JP2572224B2 - Improved offset printing plate material - Google Patents

Improved offset printing plate material

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JP2572224B2
JP2572224B2 JP9196487A JP9196487A JP2572224B2 JP 2572224 B2 JP2572224 B2 JP 2572224B2 JP 9196487 A JP9196487 A JP 9196487A JP 9196487 A JP9196487 A JP 9196487A JP 2572224 B2 JP2572224 B2 JP 2572224B2
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Japan
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sulfonic acid
offset printing
acid group
printing plate
sulfonation
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穣二 井畑
泰樹 島村
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は表面にスルホン酸基を有する耐刷力の優れた
オフセット印刷用版材に関するものである。さらに詳し
く言えば、低出力の可視及び近赤外領域のレーザー光の
みならず、感熱印字装置等のサーマルヘッドにも感応
し、現像および定着処理を必要としないオフセット印刷
用版材であって耐刷力の優れたものに関する。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an offset printing plate material having a sulfonic acid group on its surface and excellent in printing durability. More specifically, it is an offset printing plate material that is sensitive not only to low-output laser light in the visible and near-infrared regions but also to a thermal head such as a thermal printing device and does not require development and fixing. For those with excellent printing power.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、オフセット印刷に用いられる印刷版を得る方法
には、(1)所謂PS版法、(2)シルバーマスター方式
に代表される銀塩写真法、(3)エレクトロファックス
方式に代表される電子写真法等が既に開発され、商品化
されている。
Conventionally, a method of obtaining a printing plate used for offset printing includes (1) a so-called PS plate method, (2) a silver salt photographic method represented by a silver master method, and (3) an electrophotograph represented by an electrofax method. Laws and the like have already been developed and commercialized.

しかしながら、これらの方法は、露光により潜像を形
成し現像、定着処理を行った後、印刷版を得るという工
程を必要とし、その製版工程が繁雑である他、製版機自
体が大きくなり、且つ、現像液の取り扱いに手を汚す等
の問題点があった。
However, these methods require a step of obtaining a printing plate after forming a latent image by exposure, developing and fixing, and the plate making process is complicated, and the plate making machine itself becomes large, and In addition, there are problems such as soiling of hands in handling the developer.

そこで、本発明者らは上記問題点を解決すべく鋭意研
究を重ねた結果、現像、定着等の処理工程の不要なオフ
セット印刷用版の製造方法を発明し、先に特許出願した
(特開昭60−102632号、特開昭60−132760号参照)。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, have invented a method of manufacturing an offset printing plate that does not require processing steps such as development and fixing, and have previously filed a patent application ( See Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-102632 and Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-132760).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかし、それらの印刷用版材にも、高エネルギー密度
の光エネルギーを必要としたため、実用的には、例えば
数百ワットのキセノンフラッシュランプまたは数ワット
以上の出力を有するレーザー発振機を装着しなければな
らないと言う改善すべき点があった。
However, since these printing plates also require high energy density of light energy, practically, for example, a xenon flash lamp of several hundred watts or a laser oscillator having an output of several watts or more must be installed. There was a point that needed to be improved.

本発明は、先の親水性スルホン酸基を有するオフセッ
ト印刷用版材の製版性を大幅に改良し、さらに耐刷力を
も改良したものたものであって、例えば出力10ミリワッ
トHe−Neレーザー、ワードプロセッサのような簡単でコ
ンパクトな感熱プリンター、あるいは感熱ファクシミリ
等を用いて印字操作を行う事により、簡便にオフセット
印刷版を得ることが出来るのみならず耐刷力の優れた版
材を提供することを目的とするものである。
The present invention significantly improves the plate-making properties of the offset printing plate material having the hydrophilic sulfonic acid group, and further improves the printing durability, for example, a 10-mW output He-Ne laser. By performing printing operations using a simple and compact thermal printer such as a word processor, or a thermal facsimile, etc., it is possible to easily obtain an offset printing plate and to provide a plate material having excellent printing durability. The purpose is to do so.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

すなわち、本発明はスルホン化反応により、その表面
にスルホン酸基を付与された、分子内に極性基を有する
オレフィン系高分子化合物のフィルムまたはシートであ
って、該表面の赤外吸収スペクトルにおいて、波数1200
付近のスルホン酸基に帰属される強いバンドの吸光度と
波数1050付近のスルホン酸基に帰属されるバンドの吸光
度との比が少なくとも0.6である事を特徴とするオフセ
ット印刷用版材を提供するものである。
That is, the present invention is a film or sheet of an olefin polymer compound having a polar group in the molecule, the surface of which is provided with a sulfonic acid group by a sulfonation reaction, and an infrared absorption spectrum of the surface, Wave number 1200
A plate for offset printing, characterized in that the ratio between the absorbance of a strong band attributed to a nearby sulfonic acid group and the absorbance of a band assigned to a sulfonic acid group near a wave number of 1050 is at least 0.6. It is.

前記の極性基を有する高分子化合物としては、例えば
アクリルニトリル、メタアクリルニトリル等のニトリル
基、エチルアクリレート、メチルメタアクリレート等の
エステル基、酢酸ビニル等のアセテート基等を有するオ
レフィン化合物等の中から選ばれた一種または二種以上
の単量体を重合するか又は他の単量体、例えばエチレ
ン、プロピレン、ブテン−1、ヘキセン−1等の少なく
とも一種と共重合することにより得られたものを主材と
するもので、好ましくは吸水率2.0%以下のものであ
る。一般に、ビニルスルホン酸基の重合体または共重合
体のごとく、本来スルホン酸基を有する高分子化合物、
またはこれらの高分子化合物を他の基布に塗布したもの
は、吸水率が大きいため寸法安定性が低下すること、文
字が変形し易い等の理由により印刷用版材としては適さ
ないから除かれる。ここで言う吸水率とは、20℃の温度
で24時間、水中に浸漬した時の重量増加率の事である。
Examples of the high molecular compound having a polar group include, for example, acrylonitrile, nitrile groups such as methacrylonitrile, ethyl acrylate, ester groups such as methyl methacrylate, olefin compounds having an acetate group such as vinyl acetate, and the like. One obtained by polymerizing one or more selected monomers or copolymerizing with at least one other monomer such as ethylene, propylene, butene-1, hexene-1, etc. It is the main material, and preferably has a water absorption of 2.0% or less. In general, like a polymer or a copolymer of a vinyl sulfonic acid group, a polymer compound originally having a sulfonic acid group,
Alternatively, those obtained by applying these polymer compounds to other base cloths are excluded because they are not suitable as printing plates due to the fact that the dimensional stability is reduced due to the large water absorption, and the characters are easily deformed. . The water absorption here refers to the rate of weight increase when immersed in water at a temperature of 20 ° C. for 24 hours.

同様に吸水率が2.0%以上の高分子化合物の場合に
は、スルホン化して得られら印刷版の寸法安定性が低い
ため適当でない。
Similarly, a polymer compound having a water absorption of 2.0% or more is not suitable because the dimensional stability of a printing plate obtained by sulfonation is low.

これらの分子内に極性基を有するオレフィン系高分子
化合物はフィルムまたはシートを他の基材、例えば紙、
ガラスクロス、ガラスペーパー、アルミニウム板等と貼
り合わせ複合材として用いてもよい。
These olefin polymer compounds having a polar group in the molecule can be used as a film or sheet for other substrates, such as paper,
It may be used as a composite material bonded to glass cloth, glass paper, an aluminum plate, or the like.

スルホン化の方法については特に制限はなく、例えば
前記フィルムまたはシートを発煙硫酸中に浸漬してもよ
いし、また無水硫酸をそのままか、あるいはクロロホル
ム、四塩化炭素、二塩化エチレン等の無水硫酸に対して
比較的活性の少ない有機溶剤で希釈して用いても良い。
There is no particular limitation on the method of sulfonation.For example, the film or sheet may be immersed in fuming sulfuric acid, or sulfuric anhydride may be used as it is or in chloroform, carbon tetrachloride, sulfuric anhydride such as ethylene dichloride, etc. On the other hand, it may be diluted with an organic solvent having relatively low activity.

スルホン化の条件は使用される高分子の種類によって
異なるが、無水硫酸等の酸化型のスルホン化剤を用いて
反応を行うことにより、赤外吸収スペクトルにおいて波
数1200付近に強いバンドを有する構造のものを得ること
が出来る。このバンドは、少なくとも、3ケの共役二重
結合を有するポリエン構造に隣接したスルホン酸基が生
成した事を示し、該スルホン酸基が感光性または、及び
感熱性を示すことを見いだして本発明を完成した。
Sulfonation conditions vary depending on the type of polymer used, but by performing the reaction using an oxidized sulfonating agent such as sulfuric anhydride, a structure having a strong band at a wave number of around 1200 in the infrared absorption spectrum is obtained. You can get things. This band indicates that at least a sulfonic acid group adjacent to a polyene structure having three conjugated double bonds has been formed, and it has been found that the sulfonic acid group exhibits photosensitivity or heat sensitivity. Was completed.

即ち、該スルホン酸基の量が、波数1050に帰属される
一般のスルホン酸基の量に較べて、吸光度比で0.6以上
である時に本発明になる感光性または、及び感熱性の優
れたオフセット印刷用版材を与える。そのような本発明
の優れた印刷用版材を得るためには、酸化型のスルホン
化剤を使用する場合、スルホン化温度及び時間を適当に
選ぶことにより得ることができる。
That is, the amount of the sulfonic acid group, compared with the amount of the general sulfonic acid group attributed to the wave number 1050, when the absorbance ratio is 0.6 or more according to the present invention, or offset excellent in heat sensitivity and heat sensitivity. Give a printing plate. In order to obtain such an excellent printing plate material of the present invention, when an oxidized sulfonating agent is used, it can be obtained by appropriately selecting the sulfonating temperature and time.

すなわち、ポリエン構造に隣接したスルホン酸基の生
成の比率を高くするためにはスルホン化温度を低温に持
っていくことが望ましい傾向にあり、反応温度は通常−
30〜70℃、好ましくは0〜40℃がよい。スルホン化温度
が70℃以上では各種の副反応が起きやすくなるため除か
れる。一方、−30℃以下では、ポリエンに隣接したスル
ホン酸基の生成速度が遅く経済的に好ましくないこと、
及びスルホン化剤として無水硫酸をガス状で使用する場
合に該ガスが導入管壁に液化して付着するため工程異常
を起こしやすいこと等により好ましくないため除かれ
る。
That is, in order to increase the ratio of the formation of sulfonic acid groups adjacent to the polyene structure, it is desirable to lower the sulfonation temperature, and the reaction temperature is usually −
30-70 ° C, preferably 0-40 ° C. If the sulfonation temperature is 70 ° C. or higher, various side reactions are likely to occur, and are excluded. On the other hand, below -30 ° C., the rate of formation of sulfonic acid groups adjacent to the polyene is low, which is economically undesirable
In addition, when sulfuric anhydride is used in a gaseous state as a sulfonating agent, the gas is liquefied and adheres to the wall of the inlet tube, which is liable to cause a process abnormality.

一方スルホン化時間は温度によって選択する必要があ
り、例えば0℃において5〜60分、40℃において1〜30
分が好ましい範囲である。
On the other hand, the sulfonation time must be selected depending on the temperature, for example, 5 to 60 minutes at 0 ° C. and 1 to 30 at 40 ° C.
Minutes is a preferred range.

なお、一般に工業的に使用されている酸化性の低い他
のスルホン化剤、例えばクロルスルホン酸、リン酸スル
ホン酸、無水硫酸とジメチルホルムアミドまたはジオキ
サン等との付加物等では、ポリエン構造に隣接したスル
ホン酸基の生成に較べ一般のスルホン酸基の生成量の方
が勝るため吸光度比を0.6以上にするのが難しく、特別
の工夫が必要となる。
In addition, other oxidizing low sulfonating agents generally used industrially, such as chlorosulfonic acid, phosphoric sulfonic acid, adducts of sulfuric anhydride with dimethylformamide or dioxane, etc., are adjacent to the polyene structure. Since the production amount of general sulfonic acid groups is superior to the production of sulfonic acid groups, it is difficult to increase the absorbance ratio to 0.6 or more, and special measures are required.

スルホン化量が交換当量にして5×10-5〜1×10-1
リ当量/cm2の時、オフセット印刷版において非画像部を
形成するに必要な親水性を与え、一般にスルホン化反応
の進行に伴ってスルホン化量が増大し親水性も同様に向
上するが、該吸光度の比は必ずしもスルホン化量と直線
的ではないから、各々の高分子についてそれぞれ最適の
条件を選定しなければならない。尚、スルホン化量は次
のようにして求める。即ち、表面をスルホン化したフィ
ルム(表面積M cm2)を1規定の塩化カルシウム水溶液
に浸漬して平衡状態とし、その水溶液中に生じた塩化水
素を、0.1規定の水酸化ナトリウム水溶液(力価:f)で
滴定して、指示薬フェノールフタレインによる中和値
(Xcc)を求め、次式で算出する。
When the amount of sulfonation is 5 × 10 -5 to 1 × 10 -1 meq / cm 2 in exchange equivalent, it gives hydrophilicity necessary for forming a non-image portion in an offset printing plate, and generally, As the amount of sulfonation increases with the progress, the hydrophilicity also improves, but the ratio of the absorbance is not always linear with the amount of sulfonation, so the optimal conditions must be selected for each polymer. . The amount of sulfonation is determined as follows. That is, a film having a sulfonated surface (surface area M cm 2 ) is immersed in a 1N aqueous solution of calcium chloride to make an equilibrium state, and hydrogen chloride generated in the aqueous solution is converted into a 0.1N aqueous solution of sodium hydroxide (titer: Determine the neutralization value (Xcc) with the indicator phenolphthalein by titration in f) and calculate with the following formula.

スルホン化量(ミリ当量/cm2) =(0.1×f×x)/M 本発明でいう吸光度比は、赤外吸収スペクトルの解析
において一般に採用されているベースライン法を用いて
求める。即ち、スルホン酸基に帰属される波数1050及び
1170付近の強いバンドと、本発明で規定される波数1200
付近の強いバンドに共通なベースラインを基準にして該
当するバンドの吸光度の比を求める。尚、スルホン化物
の赤外吸収スペクトルは反射法(ATR法)によって測定
することが出来る。感光性のない一般のスルホン酸基は
通常波数1050付近及び波数1170付近に特徴的な2本の強
いバンドを示す事が知られているが、さらに波数1200付
近、好ましくは波数1200〜1230付近に同程度の強いバン
ドを示す感光性のスルホン酸基を有する前記のスルホン
化物であって、波数1200付近の感光性スルホン酸基に帰
属されるバンドの吸光度と、波数1050付近のスルホン酸
基に帰属されるバンドの吸光度との比が0.6以上の時、
本発明の目的とする高感度に改良されたオフセット印刷
用版材を供える。吸光度比2.3以上のものを得ることは
一般に困難であり、汎用されているサーマルヘッドを用
いて製版するに必要な感度を有するスルホン化物の吸光
度は、好ましくは1.1〜1.8である。
Sulfonation amount (milli-equivalent / cm 2 ) = (0.1 × f × x) / M The absorbance ratio referred to in the present invention is determined by using a baseline method generally adopted in the analysis of infrared absorption spectrum. That is, the wave number 1050 and attributed to the sulfonic acid group
Strong band around 1170 and wave number 1200 specified by the present invention
The ratio of the absorbance of the corresponding band is determined based on the baseline common to the nearby strong bands. The infrared absorption spectrum of the sulfonated compound can be measured by a reflection method (ATR method). It is known that non-photosensitive general sulfonic acid groups usually show two strong bands characteristic around the wave number of around 1050 and around the wave number of 1170, but further around the wave number of around 1200, preferably around the wave number of around 1200 to 1230. Said sulfonate having a photosensitive sulfonic acid group showing a similar strong band, the absorbance of the band attributed to the photosensitive sulfonic acid group near the wave number 1200, the sulfonic acid group near the wave number 1050 When the ratio with the absorbance of the band to be performed is 0.6 or more,
An object of the present invention is to provide a high-sensitivity and improved printing plate material for offset printing. It is generally difficult to obtain one having an absorbance ratio of 2.3 or more, and the absorbance of a sulfonate having the sensitivity required for plate making using a widely used thermal head is preferably 1.1 to 1.8.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例で本発明を詳しく説明するが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 エチレンとアクリル酸エチルの共重合体よりなるフィ
ルム(重合開始時のアクリル酸エチル含有率6.5モル
%、厚さ約150μ、吸水率1.5%)を乾燥したガラス容器
内にセットし、内温が0〜5℃になるように外部から冷
却した。一方、無水硫酸の入ったガス発生器に、外部か
ら乾燥した窒素ガスを導入することにより得られる無水
硫酸ガスを0〜5℃になるように外部から冷却して、前
記の反応容器に導入しながら約25分間反応を行った。反
応終了後、該フィルムを容器から取り出し、水洗した後
乾燥した。
Example 1 A film made of a copolymer of ethylene and ethyl acrylate (ethyl acrylate content at the start of polymerization: 6.5 mol%, thickness: about 150 μ, water absorption: 1.5%) was set in a dry glass container. It was externally cooled so that the temperature was 0 to 5 ° C. On the other hand, sulfuric anhydride gas obtained by introducing dry nitrogen gas from the outside to the gas generator containing sulfuric anhydride is cooled from the outside so that the temperature becomes 0 to 5 ° C., and introduced into the reaction vessel. The reaction was performed for about 25 minutes. After the reaction was completed, the film was taken out of the container, washed with water and dried.

このフィルムのスルホン化量は5.2×10-3ミリ当量/cm
2、赤外吸収スペクトルの吸光度比は1.7であった。
The sulfonation amount of this film is 5.2 × 10 -3 meq / cm
2. The absorbance ratio of the infrared absorption spectrum was 1.7.

前記のフィルムをワードプロセッサ(シャープ社製;
「書院」 、型式WD−300F)を用いてサーマルヘッドで
印字した。
 The above film was converted to a word processor (Sharp;
"Shoin" , Model WD-300F) with a thermal head
Printed.

このようにして作製した版を、オフセット印刷機に取
り付けて10,000枚の印刷を行ったところ、鮮明な文字の
印刷物を得た。
The plate prepared in this manner was mounted on an offset printing machine and printing was performed on 10,000 sheets. As a result, a printed matter with clear characters was obtained.

実施例2 市販されているポリアクリロニトリルシート(三井東
圧化学社製)ゼクロン、吸水率0.7%)を無水硫酸約15
%を含有したエチレンジクロライド溶液中に0℃にて約
30時間浸漬してスルホン化反応を行いスルホン化量5.1
×10-4ミリ当量/cm2、吸光度比は1.1のフィルムを得
た。次いでこのフィルムを回転ロールに貼り付け、ヤグ
レーザー(NEC;SL129,出力50mw)より発振されるビーム
径を40μに集光し、ロールの周速度を200cm/secに設定
して照射した後、実施例1と同様にオフセット印刷を1
0,000枚行った。画線の幅は約42μで太り現象はなく鮮
明なものであった。
Example 2 A commercially available polyacrylonitrile sheet (Zeklon, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc., water absorption 0.7%) was treated with about 15% sulfuric anhydride.
% In an ethylene dichloride solution containing
Sulfonation reaction by immersion for 30 hours and sulfonation amount 5.1
A film having × 10 −4 meq / cm 2 and an absorbance ratio of 1.1 was obtained. Next, this film was affixed to a rotating roll, the beam diameter oscillated by a yag laser (NEC; SL129, output 50mw) was focused to 40μ, and the roll was set at a peripheral speed of 200cm / sec and irradiated. Offset printing 1 as in Example 1
I went to 0,000 sheets. The width of the image was about 42μ, and there was no fattening phenomenon and it was clear.

実施例3 エチレン、酢酸ビニル共重合体(重合時のモノマー
比;95:5、密度0.93)よりなる厚さ150μのシート(吸水
率1.8%)を実施例1の方法に従って30℃にて15分間ス
ルホン化反応を行った。スルホン化度は2.3×10-3ミリ
当量/cm2、吸光度比は1.2であった。
Example 3 A 150 μm thick sheet (1.8% water absorption) made of an ethylene-vinyl acetate copolymer (monomer ratio at the time of polymerization; 95: 5, density 0.93) was subjected to the method of Example 1 at 30 ° C. for 15 minutes. A sulfonation reaction was performed. The degree of sulfonation was 2.3 × 10 −3 meq / cm 2 , and the absorbance ratio was 1.2.

このフィルムを実施例1と同様にワードプロセッサを
用いて印字し、オフセット印刷機にセットして10,000枚
の印刷を行ったところ、鮮明な印刷物が得られ地汚れの
発生が見られなかった。
This film was printed using a word processor in the same manner as in Example 1, and was set on an offset printing machine to print 10,000 sheets. As a result, clear printed matter was obtained and no generation of background stain was observed.

比較例1 エチレンとアクリル酸エチルの共重合体よりなるフィ
ルム(実施例1で使用したもの)を実施例1の方法に従
って60℃にて10分間スルホン化反応を行った。反応を終
了した後十分に水洗して、風乾した。このフィルムのス
ルホン化量は3.6×10-3ミリ当量/cm2、吸光度比は0.5で
あった。
Comparative Example 1 A film made of a copolymer of ethylene and ethyl acrylate (used in Example 1) was subjected to a sulfonation reaction at 60 ° C. for 10 minutes according to the method of Example 1. After completion of the reaction, the reaction solution was sufficiently washed with water and air-dried. The sulfonated amount of this film was 3.6 × 10 −3 meq / cm 2 , and the absorbance ratio was 0.5.

次いで、このフィルムを実施例1と同様の方法でワー
ドプロセッサを用いて印字し、オフセット印刷を行った
が文字の形成は不十分であった。
Next, this film was printed using a word processor in the same manner as in Example 1, and offset printing was performed, but the formation of characters was insufficient.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明のオフセット印刷用版材を用いることにより、
以上に述べてきたように、簡便に印刷版を製造すること
が出来る。従って、例えば本発明の印刷用版材を介し
て、ファクシミリの有する読み取り及び書き出し機構と
オフセット印刷機とを連結した場合には、全自動型印刷
機として高品位な文字の印刷(大量複写)を容易にする
ことができる。さらに、編集・組み版機能を有するコン
ピュータ(ワークステーション)とオフセット印刷機と
を容易に連結することが可能になるため、簡便な製版・
印刷システムを提供する事が出来るとともに、耐刷牲が
優れているため、大量の印刷物を製造することもできる
という利点がある。
By using the offset printing plate material of the present invention,
As described above, a printing plate can be easily manufactured. Therefore, for example, when a reading and writing mechanism of a facsimile and an offset printing machine are connected via the printing plate material of the present invention, printing of high-quality characters (mass copying) as a fully automatic printing machine is performed. Can be easier. Furthermore, since a computer (workstation) having an editing / composing function and an offset printing machine can be easily connected, a simple plate making /
Since a printing system can be provided and the printing durability is excellent, there is an advantage that a large amount of printed matter can be manufactured.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】スルホン化反応により、その表面にスルホ
ン酸基を付与された、分子内に極性基を有するオレフィ
ン系高分子化合物のフイルムまたはシートであって、該
表面の赤外吸収スペクトルにおいて、波数1200付近のス
ルホン酸基に帰属される強いバンドの吸光度と波数1050
付近のスルホン酸基に帰属されるバンドの吸光度との比
が少なくとも0.6であることを特徴とするオフセット印
刷用版材。
1. A film or sheet of an olefin polymer having a polar group in a molecule, to which a sulfonic acid group has been provided on the surface by a sulfonation reaction, wherein the film or sheet has an infrared absorption spectrum Absorbance of strong band attributed to sulfonic acid group near wave number 1200 and wave number 1050
A plate material for offset printing, wherein the ratio to the absorbance of a band attributed to a nearby sulfonic acid group is at least 0.6.
JP9196487A 1987-04-06 1987-04-16 Improved offset printing plate material Expired - Lifetime JP2572224B2 (en)

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