JP2599250Y2 - ラジアルタービン動翼 - Google Patents

ラジアルタービン動翼

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JP2599250Y2
JP2599250Y2 JP1992086823U JP8682392U JP2599250Y2 JP 2599250 Y2 JP2599250 Y2 JP 2599250Y2 JP 1992086823 U JP1992086823 U JP 1992086823U JP 8682392 U JP8682392 U JP 8682392U JP 2599250 Y2 JP2599250 Y2 JP 2599250Y2
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JP
Japan
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blade
trailing edge
radial turbine
extended
wing
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JP1992086823U
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English (en)
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JPH0647601U (ja
Inventor
弘高 東森
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本考案は、小形過給機、各種ガス
エキスパンダに用いられるラジアルタービンの動翼に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来のラジアルタービン動翼を図5,図
6に示す。図5の(A)は従来のラジアルタービン動翼
が主軸ハブに取り付けられている状態を示す断面図、
(B)は(A)のX−X線に沿って翼後縁部分を示す断
面図、図6は図5(A)のY方向から見て該ラジアルタ
ービン動翼を示す平面図である。
【0003】これらの図に示すように、従来のラジアル
タービン動翼1にあっては、その翼後縁2は主軸(回転
軸)に固定したハブ3面での翼後縁位置4が翼端の翼後
縁位置5を含み前記主軸に対して垂直な面6と同一面上
に有る場合又は図示するように多少下流に有る場合があ
るが、この翼後縁2は翼高さ方向に沿ってほぼ直線状に
なっていると共に、翼後縁の断面形状は翼厚さを直径と
する円弧7の形で形成されており、かつ翼後縁の翼厚は
翼端に近づくにつれてしだいに薄くなっているが、ハブ
位置では強度の制約から厚くなっている。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】このように、従来のラ
ジアルタービン動翼にあっては、その翼後縁の翼厚が翼
端に近づくにつれてしだいに薄くなるものの、強度の制
約からハブ位置で翼厚が厚くなっているため、翼の下流
にウエーク(Wake)が発達しやすく、これに伴なう
損失が大きいという欠点があった。
【0005】本考案は、このような従来技術の課題を解
決するためになされたもので、ウエークの発達を抑制し
て損失を低減できるように翼後縁の形状を改良したラジ
アルタービン動翼を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本考案は、ラジアルタービンの動翼において、主
軸に固定したハブ面での翼後縁位置が、翼端の翼後縁位
置を含み前記主軸に対して垂直な面よりも下流側に位置
するように翼後縁を延長して形成すると共に、この延長
した翼後縁を翼高さ方向に沿って放物線状に形成し、か
つ該延長した翼後縁の翼厚を流れの方向に沿ってしだい
に薄くしたものである。
【0007】
【作用】上記の手段によれば、ラジアルタービン動翼の
延長した翼後縁部分の翼厚を流れの方向に沿ってしだい
に薄くし、2次元翼形の翼後縁部の形状に近似する形状
にしたことにより、ウエークの発達を抑制し、損失を低
減することができる。
【0008】
【実施例】以下、図面を参照して本考案の実施例につい
て詳細に説明する。図1の(A)は本考案に係るラジア
ルタービン動翼が主軸ハブに取り付けられている状態を
示す断面図、(B)は(A)のX−X線に沿って翼後縁
部分を示す断面図、図2は図1(A)のY方向から見て
該ラジアルタービン動翼を示す平面図、図3は図2のa
−a,b−b及びc−c線断面を示す図である。
【0009】これらの図に示すように、本考案によれ
ば、ラジアルタービンの動翼11において、主軸に固定
したハブ12面での翼後縁位置13が、翼端の翼後縁位
置14を含み前記主軸に対して垂直な面15よりも下流
側に位置するように翼後縁16を延長して形成すると共
に、この延長した翼後縁16を翼高さ方向に沿って符号
17で示すように放物線の形状に形成し、かつ該延長し
た翼後縁16の翼厚を流れの方向に沿ってしだいに薄く
して、2次元翼形の翼後縁部の形状に近似する形状にし
ている。なお、図1(B)において、点線18は従来例
の形状を示している。
【0010】以上述べた本考案に係るラジアルタービン
動翼の翼後縁形状をモデル化した例を図4の(A),
(B)及び(C)に示す。翼後縁から上流に向けて翼後
縁からの距離sに対して直線的に翼厚tが増加する場合
を考える。翼の構造は翼の振動数がある条件に定まるよ
うに決められる。Δsの微小区間の翼を考えると、翼の
振動数fと翼厚t、翼高さhの関係はf∝t/hであ
ることから、各微小区間の振動数を一定にするためには
t=ahの関係を満足すれば良い。翼厚分布は直線分
布ではなくしだいに薄くするので、単純な式どうりには
ならないが、放物線状の翼高さ分布になる。
【0011】
【考案の効果】以上述べたように、本考案によれば、ラ
ジアルタービンの動翼において、主軸に固定したハブ面
での翼後縁位置が、翼端の翼後縁位置を含み前記主軸に
対して垂直な面よりも下流側に位置するように翼後縁を
延長して形成すると共に、この延長した翼後縁を翼高さ
方向に沿って放物線状に形成し、かつ該延長した翼後縁
の翼厚を流れの方向に沿ってしだいに薄くして、2次元
翼形の翼後縁部の形状に近似する形状としたことによ
り、ウエークの発達を抑制し、損失を低減することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は本考案に係るラジアルタービン動翼が
主軸ハブに取り付けられている状態を示す断面図、
(B)は(A)のX−X線に沿って翼後縁部分を示す断
面図である。
【図2】図1(A)のY方向から見て該ラジアルタービ
ン動翼を示す平面図である。
【図3】図2のa−a,b−b及びc−c線断面を示す
図である。
【図4】(A),(B)及び(C)は本考案に係るラジ
アルタービン動翼の翼後縁形状をモデル化した例を示す
図である。
【図5】(A)は従来のラジアルタービン動翼が主軸ハ
ブに取り付けられている状態を示す断面図、(B)は
(A)のX−X線に沿って翼後縁部分を示す断面図であ
る。
【図6】図5(A)のY方向から見て該ラジアルタービ
ン動翼を示す平面図である。
【符号の説明】
11 ラジアルタービン動翼 12 ハブ 13 ハブ面での翼後縁位置 14 翼端の翼後縁位置 15 主軸に対して垂直な面 16 翼後縁 17 放物線
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) F01D 5/04 F01D 5/12 F01D 5/30 F01D 5/34 F02B 39/00

Claims (1)

    (57)【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】ラジアルタービンの動翼において、主軸に
    固定したハブ面での翼後縁位置が、翼端の翼後縁位置を
    含み前記主軸に対して垂直な面よりも下流側に位置する
    ように翼後縁を延長して形成すると共に、この延長した
    翼後縁を翼高さ方向に沿って放物線状に形成し、かつ該
    延長した翼後縁の翼厚を流れの方向に沿ってしだいに薄
    くしたことを特徴とするラジアルタービン動翼。
JP1992086823U 1992-11-26 1992-11-26 ラジアルタービン動翼 Expired - Lifetime JP2599250Y2 (ja)

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JPH0647601U JPH0647601U (ja) 1994-06-28
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7063508B2 (en) * 2002-06-07 2006-06-20 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Turbine rotor blade
US8030681B2 (en) 2009-01-14 2011-10-04 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Group III nitride substrate, semiconductor device comprising the same, and method for producing surface-treated group III nitride substrate

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7063508B2 (en) * 2002-06-07 2006-06-20 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Turbine rotor blade
US8030681B2 (en) 2009-01-14 2011-10-04 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Group III nitride substrate, semiconductor device comprising the same, and method for producing surface-treated group III nitride substrate

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JPH0647601U (ja) 1994-06-28

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