JP2568328B2 - 外径測定機 - Google Patents
外径測定機Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば金属線、ガラス
管、光ファイバ等の外径をインラインのプロセス上で測
定する外径測定機に関するものである。
管、光ファイバ等の外径をインラインのプロセス上で測
定する外径測定機に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】例えば金属線や光ファイバ等のように連
続的に生産される線材は、迅速な品質管理を行うため
に、製造や検査等のインラインのプロセス上で外径の測
定を実行しており、この際の測定器としては、非接触で
高速かつ高精度な測定が可能なレーザ光走査式の外径測
定機が一般に用いられている。
続的に生産される線材は、迅速な品質管理を行うため
に、製造や検査等のインラインのプロセス上で外径の測
定を実行しており、この際の測定器としては、非接触で
高速かつ高精度な測定が可能なレーザ光走査式の外径測
定機が一般に用いられている。
【０００３】図６はこうしたレーザ光走査式による外径
測定機の原理構造を示している。以下、外径測定機の構
成及び測定原理について説明する。外径測定機はレーザ
光で被測定物Ｗを走査する光学系１と、光学系１からの
信号を復調して被測定物Ｗの外径に比例した信号に変換
する信号処理系２とを備えて概略構成されている。光学
系１は所定波長のレーザ光を出力するレーザ光源３、レ
ーザ光を反射ミラー４により偏向する光偏向器５、偏向
されたレーザ光を平行光にするレンズ６、偏向されたレ
ーザ光の一部を取り出すモニタ回路７、被測定物Ｗを走
査して通過したレーザ光を受光する受光回路８を備えて
構成されている。そして、この光学系１では、レーザ光
が光偏向器５の反射ミラー４に入射して偏向され、レン
ズ６により平行光にされて通過すると、被測定物Ｗの置
かれた空間をＹ軸方向に正弦的に走査する。被測定物Ｗ
を走査したレーザ光は、受光回路８の受光器上に集光さ
れ、光電変換によって電気信号Ｑ１となる。また、光偏
向器５により偏向されたレーザ光の一部はモニタ回路７
によって取り出され、走査ビームの位相と振幅を検出す
るためのモニタ信号Ｑ２，Ｑ３に変換される。
測定機の原理構造を示している。以下、外径測定機の構
成及び測定原理について説明する。外径測定機はレーザ
光で被測定物Ｗを走査する光学系１と、光学系１からの
信号を復調して被測定物Ｗの外径に比例した信号に変換
する信号処理系２とを備えて概略構成されている。光学
系１は所定波長のレーザ光を出力するレーザ光源３、レ
ーザ光を反射ミラー４により偏向する光偏向器５、偏向
されたレーザ光を平行光にするレンズ６、偏向されたレ
ーザ光の一部を取り出すモニタ回路７、被測定物Ｗを走
査して通過したレーザ光を受光する受光回路８を備えて
構成されている。そして、この光学系１では、レーザ光
が光偏向器５の反射ミラー４に入射して偏向され、レン
ズ６により平行光にされて通過すると、被測定物Ｗの置
かれた空間をＹ軸方向に正弦的に走査する。被測定物Ｗ
を走査したレーザ光は、受光回路８の受光器上に集光さ
れ、光電変換によって電気信号Ｑ１となる。また、光偏
向器５により偏向されたレーザ光の一部はモニタ回路７
によって取り出され、走査ビームの位相と振幅を検出す
るためのモニタ信号Ｑ２，Ｑ３に変換される。
【０００４】ここで、図７は横軸を時間軸として被測定
物Ｗ上を走査するレーザ光の位置と受光信号Ｑ１との関
係を示す。図において、走査ビームの位置をＳ＝Ｓ0 ｓ
ｉｎω0 ｔとし、Ｒａ，Ｒｂを走査空間で静止している
被測定物Ｗの両縁の位置とすると、受光信号Ｑ１は走査
ビームが縁Ｒａを通過する時刻ｔａ１にて立下がり、縁
Ｒｂを通過する時刻ｔｂ１では立上がる。この結果、下
記の関係が成立する。 Ｒａ＝Ｓ0 ｓｉｎω0 ｔａ１ Ｒｂ＝Ｓ0 ｓｉｎω0 ｔｂ１ …（１）
物Ｗ上を走査するレーザ光の位置と受光信号Ｑ１との関
係を示す。図において、走査ビームの位置をＳ＝Ｓ0 ｓ
ｉｎω0 ｔとし、Ｒａ，Ｒｂを走査空間で静止している
被測定物Ｗの両縁の位置とすると、受光信号Ｑ１は走査
ビームが縁Ｒａを通過する時刻ｔａ１にて立下がり、縁
Ｒｂを通過する時刻ｔｂ１では立上がる。この結果、下
記の関係が成立する。 Ｒａ＝Ｓ0 ｓｉｎω0 ｔａ１ Ｒｂ＝Ｓ0 ｓｉｎω0 ｔｂ１ …（１）
【０００５】一方、信号処理系２は受光信号Ｑ１に基づ
いて一定のパルス信号を出力するパルス発生器９、モニ
タ信号Ｑ２，Ｑ３に基づいて走査ビームの位置をシミュ
レートする参照信号Ｖ＝Ｖ0 ｓｉｎω0 ｔを発生する参
照信号発生器１０、パルス信号に基づいて参照信号の電
圧を各々サンプルホールドするサンプルホールド回路１
１，１２、サンプルホールドされた各々の信号を差動増
幅する差動増幅器１３、増幅された信号をディジタル信
号に変換するＡ／Ｄ変換器１４を備えて構成されてい
る。
いて一定のパルス信号を出力するパルス発生器９、モニ
タ信号Ｑ２，Ｑ３に基づいて走査ビームの位置をシミュ
レートする参照信号Ｖ＝Ｖ0 ｓｉｎω0 ｔを発生する参
照信号発生器１０、パルス信号に基づいて参照信号の電
圧を各々サンプルホールドするサンプルホールド回路１
１，１２、サンプルホールドされた各々の信号を差動増
幅する差動増幅器１３、増幅された信号をディジタル信
号に変換するＡ／Ｄ変換器１４を備えて構成されてい
る。
【０００６】そして、この信号処理系２では、２つのサ
ンプルホールド回路１１，１２が図７（ａ），（ｂ）に
示すように時刻ｔａ１及びｔｂ１において、参照信号の
電圧Ｖをサンプルホールドし、図７（ｃ）に示すように
被測定物Ｗの縁の位置Ｒａ，Ｒｂに相当する電圧Ｖａ
１，Ｖｂ１を発生する。この電圧Ｖａ１，Ｖｂ１は
（１）式から下記の式に変換され、 Ｖａ１＝Ｖ0 ｓｉｎω0 ｔａ１＝（Ｖ0 ／Ｓ0 ）Ｒａ …（２） Ｖｂ１＝Ｖ0 ｓｉｎω0 ｔｂ１＝（Ｖ0 ／Ｓ0 ）Ｒｂ …（３） これらの差電圧Ｖ D１は、Ｖ D１＝Ｖａ１−Ｖｂ１＝
（Ｖ0 ／Ｓ0 ）ｄとなり、被測定物Ｗの外径に比例す
る。この外径電圧Ｖ Dｎは図７（ｄ）に示すように１回
の走査によって検出される値が次の反対方向の走査が終
わるまでの間（π／ω0 ）だけホールドされ、Ａ／Ｄ変
換された後にＣＰＵ（図示せず）に取り込まれる。ＣＰ
Ｕに取り込まれたデータは、外部機器であるキーボード
から設定された平均回数、目標値、上下限値等の各種パ
ラメータに従って処理され、この処理によって得られた
測定データはディスプレイコントローラを介して例えば
ＬＥＤ表示される。
ンプルホールド回路１１，１２が図７（ａ），（ｂ）に
示すように時刻ｔａ１及びｔｂ１において、参照信号の
電圧Ｖをサンプルホールドし、図７（ｃ）に示すように
被測定物Ｗの縁の位置Ｒａ，Ｒｂに相当する電圧Ｖａ
１，Ｖｂ１を発生する。この電圧Ｖａ１，Ｖｂ１は
（１）式から下記の式に変換され、 Ｖａ１＝Ｖ0 ｓｉｎω0 ｔａ１＝（Ｖ0 ／Ｓ0 ）Ｒａ …（２） Ｖｂ１＝Ｖ0 ｓｉｎω0 ｔｂ１＝（Ｖ0 ／Ｓ0 ）Ｒｂ …（３） これらの差電圧Ｖ D１は、Ｖ D１＝Ｖａ１−Ｖｂ１＝
（Ｖ0 ／Ｓ0 ）ｄとなり、被測定物Ｗの外径に比例す
る。この外径電圧Ｖ Dｎは図７（ｄ）に示すように１回
の走査によって検出される値が次の反対方向の走査が終
わるまでの間（π／ω0 ）だけホールドされ、Ａ／Ｄ変
換された後にＣＰＵ（図示せず）に取り込まれる。ＣＰ
Ｕに取り込まれたデータは、外部機器であるキーボード
から設定された平均回数、目標値、上下限値等の各種パ
ラメータに従って処理され、この処理によって得られた
測定データはディスプレイコントローラを介して例えば
ＬＥＤ表示される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】以上の原理から明らか
なように、この種の外径測定機は、被測定物によってレ
ーザ光の微小スポットが遮られることを利用した遮光形
の測定機であり、遮光によって生ずる受光回路へ入射す
る光エネルギーの変化を光電変換して検出している。こ
のときに用いる光源として、光電信号のＳ／Ｎを上げる
ためには、エネルギー密度が高く、集光性が良い、いわ
ゆる輝度の高い光源であることが望ましい。また、微小
スポットのビーム形状は、レーザ光の走査方向に沿って
対称性の良いガウス形状であると、受光回路から得られ
る方形波信号Ｑ１の立下り、立上りの波形に高調波が重
畳せず、高精度なエッジ検出が可能となる。以上の条件
を満たすものとして、光源としてはレーザ光が広く使用
されている。
なように、この種の外径測定機は、被測定物によってレ
ーザ光の微小スポットが遮られることを利用した遮光形
の測定機であり、遮光によって生ずる受光回路へ入射す
る光エネルギーの変化を光電変換して検出している。こ
のときに用いる光源として、光電信号のＳ／Ｎを上げる
ためには、エネルギー密度が高く、集光性が良い、いわ
ゆる輝度の高い光源であることが望ましい。また、微小
スポットのビーム形状は、レーザ光の走査方向に沿って
対称性の良いガウス形状であると、受光回路から得られ
る方形波信号Ｑ１の立下り、立上りの波形に高調波が重
畳せず、高精度なエッジ検出が可能となる。以上の条件
を満たすものとして、光源としてはレーザ光が広く使用
されている。
【０００８】しかしながら、被測定物によってはレーザ
光のもつ高い可干渉性により、有限な受光開口で測定系
を構成していると、受光する光エネルギーが干渉縞の影
響を受けて外径変動だけを抽出することが困難になる場
合がある。例えば、光透過率の高い光ファイバでは、ビ
ーム径が有限なため、エッジによる回折光やエッジ付近
の反射光、さらにファイバ内へ屈折した光が内部反射を
繰り返し、外部へ漏れた光の一部分が前記回折光や反射
光と干渉する結果、温度変化に伴う光源の波長変化やフ
ァイバの真円度や屈折率の均一性などの影響を受け、そ
れらの変動が外径測定出力に表われるという現象が見ら
れる。図３は単一波長半導体レーザ光を光源とし、１２
５μｍの光ファイバを保持したとき、外気温度が０度か
ら４０度の間で変化させたとき、レーザ光の発振周波数
が急にシフトする（縦モードホップ）にしたがってその
影響が外径測定出力に表われていることを示すものであ
る。この現象を取除くために、従来は周波数安定化レー
ザなどを用いる方法が提案されていたが、これによって
も前記ファイバの真円度や屈折率の均一性など、構造パ
ラメータが変化したことによる影響を取除くことができ
ない。
光のもつ高い可干渉性により、有限な受光開口で測定系
を構成していると、受光する光エネルギーが干渉縞の影
響を受けて外径変動だけを抽出することが困難になる場
合がある。例えば、光透過率の高い光ファイバでは、ビ
ーム径が有限なため、エッジによる回折光やエッジ付近
の反射光、さらにファイバ内へ屈折した光が内部反射を
繰り返し、外部へ漏れた光の一部分が前記回折光や反射
光と干渉する結果、温度変化に伴う光源の波長変化やフ
ァイバの真円度や屈折率の均一性などの影響を受け、そ
れらの変動が外径測定出力に表われるという現象が見ら
れる。図３は単一波長半導体レーザ光を光源とし、１２
５μｍの光ファイバを保持したとき、外気温度が０度か
ら４０度の間で変化させたとき、レーザ光の発振周波数
が急にシフトする（縦モードホップ）にしたがってその
影響が外径測定出力に表われていることを示すものであ
る。この現象を取除くために、従来は周波数安定化レー
ザなどを用いる方法が提案されていたが、これによって
も前記ファイバの真円度や屈折率の均一性など、構造パ
ラメータが変化したことによる影響を取除くことができ
ない。
【０００９】同じように、反射率の高い金属のまわり
に、スポット径の大きさに比べ数分の一以下の厚さで透
明体がコーティングされた金属線を被測定物としたとき
も、エッジ回折光とエッジ付近の反射光及びコーティン
グ内に屈折した光が金属線で反射して、それらの干渉に
より実際の外径変動が測定できないという問題があっ
た。
に、スポット径の大きさに比べ数分の一以下の厚さで透
明体がコーティングされた金属線を被測定物としたとき
も、エッジ回折光とエッジ付近の反射光及びコーティン
グ内に屈折した光が金属線で反射して、それらの干渉に
より実際の外径変動が測定できないという問題があっ
た。
【００１０】そこで、本発明は上記問題点に鑑みてなさ
れたものであって、その目的は、常に安定度が高く誤差
の少ない外径測定をインラインのプロセス上で行うこと
ができる外径測定機を提供することにある。
れたものであって、その目的は、常に安定度が高く誤差
の少ない外径測定をインラインのプロセス上で行うこと
ができる外径測定機を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による外径測定機は、レーザ光により被測定
物を走査し、該走査によるレーザ光の遮蔽されるタイミ
ングの検出に基づいて前記被測定物の外径を測定する外
径測定機において、前記被測定物のエッジの回折像の強
度振幅変化がレーザ光のノイズレベル以下でなる可干渉
性の低いレーザ光源を備えたことを特徴としている。
め、本発明による外径測定機は、レーザ光により被測定
物を走査し、該走査によるレーザ光の遮蔽されるタイミ
ングの検出に基づいて前記被測定物の外径を測定する外
径測定機において、前記被測定物のエッジの回折像の強
度振幅変化がレーザ光のノイズレベル以下でなる可干渉
性の低いレーザ光源を備えたことを特徴としている。
【００１２】
【作用】レーザ光源における被測定物のエッジの回折像
の強度振幅変化をノイズレベル以下とすることで、可干
渉性の低いレーザ光が光偏向器を介して被測定物に照射
され、常に安定度が高く誤差の少ない外径測定が実施さ
れる。
の強度振幅変化をノイズレベル以下とすることで、可干
渉性の低いレーザ光が光偏向器を介して被測定物に照射
され、常に安定度が高く誤差の少ない外径測定が実施さ
れる。
【００１３】
【実施例】この実施例による外径測定機は、被測定物Ｗ
として例えば金属線、ガラス管、光ファイバ等の外径を
インラインのプロセス上で測定するにあたって、常に安
定度の高い測定を実現するために可干渉性の低いレーザ
光源を備えている。
として例えば金属線、ガラス管、光ファイバ等の外径を
インラインのプロセス上で測定するにあたって、常に安
定度の高い測定を実現するために可干渉性の低いレーザ
光源を備えている。
【００１４】さらに説明すると、このレーザ光源は図１
に示す光源からのレーザ光によって形成される被測定物
のエッジ回折像の強度振幅変化Δがレーザ光に含まれる
ノイズレベル以下で発振している。そして、このレーザ
光源は安定化していない様々な波長の光を混合してマル
チモード発振し、光偏向器を介して被測定物にレーザ光
を出射して走査を行っている。
に示す光源からのレーザ光によって形成される被測定物
のエッジ回折像の強度振幅変化Δがレーザ光に含まれる
ノイズレベル以下で発振している。そして、このレーザ
光源は安定化していない様々な波長の光を混合してマル
チモード発振し、光偏向器を介して被測定物にレーザ光
を出射して走査を行っている。
【００１５】ここで、ノイズとしては、光源にＨｅ−Ｎ
ｅレーザを用いた場合、誘導放出によらない光で、レー
ザ発振しきい値付近で大きな雑音源となる自然放出光ノ
イズ、モード間のビートにより発生するビートノイズ、
放電電流によるレーザ管の放電路内でのプラズマ振動に
基づく放電電流ノイズ、共振器の機械的振動によるノイ
ズ、共振器内の塵埃によるノイズ等が挙げられ、ノイズ
レベルは光強度で数％以下である。
ｅレーザを用いた場合、誘導放出によらない光で、レー
ザ発振しきい値付近で大きな雑音源となる自然放出光ノ
イズ、モード間のビートにより発生するビートノイズ、
放電電流によるレーザ管の放電路内でのプラズマ振動に
基づく放電電流ノイズ、共振器の機械的振動によるノイ
ズ、共振器内の塵埃によるノイズ等が挙げられ、ノイズ
レベルは光強度で数％以下である。
【００１６】次に、図２は本発明による外径測定機にお
いて、可干渉性の低いレーザ光源を用い、被測定物とし
て光ファイバを固定保持した状態で、外気温度を例えば
０度から４０度の間で変化させながら外径測定を行った
場合の外径測定機の出力変化を示している。一方、図３
は図２の測定系において、光源として安定化していない
単一偏光レーザを用いた場合の外径測定機の出力変化を
示している。この図２から、光源の可干渉性を低くする
ことで、外気温度が変化しても測定値の変動は僅かしか
見られず、測定値に与える影響は極めて小さく、常に安
定した外径測定が可能となることが判る。
いて、可干渉性の低いレーザ光源を用い、被測定物とし
て光ファイバを固定保持した状態で、外気温度を例えば
０度から４０度の間で変化させながら外径測定を行った
場合の外径測定機の出力変化を示している。一方、図３
は図２の測定系において、光源として安定化していない
単一偏光レーザを用いた場合の外径測定機の出力変化を
示している。この図２から、光源の可干渉性を低くする
ことで、外気温度が変化しても測定値の変動は僅かしか
見られず、測定値に与える影響は極めて小さく、常に安
定した外径測定が可能となることが判る。
【００１７】次に、図４は本発明による可干渉性の低い
レーザ光源を用い、光ファイバが固定された状態での光
ファイバの各位置に対する測長器のデータと測定データ
との関係を示している。単一偏光レーザ光源を用いた図
５と比較すると、単一偏光レーザ光源を用いた場合に
は、光ファイバの全長に渡って外径測定機による測定デ
ータと測長器によるデータとの間の偏差が一定していな
いのに対し、本発明による可干渉性の低いレーザ光源を
用いた場合では、外径測定機による測定データと測長器
のデータとの間の偏差が光ファイバの全長に渡って一定
である。
レーザ光源を用い、光ファイバが固定された状態での光
ファイバの各位置に対する測長器のデータと測定データ
との関係を示している。単一偏光レーザ光源を用いた図
５と比較すると、単一偏光レーザ光源を用いた場合に
は、光ファイバの全長に渡って外径測定機による測定デ
ータと測長器によるデータとの間の偏差が一定していな
いのに対し、本発明による可干渉性の低いレーザ光源を
用いた場合では、外径測定機による測定データと測長器
のデータとの間の偏差が光ファイバの全長に渡って一定
である。
【００１８】そして、上述した外径測定機による測定デ
ータと測長器によるデータとの間の偏差は、測長器によ
り測定された値を基準にして外径測定器を校正すること
により取除くことができる。したがって、図４の外径測
定機による測定データは測長器によるデータとほぼ同一
の値を示し、本発明のレーザ光源を用いれば、極めて誤
差の小さい状態で常に安定した外径測定を行うことがで
きることは明らかである。
ータと測長器によるデータとの間の偏差は、測長器によ
り測定された値を基準にして外径測定器を校正すること
により取除くことができる。したがって、図４の外径測
定機による測定データは測長器によるデータとほぼ同一
の値を示し、本発明のレーザ光源を用いれば、極めて誤
差の小さい状態で常に安定した外径測定を行うことがで
きることは明らかである。
【００１９】ところで、上述した実施例では、光偏向器
として音叉振動子を使用した場合を図示して説明した
が、従来より用いられている回転ミラーを使用したもの
でも上述した実施例と同様の効果を得ることができる。
として音叉振動子を使用した場合を図示して説明した
が、従来より用いられている回転ミラーを使用したもの
でも上述した実施例と同様の効果を得ることができる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の外径測定
機によれば、被測定物のエッジの回折像の強度振幅変化
がノイズレベル以下でなる可干渉性の低いレーザ光源を
備えているので、常に安定度が高く誤差の少ない外径測
定をインラインのプロセス上で行うことができるという
効果がある。
機によれば、被測定物のエッジの回折像の強度振幅変化
がノイズレベル以下でなる可干渉性の低いレーザ光源を
備えているので、常に安定度が高く誤差の少ない外径測
定をインラインのプロセス上で行うことができるという
効果がある。
【図１】本発明による外径測定機のレーザ光源が出力す
るレーザ光によって形成される被測定物の回折像の強度
振幅変化を示す図
るレーザ光によって形成される被測定物の回折像の強度
振幅変化を示す図
【図２】本発明による外径測定機において、可干渉性の
低いレーザ光源を用い、被測定物を固定保持した状態
で、外気温度を例えば０度から４０度の間で変化させな
がら外径測定を行った場合の外径測定機の出力変化を示
す図
低いレーザ光源を用い、被測定物を固定保持した状態
で、外気温度を例えば０度から４０度の間で変化させな
がら外径測定を行った場合の外径測定機の出力変化を示
す図
【図３】光源として安定化していない単一偏光レーザを
用い、光ファイバを固定保持した状態で、外気温度を例
えば０度から４０度の間で変化させながら外径測定を行
った場合の外径測定機の出力変化を示す図
用い、光ファイバを固定保持した状態で、外気温度を例
えば０度から４０度の間で変化させながら外径測定を行
った場合の外径測定機の出力変化を示す図
【図４】本発明による外径測定機において、可干渉性の
低いレーザ光源を用い、光ファイバが固定された状態で
の光ファイバの軸方向に沿う各位置に対する測長器のデ
ータと外径測定機による測定データとの関係を示す図
低いレーザ光源を用い、光ファイバが固定された状態で
の光ファイバの軸方向に沿う各位置に対する測長器のデ
ータと外径測定機による測定データとの関係を示す図
【図５】光源として安定化していない単一偏光レーザを
用い、光ファイバが固定された状態での光ファイバの軸
方向に沿う各位置に対する測長器のデータと外径測定機
による測定データとの関係を示す図
用い、光ファイバが固定された状態での光ファイバの軸
方向に沿う各位置に対する測長器のデータと外径測定機
による測定データとの関係を示す図
【図６】外径測定機の測定原理を説明するための構成図
【図７】横軸を時間軸として被測定物上を走査するレー
ザ光の位置と受光信号Ｑ１との関係を示す図
ザ光の位置と受光信号Ｑ１との関係を示す図
【図８】従来の外径測定機の一構成例を示す図
【符号の説明】 １ 光学系 ２ 信号処理系 ３ レーザ光源 Ｗ 被測定物 Ｓ 走査ビームの位置座標 Ｓ0 走査ビームの振幅 ω0 走査ビームの角周波数 Ｖ 参照信号の電圧 Ｖ0 参照信号の振幅 ｄ 被測定物の外径
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平２−302605（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−69108（ＪＰ，Ａ) 実開 昭60−7005（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】 レーザ光により被測定物を走査し、該走
査によるレーザ光の遮蔽されるタイミングの検出に基づ
いて前記被測定物の外径を測定する外径測定機におい
て、前記被測定物のエッジの回折像の強度振幅変化がレ
ーザ光のノイズレベル以下でなる可干渉性の低いレーザ
光源を備えたことを特徴とする外径測定機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3194974A JP2568328B2 (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 外径測定機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3194974A JP2568328B2 (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 外径測定機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0518717A JPH0518717A (ja) | 1993-01-26 |
| JP2568328B2 true JP2568328B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=16333443
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3194974A Expired - Fee Related JP2568328B2 (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | 外径測定機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2568328B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017203707A1 (ja) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | オリンパス株式会社 | 走査型内視鏡システム |
| WO2017203711A1 (ja) * | 2016-05-27 | 2017-11-30 | オリンパス株式会社 | 走査型内視鏡システム |
-
1991
- 1991-07-10 JP JP3194974A patent/JP2568328B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0518717A (ja) | 1993-01-26 |
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