JP2594499Y2 - 遠心式噴霧装置の噴霧盤 - Google Patents
遠心式噴霧装置の噴霧盤Info
- Publication number
- JP2594499Y2 JP2594499Y2 JP1991069106U JP6910691U JP2594499Y2 JP 2594499 Y2 JP2594499 Y2 JP 2594499Y2 JP 1991069106 U JP1991069106 U JP 1991069106U JP 6910691 U JP6910691 U JP 6910691U JP 2594499 Y2 JP2594499 Y2 JP 2594499Y2
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- Japan
- Prior art keywords
- spray
- disk
- centrifugal
- lower disk
- particle size
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- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
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Description
【０００１】
【産業用の利用分野】本考案は、薬剤、食料品などの原
液、及びセラミックスのスラリーの噴霧乾燥装置におけ
る遠心噴霧機の噴霧盤に関するものである。
液、及びセラミックスのスラリーの噴霧乾燥装置におけ
る遠心噴霧機の噴霧盤に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来この種の噴霧盤は、図５に示すよう
な下円盤１１、上円盤１２の周縁部に環状壁１３を形成
し、この環状壁１３に複数の長孔形状をした噴霧孔１５
を備えたものであった。また、この他、図６に示すごと
き構造のケスナー型噴霧盤２０も知られている（実公昭
６１−１０７６７号、実開昭６２−１７９０５２参
照）。
な下円盤１１、上円盤１２の周縁部に環状壁１３を形成
し、この環状壁１３に複数の長孔形状をした噴霧孔１５
を備えたものであった。また、この他、図６に示すごと
き構造のケスナー型噴霧盤２０も知られている（実公昭
６１−１０７６７号、実開昭６２−１７９０５２参
照）。
【０００３】これらの噴霧盤を用いた遠心噴霧装置は、
図７に示すような構造となっていた。回転軸４によって
高速回転する噴霧盤９に、原液供給管８から供給された
原液は噴霧乾燥室１０に微粒子となって噴霧され、熱風
入口１１から噴霧乾燥室１０に送られた熱風によって乾
燥されて粉粒体となって落下し、製品取り出し口１２か
ら取り出される。一方排気は排気管１３を通りサイクロ
ン１４で粉粒体が分離、回収されて排出される。そし
て、上記原液として例えばセラミックスラリーを用いれ
ば、セラミック原料の造粒、乾燥を行うことができる。
図７に示すような構造となっていた。回転軸４によって
高速回転する噴霧盤９に、原液供給管８から供給された
原液は噴霧乾燥室１０に微粒子となって噴霧され、熱風
入口１１から噴霧乾燥室１０に送られた熱風によって乾
燥されて粉粒体となって落下し、製品取り出し口１２か
ら取り出される。一方排気は排気管１３を通りサイクロ
ン１４で粉粒体が分離、回収されて排出される。そし
て、上記原液として例えばセラミックスラリーを用いれ
ば、セラミック原料の造粒、乾燥を行うことができる。
【０００４】
【従来の技術の課題】ところが、図５に示す従来の噴霧
盤にて噴霧する場合、原液が下円板１１の平面上を流
れ、縦方向に形成された噴霧孔１５に至った時に初めて
平面より縦の変化となるため、噴霧孔１５の下側におい
て原液液膜は厚く、噴霧孔１５の上側になるにつれて薄
くなる。このために、噴霧孔１５の下側より噴霧された
微小液滴は粒径が大きく、上側より噴霧された微小液滴
は粒径が小さくなって、噴霧された微小液滴の粒径バラ
ツキが大きく、乾燥後の粒子の粒度分布が広いという問
題点があった。
盤にて噴霧する場合、原液が下円板１１の平面上を流
れ、縦方向に形成された噴霧孔１５に至った時に初めて
平面より縦の変化となるため、噴霧孔１５の下側におい
て原液液膜は厚く、噴霧孔１５の上側になるにつれて薄
くなる。このために、噴霧孔１５の下側より噴霧された
微小液滴は粒径が大きく、上側より噴霧された微小液滴
は粒径が小さくなって、噴霧された微小液滴の粒径バラ
ツキが大きく、乾燥後の粒子の粒度分布が広いという問
題点があった。
【０００５】この乾燥粒子のうち、最終的に必要とされ
る粒子径以上の粗粒は篩メッシュによりカットされ、無
駄なものとなってしまう。そこで、この粗粒を減少させ
る手段としては、原液処理量を減少させるか、噴霧盤の
回転数を高める必要があるが、結果として、粗粒は僅か
減少するものの、生産性が著しく低下し、噴霧装置の損
耗を早めてしまったり、粒子分布も必要以上に細かな方
向に偏ってしまうという問題があった。
る粒子径以上の粗粒は篩メッシュによりカットされ、無
駄なものとなってしまう。そこで、この粗粒を減少させ
る手段としては、原液処理量を減少させるか、噴霧盤の
回転数を高める必要があるが、結果として、粗粒は僅か
減少するものの、生産性が著しく低下し、噴霧装置の損
耗を早めてしまったり、粒子分布も必要以上に細かな方
向に偏ってしまうという問題があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで、本考案は上記課
題に鑑み、遠心式噴霧装置の噴霧盤を構成する少なくと
も噴霧孔を有する環状壁と下円板とを共に回転軸の法線
方向に対して２〜４５°の傾斜角度でもって傾斜させた
ことを特徴とする。
題に鑑み、遠心式噴霧装置の噴霧盤を構成する少なくと
も噴霧孔を有する環状壁と下円板とを共に回転軸の法線
方向に対して２〜４５°の傾斜角度でもって傾斜させた
ことを特徴とする。
【０００７】
【作用】本考案の噴霧盤に導入される原液は、噴霧盤の
回転と傾斜角により、まず下円板に沿って液膜となって
流れ、更に遠心力を受けこの下円板より離脱して水平方
向に飛散し、下円板の終縁に設けた環状壁全面に均一に
供給され、この壁を介して外方に微粒化して噴霧され
る。したがって、噴霧された微少液滴の粒径バラツキが
小さく、乾燥粒子の粒度分布を狭くできる。
回転と傾斜角により、まず下円板に沿って液膜となって
流れ、更に遠心力を受けこの下円板より離脱して水平方
向に飛散し、下円板の終縁に設けた環状壁全面に均一に
供給され、この壁を介して外方に微粒化して噴霧され
る。したがって、噴霧された微少液滴の粒径バラツキが
小さく、乾燥粒子の粒度分布を狭くできる。
【０００８】
【実施例】以下、本考案を図示の実施例に基づき更に詳
細に説明するが、本考案はこれらの実施例に限られるも
のではない。
細に説明するが、本考案はこれらの実施例に限られるも
のではない。
【０００９】図１は本考案の噴霧盤９の断面概要図であ
り、この噴霧盤９は下円板１、上円板２とこれらの周縁
に備えられた環状壁３からなり、該環状壁３には複数の
長孔状の噴霧孔５が形成されている。そして、上記下円
板１と上円板２は回転軸４の法線方向に対して、それぞ
れ傾斜角度θ１、θ２で下方に傾斜しており、下円板１
の傾斜角度θ１は２〜４５°、好ましくは２〜３０°と
なっている。また、上円板２についても上記下円板１と
同程度の角度θ２で傾斜させてある。なお、この上円板
２ついては傾斜させておくことが望ましいが、必ずしも
傾斜させる必要はない。
り、この噴霧盤９は下円板１、上円板２とこれらの周縁
に備えられた環状壁３からなり、該環状壁３には複数の
長孔状の噴霧孔５が形成されている。そして、上記下円
板１と上円板２は回転軸４の法線方向に対して、それぞ
れ傾斜角度θ１、θ２で下方に傾斜しており、下円板１
の傾斜角度θ１は２〜４５°、好ましくは２〜３０°と
なっている。また、上円板２についても上記下円板１と
同程度の角度θ２で傾斜させてある。なお、この上円板
２ついては傾斜させておくことが望ましいが、必ずしも
傾斜させる必要はない。
【００１０】また、下円板１の周縁部の環状壁３の断面
形状は特に限定されず、図２（Ａ）（Ｂ）に示したごと
く矩形または台形形状などとすることができる。また、
この環状壁３の幅Ｗは５ｍｍ以上であればよい。さら
に、噴霧口５の高さＨは噴霧盤半径Ｒに対し１０〜５０
％が望ましい。
形状は特に限定されず、図２（Ａ）（Ｂ）に示したごと
く矩形または台形形状などとすることができる。また、
この環状壁３の幅Ｗは５ｍｍ以上であればよい。さら
に、噴霧口５の高さＨは噴霧盤半径Ｒに対し１０〜５０
％が望ましい。
【００１１】また、他の実施例として、図３に示したご
とく下円板１、上円板２を各々曲面形状として下方に傾
斜させることも可能である。この場合は、下円板１の中
心部と周縁部を結ぶ直線と、回転軸の法線とのなす角度
を傾斜角度θ１とする。
とく下円板１、上円板２を各々曲面形状として下方に傾
斜させることも可能である。この場合は、下円板１の中
心部と周縁部を結ぶ直線と、回転軸の法線とのなす角度
を傾斜角度θ１とする。
【００１２】次に、上記本考案の噴霧盤９を用いた遠心
式噴霧乾燥装置の作動を説明する。図７に示すように、
まず原液供給管８から供給された原液は液分配器を経由
して本考案の噴霧盤９から噴霧乾燥室１０に微粒子とな
って噴霧され、熱風入口１１から噴霧乾燥室１０に送ら
れた熱風によって乾燥されて粉粒体となって落下し、製
品取り出し口１２から取り出される。一方排気は排気管
１３を通りサイクロン１４で粉粒体を分離、回収されて
排出される。
式噴霧乾燥装置の作動を説明する。図７に示すように、
まず原液供給管８から供給された原液は液分配器を経由
して本考案の噴霧盤９から噴霧乾燥室１０に微粒子とな
って噴霧され、熱風入口１１から噴霧乾燥室１０に送ら
れた熱風によって乾燥されて粉粒体となって落下し、製
品取り出し口１２から取り出される。一方排気は排気管
１３を通りサイクロン１４で粉粒体を分離、回収されて
排出される。
【００１３】このとき、図４に示すように、噴霧盤９に
供給された原液Ｇは下円板１に沿って液膜状となって流
れるが、下円板１が下方に傾斜しているため噴霧盤９の
回転による遠心力によって、原液Ｇは次第に下円板１よ
り離脱して水平方向に飛散し、周縁壁３全面に均一に供
給され、噴霧口５から噴霧乾燥室１０内に噴霧される。
このように、原液Ｇが周縁壁３の高さ方向に均一に供給
されて噴霧されるため、噴霧孔５の下側から噴霧される
液滴と上側から噴霧される液滴の粒径がほぼ同じとな
り、噴霧液滴の粒径バラツキを小さくすることができる
ため、乾燥後の粒子の粒度分布を狭くできる。
供給された原液Ｇは下円板１に沿って液膜状となって流
れるが、下円板１が下方に傾斜しているため噴霧盤９の
回転による遠心力によって、原液Ｇは次第に下円板１よ
り離脱して水平方向に飛散し、周縁壁３全面に均一に供
給され、噴霧口５から噴霧乾燥室１０内に噴霧される。
このように、原液Ｇが周縁壁３の高さ方向に均一に供給
されて噴霧されるため、噴霧孔５の下側から噴霧される
液滴と上側から噴霧される液滴の粒径がほぼ同じとな
り、噴霧液滴の粒径バラツキを小さくすることができる
ため、乾燥後の粒子の粒度分布を狭くできる。
【００１４】実験例 原液Ｇとして、アルミナを６０重量％含む比重１．６、
粘度３０センチポイズのスラリーを用いて噴霧実験を行
った。本考案の噴霧盤９として、図１に示す形状で直径
１００ｍｍ、下円板１の傾斜角度θ１は３°のものを用
意し、比較例として図５に示す従来の噴霧盤を用いて、
同一条件で上記スラリーを噴霧乾燥し、乾燥後の粒子の
粒度分布を比較した。結果は図８に示すように、本考案
の噴霧盤を用いることによって、乾燥粒子の粒度分布を
狭くできることがわかる。
粘度３０センチポイズのスラリーを用いて噴霧実験を行
った。本考案の噴霧盤９として、図１に示す形状で直径
１００ｍｍ、下円板１の傾斜角度θ１は３°のものを用
意し、比較例として図５に示す従来の噴霧盤を用いて、
同一条件で上記スラリーを噴霧乾燥し、乾燥後の粒子の
粒度分布を比較した。結果は図８に示すように、本考案
の噴霧盤を用いることによって、乾燥粒子の粒度分布を
狭くできることがわかる。
【００１５】また、上記と同様にして、下円板１の傾斜
角度θ１をさまざまに変化させて実験を行った。その結
果、スラリーの状態によっても異なるが、傾斜角度θ１
が２°より小さいと乾燥粒子の粒度分布を狭くする効果
が乏しかった。逆に、傾斜角度θ１が大きいと、原液Ｇ
が上円板２側に多く供給されるため、かえって乾燥粒子
の粒度分布が広くなる傾向があり、傾斜角度θ１は４５
°以下、好ましくは３０°以下のものが良かった。
角度θ１をさまざまに変化させて実験を行った。その結
果、スラリーの状態によっても異なるが、傾斜角度θ１
が２°より小さいと乾燥粒子の粒度分布を狭くする効果
が乏しかった。逆に、傾斜角度θ１が大きいと、原液Ｇ
が上円板２側に多く供給されるため、かえって乾燥粒子
の粒度分布が広くなる傾向があり、傾斜角度θ１は４５
°以下、好ましくは３０°以下のものが良かった。
【００１６】
【考案の効果】このように、本考案によれば遠心式噴霧
装置の噴霧盤において、下円板を回転軸の法線方向に対
して下方に傾斜させたことによって、噴霧液滴の粒径バ
ラツキを小さくでき、噴霧乾燥後の粒子の粒度分布を狭
くすることができる。したがって、乾燥後の原料中に含
まれる粗粒を少なくし、原料の無駄を減らすとともに、
特にセラミックスラリーの噴霧乾燥に用いた場合は、粒
径の揃った高品質の造粒体を得ることができる。
装置の噴霧盤において、下円板を回転軸の法線方向に対
して下方に傾斜させたことによって、噴霧液滴の粒径バ
ラツキを小さくでき、噴霧乾燥後の粒子の粒度分布を狭
くすることができる。したがって、乾燥後の原料中に含
まれる粗粒を少なくし、原料の無駄を減らすとともに、
特にセラミックスラリーの噴霧乾燥に用いた場合は、粒
径の揃った高品質の造粒体を得ることができる。
【図１】本考案実施例に係る遠心式噴霧装置の噴霧盤を
示す部分断面図である。
示す部分断面図である。
【図２】（Ａ）（Ｂ）は図１中のＡ部のみを示す断面図
である。
である。
【図３】本考案の他の実施例を示す部分断面図である。
【図４】図１に示す噴霧盤の使用状態を説明するための
図である。
図である。
【図５】従来の遠心式噴霧装置の噴霧盤を示す部分断面
図である。
図である。
【図６】従来の遠心式噴霧装置の噴霧盤を示す部分断面
図である。
図である。
【図７】遠心式噴霧乾燥装置を示す概要図である。
【図８】噴霧乾燥後の粒子の粒度分布を示すグラフであ
る。
る。
１・・・下円板 ２・・・上円板 ３・・・環状壁 ４・・・回転軸 ５・・・噴霧孔 ８・・・原液供給管 ９・・・噴霧盤 １０・・噴霧乾燥室 １１・・熱風入口 １２・・製品取り出し口 １３・・排気管 １４・・サイクロン
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特公 昭52−46547（ＪＰ，Ｂ２) 特公 昭32−10164（ＪＰ，Ｂ１) 実公 昭50−8243（ＪＰ，Ｙ１) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) B01D 1/20 B01D 1/18 B05B 3/02
Claims (1)
- 【請求項１】下円板および上円板の周縁部に設けた環状
壁に複数の噴霧孔を形成してなる噴霧盤において、少な
くとも上記噴霧孔を有する環状壁と下円板とを共に回転
軸の法線方向に対して２〜４５°の傾斜角度でもって傾
斜させたことを特徴とする遠心式噴霧装置の噴霧盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991069106U JP2594499Y2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 遠心式噴霧装置の噴霧盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1991069106U JP2594499Y2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 遠心式噴霧装置の噴霧盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0518601U JPH0518601U (ja) | 1993-03-09 |
| JP2594499Y2 true JP2594499Y2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=13393048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1991069106U Expired - Fee Related JP2594499Y2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 遠心式噴霧装置の噴霧盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2594499Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5253788Y2 (ja) * | 1973-05-21 | 1977-12-06 | ||
| JPS593657B2 (ja) * | 1975-10-09 | 1984-01-25 | 松下電器産業株式会社 | オンスイダンボウソウチ |
-
1991
- 1991-08-29 JP JP1991069106U patent/JP2594499Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0518601U (ja) | 1993-03-09 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |