JP2572222B2 - Plate material for offset printing - Google Patents

Plate material for offset printing

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JP2572222B2
JP2572222B2 JP8307187A JP8307187A JP2572222B2 JP 2572222 B2 JP2572222 B2 JP 2572222B2 JP 8307187 A JP8307187 A JP 8307187A JP 8307187 A JP8307187 A JP 8307187A JP 2572222 B2 JP2572222 B2 JP 2572222B2
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sulfonic acid
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穣二 井畑
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【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は表面にスルホン酸基を有するオレフィン重合
体からなるオフセット印刷用版材に関するものである。
さらに詳しく言えば、低出力の可視及び近赤外領域のレ
ーザー光のみならず、感熱印字装置等のサーマルヘッド
にも感応し、現像および定着処理を必要としないオフセ
ット印刷用版材に関するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to an offset printing plate comprising an olefin polymer having a sulfonic acid group on the surface.
More specifically, the present invention relates to an offset printing plate material that is sensitive not only to low-output laser light in the visible and near-infrared regions but also to a thermal head such as a thermal printing device and does not require development and fixing processes. .

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、オフセット印刷に用いられる印刷版を得る方法
には、(1)所謂PS版法、(2)シルバーマスター方式
に代表される銀塩写真法、(3)エレクトロファックス
方式に代表される電子写真法、等が既に開発され、商品
化されている。
Conventionally, a method of obtaining a printing plate used for offset printing includes (1) a so-called PS plate method, (2) a silver salt photographic method represented by a silver master method, and (3) an electrophotograph represented by an electrofax method. Laws, etc. have already been developed and commercialized.

しかしながら、これらの方法は、露光により潜像を形
成し現像、定着処理を行った後、印刷版を得るという工
程を必要とし、その製版工程が繁雑である他、製版機自
体が大きくなり、且つ、現像液の取り扱いに手を汚す等
の問題点があった。
However, these methods require a step of obtaining a printing plate after forming a latent image by exposure, developing and fixing, and the plate making process is complicated, and the plate making machine itself becomes large, and In addition, there are problems such as soiling of hands in handling the developer.

そこで、本発明者らは上記問題点を解決すべく鋭意研
究を重ねた結果、現像、定着等の処理工程の不要なオフ
セット印刷用版の製造方法を発明し、先に特許出願した
(特開昭60−102632号、特開昭60−132760号参照)。
The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, have invented a method of manufacturing an offset printing plate that does not require processing steps such as development and fixing, and have previously filed a patent application ( See Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-102632 and Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 60-132760).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problems to be solved by the invention]

しかし、それらの印刷用版材にも、高エネルギー密度
の光エネルギーを必要としたため、実用的には、例えば
数百ワットのキセノンフラッシュランプまたは数ワット
以上の出力を有するレーザー発振機を装着しなければな
らないと言う改善すべき点があった。
However, since these printing plates also require high energy density of light energy, practically, for example, a xenon flash lamp of several hundred watts or a laser oscillator having an output of several watts or more must be installed. There was a point that needed to be improved.

本発明は、先の親水性スルホン酸基を有するオフセッ
ト印刷用版材の製版性を大幅に改良したものであって、
例えば出力10ミリワットHe−Neレーザー、ワードプロセ
ッサのような簡単でコンパクトな感熱プリンター、ある
いは感熱ファクシミリを用いて印字操作を行う事によ
り、オフセット印刷版を得ることが出来る感光または、
および感熱の版材を提供することを目的とするものであ
る。
The present invention is to greatly improve the plate making of the offset printing plate material having the hydrophilic sulfonic acid group,
For example, a 10-mW output He-Ne laser, a simple and compact thermal printer such as a word processor, or a printing device using a thermal facsimile to perform a printing operation to obtain an offset printing plate,
And a heat-sensitive plate material.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

すなわち、本発明はスルホン化反応によりその表面に
スルホン酸基を付与されたオレフィン系重合体のフィル
ムまたはシートであって、該表面の赤外吸収スペクトル
において、波数1200付近のスルホン酸基に帰属される強
いバンドの吸光度と波数1050付近のスルホン酸基に帰属
されるバンドの吸光度との比が少なくとも0.6である事
を特徴とするオフセット印刷用版材を提供するものであ
る。
That is, the present invention is a film or sheet of an olefin-based polymer having a sulfonic acid group provided on its surface by a sulfonation reaction, and in an infrared absorption spectrum of the surface, the film or sheet is attributed to a sulfonic acid group having a wave number of around 1200. Another object of the present invention is to provide an offset printing plate material characterized in that the ratio between the absorbance of a strong band and the absorbance of a band belonging to a sulfonic acid group having a wave number of around 1050 is at least 0.6.

本発明で用いるオレフィン系重合体としては、例えば
エチレン、プロピレン、ブテン−1、4−メチルペンテ
ン−1、ヘキセン−1、オクテン−1、ブタジエン、等
のオレフィン化合物等の中から選ばれた一種または二種
以上の単量体を重合して得られた物で、好ましくは吸水
率2.0%以下のものである。一般に、ビニルスルホン酸
等の重合体または共重合体のごとく、本来スルホン酸基
を有する高分子化合物、またはこれらの高分子化合物を
他の基布に塗布したものは、吸水率が大きいため寸法安
定性が低下し印刷用版材としては適さないから除かれ
る。ここで言う吸水率とは、20℃の温度で24時間、水中
に浸漬した時の重量増加率の事である。
As the olefin polymer used in the present invention, for example, one selected from olefin compounds such as ethylene, propylene, butene-1, 4-methylpentene-1, hexene-1, octene-1, butadiene, and the like, or It is a product obtained by polymerizing two or more types of monomers, and preferably has a water absorption of 2.0% or less. In general, polymers such as vinyl sulfonic acid and other polymers or copolymers that originally have sulfonic acid groups, or those obtained by applying these polymers to other base fabrics, have a large water absorption rate and are therefore dimensionally stable. It is excluded because it is not suitable for use as a printing plate material due to reduced properties. The water absorption here refers to the rate of weight increase when immersed in water at a temperature of 20 ° C. for 24 hours.

同様に吸水率が2.0%以上の高分子化合物の場合に
は、スルホン化して得られた印刷版の寸法安定性が低い
ため適当でない。
Similarly, a polymer compound having a water absorption of 2.0% or more is not suitable because the dimensional stability of a printing plate obtained by sulfonation is low.

これらの高分子化合物はフィルムまたはシートを他の
基材、例えば紙、ガラスクロス、ガラスペーパー、アル
ミニウム板、等と貼り合わせ複合材として用いてもよ
い。
These polymer compounds may be used as a composite material by laminating a film or sheet with another substrate, for example, paper, glass cloth, glass paper, aluminum plate, or the like.

スルホン化の方法については特に制限はなく、例えば
前記フィルムまたはシートを発煙硫酸中に浸漬してもよ
いし、また無水硫酸をそのままか、あるいはクロロホル
ム、四塩化炭素、二塩化エチレン等の無水硫酸に対して
比較的活性の少ない有機溶剤で希釈して用いても良い。
There is no particular limitation on the method of sulfonation.For example, the film or sheet may be immersed in fuming sulfuric acid, or sulfuric anhydride may be used as it is or in chloroform, carbon tetrachloride, sulfuric anhydride such as ethylene dichloride, etc. On the other hand, it may be diluted with an organic solvent having relatively low activity.

スルホン化の条件は使用される高分子の種類によって
異なるが、無水硫酸等の酸化型のスルホン化剤を用いて
反応を行うことにより、赤外吸収スペクトルにおいて波
数1200付近に強いバンドを有する構造のものを得ること
が出来る。このバンドは、少なくとも、3ケの共役二重
結合を有するポリエン構造に隣接したスルホン酸基が生
成した事を示し、該スルホン酸基が感光性または、及び
感熱性を示すことを見いだして本発明を完成した。
Sulfonation conditions vary depending on the type of polymer used, but by performing the reaction using an oxidized sulfonating agent such as sulfuric anhydride, a structure having a strong band at a wave number of around 1200 in the infrared absorption spectrum is obtained. You can get things. This band indicates that at least a sulfonic acid group adjacent to a polyene structure having three conjugated double bonds has been formed, and it has been found that the sulfonic acid group exhibits photosensitivity or heat sensitivity. Was completed.

即ち、該スルホン酸基の量が、波数1050に帰属される
一般のスルホン酸基の量に較べて、吸光度比で0.6以上
である時に本発明になる感光性または、及び感熱性の優
れたオフセット印刷用版材を与える。そのような本発明
の優れた印刷用版材は、酸化型のスルホン化剤を使用す
る場合、スルホン化温度及び時間を適当に選ぶことによ
り得ることができる。
That is, the amount of the sulfonic acid group, compared with the amount of the general sulfonic acid group attributed to the wave number 1050, when the absorbance ratio is 0.6 or more according to the present invention, or offset excellent in heat sensitivity and heat sensitivity. Give a printing plate. Such an excellent printing plate material of the present invention can be obtained by appropriately selecting the sulfonation temperature and time when an oxidized sulfonating agent is used.

すなわち、ポリエン構造に隣接したスルホン酸基の生
成の比率を高くするためにはスルホン化温度を低温に持
っていくことが望ましい傾向にあり、反応温度は通常−
30〜70℃、好ましくは0〜40℃がよい。スルホン化温度
が70℃以上では各種の副反応が起きやすくなるため除か
れる。一方、−30℃以下では、無水硫酸ガス状で使用す
る場合に、該ガスが導入管壁に液化して付着するため工
程異常を起こしやすいこと、及びポリエンに隣接したス
ルホン酸基の生成速度が遅く経済的に好ましくないため
除かれる。
That is, in order to increase the ratio of the formation of sulfonic acid groups adjacent to the polyene structure, it is desirable to lower the sulfonation temperature, and the reaction temperature is usually −
30-70 ° C, preferably 0-40 ° C. If the sulfonation temperature is 70 ° C. or higher, various side reactions are likely to occur, and are excluded. On the other hand, at -30 ° C or lower, when used in the form of sulfuric anhydride gas, the gas is liquefied and adheres to the inlet pipe wall, so that process abnormalities are likely to occur, and the generation rate of sulfonic acid groups adjacent to the polyene is reduced. It is removed because it is slow and economically unfavorable.

一方、スルホン化時間は温度によって選択する必要が
あり、例えば0℃において5〜60分、40℃において1〜
30分が好ましい範囲である。
On the other hand, the sulfonation time must be selected depending on the temperature, for example, 5 to 60 minutes at 0 ° C. and 1 to 40 ° C.
30 minutes is a preferred range.

なお、一般に工業的に使用されている酸化性の低い他
のスルホン化剤、例えばクロルスルホン酸、リン酸スル
ホン酸、無水硫酸とジメチルホルムアミドまたはジオキ
サン等との付加物等では、ポリエン構造に隣接したスル
ホン酸基の生成に較べ一般のスルホン酸基の生成量の方
が勝るため吸光度比を0.6以上にするのが難しく、特別
の工夫が必要となる。
In addition, other oxidizing low sulfonating agents generally used industrially, such as chlorosulfonic acid, phosphoric sulfonic acid, adducts of sulfuric anhydride with dimethylformamide or dioxane, etc., are adjacent to the polyene structure. Since the production amount of general sulfonic acid groups is superior to the production of sulfonic acid groups, it is difficult to increase the absorbance ratio to 0.6 or more, and special measures are required.

スルホン化量が交換当量にして5×10-5〜1×10-1
リ当量/cm2の時、オフセット印刷版において非画像部を
形成するに必要な親水性を与え、一般にスルホン化反応
の進行に伴ってスルホン化量が増大し親水性も同様に向
上するが、該吸光度の比は必ずしもスルホン化量と直線
的ではないから、各々の高分子についてそれぞれ最適の
条件を選定しなければならない。尚、スルホン化量は次
のようにして求める。即ち、表面をスルホン化したフィ
ルム(表面積Mcm2)を1規定の塩化カルシウム水溶液に
浸漬して平衡状態とし、この水溶液中に生じた塩化水素
を、0.1規定の水酸化ナトリウム水溶液(力価:f)で滴
定して、指示薬フェノールフタレインによる中和値(Xc
c)を求め、次式で算出する。
When the amount of sulfonation is 5 × 10 -5 to 1 × 10 -1 meq / cm 2 in exchange equivalent, it gives hydrophilicity necessary for forming a non-image portion in an offset printing plate, and generally, As the amount of sulfonation increases with the progress, the hydrophilicity also improves, but the ratio of the absorbance is not always linear with the amount of sulfonation, so the optimal conditions must be selected for each polymer. . The amount of sulfonation is determined as follows. That is, a film whose surface is sulfonated (surface area: Mcm 2 ) is immersed in a 1N aqueous solution of calcium chloride to make an equilibrium state, and hydrogen chloride generated in this aqueous solution is converted into a 0.1N aqueous solution of sodium hydroxide (titer: f ) And neutralize with the indicator phenolphthalein (Xc
c) is calculated and calculated by the following equation.

スルホン化量(ミリ当量/cm2) =(0.1×f×x)/M 本発明でいう吸光度比は、赤外吸収スペクトルの解析
において一般に採用されているベースライン法を用いて
求める。即ち、スルホン酸基に帰属される波数1050及び
1170付近の強いバンドと、本発明で規定される波数1200
付近の強いバンドに共通なベースラインを基準にして該
当するバンドの吸光度の比を求める。尚、スルホン化物
の赤外吸収スペクトルは反射法(ATR法)によって測定
することが出来る。感光性のない一般のスルホン酸基は
通常波数1050付近及び波数1170付近に特徴的な2本の強
いバンドを示す事が知られているが、さらに波数1200付
近、好ましくは波数1200〜1230付近に同程度の強いバン
ドを示す感光性のスルホン酸基を有する。前記のスルホ
ン化物であって、波数1200付近の感光性スルホン酸基に
帰属される。バンドの吸光度と、波数1050付近のスルホ
ン酸基に帰属されるバンドの吸光度との比が0.6以上の
時、本発明の目的とする高感度に改良されたオフセット
印刷用版材を供える。吸光度比2.3以上のものを得るこ
とは一般に困難であり、汎用されているサーマルヘッド
を用いて製版するに必要な感度を有するスルホン化物の
吸光度は、好ましくは1.1〜1.8である。
Sulfonation amount (milli-equivalent / cm 2 ) = (0.1 × f × x) / M The absorbance ratio referred to in the present invention is determined by using a baseline method generally adopted in the analysis of infrared absorption spectrum. That is, the wave number 1050 and attributed to the sulfonic acid group
Strong band around 1170 and wave number 1200 specified by the present invention
The ratio of the absorbance of the corresponding band is determined based on the baseline common to the nearby strong bands. The infrared absorption spectrum of the sulfonated compound can be measured by a reflection method (ATR method). It is known that non-photosensitive general sulfonic acid groups usually show two strong bands characteristic around the wave number of around 1050 and around the wave number of 1170, but further around the wave number of around 1200, preferably around the wave number of around 1200 to 1230. It has a photosensitive sulfonic acid group showing a similar strong band. It is the above-mentioned sulfonate, which is attributed to a photosensitive sulfonic acid group having a wave number of around 1200. When the ratio between the absorbance of the band and the absorbance of the band attributable to the sulfonic acid group having a wave number of about 1050 is 0.6 or more, the high-sensitivity offset printing plate material intended for the present invention is provided. It is generally difficult to obtain one having an absorbance ratio of 2.3 or more, and the absorbance of a sulfonate having the sensitivity required for plate making using a widely used thermal head is preferably 1.1 to 1.8.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例で本発明を詳しく説明するが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1 乾燥したガラス容器内に、厚さ約200μの高密度ポリ
エチレンフィルム(平均分子量約10万)をセットした反
応容器を、内温が0〜5℃になるように外部から冷却し
た。一方、無水硫酸の入ったガス発生機に、外部から乾
燥した窒素ガスを導入することにより得られる無水硫酸
ガスを0〜5℃になるように外部から冷却して、前記の
反応容器に導入しながら25分間反応を行った。反応終了
後、該フィルムを容器から取り出し、水洗し、乾燥し
た。
Example 1 A reaction vessel in which a high-density polyethylene film (average molecular weight: about 100,000) having a thickness of about 200 μ was set in a dried glass vessel was cooled from the outside so that the internal temperature was 0 to 5 ° C. On the other hand, sulfuric anhydride gas obtained by introducing dry nitrogen gas from the outside into a gas generator containing sulfuric anhydride is cooled from the outside so that the temperature becomes 0 to 5 ° C., and introduced into the reaction vessel. The reaction was performed for 25 minutes. After the completion of the reaction, the film was taken out of the container, washed with water, and dried.

このフィルムのスルホン化量は7.2×10-4ミリ当量/cm
2、赤外吸収スペクトルの吸光度比は1.7であった。
The sulfonation amount of this film is 7.2 × 10 -4 meq / cm
2. The absorbance ratio of the infrared absorption spectrum was 1.7.

前記のフィルムを回転ロールに貼り付け、ヘリウム−
ネオンレーザーのビーム径40μに集光した光を、ロール
の周速度50cm/secに設定して照射した。一方、別の前記
フィルムをワードプロセッサ(シャープ社製;「書院」
、型式WD−300F)を用いてサーマルヘッドで印字し
た。このようにして作製した版を、各々オフセット印刷
機に取り付けて印刷を行ったところ、前者では線巾45μ
の画線を、後者では鮮明な文字を得た。
 The above film was stuck on a rotating roll and helium-
Roll the light focused to a neon laser beam diameter of 40μ
Irradiation was performed at a peripheral speed of 50 cm / sec. Meanwhile, another said
The film was converted to a word processor (Sharp; Shoin)
, Model WD-300F) and print with a thermal head.
Was. Offset printing of the plates prepared in this way
After printing on the machine, the former had a line width of 45μ.
In the latter case, sharp characters were obtained.

実施例2 厚さ約200μの実施例1にて使用した高密度ポリエチ
レンフィルムを、所定の反応温度及び反応時間に設定
し、実施例1の方法に従ってスルホン化し、水洗し、風
乾した。次いでワードプロセッサにセットしサーマルヘ
ッドを用いて印字した。このようにして得られた版をオ
フセット印刷機に取り付けて印刷テストを行い次表の結
果を得た。
Example 2 A high-density polyethylene film having a thickness of about 200 μm and used in Example 1 was set to a predetermined reaction temperature and reaction time, sulfonated according to the method of Example 1, washed with water, and air-dried. Then, it was set in a word processor and printed using a thermal head. The printing plate thus obtained was mounted on an offset printing machine and subjected to a printing test to obtain the results shown in the following table.

実施例3 厚さ約200μの実施例1にて使用した高密度ポリエチ
レンフィルムを無水硫酸約15%を含有した発煙硫酸中に
0℃にて約20時間浸漬してスルホン化反応を行った。反
応終了後十分に水洗し、1規定カ性ソーダで中和して風
乾した。このフィルムのスルホン化量は8.2×10-3ミリ
当量/cm2、吸光度比は0.7であった。
Example 3 The high-density polyethylene film having a thickness of about 200 μm used in Example 1 was immersed in fuming sulfuric acid containing about 15% of sulfuric anhydride at 0 ° C. for about 20 hours to perform a sulfonation reaction. After completion of the reaction, the mixture was sufficiently washed with water, neutralized with 1N sodium hydroxide, and air-dried. The sulfonated amount of this film was 8.2 × 10 −3 meq / cm 2 , and the absorbance ratio was 0.7.

次いでこのフィルムを回転ロールに貼り付け、ヤグレ
ーザー(NEC;SL129,出力50mw)のビーム径40μに集光し
た光を、ロールの周速度を100cm/secに設定して照射し
た後、オフセット印刷を行い約36μの鮮明な画線を得
た。
Next, this film was affixed to a rotating roll, and a beam focused to a beam diameter of 40μ of a yag laser (NEC; SL129, output 50mw) was irradiated at a circumferential speed of the roll of 100cm / sec, followed by offset printing. This gave a clear image of about 36μ.

実施例4 厚さ約150μ、大きさB−4サイズのエチレン、4−
メチルペンテン−1(3モル%)の線状低密度ポリエチ
レンフィルム(平均分子量約3万)を実施例1と同一の
反応条件にて20分間スルホン化反応を行った後、水洗
し、風乾した。このフィルムのスルホン化量は1.4×10
-3ミリ当量/cm2で、吸光度比は1.2であった。
Example 4 Ethylene having a thickness of about 150 μm and a size of B-4,
A linear low-density polyethylene film of methylpentene-1 (3 mol%) (average molecular weight: about 30,000) was subjected to a sulfonation reaction under the same reaction conditions as in Example 1 for 20 minutes, washed with water, and air-dried. The amount of sulfonation of this film is 1.4 × 10
At -3 meq / cm 2 , the absorbance ratio was 1.2.

前記フィルムを250mm当たり4000ドットのサーマルヘ
ッドを有するラインプリンターを用いて20秒間を要して
印字した後、実施例1と同様にオフセット印刷を行った
ところ、鮮明な印刷物を得た。
After printing the film for 20 seconds using a line printer having a thermal head of 4000 dots per 250 mm, offset printing was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a clear printed matter.

実施例5 厚さ約100μのポリブテン−1フィルム(平均分子量
約5万)を無水硫酸約10%を含有するエチレンジクロラ
イド溶液中に0℃にて約40時間浸漬してスルホン化反応
を行った。反応終了後、十分に水洗し、風乾した。この
フィルムのスルホン化量は1.6×10-4ミリ当量/cm2、吸
光度比は1.2であった。
Example 5 A polybutene-1 film (average molecular weight: about 50,000) having a thickness of about 100 μ was immersed in an ethylene dichloride solution containing about 10% of sulfuric anhydride at 0 ° C. for about 40 hours to perform a sulfonation reaction. After the completion of the reaction, the resultant was sufficiently washed with water and air-dried. The sulfonated amount of this film was 1.6 × 10 −4 meq / cm 2 , and the absorbance ratio was 1.2.

次いで実施例1と同様にワードプロセッサを用いて印
字し、オフセット印刷したところ、鮮明な文字を印刷す
ることができた。
Then, printing was performed using a word processor in the same manner as in Example 1, and offset printing was performed. As a result, clear characters could be printed.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明のオフセット印刷用版材を用いることにより、
以上に述べてきたように、簡便に印刷版を製造すること
が出来る。従って、例えば本発明の印刷用版材を介し
て、ファクシミリの有する読み取り及び書き出し機構と
オフセット印刷機とを連結した場合には、全自動型印刷
機として高品位な文字の印刷(大量複写)を容易にする
ことができる。さらに、編集・組み版機能を有するコン
ピュータ(ワークステーション)とオフセット印刷機と
を容易に連結することが可能になるため、簡便な製版・
印刷システムを提供する事が出来るというように本発明
には多くの利点がある。
By using the offset printing plate material of the present invention,
As described above, a printing plate can be easily manufactured. Therefore, for example, when a reading and writing mechanism of a facsimile and an offset printing machine are connected via the printing plate material of the present invention, printing of high-quality characters (mass copying) as a fully automatic printing machine is performed. Can be easier. Furthermore, since a computer (workstation) having an editing / composing function and an offset printing machine can be easily connected, a simple plate making /
The present invention has many advantages, such as the ability to provide a printing system.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】スルホン化反応によりその表面にスルホン
酸基を付与されたオレフィン系重合体のフイルムまたは
シートであって、該表面の赤外吸収スペクトルにおい
て、波数1200付近のスルホン酸基に帰属される強いバン
ドの吸光度と波数1050付近のスルホン酸基に帰属される
バンドの吸光度との比が少なくとも0.6であることを特
徴とするオフセット印刷用版材。
An olefin polymer film or sheet having a surface provided with a sulfonic acid group by a sulfonation reaction, which is attributed to a sulfonic acid group having a wave number of about 1200 in an infrared absorption spectrum of the surface. A plate material for offset printing, wherein the ratio between the absorbance of a strong band and the absorbance of a band belonging to a sulfonic acid group having a wave number of around 1050 is at least 0.6.
JP8307187A 1987-04-06 1987-04-06 Plate material for offset printing Expired - Lifetime JP2572222B2 (en)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
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