JP2606224B2 - 磁気抵抗素子の製造方法 - Google Patents
磁気抵抗素子の製造方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はエレクトロニクス分野において広く使用され
る磁電変換素子である磁気抵抗素子の製造方法に関する
ものである。
る磁電変換素子である磁気抵抗素子の製造方法に関する
ものである。
従来の技術 従来、磁気抵抗素子は磁性金属の真空蒸着法により製
造する以外に方法はなかった。
造する以外に方法はなかった。
発明が解決しようとする問題点 従来のこれら真空技術を応用した磁気抵抗素子の製造
は高額の製造装置を必要とし、かつ、バッチ生産である
ために生産性に劣り、また真空容器を必要とするために
大面積の製造が困難である等の問題点を有していた。
は高額の製造装置を必要とし、かつ、バッチ生産である
ために生産性に劣り、また真空容器を必要とするために
大面積の製造が困難である等の問題点を有していた。
それ故に、本発明の目的は上記における従来の磁性金
属薄膜の製造にかかわる問題点を除いた、安価で生産性
に優れ、製造も容易な磁気抵抗素子の製造方法を提供す
ることであり、本目的は以下に詳述する手法により達成
されるものである。
属薄膜の製造にかかわる問題点を除いた、安価で生産性
に優れ、製造も容易な磁気抵抗素子の製造方法を提供す
ることであり、本目的は以下に詳述する手法により達成
されるものである。
問題点を解決するための手段 すなわち、上記問題点を解決するための手段として、
本発明においては、構造中に磁性金属を含有する有機化
合物層を基板上に各種印刷技法を用いて形成し、上記構
造中に磁性金属を含有する有機化合物層を酸化性雰囲気
で熱分解して金属酸化物層としてのち、還元雰囲気で熱
処理して磁性金属薄膜とし、続いてパターニングするこ
とにより磁気抵抗素子を製造することを特徴とする。
本発明においては、構造中に磁性金属を含有する有機化
合物層を基板上に各種印刷技法を用いて形成し、上記構
造中に磁性金属を含有する有機化合物層を酸化性雰囲気
で熱分解して金属酸化物層としてのち、還元雰囲気で熱
処理して磁性金属薄膜とし、続いてパターニングするこ
とにより磁気抵抗素子を製造することを特徴とする。
ここで、構造中に磁性金属を有する有機化合物として
は、磁性金属の各種アルコキシド，各種カルボン酸塩，
各種有機化合物錯体，メタロセン，各種有機金属化合物
等がある。これら構造中に磁性金属を含有する有機化合
物は現在ではほぼすべての磁性金属について知られてお
り、容易に合成または入手することができる。
は、磁性金属の各種アルコキシド，各種カルボン酸塩，
各種有機化合物錯体，メタロセン，各種有機金属化合物
等がある。これら構造中に磁性金属を含有する有機化合
物は現在ではほぼすべての磁性金属について知られてお
り、容易に合成または入手することができる。
また、構造中に磁性金属を含有する有機化合物層を基
板上に形成する手段としては、従来公知の各種コーティ
ング方法を採用することができる。すなわち、構造中に
磁性金属を含有する有機化合物を溶剤に溶解し、必要に
応じてバインダとなる樹脂を添加してインキとすること
により、スクリーン印刷，ロール印刷，グラビア印刷，
オフセット印刷，スプレー，ディップ，スピンコート，
かき落しその他の従来公知の各種コーティング方法を用
いて層を基板上に形成することができる。
板上に形成する手段としては、従来公知の各種コーティ
ング方法を採用することができる。すなわち、構造中に
磁性金属を含有する有機化合物を溶剤に溶解し、必要に
応じてバインダとなる樹脂を添加してインキとすること
により、スクリーン印刷，ロール印刷，グラビア印刷，
オフセット印刷，スプレー，ディップ，スピンコート，
かき落しその他の従来公知の各種コーティング方法を用
いて層を基板上に形成することができる。
これら印刷装置の価格が、従来の技術における真空装
置に比して格段に安いことは周知の事実である。
置に比して格段に安いことは周知の事実である。
さらに、構造中に磁性金属を含有する有機化合物層を
熱分解して生成した金属酸化物薄膜を還元雰囲気で熱処
理して磁性金属薄膜とし、続いてパターニングにより磁
性抵抗素子を製造する、本発明にかかる製造方法によれ
ば、実施例に見られるごとく600℃以下という低温で良
質の磁性金属磁気抵抗素子が得られるものであって、従
来のように真空プロセスを用いる必要がなく、省エネル
ギー，省コストに資するところ大である。
熱分解して生成した金属酸化物薄膜を還元雰囲気で熱処
理して磁性金属薄膜とし、続いてパターニングにより磁
性抵抗素子を製造する、本発明にかかる製造方法によれ
ば、実施例に見られるごとく600℃以下という低温で良
質の磁性金属磁気抵抗素子が得られるものであって、従
来のように真空プロセスを用いる必要がなく、省エネル
ギー，省コストに資するところ大である。
作用 上記における本発明の手法を採用することにより、従
来は磁性磁気抵抗素子の製造に不可欠であった、高価非
生産的な真空装置を必要とすることなく、安価に生産性
良く、磁性磁気抵抗素子を製造することができる。
来は磁性磁気抵抗素子の製造に不可欠であった、高価非
生産的な真空装置を必要とすることなく、安価に生産性
良く、磁性磁気抵抗素子を製造することができる。
実施例 以下、本発明を実施例により説明する。
（実施例１） ２エチルヘキサン酸ニッケル,2エチルヘキサン酸コバ
ルトをニッケル，コバルトがそれぞれモル比で9:1とな
るように配合し、石油系溶剤に溶解してのち、ソーダ石
灰ガラス上にスピンコートし、溶剤を乾燥してから大気
中500℃で熱分解してガラス上に酸化ニッケル−コバル
ト層を形成した。
ルトをニッケル，コバルトがそれぞれモル比で9:1とな
るように配合し、石油系溶剤に溶解してのち、ソーダ石
灰ガラス上にスピンコートし、溶剤を乾燥してから大気
中500℃で熱分解してガラス上に酸化ニッケル−コバル
ト層を形成した。
次いで、このガラスを管状炉に入れ、30％の水素を含
む窒素気流中400℃で30分熱処理を行った。この結果、
ガラス板上に厚さ約1000Åの均一なニッケル−コバルト
薄膜が形成された。これをフォトエッチングによりパタ
ーニングして磁気抵抗素子を作成すると、蒸着法により
製造された薄膜と同様に磁性抵抗特性を示した。
む窒素気流中400℃で30分熱処理を行った。この結果、
ガラス板上に厚さ約1000Åの均一なニッケル−コバルト
薄膜が形成された。これをフォトエッチングによりパタ
ーニングして磁気抵抗素子を作成すると、蒸着法により
製造された薄膜と同様に磁性抵抗特性を示した。
（実施例２） 実施例１において２エチルヘキサン酸コバルトに代え
て２エチルヘキサン酸鉄をニッケル，鉄がそれぞれモル
比で9:1となるように使用した。得られた合金薄膜は非
常に均一であり、蒸着法により製造された薄膜と同様に
磁性抵抗特性を示した。
て２エチルヘキサン酸鉄をニッケル，鉄がそれぞれモル
比で9:1となるように使用した。得られた合金薄膜は非
常に均一であり、蒸着法により製造された薄膜と同様に
磁性抵抗特性を示した。
発明の効果 以上、実施例から判るように、本発明にかかる製造方
法を採用することにより、印刷装置，雰囲気炉，パター
ニング装置という簡単な装置のみで、低温で容易に均一
の磁性金属磁気抵抗素子を製造することができるもので
あり、本発明の工業的価値は高いものである。
法を採用することにより、印刷装置，雰囲気炉，パター
ニング装置という簡単な装置のみで、低温で容易に均一
の磁性金属磁気抵抗素子を製造することができるもので
あり、本発明の工業的価値は高いものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡野 和之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内 (72)発明者 仁木 千春 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電 器産業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】構造中に磁性金属を含有する有機化合物層
を基板上に形成し、上記構造中に磁性金属を含有する有
機化合物層を酸化性雰囲気で熱分解して金属酸化物とし
てのち、還元雰囲気で熱処理して金属薄膜とし、次いで
上記金属薄膜をパターニングして製造することを特徴と
する磁気抵抗素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62212066A JP2606224B2 (ja) | 1987-08-26 | 1987-08-26 | 磁気抵抗素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62212066A JP2606224B2 (ja) | 1987-08-26 | 1987-08-26 | 磁気抵抗素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6454788A JPS6454788A (en) | 1989-03-02 |
| JP2606224B2 true JP2606224B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=16616302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62212066A Expired - Fee Related JP2606224B2 (ja) | 1987-08-26 | 1987-08-26 | 磁気抵抗素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2606224B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006181699A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Kumamoto Technology & Industry Foundation | 炭素分子構造体の製造方法、並びに炭素分子構造体、ダイオード、能動素子および集積回路 |
| JP2020178045A (ja) * | 2019-04-18 | 2020-10-29 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 磁気抵抗素子およびその製造方法 |
-
1987
- 1987-08-26 JP JP62212066A patent/JP2606224B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6454788A (en) | 1989-03-02 |
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