JP2582067B2 - Wire for audio and visual equipment - Google Patents
Wire for audio and visual equipmentInfo
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この発明は、音響機器および画像機器の配線に使用さ
れる電線に関し、たとえば、ステレオやVTRなどの配線
に使用される電線に関するものである。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to electric wires used for wiring of audio equipment and imaging equipment, for example, to electric wires used for wiring of stereos and VTRs.
［従来の技術］ ステレオやVTRなどの配線に使用される電線として
は、従来から銅線の単線または撚線が使用されている。
この銅線の単線または撚線上に有機物による絶縁被覆が
施される。[Prior Art] As an electric wire used for wiring such as a stereo and a VTR, a single or stranded copper wire has conventionally been used.
An insulating coating of an organic material is applied on the single or stranded wire of the copper wire.
［発明が解決しようとする問題点］ 近年、音響機器や画像機器の性能の向上につれて、そ
れらによって得られる音や画像の質が機器内および機器
外の配線に使用される電線の質に左右されるようになっ
てきている。従来では、上述のように、有機物絶縁被覆
のみを施した銅線がステレオやVTR等の音響・画像機器
の配線に用いられている。このような有機物被覆銅線に
よる配線では、より高性能の音響・画像機器を用いて
も、得られる音質や画質が配線による音響・画像信号の
伝達性に影響され、あまり向上しないという問題点があ
った。[Problems to be Solved by the Invention] In recent years, as the performance of audio equipment and imaging equipment has been improved, the quality of sound and images obtained thereby depends on the quality of electric wires used for wiring inside and outside equipment. It is becoming. Conventionally, as described above, a copper wire coated only with an organic insulating coating has been used for wiring of audio and visual equipment such as a stereo and a VTR. The problem with such wiring using an organic-coated copper wire is that even if a higher-performance sound / image device is used, the obtained sound quality and image quality are affected by the transmission of the sound / image signal by the wiring and are not significantly improved. there were.
この発明の目的は、有機物絶縁被覆のみを施した電線
よりも優れた、音響・画像信号の伝達性を示す音響・画
像機器用電線を提供することである。An object of the present invention is to provide an electric wire for audio / visual equipment which exhibits superior sound / image signal transmissivity than an electric wire coated only with an organic insulating coating.
［問題点を解決するための手段］ この発明に従った音響・画像信号を伝達する音響・画
像機器用電線は、導体の表面に、ゾル−ゲル法によりア
ルコキシドを反応させて0.1μｍ以上30μｍ未満の膜厚
の酸化物セラミックスからなる被膜が形成されたもので
あり、その酸化物セラミックスはSiO2、TiO2またはAl2O
3の少なくとも１つの化合物を含み、その酸化物セラミ
ックスのビッカース硬度は100kg/mm2以上である。[Means for Solving the Problems] A wire for audio / visual equipment for transmitting an audio / video signal according to the present invention is formed by reacting an alkoxide on a surface of a conductor by a sol-gel method to have a thickness of 0.1 μm or more and less than 30 μm. A film made of an oxide ceramic having a thickness of is formed, and the oxide ceramic is made of SiO 2 , TiO 2 or Al 2 O
3. The oxide ceramic has a Vickers hardness of 100 kg / mm 2 or more.
［発明の作用効果］ 音響・画像信号を伝達する高周波電流は、表皮効果に
より導体の表層近傍を流れる。そのため、音響・画像信
号の伝達は、導体表面を被覆している物質の影響を非常
に受けやすいと考えられる。そこで、導体表面に接する
物質の硬度が高ければ高いほど、音響・画像信号の伝達
は良好で、得られる音質や画質が向上することが本願発
明者等の実験により認められた。この発明は、このよう
な本願発明者等の知見に基づくものである。[Effects of the Invention] The high-frequency current transmitting the sound / image signal flows near the surface of the conductor due to the skin effect. Therefore, transmission of the audio / video signal is considered to be very susceptible to the effect of the substance covering the conductor surface. Thus, it has been confirmed by experiments by the present inventors that the higher the hardness of the substance in contact with the conductor surface, the better the transmission of sound and image signals, and the higher the obtained sound quality and image quality. The present invention is based on such findings of the present inventors.
従来から絶縁物として用いられている有機物被膜で
は、導体に有機物を焼付ける温度を高くすることによ
り、被膜の硬さを増加させることができる。ところが、
酸化物セラミックスからなる被膜を導体表面に形成した
場合、有機物被膜に比し、非常に硬い被膜が得られる。
したがって、導体の表面に酸化物セラミックスからなる
被膜を形成する。このとき、絶縁効果を得るためには、
酸化物セラミックス膜の上に有機物等の絶縁物で被覆す
ればよい。または比抵抗が１×107Ωcm以上の酸化物セ
ラミックス膜を形成すればよい。この酸化物セラミック
ス被膜電線を音響・画像機器の配線に用いると、有機物
被覆のみの電線を使用した場合に比較して優れた音響・
画像信号を伝達性を示し、良好な画質・音響が得られ
る。この発明において導体は導電性の高いものであれば
よく、CuやAlが好ましい。さらに、その純度が99.9％以
上であれば、より優れた音響・画像信号の伝達性を示
す。また、被膜を形成する酸化物セラミックスはビッカ
ース硬度で100kg/mm2を超えていればよい。たとえば、S
iO2、TiO2、Al2O3などの酸化物セラミックスが好まし
い。In the case of an organic film conventionally used as an insulator, the hardness of the film can be increased by increasing the temperature at which the organic material is baked on the conductor. However,
When a film made of oxide ceramics is formed on the surface of a conductor, a very hard film is obtained as compared with an organic film.
Therefore, a coating made of oxide ceramic is formed on the surface of the conductor. At this time, in order to obtain an insulating effect,
The oxide ceramic film may be covered with an insulator such as an organic substance. Alternatively, an oxide ceramic film having a specific resistance of 1 × 10 7 Ωcm or more may be formed. When this oxide ceramic coated electric wire is used for the wiring of audio / visual equipment, superior sound and
It shows image signal transmission and provides good image quality and sound. In the present invention, the conductor only needs to have high conductivity, and Cu and Al are preferable. Further, when the purity is 99.9% or more, more excellent sound / image signal transmission is exhibited. In addition, the oxide ceramic forming the coating only needs to have a Vickers hardness exceeding 100 kg / mm 2 . For example, S
Oxide ceramics such as iO 2 , TiO 2 , and Al 2 O 3 are preferred.
なお、本発明による音響・画像機器用電線において酸
化物セラミックス膜を形成する方法は、ゾル−ゲル法と
呼ばれる方法で、具体的には、まず、目的とする酸化物
セラミックスに含まれる元素のアルコキシドを溶かした
アルコール溶液に水、および触媒として酸を加え、加水
分解、および脱水縮合反応を起こさせた溶液を導体表面
に塗布する。その後、数百度に加熱焼成することによっ
て酸化物セラミックスを得る。このとき、加熱焼成工程
は減圧下において行なってもよく、そのとき加熱温度の
低温化が図れる。また、溶液を塗布する代わりに、溶液
に導体を浸漬することによって酸化物セラミックス膜を
形成してもよい。The method for forming the oxide ceramic film on the electric wire for audio / visual equipment according to the present invention is a method called a sol-gel method. Specifically, first, an alkoxide of an element contained in the target oxide ceramic is used. Is added to water and an acid as a catalyst, and a solution in which hydrolysis and dehydration-condensation reactions are caused is applied to the conductor surface. Thereafter, the oxide ceramic is obtained by firing at a temperature of several hundred degrees. At this time, the heating and firing step may be performed under reduced pressure, and at that time, the heating temperature can be reduced. Further, instead of applying a solution, an oxide ceramic film may be formed by immersing a conductor in the solution.
また、導体の表面に酸化物セラミックス膜を形成する
方法としては、ゾル−ゲル法のほかにCVD法、プラズマC
VD法、イオンプレーティング法などの気相薄膜成長法が
あるが、ゾル−ゲル法によると、気相薄膜成長法を比
し、銅などの導体に対して強い密着力を持つ酸化物セラ
ミックス膜が得られるという利点がある。さらに、ゾル
−ゲル法によって形成された酸化物セラミックス膜は可
撓性を有するので電線を撓んだ状態で使用しても、はく
離することがない。ゾル−ゲル法によって膜を形成する
方法は、気相薄膜成長法に比べて、プラズマ発生装置や
膜材料の加熱装置などの特殊な設備を必要とせず、低温
度での成膜法で工業的に容易に利用され、材料的にも設
備的にも低コストである。In addition to the sol-gel method, a CVD method, a plasma
There are vapor phase thin film growth methods such as VD method and ion plating method.However, the sol-gel method is an oxide ceramic film that has a stronger adhesion to conductors such as copper than the vapor phase thin film growth method. Is obtained. Furthermore, since the oxide ceramic film formed by the sol-gel method has flexibility, it does not peel even when used in a state where the electric wire is bent. The method of forming a film by the sol-gel method does not require special equipment such as a plasma generator or a heating device for the film material, and is industrially a low-temperature film forming method, unlike the vapor-phase thin film growth method. It is easy to use and low cost in terms of materials and equipment.
形成される膜厚が0.1μｍ未満であれば、導体表面近
傍の硬度増加の効果がほとんどない。一方、30μｍを超
える膜厚であれば上記効果が飽和し、また被膜形成に要
する時間が長くかかる。したがって、酸化物セラミック
ス膜は膜厚0.1μｍ以上30μｍ未満のものが望ましい。If the formed film thickness is less than 0.1 μm, there is almost no effect of increasing the hardness near the conductor surface. On the other hand, if the film thickness exceeds 30 μm, the above effect is saturated, and the time required for forming the film is long. Therefore, it is desirable that the oxide ceramic film has a thickness of 0.1 μm or more and less than 30 μm.
さらに、導体と表層部を構成する酸化物セラミックス
とは、それぞれ単層または単一材料で構成されるものに
限らない。たとえば、導体と表層部との密着性を向上さ
せるために別の導体または酸化物セラミックスからなる
中間層を形成させてもよい。導体表面近傍の硬度、すな
わち酸化物セラミックスの硬度に中間層の硬度を加えた
見かけの硬度が高くなればよい。セラミックス膜を複数
層重ねて形成させてもよい。Furthermore, the conductor and the oxide ceramics constituting the surface layer are not limited to those composed of a single layer or a single material, respectively. For example, an intermediate layer made of another conductor or oxide ceramic may be formed to improve the adhesion between the conductor and the surface layer. The hardness in the vicinity of the conductor surface, that is, the apparent hardness obtained by adding the hardness of the intermediate layer to the hardness of the oxide ceramic may be increased. A plurality of ceramic films may be stacked.
この発明では使用される導体は、たとえば単線で単線
表面に酸化物セラミックス膜を形成したものである。し
かし、導体が複数本の導体素線を集合して撚線にしたも
ので、酸化物セラミックス膜が各導体素線表面に形成さ
れたものであってもよい。The conductor used in the present invention is, for example, a single wire having an oxide ceramic film formed on the surface of the single wire. However, the conductor may be one in which a plurality of conductor strands are assembled into a stranded wire, and an oxide ceramic film may be formed on the surface of each conductor strand.
［実施例］ 以下に示すように、本発明に従った酸化物セラミック
ス膜を導体表面に形成した電線（本発明例）と、従来の
有機物被覆のみを有する電線（比較例）を作製した。[Examples] As shown below, an electric wire in which an oxide ceramic film according to the present invention was formed on a conductor surface (example of the present invention) and a conventional electric wire having only an organic coating (comparative example) were produced.
なお、酸化物セラミックス（SiO2,Al2O3,TiO2）から
なる膜を形成するためのアルコキシドを含むコーティン
グ溶液としては、それぞれ次のようは混合溶液を用い
た。As a coating solution containing an alkoxide for forming a film made of oxide ceramics (SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 ), a mixed solution was used as follows.
コーティング溶液１（SiO2膜形成用） テトラｎ−ブチルオルトシリケート（（ｎ−C4H9O）4
Si）を96mmol含むブタノール（ｎ−C4H9OH）溶液と、水
を150mmolおよび硝酸を1.0mmol含むブタノール溶液とを
撹拌混合し、２時間還流させたもの。Coating solution 1 (for forming SiO 2 film) Tetra n-butyl orthosilicate ((n-C 4 H 9 O) 4
And Si) and 96mmol butanol (n-C 4 H 9 OH ) solution, which 150mmol and nitric acid with water and a butanol solution was mixed stirred including 1.0 mmol, refluxed for 2 hours.
コーティング溶液２（Al2O3膜形成用） アルミニウムイソプロポキシド（（ｉ−C3H7O）3Al）
を50mmol含むイソプロピルアルコール（ｉ−C3H7OH）溶
液と、水を50mmolおよび硝酸を1.0mmol含むイソプロピ
ルアルコール溶液とを撹拌混合し、２時間還流させたも
の。Coating solution 2 (for forming Al 2 O 3 film) Aluminum isopropoxide ((i-C 3 H 7 O) 3 Al)
And isopropyl alcohol (i-C 3 H 7 OH ) solution containing 50mmol of those water were mixed by stirring and isopropyl alcohol solution of 50mmol and nitrate containing 1.0mmol was refluxed for 2 hours.
コーティング溶液３（TiO2膜形成用） チタンイソプロポキシド（（ｉ−C3H7O）4Ti）を50mmol
含むイソプロピルアルコール（ｉ−C3H7OH）溶液と、水
を50mmolおよび硝酸を1.0mmol含むイソプロピルアルコ
ール溶液とを撹拌混合し、２時間還流させたもの。Coating solution 3 (for forming TiO 2 film) 50 mmol of titanium isopropoxide ((i-C 3 H 7 O) 4 Ti)
And isopropyl alcohol (i-C 3 H 7 OH ) solution containing, as the water 50mmol and nitric acid and isopropyl alcohol solutions were mixed stirred including 1.0 mmol, refluxed for 2 hours.
電線１（本発明例） 純度99.99％の銅からなる、直径3.0mmφの銅線を温度
50℃に保持したコーティング溶液１に浸漬し、10cm/min
の速度で引き上げた。その後、温度150℃で10分間大気
中においてこの銅線を加熱することによって乾燥し、さ
らに温度500℃で10時間加熱焼成して、その銅線の表面
に膜厚18μｍのSiO2膜を形成したもの。Electric wire 1 (Example of the present invention) A copper wire having a diameter of 3.0 mmφ made of copper having a purity of 99.99% is heated at a temperature of
Immerse in coating solution 1 maintained at 50 ° C, 10cm / min
Raised at the speed. Thereafter, the copper wire was dried by heating it in air at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes, and further baked by heating at a temperature of 500 ° C. for 10 hours to form an 18 μm-thick SiO 2 film on the surface of the copper wire. thing.
電線２（本発明例） 純度99.99％の銅からなる、直径3.0mmφの銅線を温度
50℃に保持したコーティング溶液２に浸漬し、10cm/min
の速度で引き上げた。その後、温度150℃で10分間大気
中においてこの銅線を加熱することによって乾燥し、さ
らに温度500℃で10時間加熱焼成して、その銅線の表面
に膜厚18μｍのAl2O3膜を形成したもの。Electric wire 2 (Example of the present invention) A copper wire having a diameter of 3.0 mmφ made of copper having a purity of 99.99% is heated at a temperature of
Immerse in coating solution 2 maintained at 50 ° C, 10cm / min
Raised at the speed. Thereafter, the copper wire is dried by heating it in the air at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes, and further baked by heating at a temperature of 500 ° C. for 10 hours, thereby forming an 18 μm thick Al 2 O 3 film on the surface of the copper wire. What formed.
電線３（本発明例） 純度99.99％の銅からなる、直径3.0mmφの銅線を温度
50℃に保持したコーティング溶液３に浸漬し、10cm/min
の速度で引き上げた。その後、温度150℃で10分間大気
中においてこの銅線を加熱することによって乾燥し、さ
らに温度500℃で10時間加熱焼成して、その銅線の表面
に膜厚18μｍのTiO2膜を形成したもの。Electric wire 3 (Example of the present invention) A copper wire having a diameter of 3.0 mmφ made of copper having a purity of 99.99% is heated at a temperature of
Immerse in coating solution 3 kept at 50 ° C, 10cm / min
Raised at the speed. Thereafter, the copper wire was dried by heating it in the air at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes, and further heated and baked at a temperature of 500 ° C. for 10 hours to form an 18 μm-thick TiO 2 film on the surface of the copper wire. thing.
電線４（本発明例） 純度99.99％の銅からなる、直径0.25mmφの銅線を温
度50℃に保持したコーティング溶液１に浸漬し、10cm/m
inの速度で引き上げた。その後、温度150℃で10分間大
気中においてこの銅線を加熱することによって乾燥し、
さらに温度500℃で10時間加熱焼成して、その表面に膜
厚18μｍのSiO2膜を形成した銅線を144本撚り合わせた
もの。Electric wire 4 (Example of the present invention) A copper wire having a diameter of 0.25 mmφ made of copper having a purity of 99.99% is immersed in a coating solution 1 maintained at a temperature of 50 ° C., and 10 cm / m
Raised at in speed. Thereafter, the copper wire is dried by heating the copper wire in the air at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes,
Further, 144 copper wires, each of which is heated and baked at a temperature of 500 ° C. for 10 hours, and on which a SiO 2 film having a thickness of 18 μm is formed, are twisted together.
電線５（本発明例） 純度99.99％のアルミニウムからなる、直径3.0mmφの
アルミニウム線を温度50℃に保持したコーティング溶液
１に浸漬し、10cm/minの速度で引き上げた。その後、温
度150℃で10分間大気中においてこのアルミニウム線を
加熱することによって乾燥し、さらに温度500℃で10時
間加熱焼成して、そのアルミニウム線の表面に膜厚18μ
ｍのSiO2膜を形成したもの。Electric wire 5 (Example of the present invention) An aluminum wire having a diameter of 3.0 mmφ made of aluminum having a purity of 99.99% was immersed in a coating solution 1 maintained at a temperature of 50 ° C, and pulled up at a speed of 10 cm / min. Thereafter, the aluminum wire is dried by heating it in the air at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes, and further baked by heating at a temperature of 500 ° C. for 10 hours.
m SiO 2 film formed.
電線６（本発明例） 純度99.99％の銅からなる、直径3.0mmの銅線に厚さ３
μｍのニッケルめっきしたものを、温度50℃に保持した
コーティング溶液１を浸漬し、10cm/minの速度で引き上
げた。その後、温度150℃で10分間大気中において、こ
のニッケルめっき銅線を加熱することによって乾燥し、
さらに温度500℃で10時間加熱焼成して、そのニッケル
めっき銅線の表面に膜厚18μｍのSiO2膜を形成したも
の。Electric wire 6 (Example of the present invention) A copper wire having a diameter of 3.0 mm made of copper having a purity of 99.99% and having a thickness of 3
The μm-nickel-plated product was immersed in the coating solution 1 maintained at a temperature of 50 ° C., and pulled up at a speed of 10 cm / min. Thereafter, the nickel-plated copper wire is dried by heating it in the air at a temperature of 150 ° C. for 10 minutes,
Further, by heating and baking at a temperature of 500 ° C. for 10 hours, an 18 μm-thick SiO 2 film is formed on the surface of the nickel-plated copper wire.
ただし、電線1,2,3,4,5,6において、各導体をそれぞ
れコーティング溶液に浸漬する前には、次に示すような
前処理を行なった。However, in the electric wires 1, 2, 3, 4, 5, and 6, before immersing each conductor in the coating solution, the following pretreatment was performed.
各導体を1.0Nの水酸化ナトリウム溶液に浸漬すること
によって脱脂した後、脱イオン水で洗浄した。さらに、
この導体に2.0Nの硝酸水溶液で酸洗処理を施した。その
後、脱イオン水で洗浄した。Each conductor was degreased by immersion in a 1.0 N sodium hydroxide solution and then washed with deionized water. further,
The conductor was subjected to a pickling treatment with a 2.0 N aqueous solution of nitric acid. Then, it was washed with deionized water.
電線７（比較例） 直径が3.0mmφの無酸素銅線をポリビニルホルマール
と有機溶剤を含む溶液中に浸漬し、取出後温度320℃に
保たれた加熱炉に通すことにより、その表面に膜厚18μ
ｍのポリビニルホルマール膜を形成したもの。Electric wire 7 (Comparative example) An oxygen-free copper wire having a diameter of 3.0 mmφ is immersed in a solution containing polyvinyl formal and an organic solvent, and after being taken out, is passed through a heating furnace maintained at a temperature of 320 ° C., so that a film thickness on the surface is obtained. 18μ
m formed with a polyvinyl formal film.
電線８（比較例） 直径が3.0mmφの無酸素導線をポリビニルホルマール
と有機溶剤を含む溶液中に浸漬し、取出後温度410℃に
保たれた加熱炉に通すことにより、その表面に膜厚18μ
ｍのポリビニルホルマール膜を形成したもの。Electric wire 8 (comparative example) An anoxic wire having a diameter of 3.0 mm was immersed in a solution containing polyvinyl formal and an organic solvent, and after being taken out, passed through a heating furnace maintained at a temperature of 410 ° C., so that a film thickness of 18 μm was formed on its surface.
m formed with a polyvinyl formal film.
得られた８種類の電線１〜８をステレオ・ビデオの配
線材として使用して音質を比較評価した。音質の評価
は、100名の視聴者に対して試み、以下の４項目に関し
てすべて優れていると回答した人数で示した。The eight types of the obtained electric wires 1 to 8 were used as wiring materials for stereo video, and the sound quality was comparatively evaluated. The sound quality was evaluated for 100 viewers, and the number of respondents who answered that all of the following four items were excellent was shown.
（１） 音のバランス （２） 透明感 （３） 鮮明度 （４） 豊かさ 評価結果は以下のとおりである。(1) Sound balance (2) Transparency (3) Clarity (4) Richness The evaluation results are as follows.
評価（人） 電線１（本発明例） 93 ２（本発明例） 94 ３（本発明例） 95 ４（本発明例） 92 ５（本発明例） 94 ６（本発明例） 93 ７（比較例） 39 ８（比較例） 36 以上の結果から明らかなように、SiO2膜、Al2O3膜、T
iO2膜を導体表面に形成した電線1,2,3,4,5,6はポリビニ
ルホルマール膜を形成した電線7,8に比し、音質は優れ
ていることがわかった。Evaluation (person) Electric wire 1 (Example of the present invention) 93 2 (Example of the present invention) 94 3 (Example of the present invention) 95 4 (Example of the present invention) 925 (Example of the present invention) 94 6 (Example of the present invention) 93 7 (Comparative) Example) 398 (Comparative Example) 36 As is clear from the above results, SiO 2 film, Al 2 O 3 film, T
It was found that the electric wires 1, 2, 3, 4, 5, and 6 in which the iO 2 film was formed on the conductor surface had better sound quality than the wires 7 and 8 in which the polyvinyl formal film was formed.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭58−57208（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−165910（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−114717（ＪＰ，Ｕ) 実公 昭61−14096（ＪＰ，Ｙ１) 実公 昭63−23854（ＪＰ，Ｙ１) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-58-57208 (JP, A) JP-A-61-165910 (JP, A) JP-A 61-114717 (JP, U) JP-A 61-165717 14096 (JP, Y1) Jiko 63-23854 (JP, Y1)
Claims (5)
用電線であって、 導体の表面に、ゾル−ゲル法によりアルコキシドを反応
させて0.1μｍ以上30μｍ未満の膜厚の酸化物セラミッ
クスからなる被膜が形成され、前記酸化物セラミックス
はSiO2、TiO2およびAl2O3からなる群より選ばれた少な
くとも１つの化合物を含み、前記酸化物セラミックスの
ビッカース硬度は100kg/mm2以上である、音響・画像機
器用電線。1. An electric wire for audio / visual equipment for transmitting audio / image signals, comprising an oxide ceramic having a thickness of 0.1 μm or more and less than 30 μm formed by reacting an alkoxide on a surface of a conductor by a sol-gel method. The oxide ceramic contains at least one compound selected from the group consisting of SiO 2 , TiO 2 and Al 2 O 3, and the Vickers hardness of the oxide ceramic is 100 kg / mm 2 or more. , Audio and visual equipment wires.
の範囲第１項記載の音響・画像機器用電線。2. The electric wire for audio / visual equipment according to claim 1, wherein said conductor is Cu or Al.
である、特許請求の範囲第１項記載の音響・画像機器用
電線。3. The method according to claim 1, wherein the conductor is Cu or Al having a purity of 99.9% or more.
The electric wire for audio / visual equipment according to claim 1, wherein
撚線にしたものであり、前記酸化物セラミックス被膜
は、前記各導体素線表面に形成されている、特許請求の
範囲第１項から第３項までのいずれかに記載の音響・画
像機器用電線。4. The conductor according to claim 1, wherein the conductor is formed by assembling a plurality of conductor strands into a stranded wire, and wherein the oxide ceramic coating is formed on the surface of each conductor strand. Item 4. The electric wire for audio / visual equipment according to any one of Items 1 to 3.
特許請求の範囲第１項から第４項までのいずれかに記載
の音響・画像機器用電線。5. An organic coating on the coating,
An electric wire for audio / visual equipment according to any one of claims 1 to 4.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62072846A JP2582067B2 (en) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | Wire for audio and visual equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62072846A JP2582067B2 (en) | 1987-03-25 | 1987-03-25 | Wire for audio and visual equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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