JP2573205Y2 - 半導体ウェハ収納容器 - Google Patents
半導体ウェハ収納容器Info
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- JP2573205Y2 JP2573205Y2 JP1990113615U JP11361590U JP2573205Y2 JP 2573205 Y2 JP2573205 Y2 JP 2573205Y2 JP 1990113615 U JP1990113615 U JP 1990113615U JP 11361590 U JP11361590 U JP 11361590U JP 2573205 Y2 JP2573205 Y2 JP 2573205Y2
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- wafer
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Description
本考案は半導体ウェハ収納容器に関する。本考案の容
器は、Si半導体ウェハ等のウェハを保管したり、搬送し
たりする場合等に、これを収納するのに利用することが
できる。
器は、Si半導体ウェハ等のウェハを保管したり、搬送し
たりする場合等に、これを収納するのに利用することが
できる。
本考案は、半導体基体表面が一部露出した半導体ウェ
ハをウェハ保持容器に保持して収納する密封された半導
体ウェハ収納容器において、該容器は製品完成前の工程
中で半導体ウェハを保持するものであり、該容器は前記
半導体ウェハを保持する保持具を備え、かつ、半導体ウ
ェハを保持している該保持具を収納する収納本体と、密
封のための蓋部とからなるとともに、該容器には該容器
内の水分、酸素、または容器内外の圧力差を検知する検
知手段を設け、かつ該容器を不活性なガスで充填し、常
圧より加圧状態にし、該検知手段の検知結果により容器
内の状態をモニタ可能に構成して製品完成前の工程中で
の対応を可能としたことにより、半導体ウェハに影響を
与える水分、酸素の侵入などや、密封不良などを容器外
から知ることを可能とし、これによって製造工程中での
適切な処理等の対応を可能として、製品の不良の減少等
の効果を得るものである。
ハをウェハ保持容器に保持して収納する密封された半導
体ウェハ収納容器において、該容器は製品完成前の工程
中で半導体ウェハを保持するものであり、該容器は前記
半導体ウェハを保持する保持具を備え、かつ、半導体ウ
ェハを保持している該保持具を収納する収納本体と、密
封のための蓋部とからなるとともに、該容器には該容器
内の水分、酸素、または容器内外の圧力差を検知する検
知手段を設け、かつ該容器を不活性なガスで充填し、常
圧より加圧状態にし、該検知手段の検知結果により容器
内の状態をモニタ可能に構成して製品完成前の工程中で
の対応を可能としたことにより、半導体ウェハに影響を
与える水分、酸素の侵入などや、密封不良などを容器外
から知ることを可能とし、これによって製造工程中での
適切な処理等の対応を可能として、製品の不良の減少等
の効果を得るものである。
従来より、半導体ウェハを保管したり移送したりする
ときには、一般に複数枚のウェハを収納容器に入れて、
この保管や移送を行っている（半導体ウェハの収納容器
については、例えば実開昭59-189233号参照）。 ところで近年、半導体装置の微細化・集積化の進行は
著しく、配線ルール等の回路パターンも微細化の一途を
たどっている。例えば、ULSIの微細化に伴い、配線ルー
ルも細くなって、このためSi半導体基板について言え
ば、従来は問題になっていなかったウェハのSi表面の自
然酸化膜も問題になりつつある。 問題となる１つの例としては、例えば図８に示すよう
にSi基板ａの拡散層ｂ上に配線材料ｃ（符号ｅは層間絶
縁膜を示す）を形成する際、Si表面の露出した部分（図
中ｄで示す部分）に生じている自然酸化膜層をあらかじ
め除去する必要があるが、通常の除去プロセスではこの
自然酸化膜を除去するのに希フッ酸系の薬品を用いてい
る場合が多く、このため、（１）その後、配線材料を形
成するまでの時間を制限している、（２）薬剤処理であ
るので他の部分に悪影響を与えるおそれがあり、また取
扱い上の注意を要する、などの問題がある。このため、
自然酸化膜等がつかないようにすることが望まれてい
る。
ときには、一般に複数枚のウェハを収納容器に入れて、
この保管や移送を行っている（半導体ウェハの収納容器
については、例えば実開昭59-189233号参照）。 ところで近年、半導体装置の微細化・集積化の進行は
著しく、配線ルール等の回路パターンも微細化の一途を
たどっている。例えば、ULSIの微細化に伴い、配線ルー
ルも細くなって、このためSi半導体基板について言え
ば、従来は問題になっていなかったウェハのSi表面の自
然酸化膜も問題になりつつある。 問題となる１つの例としては、例えば図８に示すよう
にSi基板ａの拡散層ｂ上に配線材料ｃ（符号ｅは層間絶
縁膜を示す）を形成する際、Si表面の露出した部分（図
中ｄで示す部分）に生じている自然酸化膜層をあらかじ
め除去する必要があるが、通常の除去プロセスではこの
自然酸化膜を除去するのに希フッ酸系の薬品を用いてい
る場合が多く、このため、（１）その後、配線材料を形
成するまでの時間を制限している、（２）薬剤処理であ
るので他の部分に悪影響を与えるおそれがあり、また取
扱い上の注意を要する、などの問題がある。このため、
自然酸化膜等がつかないようにすることが望まれてい
る。
上記のような問題を解決するため、Siウェハ等につい
てその上に自然酸化膜が形成されない条件で収納・保管
するアイデアが提案されている。 例えば図７に示すように、密封式の容器１に窒素Ｎ2
を充填した状態でウェハ10を収納し保存する手段であ
る。これによれば、密封状態、例えば図の例では蓋12と
収納本体11との間を密封するシール材さえ完璧であれば
全く問題無いが、 シール材の不良による空気の侵入 長時間放置による空気の侵入 等より問題が発生するおそれがある。ところがこの場
合、従来の技術では問題発生が外部から全く解らないと
いう問題がある。このため結局、問題が発生した場合製
品が完成してしまって初めて明らかになる。これは製品
不良につながるものである。 従って本考案は、上記した自然酸化膜発生の如き不都
合をもたらすおそれのある収納容器内の状態変化を外部
から知ることができ、よって製品完成前の工程中（イン
プロセス）で問題解決のための対処を行うことが可能
で、これにより製品不良をも低減できるようにした半導
体ウェハ容器を提供することが目的である。
てその上に自然酸化膜が形成されない条件で収納・保管
するアイデアが提案されている。 例えば図７に示すように、密封式の容器１に窒素Ｎ2
を充填した状態でウェハ10を収納し保存する手段であ
る。これによれば、密封状態、例えば図の例では蓋12と
収納本体11との間を密封するシール材さえ完璧であれば
全く問題無いが、 シール材の不良による空気の侵入 長時間放置による空気の侵入 等より問題が発生するおそれがある。ところがこの場
合、従来の技術では問題発生が外部から全く解らないと
いう問題がある。このため結局、問題が発生した場合製
品が完成してしまって初めて明らかになる。これは製品
不良につながるものである。 従って本考案は、上記した自然酸化膜発生の如き不都
合をもたらすおそれのある収納容器内の状態変化を外部
から知ることができ、よって製品完成前の工程中（イン
プロセス）で問題解決のための対処を行うことが可能
で、これにより製品不良をも低減できるようにした半導
体ウェハ容器を提供することが目的である。
上記目的を達成するめ、本考案においては、半導体基
体表面が一部露出した半導体ウェハをウェハ保持容器に
保持して収納する密封し得る半導体ウェハ収納容器にお
いて、該容器は製品完成前の工程中で半導体ウェハを保
持するものであり、該容器は前記半導体ウェハを保持す
る保持具を備え、かつ、半導体ウェハを保持している該
保持具を収納する収納本体と、密封のための蓋部とから
なるとともに、該容器には該容器内の水分、酸素、また
は容器内外の圧力差を検知する検知手段を設け、かつ該
容器を不活性なガスで充填し、常圧より加圧状態にし、
該検知手段の検知結果により容器内の状態をモニタ可能
に構成して製品完成前の工程中での対応を可能とした。 本考案において、モニタする半導体ウェハ収納容器内
の状態は、半導体ウェハを保管したり搬送等するために
半導体ウェハを収納する場合に半導体ウェハに影響を与
える各種のもののうち、水分、酸素、または容器内外の
圧力差であり、このうちいずれか２種、または３種でも
よい。 例えば、水分をモニタするために、容器内に湿度計
（湿度センサ）を設置することができる。湿度計を設け
ると、例えば容器内を乾燥Ｎ2で満たして収納容器とし
た場合など、密封不良等で外気が容器内に侵入したとき
に、これを水分（湿度）の上昇としてとらえることがで
きる。 併せて温度計（温度センサ）を設けて、温度をモニタ
するように構成することもできる。 容器内外の圧力差をモニタすべく、圧力計（圧力セン
サ）を設けた、容器内の圧力を検知する構成を採用する
こともできる。 本考案においては、容器を不活性なガスで充填し、常
圧より加圧状態にしておく。不活性なガスとは、窒素や
希ガスのように、ウェハに悪影響を与えない不活性なガ
スである。容器を常圧より加圧状態にすることにより、
外部からの空気や水分等の侵入を防止できる。また、密
封不良が生じた時には圧力が常圧に向かって低下するの
で、これを利用した検知も可能となる。 これにより、例えば、半導体ウェハを収納する際に容
器内にウェハに悪影響を与えない窒素等の不活性なガス
を常圧よりも高くして満たしておき、密封不良が生じた
時にはこの圧力が常圧に（またはそれに近い方向に）に
変化することを利用して、シール状態の適否を知ること
ができる。常圧より加圧状態にしておくと、取り出し時
等に密封を破ってパージする時に外気からのパーティク
ル侵入などのおそれが小さいので、取り扱い上も有利で
ある。 また、酸素を検知する検知手段を設けることができ
る。例えば、酸素、または水分の侵入があったとき、微
小の酸素や水分の存在をも検出できるセンサを設けて、
例えばこれらの存在を検知すれば警告を発し得るように
構成して、収納すべき半導体ウェハに対し悪影響を与え
るものの侵入をモニタするように構成できる。 検知結果は、検知手段の検知結果により、これをモニ
タ可能に構成する。例えば、容器に窓を設けて、検知手
段の検知結果を直接視認可能に構成できる。のぞき窓の
如く透明窓を設け、該窓の内部近傍に湿度計、温度計、
圧力計などを設置し（針式、またはデジタル式のものが
簡便）、外部からこの値を直視できるようにすれば、便
利である。 また、検知手段の検知結果を、例えば信号の形にして
これを外部に取り出して、その信号値を読み取るように
構成できる。更に、該信号値を制御手段に接続してお
き、不都合な値を示した時は警告を発するようにした
り、あるいは適宜の制御を自動的に行うように構成する
ことも可能である。
体表面が一部露出した半導体ウェハをウェハ保持容器に
保持して収納する密封し得る半導体ウェハ収納容器にお
いて、該容器は製品完成前の工程中で半導体ウェハを保
持するものであり、該容器は前記半導体ウェハを保持す
る保持具を備え、かつ、半導体ウェハを保持している該
保持具を収納する収納本体と、密封のための蓋部とから
なるとともに、該容器には該容器内の水分、酸素、また
は容器内外の圧力差を検知する検知手段を設け、かつ該
容器を不活性なガスで充填し、常圧より加圧状態にし、
該検知手段の検知結果により容器内の状態をモニタ可能
に構成して製品完成前の工程中での対応を可能とした。 本考案において、モニタする半導体ウェハ収納容器内
の状態は、半導体ウェハを保管したり搬送等するために
半導体ウェハを収納する場合に半導体ウェハに影響を与
える各種のもののうち、水分、酸素、または容器内外の
圧力差であり、このうちいずれか２種、または３種でも
よい。 例えば、水分をモニタするために、容器内に湿度計
（湿度センサ）を設置することができる。湿度計を設け
ると、例えば容器内を乾燥Ｎ2で満たして収納容器とし
た場合など、密封不良等で外気が容器内に侵入したとき
に、これを水分（湿度）の上昇としてとらえることがで
きる。 併せて温度計（温度センサ）を設けて、温度をモニタ
するように構成することもできる。 容器内外の圧力差をモニタすべく、圧力計（圧力セン
サ）を設けた、容器内の圧力を検知する構成を採用する
こともできる。 本考案においては、容器を不活性なガスで充填し、常
圧より加圧状態にしておく。不活性なガスとは、窒素や
希ガスのように、ウェハに悪影響を与えない不活性なガ
スである。容器を常圧より加圧状態にすることにより、
外部からの空気や水分等の侵入を防止できる。また、密
封不良が生じた時には圧力が常圧に向かって低下するの
で、これを利用した検知も可能となる。 これにより、例えば、半導体ウェハを収納する際に容
器内にウェハに悪影響を与えない窒素等の不活性なガス
を常圧よりも高くして満たしておき、密封不良が生じた
時にはこの圧力が常圧に（またはそれに近い方向に）に
変化することを利用して、シール状態の適否を知ること
ができる。常圧より加圧状態にしておくと、取り出し時
等に密封を破ってパージする時に外気からのパーティク
ル侵入などのおそれが小さいので、取り扱い上も有利で
ある。 また、酸素を検知する検知手段を設けることができ
る。例えば、酸素、または水分の侵入があったとき、微
小の酸素や水分の存在をも検出できるセンサを設けて、
例えばこれらの存在を検知すれば警告を発し得るように
構成して、収納すべき半導体ウェハに対し悪影響を与え
るものの侵入をモニタするように構成できる。 検知結果は、検知手段の検知結果により、これをモニ
タ可能に構成する。例えば、容器に窓を設けて、検知手
段の検知結果を直接視認可能に構成できる。のぞき窓の
如く透明窓を設け、該窓の内部近傍に湿度計、温度計、
圧力計などを設置し（針式、またはデジタル式のものが
簡便）、外部からこの値を直視できるようにすれば、便
利である。 また、検知手段の検知結果を、例えば信号の形にして
これを外部に取り出して、その信号値を読み取るように
構成できる。更に、該信号値を制御手段に接続してお
き、不都合な値を示した時は警告を発するようにした
り、あるいは適宜の制御を自動的に行うように構成する
ことも可能である。
本考案によれば、半導体ウェハ収納容器内の水分、酸
素、または容器内外の圧力差を検知してモニタできるの
で、例えば、湿度モニタにより容器内への水分の侵入を
知ることができ、圧力モニタにより密封不良を検出する
ことができ、また酸素の侵入を知ることができる。これ
らは、密封容器にとって不都合な状態であり、本考案に
よれば、このような不都合な状態を簡便に知ることがで
きる。しかもこれは容器を開けることなく知ることが可
能である。これにより製品完成前の工程中での対応を可
能とした。この結果、半導体ウェハに悪影響を与える状
態、例えばSiウェハの場合Si表面に自然酸化膜をつくる
酸素や水分の侵入が検知可能となり、この結果、製品の
不良を減少することができる。 また本考案では、容器を不活性なガスで充填するの
で、半導体ウェハに悪影響を与えないで、ウェハを収納
できる。かつ、容器内は常圧より加圧状態にするので、
上記したように、外部からの空気や水分等の侵入を防止
でき、また、取り出し時等における取り扱い上の有利さ
もある。 また本考案によれば、半導体ウェハ収納容器は、半導
体ウェハを保持する保持具を備え、かつ、半導体ウェハ
を保持している該保持具を収納する収納本体と、密封の
ための蓋部とからなるので、内蔵する半導体ウェハを適
正に保持しつつ、しかも密封性の良い収納を実現でき
る。
素、または容器内外の圧力差を検知してモニタできるの
で、例えば、湿度モニタにより容器内への水分の侵入を
知ることができ、圧力モニタにより密封不良を検出する
ことができ、また酸素の侵入を知ることができる。これ
らは、密封容器にとって不都合な状態であり、本考案に
よれば、このような不都合な状態を簡便に知ることがで
きる。しかもこれは容器を開けることなく知ることが可
能である。これにより製品完成前の工程中での対応を可
能とした。この結果、半導体ウェハに悪影響を与える状
態、例えばSiウェハの場合Si表面に自然酸化膜をつくる
酸素や水分の侵入が検知可能となり、この結果、製品の
不良を減少することができる。 また本考案では、容器を不活性なガスで充填するの
で、半導体ウェハに悪影響を与えないで、ウェハを収納
できる。かつ、容器内は常圧より加圧状態にするので、
上記したように、外部からの空気や水分等の侵入を防止
でき、また、取り出し時等における取り扱い上の有利さ
もある。 また本考案によれば、半導体ウェハ収納容器は、半導
体ウェハを保持する保持具を備え、かつ、半導体ウェハ
を保持している該保持具を収納する収納本体と、密封の
ための蓋部とからなるので、内蔵する半導体ウェハを適
正に保持しつつ、しかも密封性の良い収納を実現でき
る。
以下本考案の実施例について、図面を参照して説明す
る。なお当然のことではあるが、本考案は以下述べる実
施例に限定されるものではない。 実施例−１ 本実施例は、本考案をSi半導体ウェハの収納容器に具
体化したものであって、前記した問題の発生をインプロ
セスで検出し、適切な後処理の対応を可能にするもので
ある。この実施例の収納容器は、ウェハを保存する保管
用に用いることができ、あるいはウェハ搬送用のキャリ
アボックスとして用いることができる。 本実施例の収納容器１を図１に示す。この容器１は、
半導体ウェハを収納するもので、半導体ウェハを保持す
る保持具を備え、かつ、半導体ウェハを保持している該
保持具を収納する収納本体11と、密封のための蓋12とか
らなる。半導体ウェハの保持は、例えば収納容器の一般
的構成を示した図７に図示するように、複数の半導体ウ
ェハ10を並置して保持具により保持させる構成にするこ
とができる。収納本体11は箱型をなし、蓋12はこの収納
本体11の上面にかぶせるようになっていて、両者11,12
間はシールされて、密封容器となっている。 本実施例における検知手段21は湿度計である。これに
より容器内の状態量として湿度を検知する。検知手段21
である湿度計は本例では蓋12の内側に設置してある。用
いる湿度計は電子式で信号を外部に取り出す形式のもの
でもよく、あるいは針式のデジタル式のように直接読み
取る形式のものでもよい。 直接読み取る形式のものの場合、例えば図２に示すよ
うに窓３を設けて、この窓３を通して検知手段21である
湿度計を読み取るように構成すると便利である。なお図
は針式で示したがこれに限定されるわけではない。 本実施例の収納容器１は、例えばＮ2等の不活性ガス
（水分や酸素を含まないもの）を充填して、この雰囲気
中にウェハを収納する。このとき、容器１内は常に常圧
より加圧状態にする。 この容器１によれば、万一容器内の湿度が不都合を生
ぜしめる程になっても、検知手段21でモニタできるの
で、容器を開ける必要なく外部からこれを知ることがで
き、直ちに適切な対処を行える。また、シール材の不良
等により外気が侵入した場合も、これを湿度の上昇とし
てとらえることが可能となる。 本実施例はこのように、密封式で、内部を不活性なガ
ス、例えば水分や酸素を含まないＮ2等で充填し、かつ
内部を常圧より加圧状態にして、インプロセスにおいて
ウェハ保管（または搬送等）を行う容器において、容器
１内に検知手段21として湿度計を具備し、外部より容器
内部の湿度をモニタできるようにしたので、例えば、Si
表面へ自然酸化膜を形成する水分の侵入等を、容器を開
けることなく検出できる。 なお図示例では、蓋12と収納本体11とのシール部は、
各々に外方に張出したつば（フランジ）を設けて両者を
密着させ、この間に例えばパッキング等のシール材を介
装するようにして達成できる。シール部は、Ｏリングを
用いる形式にしてもよい。 また、図３のように、本体11の上部の回りに蓋12をか
ぶせる形式として、該上部でシールする態様にしてもよ
い。 また、図４のように容器１を密閉して、のぞき窓３を
設ける形式でもよい。また図５の如く、該のぞき窓３か
らモニタ手段４で、検知した状態値をモニタできる構成
にすることもできる。 実施例−２ 本実施例では、図６に示すように、密封式で内部にＮ
2充填可能な容器１内に検知手段22として圧力計を設置
し、容器外部より視認可能な構造とした。但し勿論、信
号取り出し方式にして制御部等へ送る形式でもよい。 本実施例にあっては、この構造の容器１内にＮ2を充
填する際、外気圧即ち大気圧より高い圧力にてＮ2を充
填する。この結果、シール材に不良が発生する等の原因
で密封性が悪くなると、これを圧力の低下としてとらえ
ることが可能となり、よって適切な後処理を追加するこ
とが可能となる。 容器内を加圧状態にしたので、ウェハ収納中の外気侵
入のおそれも小さく、密封を破ったときも、外部からの
パーティクル等汚染源の侵入を防止できる。 本実施例の収納容器はこのように、状態量の検知手段
22として外部よりモニタ可能な圧力計を具備し、ウェハ
収納時には容器内部に水分を含まないガス（例えば
Ｎ2）を大気圧より高い圧力にて充填したので、容器１
のシール材不良等の密封不良が検出可能となり、速やか
な対処を可能として、製品の不良を減少することができ
る。 なお、本例における容器１のその他の具体的な構造に
ついては、実施例−１で述べた各種態様を任意に採用す
ることができる。
る。なお当然のことではあるが、本考案は以下述べる実
施例に限定されるものではない。 実施例−１ 本実施例は、本考案をSi半導体ウェハの収納容器に具
体化したものであって、前記した問題の発生をインプロ
セスで検出し、適切な後処理の対応を可能にするもので
ある。この実施例の収納容器は、ウェハを保存する保管
用に用いることができ、あるいはウェハ搬送用のキャリ
アボックスとして用いることができる。 本実施例の収納容器１を図１に示す。この容器１は、
半導体ウェハを収納するもので、半導体ウェハを保持す
る保持具を備え、かつ、半導体ウェハを保持している該
保持具を収納する収納本体11と、密封のための蓋12とか
らなる。半導体ウェハの保持は、例えば収納容器の一般
的構成を示した図７に図示するように、複数の半導体ウ
ェハ10を並置して保持具により保持させる構成にするこ
とができる。収納本体11は箱型をなし、蓋12はこの収納
本体11の上面にかぶせるようになっていて、両者11,12
間はシールされて、密封容器となっている。 本実施例における検知手段21は湿度計である。これに
より容器内の状態量として湿度を検知する。検知手段21
である湿度計は本例では蓋12の内側に設置してある。用
いる湿度計は電子式で信号を外部に取り出す形式のもの
でもよく、あるいは針式のデジタル式のように直接読み
取る形式のものでもよい。 直接読み取る形式のものの場合、例えば図２に示すよ
うに窓３を設けて、この窓３を通して検知手段21である
湿度計を読み取るように構成すると便利である。なお図
は針式で示したがこれに限定されるわけではない。 本実施例の収納容器１は、例えばＮ2等の不活性ガス
（水分や酸素を含まないもの）を充填して、この雰囲気
中にウェハを収納する。このとき、容器１内は常に常圧
より加圧状態にする。 この容器１によれば、万一容器内の湿度が不都合を生
ぜしめる程になっても、検知手段21でモニタできるの
で、容器を開ける必要なく外部からこれを知ることがで
き、直ちに適切な対処を行える。また、シール材の不良
等により外気が侵入した場合も、これを湿度の上昇とし
てとらえることが可能となる。 本実施例はこのように、密封式で、内部を不活性なガ
ス、例えば水分や酸素を含まないＮ2等で充填し、かつ
内部を常圧より加圧状態にして、インプロセスにおいて
ウェハ保管（または搬送等）を行う容器において、容器
１内に検知手段21として湿度計を具備し、外部より容器
内部の湿度をモニタできるようにしたので、例えば、Si
表面へ自然酸化膜を形成する水分の侵入等を、容器を開
けることなく検出できる。 なお図示例では、蓋12と収納本体11とのシール部は、
各々に外方に張出したつば（フランジ）を設けて両者を
密着させ、この間に例えばパッキング等のシール材を介
装するようにして達成できる。シール部は、Ｏリングを
用いる形式にしてもよい。 また、図３のように、本体11の上部の回りに蓋12をか
ぶせる形式として、該上部でシールする態様にしてもよ
い。 また、図４のように容器１を密閉して、のぞき窓３を
設ける形式でもよい。また図５の如く、該のぞき窓３か
らモニタ手段４で、検知した状態値をモニタできる構成
にすることもできる。 実施例−２ 本実施例では、図６に示すように、密封式で内部にＮ
2充填可能な容器１内に検知手段22として圧力計を設置
し、容器外部より視認可能な構造とした。但し勿論、信
号取り出し方式にして制御部等へ送る形式でもよい。 本実施例にあっては、この構造の容器１内にＮ2を充
填する際、外気圧即ち大気圧より高い圧力にてＮ2を充
填する。この結果、シール材に不良が発生する等の原因
で密封性が悪くなると、これを圧力の低下としてとらえ
ることが可能となり、よって適切な後処理を追加するこ
とが可能となる。 容器内を加圧状態にしたので、ウェハ収納中の外気侵
入のおそれも小さく、密封を破ったときも、外部からの
パーティクル等汚染源の侵入を防止できる。 本実施例の収納容器はこのように、状態量の検知手段
22として外部よりモニタ可能な圧力計を具備し、ウェハ
収納時には容器内部に水分を含まないガス（例えば
Ｎ2）を大気圧より高い圧力にて充填したので、容器１
のシール材不良等の密封不良が検出可能となり、速やか
な対処を可能として、製品の不良を減少することができ
る。 なお、本例における容器１のその他の具体的な構造に
ついては、実施例−１で述べた各種態様を任意に採用す
ることができる。
上述のように本考案によれば、半導体ウェハを製品完
成前の工程中で所持収納するとともに、収納した半導体
ウェハに不都合をもたらすおそれのある収納容器内の状
態を知るため、該容器内の水分、酸素、または容器内外
の圧力差を検知してこれを外部から知ることができ、よ
って製品完成前の工程中（インプロセス）で問題解決の
ための対処を行うことが可能で、これにより製品不良を
も低減することができるという効果が得られる。更に本
考案によれば、内蔵する半導体ウェハを適正に保持しつ
つ、しかも密封性の良い収納を実現できるという効果が
得られる。
成前の工程中で所持収納するとともに、収納した半導体
ウェハに不都合をもたらすおそれのある収納容器内の状
態を知るため、該容器内の水分、酸素、または容器内外
の圧力差を検知してこれを外部から知ることができ、よ
って製品完成前の工程中（インプロセス）で問題解決の
ための対処を行うことが可能で、これにより製品不良を
も低減することができるという効果が得られる。更に本
考案によれば、内蔵する半導体ウェハを適正に保持しつ
つ、しかも密封性の良い収納を実現できるという効果が
得られる。
【図１】実施例−１の断面図である。
【図２】実施例−１の斜視図である。
【図３】実施例−１の変形例を示す図である。
【図４】実施例−１の変形例を示す図である。
【図５】実施例−１の変形例を示す図である。
【図６】実施例−２の断面図である。
【図７】半導体ウェハ収納容器の一般的構成を示す断面
図である。
図である。
【図８】従来技術の問題点を示す図である。
１……容器 21……検知手段（湿度計） 22……検知手段（圧力計）
Claims (1)
- 【請求項１】半導体基体表面が一部露出した半導体ウェ
ハをウェハ保持容器に保持して収納する密封された半導
体ウェハ収納容器において、 該容器は製品完成前の工程中で半導体ウェハを保持する
ものであり、 該容器は前記半導体ウェハを保持する保持具を備え、か
つ、半導体ウェハを保持している該保持具を収納する収
納本体と、密封のための蓋部とからなるとともに、 該容器には該容器内の水分、酸素、または容器内外の圧
力差を検知する検知手段を設け、かつ該容器を不活性な
ガスで充填し、常圧より加圧状態にし、該検知手段の検
知結果により容器内の状態をモニタ可能に構成して製品
完成前の工程中での対応を可能とした半導体ウェハ収納
容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990113615U JP2573205Y2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | 半導体ウェハ収納容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1990113615U JP2573205Y2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | 半導体ウェハ収納容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0470748U JPH0470748U (ja) | 1992-06-23 |
| JP2573205Y2 true JP2573205Y2 (ja) | 1998-05-28 |
Family
ID=31861221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1990113615U Expired - Lifetime JP2573205Y2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | 半導体ウェハ収納容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2573205Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6901971B2 (en) * | 2001-01-10 | 2005-06-07 | Entegris, Inc. | Transportable container including an internal environment monitor |
| US6603318B2 (en) * | 2001-02-22 | 2003-08-05 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method of determining when electrode pads are unsuitable for use by detecting relative humidity |
| JP4512505B2 (ja) * | 2005-02-25 | 2010-07-28 | 株式会社住化分析センター | 基板搬送容器内空間の汚染状態の評価方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58203866A (ja) * | 1982-05-24 | 1983-11-28 | フロイント産業株式会社 | 乾燥保存容器 |
| JPS5997300A (ja) * | 1982-11-27 | 1984-06-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 振動センサ製造装置 |
-
1990
- 1990-10-30 JP JP1990113615U patent/JP2573205Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0470748U (ja) | 1992-06-23 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |