また、従来のように、現像液収容槽と水なし平版印刷
版現像処理装置との循環管路の途中に配設されたフィル
タのみによって現像かすを除去する場合と比較して、フ
ィルタに現像液を通す前段階で現像液中の現像かすを外
部に排出できるので、フィルタの目詰まりが低減され
る。このため、１つのフィルタを長期に渡って使用で
き、コストを削減できるほか、面倒なフィルタの交換作
業も減る。また、現像液回収槽内の汚れが少なくなり、
長期に渡り安定した現像処理が可能となる。Further, as compared with the conventional case in which the developing residue is removed only by a filter provided in the middle of the circulation line between the developing solution storage tank and the waterless lithographic printing plate developing device, the developing solution is added to the filter. Since the development residue in the developer can be discharged to the outside before passing the filter, clogging of the filter is reduced. For this reason, one filter can be used for a long time, cost can be reduced, and troublesome filter replacement work is also reduced. Also, dirt in the developer recovery tank is reduced,
This enables stable development processing over a long period of time.
［実施例］ 第１図には本発明が適用された水なし平版印刷版現像
装置10の実施例が示されている。この水なし平版印刷版
現像装置10は現像部14と染色部16からなり、水なしPS版
12を現像処理した後に、検版作業を容易にするための染
色処理を行う装置である。FIG. 1 shows an embodiment of a waterless planographic printing plate developing apparatus 10 to which the present invention is applied. This waterless lithographic printing plate developing apparatus 10 comprises a developing section 14 and a dyeing section 16, and is provided with a waterless PS plate.
12 is a device that performs a dyeing process after the development process to facilitate plate inspection work.
ここで使用される水なしPS版12は特願昭63−86177で
提案された、基板上に、プライマー層、感光層、シリコ
ーンゴム層、保護フイルムが順次積層されたものが使用
される。The PS plate 12 without water used here is the one proposed in Japanese Patent Application No. 63-86177, in which a primer layer, a photosensitive layer, a silicone rubber layer, and a protective film are sequentially laminated on a substrate.
また現像部14で使用される現像液18は特願昭62−3178
43、特願昭63−86177で提案された有機溶剤が含有され
た水系現像液が使用されている。また染色部16で使用さ
れる染色液17としては、クリスタルバイオレツト、アス
トラゾンレツド等を含む染色液17が用いられている。The developing solution 18 used in the developing section 14 is disclosed in Japanese Patent Application No. 62-3178.
43. An aqueous developer containing an organic solvent proposed in Japanese Patent Application No. 63-86177 is used. As the staining solution 17 used in the staining section 16, a staining solution 17 containing crystal violet, astrazone red, or the like is used.
現像部14の現像槽本体20は、上方に向けて開口し、底
部が逆山形状に形成されて底部中央部に現像液回収槽22
が形成されている。現像液回収槽22内には現像液18が収
容される。The developing tank main body 20 of the developing section 14 is opened upward, the bottom is formed in an inverted mountain shape, and the developer collecting tank 22 is formed in the center of the bottom.
Are formed. The developer 18 is stored in the developer recovery tank 22.
現像槽本体20の上部には、水なしPS版12の入側から順
に搬送ローラ対24、26、28が配置されている。搬送ロー
ラ対24、26、28は、図示しないラツク側板に支持され、
図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転し、水な
しPS版12を第１図矢印Ａ方向へ挟持搬送するようになっ
ている。搬送ローラ対28は、現像部14内の水なしPS版12
の搬送経路の最後部に配置されて水なしPS版12から現像
液を絞り取るスクイズローラの役目を有している。At an upper portion of the developing tank main body 20, a pair of transport rollers 24, 26, and 28 are arranged in order from the entry side of the waterless PS plate 12. The transport roller pairs 24, 26, and 28 are supported by rack side plates (not shown),
The driving force of a driving means (not shown) is transmitted to rotate, and the waterless PS plate 12 is nipped and conveyed in the direction of arrow A in FIG. The transport roller pair 28 is a waterless PS plate 12 in the developing section 14.
And has a role of a squeeze roller for squeezing the developer from the waterless PS plate 12.
搬送ローラ対26と搬送ローラ対28との間にはブラシロ
ーラ30が配置されている。このブラシローラ30は、搬送
される水なしPS版12の版面上を擦ることによって版面上
の画像部に相当する感光層及びシリコーン層を掻き取る
ためのものである。ブラシローラ30も搬送ローラ対24、
26、28と同様に図示しない側板に支持され、図示しない
駆動手段の駆動力が伝達されて、搬送ローラ対24、26、
28の回転方向と同一方向（第１図反時計方向）へ回転す
るようになっている。（場合によっては、第１図時計方
向へ回転しても良い。） ブラシローラ30はブラシ素材をプラスチツク又は金属
製のロールに植えつけて形成されており、水なしPS版12
の搬送方向に対して同一方向（第１図反時計方向）へ回
転することで水なしPS版12の表面を擦るようになってい
る。このブラシローラ30の回転数は100〜500rpm（好ま
しくは200〜400rpm）に設定されている。さらに、水な
しPS版12ケラレ防止レバー31を配置することが好まし
い。A brush roller 30 is arranged between the pair of transport rollers 26 and the pair of transport rollers 28. The brush roller 30 is for scraping the photosensitive layer and the silicone layer corresponding to the image area on the plate surface by rubbing the plate surface of the PS plate 12 without water. The brush roller 30 is also a transport roller pair 24,
Similarly to 26 and 28, supported by a side plate (not shown), the driving force of a driving unit (not shown) is transmitted, and a pair of transport rollers 24, 26,
It rotates in the same direction as the rotation direction 28 (counterclockwise direction in FIG. 1). (In some cases, it may be rotated clockwise in FIG. 1.) The brush roller 30 is formed by planting a brush material in a plastic or metal roll, and is provided with a waterless PS plate 12.
By rotating in the same direction (counterclockwise direction in FIG. 1) with respect to the transport direction, the surface of the PS plate 12 without water is rubbed. The number of rotations of the brush roller 30 is set at 100 to 500 rpm (preferably 200 to 400 rpm). Further, it is preferable to dispose a waterless PS plate 12 vignetting prevention lever 31.
またブラシローラ30は、回転すると共に軸方向へ往復
移動させることによって、より水なしPS版12の版面上の
感光層及びシリコーン層を掻き取る効果が向上する。Further, the brush roller 30 is rotated and reciprocated in the axial direction, whereby the effect of scraping the photosensitive layer and the silicone layer on the plate surface of the waterless PS plate 12 is further improved.
ブラシローラ30の下部にはプラスチツク等の比較的柔
軟な材質例えば高密度ポリエチレンで形成された受け台
32が配置されている。水なしPS版12が通過する際は、受
け台32上で水なしPS版12が支持されながら、ブラシロー
ラ30によって表面が擦られて、画像部に相当する感光層
及びシリコーン層が確実に掻取られるようになってい
る。ブラシローラ30の下部の受けは場合によってはロー
ラーでも良い。At the lower part of the brush roller 30, a pedestal formed of a relatively flexible material such as plastic, for example, high-density polyethylene
32 are arranged. When the waterless PS plate 12 passes, the surface is rubbed by the brush roller 30 while the waterless PS plate 12 is supported on the receiving table 32, and the photosensitive layer and the silicone layer corresponding to the image area are surely scratched. Is to be taken. The bottom of the brush roller 30 may be a roller in some cases.
搬送ローラ対24の上方にはスプレーパイプ34が配置さ
れている。このスプレーパイプ34には、搬送ローラ対24
の上側のローラに対向して吐出口34Aが軸方向に沿って
適当な間隔で設けられている。このスプレーパイプ34は
バルブ36を介して管路38で後述する現像液供給装置と連
通されている。これによってスプレーパイプ34へは現像
液18が送りこまれ、搬送ローラ対24の上側のローラへ現
像液を吐出して、水なしPS版12上へ現像液が塗布される
ようになっている。A spray pipe 34 is disposed above the transport roller pair 24. The spray pipe 34 includes a transport roller pair 24
Discharge ports 34A are provided at appropriate intervals along the axial direction so as to face the upper roller. The spray pipe 34 is connected to a later-described developer supply device via a valve 36 via a pipe 38. As a result, the developer 18 is sent to the spray pipe 34, and is discharged to the upper roller of the transport roller pair 24, so that the developer is applied onto the waterless PS plate 12.
また搬送ローラ対26と搬送ローラ対28との間にもスプ
レーパイプ40、42が配置されている。スプレーパイプ40
はブラシローラ30と搬送ローラ対26との間に配置されて
おり、前記スプレーパイプ34と同様に吐出口40Aが形成
されている。スプレーパイプ40の吐出口40Aはブラシロ
ーラ30に対向して設けられている。このスプレーパイプ
40もスプレーパイプ34と同様にバルブ36を介して管路38
から分岐している管路で後述する現像液供給装置と連通
されている。これによってスプレーパイプ40へは現像液
が送りこまれ、ブラシローラ30へ現像液を吐出し、供給
するようになっている。Spray pipes 40 and 42 are also arranged between the pair of transport rollers 26 and 28. Spray pipe 40
Is disposed between the brush roller 30 and the transport roller pair 26, and has a discharge port 40A similarly to the spray pipe. The discharge port 40A of the spray pipe 40 is provided to face the brush roller 30. This spray pipe
Similarly to the spray pipe 34, the pipe 40 is connected to the pipe 38 via the valve 36.
Is connected to a developer supply device described later. As a result, the developer is sent to the spray pipe 40, and the developer is discharged and supplied to the brush roller 30.
またスプレーパイプ42は、搬送ローラ対28の上側のロ
ーラに対向して、吐出口42Aが形成されている。このス
プレーパイプ42もバルブ36を介して管路38から分岐して
いる管路で後述する現像液供給装置と連通されている。
これによってスプレーパイプ40へ現像液が送りこまれ、
搬送ローラ対28の上側のローラへ現像液を吐出するよう
になっている。Further, the spray pipe 42 has a discharge port 42A formed opposite to the upper roller of the transport roller pair 28. The spray pipe 42 is also connected to a developer supply device described later through a pipe branched from the pipe 38 via the valve 36.
As a result, the developer is sent to the spray pipe 40,
The developing solution is discharged to the upper roller of the transport roller pair 28.
搬送ローラ対26からブラシローラ30の上部に掛けて、
断面形状が略コ字状のカバー39が配置されている。この
カバー39はブラシローラ30による現像液18の他への飛散
を防止している。From the transport roller pair 26 to the upper part of the brush roller 30,
A cover 39 having a substantially U-shaped cross section is arranged. The cover 39 prevents the brush roller 30 from scattering the developer 18 to the other.
現像液供給装置は循環ポンプ44と、フイルタ46と、循
環ポンプ44と現像液回収槽22とを連通する管路48で構成
されている。The developing solution supply device includes a circulating pump 44, a filter 46, and a pipe 48 that communicates the circulating pump 44 with the developing solution recovery tank 22.
循環ポンプ44は流量可変型のポンプで、制御装置52と
接続されて、その吐出流量が制御される。循環ポンプ44
の吐出口側へ管路38が連通され、吸い込み口側には管路
48の一端が連通されている。管路48の他端は途中にバル
ブ55を介して現像液回収槽22の底部と連通されている。
この循環ポンプ44の作動によって、現像液回収槽22内の
現像液が管路48を通って、循環ポンプ44に吸い込まれ、
管路38を通ってスプレーパイプ34、40、42へ送られるよ
うになっている。The circulation pump 44 is a variable flow rate pump, and is connected to the control device 52 to control the discharge flow rate. Circulation pump 44
The pipe 38 communicates with the discharge port side of the
One end of 48 is connected. The other end of the conduit 48 communicates with the bottom of the developer recovery tank 22 via a valve 55 on the way.
By the operation of the circulation pump 44, the developer in the developer recovery tank 22 is drawn into the circulation pump 44 through the pipe 48,
The air is sent to the spray pipes 34, 40 and 42 through a conduit 38.
管路38の途中には流量センサ50が配設されており、管
路38内を通過する現像液の流量を検出するようになって
いる。この流量センサ50は制御装置52と接続されてお
り、現像液の流量検出結果を伝達するようになってい
る。この流量センサ50は一般的な流量計を用いることが
出来るが、装置を小型化するためには回転式のものが好
ましい。A flow sensor 50 is provided in the middle of the pipe 38 so as to detect the flow rate of the developer passing through the pipe 38. The flow rate sensor 50 is connected to the control device 52, and transmits the result of detection of the flow rate of the developer. Although a general flow meter can be used as the flow sensor 50, a rotary type is preferable in order to reduce the size of the apparatus.
また流量センサ50と循環ポンプ44の間にはバイパス管
路51が設けられており、この管路51の途中には電気伝導
度検出器54が配設されている。この電気伝導度検出器54
は管路38を通る現像液の電気伝導度を検出するようにな
っている。電気伝導度検出器54は制御装置52と接続され
ており、検出結果を制御装置52へ伝達するようになって
いる。この電気伝導度検出器54は、一般公知の伝導度セ
ンサが用いられている。A bypass pipe 51 is provided between the flow sensor 50 and the circulation pump 44, and an electrical conductivity detector 54 is provided in the middle of the pipe 51. This electric conductivity detector 54
Is designed to detect the electrical conductivity of the developer passing through the conduit 38. The electric conductivity detector 54 is connected to the control device 52, and transmits a detection result to the control device 52. As the electric conductivity detector 54, a generally known conductivity sensor is used.
管路48の途中にフイルタ46が配設されており、管路48
内を通る現像液中のかす（主に水なしPS版12の表面から
擦り取った感光層、シリコーン層からの現像かす）を濾
過するようになっている。A filter 46 is provided in the middle of the pipe 48,
The residue (mainly the development residue from the photosensitive layer and the silicone layer scraped off from the surface of the PS plate 12 without water) in the developer passing through the inside is filtered.
制御装置52には告知装置56が接続されており、管路38
内を通過する現像液18の流量が所定流量以下になるとフ
イルタ46の交換時期を告知するようになっている。これ
によってフイルタの交換がなされる。このフイルタの網
目は10μ〜500μ（好ましくは100μ〜300μ）のものが
使用されている。A notification device 56 is connected to the control device 52, and a line 38 is provided.
When the flow rate of the developing solution 18 passing through the inside becomes equal to or less than a predetermined flow rate, it is notified that the filter 46 should be replaced. As a result, the filter is replaced. The mesh of the filter is 10 μm to 500 μm (preferably 100 μm to 300 μm).
管路48の途中から分岐管路58が分岐しており、バルブ
60を介して捕集槽であるオーバーフロー槽62と連通され
ている。オーバーフロー槽62は現像液回収槽22の側部に
配設されており、現像液回収槽22の隔壁に設けられ、現
像液面に沿う長孔64によって現像液回収槽22と連通され
ている。これによって現像液回収槽22内の現像液18の表
層部が、現像液回収槽22の下部隔壁22Aの上端部を乗り
越えてオーバーフロー槽62内へ流れ込むようになってい
る。オバーフロー槽62内への現像液のオーバーフロー流
量は、全循環量の1/10〜8/10（好ましくは1/3〜2/3）と
されている。A branch line 58 branches from the middle of the line 48, and a valve is provided.
It communicates with an overflow tank 62 as a collection tank via 60. The overflow tank 62 is provided on the side of the developer recovery tank 22, is provided on a partition wall of the developer recovery tank 22, and communicates with the developer recovery tank 22 through a long hole 64 along the developer surface. As a result, the surface layer of the developer 18 in the developer recovery tank 22 flows over the upper end of the lower partition 22A of the developer recovery tank 22 and flows into the overflow tank 62. The overflow flow rate of the developer into the overflow tank 62 is set to 1/10 to 8/10 (preferably 1/3 to 2/3) of the total circulation amount.
また上部隔壁22Bは、後述する現像液補充装置によっ
て現像液18が補充され、現像液18の液面が上昇した場合
に、オーバーフロー槽62内に一旦捕集された現像かすが
現像液回収槽22内へ広がらないようにしている。When the developer 18 is replenished by a developer replenishing device described later and the liquid level of the developer 18 rises, the upper partition 22B collects the developing residue once collected in the overflow tank 62 but the developer residue in the developer recovery tank 22. To prevent it from spreading to
オーバーフロー槽62は上方が開口されて開口部が形成
され、蓋66で開閉されるようになっており、オーバーフ
ロー槽62内のメンテナンス時には開口部から取り外され
るようになっている。またオーバーフロー槽62の側壁68
の下部を貫通して分岐管路58が連通されており、循環ポ
ンプ44の作動によってオーバーフロー槽62内の現像液が
吸引されるようになっている。循環ポンプ44の吸引によ
って現像液回収槽22内現像液の表層部がオーバーフロー
槽62内へ流れ込み、現像液回収槽22内の現像液に浮遊し
ている現像かすがオーバーフロー槽62内へ流れ込んで、
現像かすが捕集される。この場合水なしPS版12の表面に
はインキ反撥用としてシリコーンゴム層が積層されてお
り、このシリコーンゴム層は画像部に相当する感光層と
共にブラシローラ30によって掻き取られると、現像かす
となって余剰の現像液と共に現像液回収槽22内へ回収さ
れる。現像液回収槽22内の現像液中では、現像かすは比
重が現像液より低いため現像液の表層部へ浮遊する。ま
た下部隔壁22Aは現像液回収槽22内の表層の現像かすが
オーバーフロー槽62内へ流れ込み捕集するためのいわゆ
る堰の役目をしている。また後述する現像液の補充によ
って、オーバーフロー槽62内の現像液18の液面が上昇し
たときには、上部隔壁22Bは、一旦捕集された現像かす
が現像液回収槽22内へ広がらないように堰の役目をして
いる。The overflow tank 62 is opened at its upper part to form an opening, and is opened and closed by a lid 66, and is detached from the opening during maintenance in the overflow tank 62. Also, the side wall 68 of the overflow tank 62
A branch pipe 58 communicates with a lower portion of the developing tank, and the developer in the overflow tank 62 is sucked by the operation of the circulation pump 44. By the suction of the circulation pump 44, the surface layer of the developer in the developer recovery tank 22 flows into the overflow tank 62, and the developing residue floating in the developer in the developer recovery tank 22 flows into the overflow tank 62,
Developed debris is collected. In this case, a silicone rubber layer is laminated on the surface of the waterless PS plate 12 for repelling ink, and when this silicone rubber layer is scraped off by the brush roller 30 together with the photosensitive layer corresponding to the image area, it becomes a development residue. The developer is collected into the developer collecting tank 22 together with the surplus developer. In the developing solution in the developing solution collection tank 22, the developing residue floats on the surface layer of the developing solution because the specific gravity is lower than that of the developing solution. Further, the lower partition wall 22A serves as a so-called weir for collecting and collecting the development residue on the surface layer in the developer recovery tank 22 into the overflow tank 62. Also, when the liquid level of the developer 18 in the overflow tank 62 rises due to the replenishment of the developer described later, the upper partition wall 22B is provided with a weir to prevent the collected developer residue from spreading into the developer recovery tank 22. Has a role.
またオーバーフロー槽62内にはオーバーフロー管70が
配設されている。このオーバーフロー管70の下端部はオ
ーバーフロー槽62の底部を貫通して外方へ突出してお
り、上端部は、現像液回収槽22上部隔壁22Bの下端部よ
り高く設定されている。このため、後述する現像液補充
装置によって現像液18が補充されて、現像液回収槽22内
の現像液18の液面が上昇（第１図二点鎖線で示される位
置）すると水没し、オーバーフロ槽62内の現像液18の表
層部が、現像かすと共にオーバーフロー管70によって外
方へ流れ出すようになっている。An overflow pipe 70 is provided in the overflow tank 62. The lower end of the overflow pipe 70 penetrates the bottom of the overflow tank 62 and projects outward, and the upper end is set higher than the lower end of the upper partition 22B of the developer recovery tank 22. For this reason, when the developer 18 is replenished by a developer replenishing device described later and the liquid level of the developer 18 in the developer recovery tank 22 rises (the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 1), the developer is submerged. The surface layer portion of the developer 18 in the flow tank 62 flows out through the overflow pipe 70 together with the development residue.
なお本実施例ではオーバーフロー管70の上端部は常時
開放しているが、先端部に弁を設けて、適当な時期に開
放して、オーバーフロー槽62内に捕集された現像かすを
外方に排出する構造としても良い。さらにオーバーフロ
ー管70の上端部の高さ位置は、循環時の現像液18の液面
位置（第１図実線で示される位置）より若干低い位置で
もよく、この位置では現像液18の循環時に弁等を開放し
て、現像かすを外方へ排出することも可能である。In the present embodiment, the upper end of the overflow pipe 70 is always open, but a valve is provided at the end, which is opened at an appropriate time, so that the developing scum collected in the overflow tank 62 is directed outward. It is good also as a structure which discharges. Further, the height position of the upper end of the overflow pipe 70 may be slightly lower than the liquid surface position of the developer 18 during circulation (the position indicated by the solid line in FIG. 1). It is also possible to release the developing residue and discharge the developing residue to the outside.
現像液補充装置は現像原液が収容された現像原液タン
ク72と、水が収容された水タンク74と、現像原液を現像
液回収槽22内へ供給するための現像原液供給ポンプ76
と、水を現像液回収槽22内へ供給するための水供給ポン
プ78とで構成されている。The developing solution replenishing device includes a developing solution tank 72 containing a developing solution, a water tank 74 containing water, and a developing solution supply pump 76 for supplying the developing solution into the developing solution recovery tank 22.
And a water supply pump 78 for supplying water into the developer recovery tank 22.
現像原液タンク72には管路80の一端が連通されてお
り、他端は現像液回収槽22内に配設された広口管路82へ
開口している。この管路80の途中に現像原液供給ポンプ
76が配設されている。この現像原液供給ポンプ76は制御
装置52へ接続されており、作動のタイミングが制御され
るようになっている。One end of a conduit 80 communicates with the developing solution tank 72, and the other end opens to a wide-mouthed conduit 82 provided in the developing solution recovery tank 22. In the middle of this line 80, a developing solution supply pump
76 are arranged. The developing solution supply pump 76 is connected to the control device 52 so that the operation timing is controlled.
水タンク74は管路84の一端が連通されており、他端は
現像液回収槽22内の広口管路82へ開口している。この管
路84の途中には水供給ポンプ78が配設されている。この
水供給ポンプは制御装置52へ接続されており、作動のタ
イミングが制御されるようになっている。The water tank 74 is connected to one end of a pipe 84, and the other end is open to a wide-mouth pipe 82 in the developer recovery tank 22. A water supply pump 78 is provided in the middle of the pipe 84. This water supply pump is connected to the control device 52 so that the operation timing is controlled.
また制御装置52には、現像部14の入り側に配設され
て、水なしPS版12の通過量すなわち処理量（水なしPS版
12の面積）を検出するアルミ検出器86が接続されてお
り、処理量を制御装置52へ供給するようになっている。
このアルミ検出器86は光電管を水なしPS版12の幅方向に
沿って複数個配置し、水なしPS版12がアルミ検出器86の
上部を通過する時間を計測することによって、版面上の
面積を検出しても良く、水なしPS版12の幅方向の長さを
予め装置に入力しておき、１個の光電管で長さを検出す
ることによって面積を検出しても良い。Further, the controller 52 is provided on the entrance side of the developing unit 14 and has a passing amount of the waterless PS plate 12, that is, a processing amount (a waterless PS plate).
An aluminum detector 86 for detecting the area (12 areas) is connected to supply the processing amount to the control device 52.
The aluminum detector 86 has a plurality of phototubes arranged in the width direction of the waterless PS plate 12 and measures the time required for the waterless PS plate 12 to pass above the aluminum detector 86 to obtain an area on the plate surface. May be detected, or the length in the width direction of the waterless PS plate 12 may be input to the apparatus in advance, and the area may be detected by detecting the length with one photoelectric tube.
また現像液回収槽22内の底部にはヒータ88が配置され
ている。このヒータ88は図示しない電源と接続されて、
現像液18を加熱するようになっている。このヒータ88に
よって現像液18の温度は15゜〜45゜（好ましくは25゜〜
30゜）に設定されている。A heater 88 is provided at the bottom of the developer recovery tank 22. This heater 88 is connected to a power source (not shown),
The developer 18 is heated. The heater 88 raises the temperature of the developer 18 to 15 ° to 45 ° (preferably 25 ° to
30 ゜).
また本装置における現像時間は、10秒〜３分（好まし
くは30秒〜２分）に設定されており、染色時間は、５秒
〜２分（好ましくは10秒〜１分）に設定されている。
又、必要に応じて現像槽を追加することが出来る。The development time in the present apparatus is set to 10 seconds to 3 minutes (preferably 30 seconds to 2 minutes), and the dyeing time is set to 5 seconds to 2 minutes (preferably 10 seconds to 1 minute). I have.
Further, a developing tank can be added as required.
次に染色部16について説明する。 Next, the dyeing section 16 will be described.
染色部16の染色槽本体90は現像槽本体20と同様に上方
に向けて開口し、底部が逆山形状に形成されて底部中央
部に染色液回収槽92が形成されている。染色液回収槽92
内には染色液17が収容される。染色液回収槽92内にはオ
ーバーフロー管91が配置されている。このオーバーフロ
ー管91の上端は染色液回収槽92内の上部に位置してお
り、下端は、染色液回収槽92の底部を貫通して外方に突
出している。このオーバーフロー管91は、後述する染色
液補充装置による染色液の補充によって、染色液回収槽
92内の液面が上昇して、オーバーフロー管91の上端を越
えると染色液17を染色液回収槽92内から外方へ排出し、
染色液17の液面高さを設定している。The dyeing tank main body 90 of the dyeing section 16 is opened upward like the developing tank main body 20, the bottom is formed in an inverted mountain shape, and the dyeing liquid collecting tank 92 is formed in the center of the bottom. Staining solution recovery tank 92
The inside contains a staining solution 17. An overflow pipe 91 is arranged in the staining liquid recovery tank 92. The upper end of the overflow pipe 91 is located at the upper part in the staining liquid collecting tank 92, and the lower end penetrates the bottom of the staining liquid collecting tank 92 and projects outward. The overflow pipe 91 is filled with a staining solution by a staining solution replenishing device described later.
When the liquid level in 92 rises and exceeds the upper end of the overflow pipe 91, the stain 17 is discharged outward from the stain recovery tank 92,
The liquid level of the staining liquid 17 is set.
染色槽本体90の上部には、水なしPS版12の搬送方向に
沿って、水なしPS版12の染色槽本体90への入側から順次
搬送ローラ対94、96が配置されている。搬送ローラ対9
4、96、は、図示しないラツク側板に支持され、図示し
ない駆動手段の駆動力が伝達されて回転し、水なしPS版
１を挟持搬送するようになっている。これらの搬送ロー
ラ対94、96は一般的なゴム材質で成形されており、搬送
する水なしPS版12の表面を傷付けないようになってい
る。At the upper part of the dyeing tank main body 90, a pair of conveying rollers 94 and 96 are sequentially arranged from the entry side of the waterless PS plate 12 into the dyeing tank main body 90 along the conveying direction of the waterless PS plate 12. Transfer roller pair 9
Reference numerals 4 and 96 are supported by a rack side plate (not shown), are rotated by a driving force of a driving means (not shown), and pinch and convey the PS plate 1 without water. These transport roller pairs 94 and 96 are formed of a general rubber material so as not to damage the surface of the waterless PS plate 12 to be transported.
染色槽本体90の、水なしPS版12の搬送方向下流側には
搬送ローラ対98が配置されている。この搬送ローラ対98
は、ロール材質がNBRゴム（ニトリルブタジエンラバ
ー）等で形成されており、染色液17の拭き取り性が向上
されている。A transport roller pair 98 is disposed on the downstream side of the dyeing tank main body 90 in the transport direction of the waterless PS plate 12. This transport roller pair 98
The roll material is formed of NBR rubber (nitrile butadiene rubber) or the like, and the wiping property of the staining liquid 17 is improved.
搬送ローラ対94と搬送ローラ対96との間にはブラシロ
ーラ100が配置されている。ブラシローラ100も搬送ロー
ラ対94、96と同様に図示しない側板に支持され、図示し
ない駆動手段の駆動力が伝達されて、搬送ローラ対94、
96の回転方向と逆方向（第１図時計方向）へ回転するよ
うになっている。このブラシローラ100はブラシ素材を
プラスチツク又は金属製のロールに植えつけて形成され
ており、水なしPS版12の搬送方向に対して抵抗する方向
（第１図時計方向）へ回転することで水なしPS版12の表
面を擦るようになっている。また場合によっては水なし
PS版の搬送方向に対し順方向へ回転しても良い。ブラシ
ローラ100の回転数は100〜500rpm（好ましくは200〜400
rpm）に設定されている。さらに水なしPS版ケラレ防止
としてケラレ防止レバーを配置することが好ましい。A brush roller 100 is arranged between the pair of transport rollers 94 and 96. The brush roller 100 is also supported by a side plate (not shown) similarly to the transport roller pairs 94 and 96, and the driving force of a driving unit (not shown) is transmitted, and the
It rotates in the opposite direction (clockwise direction in FIG. 1) to the rotation direction of 96. The brush roller 100 is formed by implanting a brush material in a plastic or metal roll. The brush roller 100 rotates in a direction (clockwise in FIG. 1) that resists the transport direction of the waterless PS plate 12. None PS version 12 is designed to rub the surface. Also in some cases without water
It may be rotated in the forward direction with respect to the transport direction of the PS plate. The rotation speed of the brush roller 100 is 100 to 500 rpm (preferably 200 to 400 rpm).
rpm). Further, it is preferable to arrange a vignetting prevention lever as a waterless PS plate vignetting prevention.
このブラシローラ100の下部にはプラスチツク等の比
較的柔軟な材質例えば高密度ポリエチレンで形成された
受け台102が配置されている。又ゴムローラでも良い。
このため水なしPS版12が通過する際は、受け台102上で
水なしPS版12が案内されながら、ブラシローラ100によ
って表面へ染色液17が塗布されるようになっている。Below the brush roller 100, a receiving base 102 made of a relatively flexible material such as plastic, for example, high-density polyethylene is arranged. Alternatively, a rubber roller may be used.
For this reason, when the waterless PS plate 12 passes, the dyeing liquid 17 is applied to the surface by the brush roller 100 while the waterless PS plate 12 is guided on the receiving table 102.
ブラシローラ100の上部には、スプレーパイプ104が配
設されている。このスプレーパイプ104は略コ字状の整
流板106で囲まれている。この整流板106に対向して、ス
プレーパイプ104には吐出口104Aが軸方向に沿って適当
数形成されている。A spray pipe 104 is provided above the brush roller 100. The spray pipe 104 is surrounded by a substantially U-shaped current plate 106. A suitable number of discharge ports 104A are formed in the spray pipe 104 along the axial direction so as to face the current plate 106.
このスプレーパイプ104はバルブ108を介して管路110
で後述する染色液供給装置と連通されている。これによ
ってスプレーパイプ104へは染色液17が送りこまれ、整
流板106へ向けて吐出され、整流板106に案内されてブラ
シローラ100へ染色液17が供給される。このとき染色液1
7は整流板106の板上を流下しながら広がり、ブラシロー
ラ100上へ均一に供給される。The spray pipe 104 is connected to a pipe 110 through a valve 108.
Is connected to a staining liquid supply device described later. As a result, the staining liquid 17 is sent to the spray pipe 104, is discharged toward the current plate 106, is guided by the current plate 106, and is supplied to the brush roller 100. At this time, staining solution 1
7 spreads while flowing down on the current plate 106 and is uniformly supplied onto the brush roller 100.
ブラシローラ100と搬送ローラ対96との間で搬送ロー
ラ対96側にもスプレーパイプ112が配設されている。こ
のスプレーパイプ112もスプレーパイプ104と同様に略コ
字状の整流板106で囲われている。このスプレーパイプ1
12は吐出口112Aが、整流板106に対向して軸方向に沿っ
て適当数設けられている。スプレーパイプ112はスプレ
ーパイプ104と同様にバルブ108を介して管路110で後述
する染色液供給装置と連通されている。これによってス
プレーパイプ112へは染色液17が送りこまれ、整流板106
へ向けて吐出され案内されて搬送ローラ対96の上側ロー
ラへ染色液17が供給されるようになっている。このとき
染色板17は整流板106の板上を流下しながら広がり、搬
送ローラ対96へ均一に供給される。A spray pipe 112 is also provided between the brush roller 100 and the transport roller pair 96 and on the transport roller pair 96 side. The spray pipe 112 is also surrounded by a substantially U-shaped current plate 106 like the spray pipe 104. This spray pipe 1
In 12, an appropriate number of discharge ports 112 A are provided along the axial direction so as to face the flow regulating plate 106. Like the spray pipe 104, the spray pipe 112 is connected to a staining liquid supply device described later through a pipe 108 via a valve 108. As a result, the dyeing solution 17 is sent to the spray pipe 112 and the current plate 106
The dyeing liquid 17 is supplied to the upper roller of the pair of conveying rollers 96 and is guided. At this time, the dyeing plate 17 spreads while flowing down on the plate of the current plate 106, and is uniformly supplied to the transport roller pair 96.
ブラシローラ100と搬送ローラ対96の上方には断面形
状が略コ字状のカバー107が配置されている。このカバ
ー107はブラシローラ100による染色液の他への飛散を防
止している。A cover 107 having a substantially U-shaped cross section is disposed above the brush roller 100 and the transport roller pair 96. The cover 107 prevents the staining liquid from being scattered by the brush roller 100.
染色液供給装置は循環ポンプ114と、フイルタ116と、
循環ポンプ114と染色液回収槽92とを連通する管路118で
構成されている。循環ポンプ114の吐出口側へ管路110が
連通され、吸い込み口側には管路118の一端が連通され
ている。管路118の他端は染色液回収槽92の底部と連通
されている。この循環ポンプ114の作動によって、染色
液回収槽92内の染色液が管路118を通って、循環ポンプ1
14に吸い込まれ、管路110を通ってスプレーパイプ104、
112へ送られるようになっている。The dye supply device is a circulation pump 114, a filter 116,
It is configured by a conduit 118 that communicates the circulation pump 114 and the staining liquid recovery tank 92. The pipe 110 is connected to the discharge port side of the circulation pump 114, and one end of the pipe 118 is connected to the suction port side. The other end of the conduit 118 communicates with the bottom of the staining solution recovery tank 92. By the operation of the circulation pump 114, the staining solution in the staining solution recovery tank 92 passes through the pipe 118,
Aspirated into 14, spray pipe 104 through line 110,
It is sent to 112.
管路118の途中にフイルタ116が配設されており、管路
118内を通る染色液中のかす（主に現像部より持ち込ま
れた水なしPS版12の表面から擦り取られた感光層、シリ
コーン層からのかす）を除去するようになっている。A filter 116 is provided in the middle of the pipe 118,
The residue (mainly from the photosensitive layer and silicone layer scraped off from the surface of the waterless PS plate 12 brought in from the developing section) in the dyeing solution passing through the inside 118 is removed.
染色液補充装置は染色液17が収容された染色液タンク
122と、染色液を染色液回収槽92内へ供給するための染
色液供給ポンプ124と、で構成されている。The staining solution replenishment device is a staining solution tank containing the staining solution 17.
122, and a dye supply pump 124 for supplying the dye into the dye recovery tank 92.
染色液タンク122には管路126の一端が連通されてお
り、他端は染色液回収槽92内に配設された広口管路82へ
開口している。この管路126の途中に染色液供給ポンプ1
24が配設されている。この染色液供給ポンプ124は制御
装置52へ接続されており、作動のタイミングすなわち染
色液17の補充時の作動が制御されるようなっている。染
色液17の補充量は５〜100cc/m2（好ましくは10〜60cc/m
2）に設定されている。One end of a pipe 126 is connected to the dye tank 122, and the other end is open to a wide-mouth pipe 82 provided in the dye recovery tank 92. The dye supply pump 1
24 are arranged. The staining liquid supply pump 124 is connected to the control device 52, and the operation timing, that is, the operation at the time of replenishment of the staining liquid 17, is controlled. The replenishment amount of the staining solution 17 is 5 to 100 cc / m 2 (preferably 10 to 60 cc / m
2 ) is set.
染色液回収槽92内の底部にはヒータ88が配設されてお
り、図示しない電源と接続されて染色液17を加熱するよ
うになっている。この染色液17の温度は15〜45℃（好ま
しくは20〜30℃）に設定されている。又必要に応じて染
色槽を増やすことが出来る。A heater 88 is provided at the bottom of the staining liquid recovery tank 92, and is connected to a power supply (not shown) to heat the staining liquid 17. The temperature of the staining solution 17 is set at 15 to 45 ° C (preferably 20 to 30 ° C). Further, the number of dyeing tanks can be increased as needed.
次に本実施例の作用について説明する。 Next, the operation of the present embodiment will be described.
図示しない画像焼付け装置で画像が焼付けられた水な
しPS版12はアルミ検出器86の上方を通過した後に現像部
14へ挿入される。現像部14内へ挿入される水なしPS版12
の感光槽へ光が照射された部分すなわち露光部分は硬化
してプライマー層へ接着し、未露光部分は現像液18によ
って膨潤又は溶出可能な状態となっている。The waterless PS plate 12, on which the image is printed by an image printing device (not shown), passes above the aluminum detector 86 and then is developed by the developing unit.
Inserted into 14. Waterless PS plate 12 inserted into the developing unit 14
The portion of the photosensitive tank irradiated with light, that is, the exposed portion is cured and adheres to the primer layer, and the unexposed portion is in a state capable of swelling or eluting by the developer 18.
この状態から、水なしPS版12の表面を保護するために
ラミネートされた保護フイルムを剥離した後、水なしPS
版12は現像部14へ挿入され、現像部14の搬送ローラ対24
に挟持搬送されながら現像液18が表面へ塗布される。こ
れによって水なしPS版12の未露光部分（画像部分）の感
光層は膨潤してプライマー層から剥がれ易くなる。From this state, after peeling off the protective film laminated to protect the surface of the waterless PS plate 12, the waterless PS
The plate 12 is inserted into the developing unit 14, and the transport roller pair 24 of the developing unit 14 is
The developer 18 is applied to the surface while being nipped and conveyed. Thereby, the photosensitive layer in the unexposed portion (image portion) of the waterless PS plate 12 swells and is easily peeled off from the primer layer.
さらに水なしPS版12は搬送ローラ対26によって挟持搬
送され、ブラシローラ30と受け台32との間に挿入され
る。ブラシローラ30は水なしPS版12の搬送方向に順する
方向（第１図反時計方向）へ回転し、受け台32上を通過
する水なしPS版12の上面を擦る。このブラシローラ30へ
も現像液18が供給されており、水なしPS版12は現像液18
を塗布されながら、ブラシローラ30によって表面が擦ら
れ、現像液18によって膨潤又は溶出した感光層及びシリ
コーンゴム層が掻き取られる。これによって水なしPS版
12には露光部分（非画像部分）に相当する、感光層、シ
リコーン層が残り、ポジ画像が形成される。Further, the waterless PS plate 12 is nipped and conveyed by the conveying roller pair 26 and inserted between the brush roller 30 and the receiving table 32. The brush roller 30 rotates in a direction (counterclockwise direction in FIG. 1) in the direction in which the waterless PS plate 12 is conveyed, and rubs the upper surface of the waterless PS plate 12 passing over the receiving table 32. The developer 18 is also supplied to the brush roller 30, and the waterless PS plate 12 is
Is applied, the surface is rubbed by the brush roller 30, and the photosensitive layer and the silicone rubber layer swollen or eluted by the developer 18 are scraped off. PS version without water by this
In 12, a photosensitive layer and a silicone layer corresponding to an exposed portion (non-image portion) remain, and a positive image is formed.
水なしPS版12の表面へ塗布された現像液18の現像後の
余剰の現像液18は、現像液回収槽22内へ落下して回収さ
れる。The excess developer 18 after development of the developer 18 applied to the surface of the waterless PS plate 12 falls into the developer recovery tank 22 and is recovered.
さらにブラシローラ30によって未露光部分（画像部
分）の感光層及びシリコーン層が掻き取られた水なしPS
版12は搬送ローラ対28に挟持搬送されると共に現像液18
が再度塗布されて、水なしPS版12から現像液18が絞り取
られる。この状態の水なしPS版12は染色部16の搬送ロー
ラ対94間へ挿入される。この搬送ローラ対94による挟持
搬送によって、水なしPS版12はブラシローラ100と受け
台102の間に挿入される。このブラシローラ100は水なし
PH版12の搬送方向に抗する方向（第１図時計方向）へ回
転し、整流板104に案内されて供給された染色液17を水
なしPS版12の上面へ塗布する、これによってプライマー
層すなわち未露光部（画像部）に染色液が17付着して染
色される。Furthermore, the water-free PS in which the photosensitive layer and the silicone layer in the unexposed portion (image portion) are scraped off by the brush roller 30
The plate 12 is nipped and transported by a pair of transport rollers 28, and the developer 18
Is applied again, and the developer 18 is squeezed out of the PS plate 12 without water. The waterless PS plate 12 in this state is inserted between the conveying roller pair 94 of the dyeing section 16. By the nipping and transporting by the transport roller pair 94, the waterless PS plate 12 is inserted between the brush roller 100 and the cradle. This brush roller 100 is without water
It rotates in the direction opposite to the transport direction of the PH plate 12 (clockwise direction in FIG. 1), and applies the dyeing solution 17 supplied and guided by the current plate 104 to the upper surface of the PS plate 12 without water. That is, the staining liquid 17 adheres to the unexposed area (image area) and is stained.
さらに水なしPS版12は搬送ローラ対96間に挿入さ
れ、、搬送ローラ対96の上側のローラへ、整流板106に
よって案内されて供給される染色液17が表面へ塗布され
ながら染色液17が絞り取られて、スクイズされる。この
染色は、現像処理した後の水なしPS版12の画像部と非画
像部表面が同一色なので、画像部と非画像部とを見分け
易くするための工程で、検版作業のために行う工程であ
る。Further, the waterless PS plate 12 is inserted between the conveying roller pair 96, and the dyeing liquid 17 guided and supplied by the rectifying plate 106 is applied to the upper roller of the conveying roller pair 96 while the dyeing liquid 17 is applied to the surface. It is squeezed and squeezed. This dyeing is performed for plate inspection work in a process for facilitating discrimination between the image part and the non-image part since the image part and the non-image part surface of the waterless PS plate 12 after the development processing are the same color. It is a process.
画像部が染色された水なしPS版12は染色部16から送り
出された後に、搬送ローラ対98間へ挿入され、表面に残
っている染色液17がぬぐい取られる。この搬送ローラ対
98はNBRゴムで形成されているので、染色液17のぬぐい
取り性が向上する。特に非画像分に染色液17が残ってい
るとシリコンゴム層のインキ反撥力が低下するので、印
刷時に良好な画像を得ることが出来なくなるが、搬送ロ
ーラ対98で染色液を確実に表面から絞り取るので、良好
な画像を得ることができる。The waterless PS plate 12 whose image portion has been dyed is sent out from the dyeing portion 16 and then inserted between the pair of transport rollers 98, and the dyeing liquid 17 remaining on the surface is wiped off. This transport roller pair
Since 98 is made of NBR rubber, the wiping properties of the staining solution 17 are improved. In particular, if the dyeing liquid 17 remains in the non-image area, the ink repulsion of the silicone rubber layer is reduced, so that it is impossible to obtain a good image at the time of printing. Since the aperture is removed, a good image can be obtained.
次に現像部14における現像液18の循環、かす取り及び
現像液18の補充について説明する。Next, the circulation of the developer 18 in the developing unit 14, the removal of debris, and the replenishment of the developer 18 will be described.
〈循環〉 第１図に示されるように、現像液回収槽22内の現像液
18は、循環ポンプ44の作動によってスプレーパイプ34、
40、42へ送られ、現像部14を搬送される水なしPS版12へ
塗布される。水なしPS版12の塗布後の余剰の現像液18は
落下して、現像液回収槽22内へ回収される。現像液回収
槽22内へ回収された現像液中には水なしPS版12の表面か
ら剥離した、感光層及びシリコーンゴム層等の現像かす
が混ざっており、これらの現像かすは、比重が現像液よ
りも軽いので、現像液回収槽22内で現像液の表層部に浮
遊している。<Circulation> As shown in FIG.
18, spray pipe 34, by operation of circulation pump 44,
It is sent to 40 and 42 and applied to the waterless PS plate 12 that is transported through the developing unit 14. Excess developer 18 after application of the waterless PS plate 12 falls and is collected in the developer collection tank 22. The developer collected in the developer recovery tank 22 contains a mixture of development residues such as a photosensitive layer and a silicone rubber layer, which are separated from the surface of the waterless PS plate 12, and the specific gravity of the development residue is Since it is lighter, it floats on the surface layer of the developer in the developer recovery tank 22.
〈かす取り〉 この状態で、現像液回収槽22内の現像液18はオーバー
フロー槽62内へ下部隔壁22Aを乗り越えて流れ込む。こ
れによって現像液18の表層部に浮遊している現像かす
は、オーバーフロー槽62内へ流れ込んで、このオーバー
フロー槽62内へ集積される。<Decrease> In this state, the developer 18 in the developer recovery tank 22 flows into the overflow tank 62 over the lower partition 22A. As a result, the development residue floating on the surface layer of the developer 18 flows into the overflow tank 62 and is accumulated in the overflow tank 62.
フイルタ46が万一現像かすによって、目詰まりを生じ
ると、管路38内を通過する現像液18の循環流量が低下す
る。これを流量センサ50が検出して、制御装置52へ検出
結果を伝達する。制御装置52は告知装置56を作動させ
て、フイルタ46が目詰まりを生じていることを告知す
る。これによって操作員は、フイルタ46を新規なものと
交換する時期を知ることができる。If the filter 46 is clogged due to development residue, the circulating flow rate of the developer 18 passing through the pipe 38 decreases. This is detected by the flow sensor 50, and the detection result is transmitted to the control device 52. The control device 52 activates the notification device 56 to notify that the filter 46 is clogged. This allows the operator to know when to replace the filter 46 with a new one.
さらに循環液回収槽22内へ現像液または水を補充する
と、現像液回収槽22内の現像液の液面高さが上昇し、貫
通孔64を越えて上昇するとオーバーフロー槽62内の現像
液（表層部に現像かすが捕集されている）の液面の高さ
も上昇し、オーバーフロー管70の上端部が水没する（第
１図二点鎖線で示される位置）。これによって、オーバ
ーフロー槽62内の現像液は表層部（現像かすが浮遊して
いる）からオーバーフロー管70を通って外方へ排出され
る。この際に貫通孔64を形成している現像液回収槽22の
上部隔壁22Bは堰の役目をして、オーバーフロー槽62内
へ一旦捕集されたかすが、現像液の補充による現像液面
の上昇によて現像液回収槽22内へ拡散することがない。Further, when the developer or water is replenished into the circulating fluid recovery tank 22, the liquid level of the developer in the developer recovery tank 22 rises, and when the developer level rises beyond the through hole 64, the developer (water) in the overflow tank 62 rises. The height of the liquid level of the development residue collected on the surface layer also increases, and the upper end of the overflow pipe 70 is submerged (the position indicated by the two-dot chain line in FIG. 1). As a result, the developer in the overflow tank 62 is discharged to the outside through the overflow pipe 70 from the surface layer (developing residue is floating). At this time, the upper partition wall 22B of the developer recovery tank 22 forming the through hole 64 serves as a weir and is once collected in the overflow tank 62, but the developer level rises due to the replenishment of the developer. As a result, it does not diffuse into the developer recovery tank 22.
このように、本実施例では、オーバーフロー管70によ
って、現像かすが、現像原液または水の補充時に外方へ
排出されるので、フイルタの目詰まりが低減され、長期
に安定した現像処理をすることが出来る。さらに現像液
18の循環経路を分岐管路58と、管路48との２系統とし、
現像液18から現像かすを取り除くことが出来るので、現
像液回収槽22、循環ポンプ44に現像かすが溜まることが
無く、これらのメンテナンスが容易となる。As described above, in the present embodiment, the developing residue is discharged to the outside at the time of replenishment of the undiluted developing solution or water by the overflow pipe 70, so that clogging of the filter is reduced, and a stable developing process can be performed for a long time. I can do it. Further developer
The 18 circulation routes are divided into a branch line 58 and a line 48,
Since the development residue can be removed from the developer 18, the development residue does not accumulate in the developer recovery tank 22 and the circulation pump 44, and the maintenance thereof is facilitated.
〈現像液補充〉 アルミ検出器86によって、現像部14内へ挿入される水
なしPS版12が検出され、処理量が検出される。<Replenishment of Developer> The waterless PS plate 12 inserted into the developing unit 14 is detected by the aluminum detector 86, and the processing amount is detected.
この検出結果に基づいて制御装置52は現像液供給ポン
プ76を作動させ、現像原液を現像液回収槽22内へ供給す
る。この補充は水なしPS版12の処理量すなわち面積に応
じて補充され、処理による現像液18の劣化を回復させる
ものである。この補充量は５〜500cc/m2（好ましくは20
〜200cc/m2）に設定されている。Based on the detection result, the control device 52 operates the developing solution supply pump 76 to supply the developing solution to the developing solution collecting tank 22. This replenishment is replenished according to the processing amount, that is, the area of the waterless PS plate 12, and recovers the deterioration of the developer 18 due to the processing. This replenishment rate is 5 to 500 cc / m 2 (preferably 20
~200cc / m 2) is set to.
さらに現像液18は電気伝導度検出器54によって電気伝
導度が検出されており、この結果は制御装置52へ伝達さ
れている。これによって現像液18中の水分量が検出され
ている。現像液18中の水分が蒸発して、濃縮すると、現
像液18の電気伝導度が上昇し、所定値以上になると制御
装置52は水供給ポンプ78を作動させて、水を現像液回収
槽22内へ供給する。この水の補充量は500〜1000cc/回に
設定されている。これによって現像液18の濃縮化が防止
され、前記現像原液の面積補充と共に現像液18の活性度
が一定に保たれ、長期に安定した現像処理が可能とな
る。Further, the electric conductivity of the developer 18 is detected by the electric conductivity detector 54, and the result is transmitted to the control device 52. Thus, the amount of water in the developer 18 is detected. When the water in the developer 18 evaporates and condenses, the electric conductivity of the developer 18 increases. When the electric conductivity of the developer 18 exceeds a predetermined value, the controller 52 operates the water supply pump 78 to remove water from the developer recovery tank 22. Supply inside. The replenishing amount of this water is set at 500 to 1000 cc / time. As a result, the concentration of the developing solution 18 is prevented, the activity of the developing solution 18 is maintained at the same time as the area of the developing solution is replenished, and a stable developing process can be performed for a long time.
次に染色部16の染色液17の補充について説明する。 Next, replenishment of the staining solution 17 in the staining section 16 will be described.
染色部16へ挿入される水なしPS版12の表面には現像液
18が付着残存しており、この状態で染色液17が塗布され
る。このため染色後に染色液回収槽92に回収される染色
液17中には現像液18が持ち込まれ、染色液17が劣化す
る。また水なしPS版12の染色処理量によって、染色液17
は劣化する。このためアルミ検出器86による水なしPS版
12の面積の検出結果に基づいて、制御装置52は染色液供
給ポンプ124を作動させ染色液回収槽92内へ染色液を供
給する。これによって染色液17の染色能力が低下するこ
とがなく、長期に安定した染色処理が可能となる。Developing solution is applied to the surface of PS plate 12 without water to be inserted into dyeing section 16
The dyeing liquid 17 is applied in this state. For this reason, the developing solution 18 is carried into the staining solution 17 collected in the staining solution collection tank 92 after the staining, and the staining solution 17 is deteriorated. In addition, depending on the dyeing treatment amount of the PS plate 12 without water, the staining solution 17
Deteriorates. Because of this, waterless PS version using aluminum detector 86
Based on the detection result of the area of 12, the control device 52 operates the staining solution supply pump 124 to supply the staining solution into the staining solution collection tank 92. As a result, the staining ability of the staining solution 17 does not decrease, and a long-term stable staining process can be performed.
なお本実施例では、オーバーフロー管70の上端部を、
現像原液18の補充によって液面が上昇した際に水没する
高さに設定したが、これに限らず、現像液18の循環時の
現像液18の液面高さより、若干低い位置に設定し、循環
時にも現像かすがオーバーフロー管70から排出可能とし
ても良い。In the present embodiment, the upper end of the overflow pipe 70 is
The height was set to be submerged when the liquid level rose due to the replenishment of the developing solution 18, but is not limited to this, and was set to a position slightly lower than the liquid level of the developer 18 during the circulation of the developer 18, During the circulation, the development residue may be discharged from the overflow pipe 70.
［発明の効果］ 以上に説明したように本発明では、現像液回収槽内の
現像かすを、オーバーフロー槽内へ捕集し、この現像か
すを現像液の補充で現像液中に水没する排出手段によっ
て、排出するので、現像液中から現像かすを取り除くこ
とが出来、循環経路の途中に配設されたフイルタの目詰
まりを低減することが出来、現像液回収槽内の汚れを少
なくすることが出来るという優れた効果が得られる。[Effects of the Invention] As described above, in the present invention, the discharging means which collects the developing residue in the developer collecting tank into the overflow tank and submerges the developing residue in the developing solution by replenishing the developing solution. , The developer residue can be removed from the developer, the clogging of the filter disposed in the middle of the circulation path can be reduced, and the dirt in the developer recovery tank can be reduced. An excellent effect that can be obtained is obtained.
第１図は本発明に係る水なし平版印刷版現像装置の実施
例を示す概略構成図である。 10……水なし平版印刷版現像装置、 12……水なし平版印刷版（PS版）、 14……現像部、 16……染色部、 18……現像液、 22……現像液回収槽、 44……循環ポンプ、 46……フィルタ、 58……分岐管路、 62……オーバーフロー槽、 70……オーバーフロー管。FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of a waterless lithographic printing plate developing apparatus according to the present invention. 10: Waterless lithographic printing plate developing device, 12: Waterless lithographic printing plate (PS plate), 14: Developing unit, 16: Dyeing unit, 18: Developing solution, 22: Developing solution recovery tank, 44 …… Circulation pump, 46 …… Filter, 58 …… Branch line, 62 …… Overflow tank, 70 …… Overflow pipe.
Claims (1)
環管路を循環させながら水なし平版印刷版を現像処理す
る水なし平版印刷版現像処理装置に用いられて、現像か
すを現像液から取り除くための水なし平版印刷版かす除
去装置であって、 前記現像液収容槽と下部隔壁によって仕切られた捕集槽
と、 前記循環管路と前記捕集槽とを接続する分岐管路と、 前記下部隔壁の上方に配置され下部隔壁との間に現像液
が捕集槽へ流入可能な貫通孔を構成する上部隔壁と、 前記捕集槽内へ配設されて下口部が捕集槽の外方へ突出
し上口部が前記上部隔壁の下端よりも上方に位置するオ
ーバーフロー管と、 を有することを特徴とする水なし平版印刷版の現像かす
除去装置。1. A waterless lithographic printing plate developing apparatus for developing a waterless lithographic printing plate while circulating a developing solution in a developing solution storage tank through a circulation pipe by a circulation pump to develop the developing residue. A waterless lithographic printing plate debris removing device for removing from a liquid, a collection tank partitioned by the developer storage tank and a lower partition wall, and a branch pipe connecting the circulation pipe and the collection tank. An upper partition wall disposed above the lower partition wall and defining a through hole through which the developer can flow into the collection tank between the lower partition wall; An overflow pipe protruding outside of the collecting tank and having an upper opening located above a lower end of the upper partition wall.
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