JP2595638B2 - Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same - Google Patents

Magneto-optical recording medium and method of manufacturing the same

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JP2595638B2 JP63075776A JP7577688A JP2595638B2 JP 2595638 B2 JP2595638 B2 JP 2595638B2 JP 63075776 A JP63075776 A JP 63075776A JP 7577688 A JP7577688 A JP 7577688A JP 2595638 B2 JP2595638 B2 JP 2595638B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光磁気記録に利用する。特に、光磁気記録媒
体の磁性膜およびその製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention is used for magneto-optical recording. In particular, it relates to a magnetic film of a magneto-optical recording medium and a method of manufacturing the same.

〔概要〕〔Overview〕

本発明は、磁化の状態により磁気光学特性が変化する
磁性膜が基板上に設けられた光磁気記録媒体において、 磁性膜としてマンガンMn、アンチモンSbおよびビスマ
スBiの3元系合金薄膜を用いることにより、 構造的および化学的に安定でしかも特性の優れた光磁
気記録媒体を提供するものである。
The present invention provides a magneto-optical recording medium in which a magnetic film whose magneto-optical characteristics change according to the state of magnetization is provided on a substrate, by using a ternary alloy thin film of manganese Mn, antimony Sb, and bismuth Bi as the magnetic film. An object of the present invention is to provide a magneto-optical recording medium which is structurally and chemically stable and has excellent characteristics.

本発明はさらに、この光磁気記録媒体の製造方法を提
供するものである。
The present invention further provides a method for manufacturing the magneto-optical recording medium.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、半導体レーザ光により高密度記録および再生を
行うための光磁気記録媒体に関する研究が盛んに行われ
ている。この種の記録媒体の最も基本的なものは、ガラ
スまたはプラスチックのような透明基板上に、スパッタ
リング、真空蒸着その他の方法により、磁気光学特性の
優れた磁性膜が設けたものである。磁性膜としては、特
に、磁化容易軸が膜面に対して垂直方向に配向したもの
が用いられる。
In recent years, studies on a magneto-optical recording medium for performing high-density recording and reproduction with a semiconductor laser beam have been actively conducted. The most basic type of this type of recording medium is one in which a magnetic film having excellent magneto-optical properties is provided on a transparent substrate such as glass or plastic by sputtering, vacuum deposition, or another method. As the magnetic film, a film whose easy axis of magnetization is oriented in a direction perpendicular to the film surface is used.

このような光磁気記録媒体に情報を記録するには、磁
性膜のキュリー温度(または補償温度)近傍における温
度変化に対応した磁気光学特性(この場合には保磁力)
の急激な変化を利用して、情報信号で変調されたレーザ
光をあらかじめ磁化された磁性膜に照射して加熱し、逆
向きの磁界を印加して磁化の向きを反転させる。また、
記録された情報を再生するには、磁化の反転によりより
記録された磁性膜内の記録部と非記録部との磁気光学効
果の差を利用して、偏光したレーザ光により情報信号を
光学的に検知する。
In order to record information on such a magneto-optical recording medium, magneto-optical characteristics (in this case, coercive force) corresponding to a temperature change near the Curie temperature (or compensation temperature) of the magnetic film.
The laser beam modulated with the information signal is irradiated to the magnetic film which has been magnetized in advance by using the rapid change of the magnetic signal to heat the magnetic film, and the direction of the magnetization is reversed by applying the opposite magnetic field. Also,
To reproduce the recorded information, the information signal is optically converted by a polarized laser beam by utilizing the difference in the magneto-optical effect between the recorded portion and the non-recorded portion in the recorded magnetic film due to the reversal of the magnetization. To be detected.

このような記録および再生を行うためには、磁性膜に
は100〜300℃程度のキュリー温度および300〜5000エル
ステッド程度の保磁力が必要であると考えられる。
In order to perform such recording and reproduction, it is considered that the magnetic film needs a Curie temperature of about 100 to 300 ° C. and a coercive force of about 300 to 5000 Oe.

これらの光磁気記録媒体用の磁性膜として従来は、ガ
ドリニウムGd、ジスプロシウムDy、テルビウムTbその他
の希土類元素と鉄Fe、コバルトCo、ニッケルNiその他の
遷移金属とからなる非晶質合金、マンガン・ビスマスMn
Bi、マンガン銅ビスマスMnCuBi、白金マンガン・スズPt
MnSnその他のマンガン系合金薄膜、またはコバルト・フ
ェライトその他の酸化物系薄膜が知られている。
Conventionally, as a magnetic film for these magneto-optical recording media, an amorphous alloy of gadolinium Gd, dysprosium Dy, terbium Tb and other rare earth elements and iron Fe, cobalt Co, nickel Ni and other transition metals, manganese-bismuth Mn
Bi, manganese copper bismuth MnCuBi, platinum manganese / tin Pt
MnSn and other manganese-based alloy thin films or cobalt ferrite and other oxide-based thin films are known.

特に希土類と遷移金属との非晶質合金薄膜は、極磁気
カー効果を有し、容易に垂直磁化膜を形成でき、さら
に、組成を変えることによりキュリー温度および保磁力
を連続的に変えることができる。このため、半導体レー
ザによる記録再生に適したキュリー温度および保磁力が
得られ、最も実用化に適した材料とされている。
In particular, an amorphous alloy thin film of a rare earth and a transition metal has a polar magnetic Kerr effect, and can easily form a perpendicular magnetization film.Furthermore, by changing the composition, the Curie temperature and coercive force can be continuously changed. it can. For this reason, a Curie temperature and a coercive force suitable for recording and reproduction by a semiconductor laser are obtained, and the material is most suitable for practical use.

また、マンガン系合金薄膜のうちマンガン・ビスマス
MnBiは、カー回転角が大きく、膜面に対してc軸配向す
るため、磁化容易軸をc軸にもつこの材料は容易に垂直
磁化膜となることが知られている。
Among manganese-based alloy thin films, manganese-bismuth
Since MnBi has a large Kerr rotation angle and is c-axis oriented with respect to the film surface, it is known that this material having an easy axis of magnetization along the c-axis easily becomes a perpendicular magnetization film.

コバルト・フェライト薄膜は、酸化物のため酸化その
他の腐食の問題がなく、しかもカー回転角が大きい。
Since the cobalt ferrite thin film is an oxide, there is no problem of oxidation and other corrosion, and the Kerr rotation angle is large.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかし、希土類と遷移金属との非晶質合金薄膜はカー
回転角が小さく、再生時の信号強度が小さい欠点があ
る。この欠点を解決するために、多層薄膜構造とし、光
の反射および干渉を利用して、みかけ上のカー回転角を
増大させることも行われている。しかし、カー回転角が
大きくなるものの、そのために光反射率が低下してしま
い、根本的に信号強度を増大させることはできない。さ
らに、希土類元素を含むため高価となる欠点がある。
However, the amorphous alloy thin film of a rare earth and a transition metal has a disadvantage that the Kerr rotation angle is small and the signal intensity during reproduction is small. In order to solve this drawback, an apparent Kerr rotation angle is increased by using a multilayer thin film structure and utilizing light reflection and interference. However, although the Kerr rotation angle increases, the light reflectance decreases, and the signal intensity cannot be fundamentally increased. Further, there is a drawback that it is expensive because of containing rare earth elements.

また、マンガン・ビスマスMnBiは、350℃付近で相転
移を起こすため、レーザ光の照射加熱による書き込み時
に構造が不安定となる問題がある。さらに、湿度その他
に対して化学的に不安定である欠点がある。この欠点を
解決するため、銅Cuを添加した薄膜が開発されている。
しかし、この材料は、垂直磁化膜を形成するために基板
との熱膨張差による応力を利用する必要があり、基板が
限定され、しかも配向させることが難しい欠点がある。
In addition, since manganese-bismuth MnBi undergoes a phase transition at around 350 ° C., there is a problem that the structure becomes unstable at the time of writing by irradiation with laser light. Furthermore, it has the disadvantage of being chemically unstable with respect to humidity and the like. In order to solve this drawback, a thin film to which copper Cu is added has been developed.
However, this material requires the use of stress due to the difference in thermal expansion between the substrate and the substrate in order to form a perpendicular magnetization film, and thus has the disadvantage that the substrate is limited and orientation is difficult.

最近になってカー回転角が大きいことで注目されてい
る白金マンガン・スズPtMnSnは、垂直磁化膜を形成する
ことはできず、光磁気記録用としては適していない。し
かも、貴金属の白金Ptを用いるため高価となる欠点があ
る。
PtMnSn, which has recently attracted attention due to its large Kerr rotation angle, cannot form a perpendicular magnetization film and is not suitable for magneto-optical recording. In addition, there is a disadvantage in that the use of platinum Pt, which is a noble metal, is expensive.

コバルト・フェライト薄膜の場合には、垂直磁化膜を
形成するために、酸化マグネシウムMgOその他の単結晶
基板上にエピタキシャル成長させるか、あるいは基板と
の熱膨張差による応力を利用する必要がある。このた
め、基板が限定され、あるいは配向させることが難しい
欠点がある。
In the case of a cobalt ferrite thin film, in order to form a perpendicular magnetization film, it is necessary to epitaxially grow on a magnesium oxide MgO or other single crystal substrate, or to use stress due to a difference in thermal expansion with the substrate. For this reason, there is a disadvantage that the substrate is limited or difficult to orient.

本発明は、以上の問題点を解決し、カー回転角が大き
く化学的に安定な磁性膜を用いた光磁気記録媒体を提供
することを目的とする。
An object of the present invention is to solve the above problems and to provide a magneto-optical recording medium using a chemically stable magnetic film having a large Kerr rotation angle.

本発明はさらに、このような光磁気記録媒体の製造方
法を提供することを目的とする。
Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing such a magneto-optical recording medium.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明の光磁気記録媒体は、磁性膜として、マンガン
Mn、アンチモンSbおよびビスマスBiにより構成され、そ
の組成が、 MnXSb1-X-YBiY 0.4<X<0.7、0.01<Y<0.15 で表される3元系合金薄膜を用いたことを特徴とする。
The magneto-optical recording medium of the present invention has a magnetic film of manganese.
A ternary alloy thin film composed of Mn, antimony Sb and bismuth Bi and having a composition represented by Mn X Sb 1-XY Bi Y 0.4 <X <0.7, 0.01 <Y <0.15 is used. I do.

このような磁性膜を得るには、真空蒸着法、スパッタ
法、イオンプレーティング法その他の物理的な気相成長
法を用いる。例えば真空蒸着法により形成する場合に
は、別々のルツボでそれぞれマンガンMn、アンチモンSb
およびビスマスBiを蒸着する。このとき、蒸着速度の差
により組成比を変化させることができる。基板として
は、ガラスや、PMMA、PCその他の透明プラスチックを用
いることができる。磁化膜の厚さは、100Å〜数μm程
度が適している。
In order to obtain such a magnetic film, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or another physical vapor deposition method is used. For example, when formed by a vacuum deposition method, manganese Mn, antimony Sb
And bismuth Bi is deposited. At this time, the composition ratio can be changed by the difference in the deposition rate. As the substrate, glass, PMMA, PC or other transparent plastic can be used. The thickness of the magnetic film is preferably about 100 to several μm.

また、垂直磁化膜を得るためには、基板上にアンチモ
ンSbおよびビスマスBiの薄膜を形成し、この薄膜の表面
にさらにマンガンMnの薄膜を形成し、得られた薄膜を熱
処理して磁化容易軸を膜面と垂直方向に形成させること
が望ましい。
In addition, to obtain a perpendicular magnetization film, a thin film of antimony Sb and bismuth Bi is formed on a substrate, a thin film of manganese Mn is further formed on the surface of the thin film, and the obtained thin film is heat-treated to form an axis of easy magnetization. Is desirably formed in a direction perpendicular to the film surface.

アンチモンSbおよびビスマスBiの薄膜を形成するに
は、アンチモンSbとビスマスBiとを同時に気相成長させ
るか、または順番に気相成長させる。同時に成長させる
場合には、アンチモンSbとビスマスBiとの合金を母材と
して用いることが望ましい。また、気相成長時には基板
温度を100℃以下の比較的低い温度に保つことが望まし
い。
In order to form a thin film of antimony Sb and bismuth Bi, antimony Sb and bismuth Bi are vapor-phase grown simultaneously or sequentially. In the case of simultaneous growth, it is desirable to use an alloy of antimony Sb and bismuth Bi as a base material. Further, it is desirable to keep the substrate temperature at a relatively low temperature of 100 ° C. or less during vapor phase growth.

この場合には、基板として耐熱性透明基板、例えば、
石英その他のガラス材料、GGG、サファイヤその他の単
結晶およびその他の耐熱性無機材料を用いる。膜の組成
は、気相成長の母材として用いるアンチモン・ビスマス
合金の組成比を変えること、およびアンチモン・ビスマ
ス合金の膜厚とマンガンの膜厚とを変えることにより設
定できる。
In this case, a heat-resistant transparent substrate as the substrate, for example,
Use quartz or other glass materials, GGG, sapphire or other single crystals and other heat-resistant inorganic materials. The composition of the film can be set by changing the composition ratio of the antimony-bismuth alloy used as the base material for vapor phase growth, and by changing the thickness of the antimony-bismuth alloy and the thickness of manganese.

マンガン、アンチモンおよびビスマスを十分に均一な
合金とするには、薄膜形成後に300〜600℃の熱処理を行
う。さらに、熱処理中に磁化を印加すると、容易に垂直
磁化膜が得られる。熱処理のために、酸化シリコンSi
OX、チッ化アルミニウムAlNその他の保護膜を設けるこ
とが望ましい。この保護膜により、熱処理中におけるア
ンチモンおよびビスマスの蒸発を防止し、しかも形成後
の化学的な安定性を増加させることができる。
To form a sufficiently uniform alloy of manganese, antimony and bismuth, a heat treatment at 300 to 600 ° C. is performed after the formation of the thin film. Further, when magnetization is applied during the heat treatment, a perpendicular magnetization film can be easily obtained. Silicon oxide Si for heat treatment
It is desirable to provide O X , aluminum nitride AlN, and other protective films. This protective film prevents evaporation of antimony and bismuth during the heat treatment, and can increase the chemical stability after formation.

〔作用〕[Action]

マンガン・ビスマスと同じニッケル・ヒ素NiAs型の結
晶構造をもつマンガン・アンチモンMnSbは、カー回転角
マンガン・ビスマスほどには大きくないが、キュリー温
度が310℃と比較的低く、マンガン・ビスマスのような
相転移による構造の不安定性が少なく、湿度に対して化
学的に安定である。しかし、磁化容易軸がc面内にある
ため垂直磁気異方性を誘導することは困難である。そこ
で本発明者らは、マンガン・アンチモン系合金にビスマ
スの元素を添加することにより種々検討した結果、 (1) MnXSb1-X-YBiYの組成式において、 0.4<X<0.7、0.01<Y<0.15 の範囲のときに、カー回転角がマンガン・アンチモンの
カー回転角(0.3°)以上になり、しかも磁化容易軸が
c軸方向に配向する、 (2) レーザ光による記録再生において重要な保磁力
とキュリー温度については、 0.5<X<0.7、0.01<Y<0.15 の範囲のときに、保磁力が300エルステッド以上とな
り、キュリー温度が100〜300℃となる ことを発見した。
Manganese-antimony MnSb, which has the same nickel-arsenic NiAs-type crystal structure as manganese-bismuth, is not as large as the Kerr rotation angle of manganese-bismuth, but has a relatively low Curie temperature of 310 ° C and is similar to manganese-bismuth. Less structural instability due to phase transition and chemically stable to humidity. However, it is difficult to induce perpendicular magnetic anisotropy because the axis of easy magnetization is in the c-plane. Therefore, the present inventors have conducted various studies by adding a bismuth element to a manganese-antimony alloy. (1) In the composition formula of Mn X Sb 1-XY Bi Y , 0.4 <X <0.7, 0.01 < In the range of Y <0.15, the Kerr rotation angle is equal to or larger than that of manganese / antimony (0.3 °) and the axis of easy magnetization is oriented in the c-axis direction. (2) Important in recording / reproducing by laser light With respect to the appropriate coercive force and Curie temperature, it was found that the coercive force was 300 Oe or more and the Curie temperature was 100 to 300 ° C when 0.5 <X <0.7 and 0.01 <Y <0.15.

さらに、これらの組成において、基板上にアンチモン
およびビスマスを同時または順番に蒸着し、次いでマン
ガンを蒸着し、その後に熱処理して3元系合金を形成す
ることにより、容易に垂直磁化膜が得られることを発見
した。
Furthermore, in these compositions, a perpendicular magnetization film can be easily obtained by simultaneously or sequentially depositing antimony and bismuth on a substrate, then depositing manganese, and then performing heat treatment to form a ternary alloy. I discovered that.

〔実施例〕〔Example〕

(実施例1) 高純度のマンガンMn、アンチモンSbおよびビスマスBi
の各金属をそれぞれ別々の蒸着用ルツボに入れ、1×10
-6Torrの真空中でこれらのルツボを同時に加熱すること
により、ガラス基板上に膜厚約1000Åの薄膜を形成し
た。このとき、マンガンの蒸着速度約1Å/秒に対し、
アンチモンおよびビスマスの蒸着速度をそれぞれ0.5〜
3.7Å/秒、0.04〜1.1Å/秒と変化させ、これにより種
々の組成の薄膜を形成した。
(Example 1) High-purity manganese Mn, antimony Sb and bismuth Bi
Put each metal into separate crucibles for evaporation
By simultaneously heating these crucibles in a vacuum of -6 Torr, a thin film having a thickness of about 1000 mm was formed on a glass substrate. At this time, for a manganese deposition rate of about 1 mm / sec,
Antimony and bismuth deposition rates of 0.5 to
The thickness was changed from 3.7 ° / sec to 0.04 to 1.1 ° / sec, thereby forming thin films of various compositions.

得られた薄膜のカー回転角について、He-Neレーザ
(波長633nm)を用い、カー回転角測定装置により測定
した。この測定値の一例を第1図に示す。第1図におい
て、丸印は組成(モル%)、数値はそのカー回転角、破
線はMnXSb1-X-YBiYの組成式における0.4<X<0.7、0.0
1<Y<0.15の範囲をそれぞれ示す。また、比較例とし
て、この範囲外の測定値についても併せて示した。ま
た、薄膜の成分については、分析電子顕微鏡によるEDX
法により分析した。
The Kerr rotation angle of the obtained thin film was measured by a Kerr rotation angle measurement device using a He-Ne laser (wavelength: 633 nm). One example of the measured values is shown in FIG. In FIG. 1, circles indicate compositions (mol%), numerical values indicate Kerr rotation angles, and broken lines indicate 0.4 <X <0.7, 0.0 in the composition formula of Mn X Sb 1-XY Bi Y.
The range of 1 <Y <0.15 is shown. As comparative examples, measured values outside this range are also shown. For the components of the thin film, use EDX by analytical electron microscope.
Was analyzed by the method.

(実施例2) 高純度のアンチモン・ビスマス合金および金属マンガ
ンを別々の蒸着用ルツボに入れ、1×10-6Torrの真空中
でこれらのルツボを順番に加熱し、ガラス基板上に、最
初にアンチモン・ビスマス合金を蒸着し、これに続いて
マンガンを蒸着した。アンチモン・ビスマス合金につい
ては、蒸着速度を2〜5Å/秒、膜厚を約500〜1500Å
とした。マンガンについては、蒸着速度を1〜2Å/秒
とし、アンチモン・ビスマス合金膜との合計膜厚が約20
00Åとなるように蒸着した。ここで、アンチモン・ビス
マス合金の母材組成を変化させること、およびアンチモ
ン・ビスマス合金膜とマンガン膜との比を変えることに
より、種々の組成の薄膜を形成した。次に、得られた試
料を1×10-6Torrの真空中で500℃にて5時間熱処理
し、薄膜を均一化した。
(Example 2) A high-purity antimony-bismuth alloy and metallic manganese were put in separate evaporation crucibles, and these crucibles were heated in a vacuum of 1 × 10 −6 Torr in order, and first placed on a glass substrate. An antimony-bismuth alloy was deposited, followed by manganese. For antimony-bismuth alloy, the deposition rate is 2-5Å / sec, and the film thickness is about 500-1500Å.
And Regarding manganese, the deposition rate is set to 1-2Å / sec, and the total film thickness with the antimony-bismuth alloy film is about 20 mm.
Deposition was performed so as to be 00 °. Here, thin films having various compositions were formed by changing the base material composition of the antimony-bismuth alloy and changing the ratio of the antimony-bismuth alloy film to the manganese film. Next, the obtained sample was heat-treated at 500 ° C. for 5 hours in a vacuum of 1 × 10 −6 Torr to uniform the thin film.

得られた試料のカー回転角の測定値を第2図に示し、
保磁力の測定値を第3図に示す。これらの図において、
丸印は組成(モル%)、数値はカー回転角または保磁
力、破線はMnXSb1-X-YBiYの組成式における0.5<X<0.
7、0.01<Y<0.15の範囲をそれぞれ示す。また、比較
例として、この範囲外の測定値についても併せて示し
た。
FIG. 2 shows the measured value of the Kerr rotation angle of the obtained sample,
The measured values of the coercive force are shown in FIG. In these figures,
Circles indicate composition (mol%), numerical values indicate Kerr rotation angle or coercive force, and dashed lines indicate 0.5 <X <0.0 in the composition formula of Mn X Sb 1-XY Bi Y.
7, 0.01 <Y <0.15. As comparative examples, measured values outside this range are also shown.

得られた薄膜の磁化特性をVSMおよびトルクメータで
調べたところ、これらの薄膜は垂直磁化膜であった。さ
らに、X線解析により、この薄膜がc軸に配向している
ことが確認された。
When the magnetization characteristics of the obtained thin films were examined with a VSM and a torque meter, these thin films were perpendicular magnetization films. Furthermore, X-ray analysis confirmed that the thin film was oriented along the c-axis.

第4図はMn0.62Sb0.36Bi0.02薄膜の面内および垂直方
向の磁化曲線を示し、第5図は同じ薄膜のX線開折パタ
ーンを示す。この組成は、分析電子顕微鏡によるEDX法
により分析した。
FIG. 4 shows the in-plane and perpendicular magnetization curves of the Mn 0.62 Sb 0.36 Bi 0.02 thin film, and FIG. 5 shows the X-ray break pattern of the same thin film. This composition was analyzed by an EDX method using an analytical electron microscope.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明したように、本発明の光磁気記録媒体は、従
来から用いられていたマンガン・アンチモンを基本と
し、これにビスマスを添加したものを磁化膜として用い
る。この磁化膜の組成比により、半導体レーザ光により
高密度記録が可能な光磁気材料としての所望のカー回転
角、保磁力、キュリー温度、および垂直磁化膜として必
要なc軸方向の磁化容易軸が得られる。特に、カー回転
角が大きいことから光磁気読出しが容易となり、光磁気
記憶の信号対雑音比を高めることができる。しかも、こ
の磁化膜は構造的にも化学的にも安定である。したがっ
て、記録再生特性に優れ、構造的および化学的に安定な
光磁気記録媒体を実現できる効果がある。
As described above, the magneto-optical recording medium of the present invention is based on manganese / antimony which has been conventionally used, and is obtained by adding bismuth to the manganese / antimony. Due to the composition ratio of the magnetic film, the desired Kerr rotation angle, coercive force, Curie temperature, and the easy axis of magnetization in the c-axis direction required for the perpendicular magnetic film as a magneto-optical material capable of high-density recording with a semiconductor laser beam are obtained. can get. In particular, since the Kerr rotation angle is large, magneto-optical reading is facilitated, and the signal-to-noise ratio of magneto-optical storage can be increased. In addition, the magnetic film is structurally and chemically stable. Therefore, there is an effect that a magneto-optical recording medium having excellent recording and reproducing characteristics and being structurally and chemically stable can be realized.

また、本発明の方法により、上述した磁化膜の磁化容
易軸を容易にc軸に配向させることができ、優れた垂直
磁化膜が得られる効果がある。
Further, according to the method of the present invention, the axis of easy magnetization of the above-described magnetic film can be easily oriented to the c-axis, and there is an effect that an excellent perpendicular magnetic film can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は実施例1により得られたマンガン・アンチモン
・ビスマス薄膜のカー回転角θKの組成依存性を示す
図。 第2図は実施例2により得られたマンガン・アンチモン
・ビスマス薄膜のカー回転角θKの組成依存性を示す
図。 第3図はマンガン・アンチモン・ビスマス薄膜の保磁力
Cの組成依存性を示す図。 第4図はMn0.62Sb0.36Bi0.02薄膜の磁化曲線を示す図。 第5図はX線回折パターンを示す図。
FIG. 1 is a diagram showing the composition dependence of the Kerr rotation angle θ K of a manganese-antimony-bismuth thin film obtained in Example 1. FIG. 2 is a diagram showing the composition dependence of the Kerr rotation angle θ K of the manganese-antimony-bismuth thin film obtained in Example 2. FIG. 3 is a diagram showing the composition dependence of the coercive force H C of a manganese-antimony-bismuth thin film. FIG. 4 is a diagram showing a magnetization curve of a Mn 0.62 Sb 0.36 Bi 0.02 thin film. FIG. 5 is a view showing an X-ray diffraction pattern.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 尾野 幹也 埼玉県秩父郡横瀬町大字横瀬2270番地 三菱鉱業セメント株式会社セラミックス 研究所内 (72)発明者 菊地 善弘 宮城県仙台市桜ヶ丘1丁目35番9号 (72)発明者 脇山 徳雄 宮城県仙台市小松島2丁目27番16号 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Mikiya Ono 2270 Yokoze, Yokoze-cho, Yokoze-cho, Chichibu-gun, Saitama Prefecture Inside the Ceramics Research Laboratory Mitsubishi Mining Cement Co., Ltd. (72) Yoshihiro Kikuchi 1-35-9, Sakuragaoka, Sendai City, Miyagi Prefecture (72) Inventor Norio Wakiyama 2-27-16 Komatsushima, Sendai City, Miyagi Prefecture

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】基板と、 この基板上に形成され、磁化の状態によりその磁気光学
特性が変化する磁性膜と を備えた光磁気記録媒体において、 上記磁性膜は、マンガンMn、アンチモンSbおよびビスマ
スBiにより構成され、その組成が、 MnXSb1-X-YBiY 0.4<X<0.7、0.01<Y<0.15 で表されること を特徴とする光磁気記録媒体。
1. A magneto-optical recording medium comprising: a substrate; and a magnetic film formed on the substrate and whose magneto-optical characteristics change depending on a state of magnetization, wherein the magnetic film comprises manganese Mn, antimony Sb and bismuth. A magneto-optical recording medium comprising Bi, wherein the composition is represented by Mn X Sb 1-XY Bi Y 0.4 <X <0.7, 0.01 <Y <0.15.
【請求項2】基板上にアンチモンSbおよびビスマスBiの
薄膜を形成する第一工程と、 この薄膜の表面にさらにマンガンMnの薄膜を形成する第
二工程と、 得られた薄膜を熱処理し、これにより磁化容易軸を膜面
と垂直方向に形成させる第三工程と を含む光磁気記録媒体の製造方法。
2. A first step of forming a thin film of antimony Sb and bismuth Bi on a substrate, a second step of further forming a thin film of manganese Mn on the surface of the thin film, and heat treating the obtained thin film. A step of forming an easy axis of magnetization in a direction perpendicular to the film surface by the method.
【請求項3】第一工程は、アンチモンSbとビスマスBiと
を同時に気相成長させる工程を含む請求項2記載の光磁
気記録媒体の製造方法。
3. The method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 2, wherein the first step includes a step of simultaneously growing vapor phase of antimony Sb and bismuth Bi.
【請求項4】第一工程は、アンチモンSbとビスマスBiと
の合金を気相成長の母材とする請求項3記載の光磁気記
録媒体の製造方法。
4. The method according to claim 3, wherein the first step uses an alloy of antimony Sb and bismuth Bi as a base material for vapor phase growth.
【請求項5】第一工程は、アンチモンSbとビスマスBiと
を順番に気相成長させる工程を含む請求項2記載の光磁
気記録媒体の製造方法。
5. The method of manufacturing a magneto-optical recording medium according to claim 2, wherein the first step includes a step of sequentially growing vapor phase of antimony Sb and bismuth Bi.
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