JP2557905B2 - 磁界発生装置 - Google Patents

磁界発生装置

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JP2557905B2
JP2557905B2 JP62244034A JP24403487A JP2557905B2 JP 2557905 B2 JP2557905 B2 JP 2557905B2 JP 62244034 A JP62244034 A JP 62244034A JP 24403487 A JP24403487 A JP 24403487A JP 2557905 B2 JP2557905 B2 JP 2557905B2
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magnetic
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秀樹 山宮
尚行 蘇理
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は磁界発生装置に係り、特に医療用核磁気共鳴
診断装置(以下MRIと記す。)等に適した磁界発生装置
に関する。
(従来の技術) MRIは、1〜20KG程度の強力な磁界を形成する磁界内
に人体を挿入し、所望の断層イメージを得るものであ
り、このためには強力で、かつ10-4以下の精度で均一で
安定した磁界が必要となる。このような磁界を発生する
装置としては、銅、アルミニウム等からなる導線を巻回
した常電導磁石や超電導線を用いた超電導磁石を用いた
ものが知られており、最近では、Nd−Fe−B系等の永久
磁石を用いたものも研究されている。この永久磁石回路
を用いた磁界発生装置により、コイルを用いたものと同
等の磁界が得られれば、電力の消費もなく、漏洩磁界も
小さい等、MRI用として最適である。
この永久磁石回路を用いた磁界発生装置としては、第
3図に示すように、空隙6を形成するように対向して配
置した永久磁石1、2を継鉄5により磁気的に結合し、
さらに磁界の均一性を向上させるために、永久磁石1、
2の空隙6側の面に純鉄のような高透磁率磁性材料から
なる磁極片3、4を設置し、この空隙6内に磁界を発生
させるものが知られている。
例えば、このような磁界発生装置をMRIシステムに適
用する場合、この空隙内に勾配磁場コイル(通常、X
軸、Y軸、Z軸方向に勾配をつけるため3個使用され
る。)を配置し、この勾配磁場コイルによって勾配磁場
をつくり、永久磁石により形成される静磁界と重畳する
ことにより、X座標、Y座標に応じて共鳴核周波数の異
なる静磁界空間が形成され、この周波数を測定すること
により空間的位置を検出するように構成する。
ところで、この勾配磁場はパルス磁界として加えられ
るが、このパルス磁界を発生させるために勾配磁場コイ
ルにパルス電流を流すと、磁極片に渦電流が流れ、パル
ス磁界の立上り時間および立下り時間が大きくなってし
まう。このパルス磁界の立上り時間および立下り時間
は、画像のS/N比に大きく関係し、立上り時間および立
下り時間が大きくなるとS/N比が低下してしまうという
問題がある。
このような問題の一解決手段として、磁極片として鉄
粉等の磁性粉とゴムや樹脂等の電気絶縁性の結合材とか
らなる磁性複合材料のような比抵抗の非常に大きい磁性
材料を使用して、渦電流の発生を防止し、パルス磁界の
立上り時間および立下り時間を向上させる試みがなされ
ている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、このような磁性複合材料を使用した磁
極片では、磁性複合材料自体の均一性が不十分なこと
と、構成上あまり大形状のものが作製できないためにブ
ロック状のものを組合せて使用するため、静磁界の均一
性が低下してしまうという問題があり、また静磁界の均
一性を向上させるためには磁極片が大きくなり、装置が
大型化してしまい、さらに磁界の強度が低下してしまう
という問題がある。
本発明はこのような従来の問題点を解決するためにな
されたもので、強力で均一性に優れた磁界が得られ、か
つ勾配磁場コイルの発生するパルス磁界の立上り時間お
よび立下り時間に与える影響の少ない磁界発生装置を提
供することを目的とする。
[発明の構成] (問題点を解決するための手段) 本発明の磁界発生装置は、所定の空隙に磁界を発生す
る磁界発生装置にいて、前記空隙の磁路方向両端部に、
高透磁率磁性材料と磁性複合材料とを磁路方向に積層し
た磁極片を配置したことを特徴とする。
本発明に使用される磁極片は、鉄粉や鉄合金粉等の磁
性粉とゴムや樹脂等の電気絶縁性の結合材料とからなる
比抵抗の大きい磁性複合材料と、純鉄や軟鉄等の透磁率
の高い磁性材料とを併用し、高透磁率磁性材料を磁界が
形成される空隙に面する位置に配置して積層したもので
ある。
本発明の磁極片として使用される高透磁率磁性材料と
磁性複合材料との厚さ比は、高透磁率磁性材料の厚さが
あまり厚いと勾配磁場コイルに流すパルス電流により渦
電流が生じる可能性が高くなり、逆に薄すぎると磁界の
均一性が十分に得られにくくなるため、1:1〜1:20の範
囲が好ましい。そして、磁極片全体の厚さとしては、発
生させる磁界の大きさや使用する磁石の大きさによって
異なるが、50mm〜300mmの範囲が好ましい。磁極片全体
の厚さが50mm未満であると磁極片としての磁界均一性向
上効果が十分に得られにくく、300mmを超えてもそれ以
上の効果が得られないばかりか磁界強度の低下を生じる
可能性があり好ましくない。
また、使用する磁石としては常電導磁石や超電導磁石
とも用いることができるが、永久磁石を用いることが好
ましい。ここで永久磁石としては、フェライト磁石、ア
ルニコ磁石、希土類コバルト系磁石、希土類鉄ホウ素系
磁石等が挙げられ、特に希土類鉄ホウ素系磁石等の強力
な磁石を用いると装置がさらに小型化でき好ましい。こ
の希土類鉄ホウ素系磁石としては、最大エネルギー積
(BH)maxが大きいものが好ましく、例えば希土類元素
としてNdを用い、Nd13〜16重量%、B1〜8重量%、残部
が実質的にFeからなるものが挙げられる。なお、希土類
元素としてNdの一部をPr、Tb、Dy等で置換したり、Feの
一部をCo、Al、Ga等の1種または2種以上の元素で置換
して用いてもよい。これらにより、さらに保磁力や残留
磁束密度の温度特性が改善され、磁界の温度安定性が向
上する。
(作用) 本発明の磁界発生装置において、磁極片として比抵抗
の大きい磁性複合材料と透磁率の高い磁性材料とを組合
せて使用しているので、複合磁性材料によりパルス磁界
の立上り時間および立下り時間を、例えばMRI用磁界発
生装置として最低限要求される2ミリ秒以下に押えら
れ、かつ発生される磁界は渦電流の流れない程度に薄い
磁界発生空隙に面する位置に配置された高透磁率磁性材
料により均一化されるので、強力でかつ均一な磁界を比
較的小型な磁極片で形成できる。
(実施例) 以下、本発明の実施例について図面を参照してさらに
詳細に説明する。
第1図は本発明の一実施例の磁界発生装置を示す断面
図であり、同図において、7、8は一方の面に各々磁極
片9、10が固着された一対の永久磁石であり、これら磁
極片9、10が所定の空隙16を形成するように対向配置さ
れており、これら磁極片9、10は、直径1200mm×厚さ10
0mmの鉄粉とエポキシ樹脂による磁性複合材料からなる
第1磁極片11、12と直径1200mm×厚さ30mmの純鉄からな
る第2磁極片13、14とを、第2磁極片13、14が空隙16に
面する位置に配置されるように積層、固着したものであ
る。また、永久磁石7、8の他方の面は、継鉄15により
磁気的に結合されている。
このように構成した磁界発生装置の磁界強度を測定し
たところ、空隙中心で2.4kGで、その均一性は空隙長さ
の1/2の範囲で70ppmであった。
次に、第1図に示すように、空隙16内の磁極片9、10
に近接した所定の位置に勾配磁場コイル17を配置し(図
中、X方向の勾配磁場コイルのみ図示。)、勾配磁場コ
イルにパルス電流を印加して勾配磁場を発生させ、この
パルス磁界の立上り時間および立下り時間を測定したと
ころ、各々1ミリ秒と良好な値を示し、現実的なMRI用
磁界発生装置となることを確認した。
次に磁極片9、10が常電導磁石からなるものおよび磁
極片9、10が超電導磁石からなるものを用いた以外は上
記実施例と同様にして磁界発生装置を構成した。これら
の磁界強度は上記実施例とほぼ同様であった。
一方、本発明との比較のため、磁極片を複合磁性材料
だけで形成した以外は実施例と同一形状の磁界発生装置
を構成し、同様に磁界強度およびその均一性を測定した
ところ、2.3kG、均一性は500ppmであった。
また、上記比較例と同一の構成で実施例と同一の均一
性を有する磁界を得るためには、磁極片形状を1.3倍と
大きくしなければならなかった。
また、第2図は本発明の他の実施例を示す断面図であ
り、各々一方の端部に継鉄25、26が固着された磁極片1
9、20を所定の空隙を形成するように対向配置し、鉄継2
5、26の他方の端部を1つの永久磁石18と磁気的に結合
して構成したものである。なお、磁極片19、20は前述の
実施例と同様に磁性複合材料からなる第1磁極片21、22
と純鉄からなる第2磁極片23、24とを積層したものであ
る。このように構成した磁界発生装置においても前述の
実施例と同様な効果が得られた。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、磁極片として磁
性複合材料と高透磁率磁性材料とを組合せて使用してい
るので、比較的軽量、小型や磁界発生装置によって強力
かつ均一な磁界が得られ、さらにMRI用磁界発生装置と
して使用する場合には、パルス磁場発生の際の立上り時
間および立下り時間を小さくでき、これによりS/N比の
向上した画像が得られるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例の磁界発生装置を概略的に示
す断面図、第2図は他の実施例を示す断面図、第3図は
従来の磁界発生装置を示す断面図である。 7、8……永久磁石 9、10……磁極片 11、12……磁性複合材料からなる第1磁極片 13、14……高透磁率磁性材料からなる第2磁極片 15……継鉄 16……空隙

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定の空隙に磁界を発生する磁界発生装置
    において、前記空隙の磁路方向両端部に、高透磁率磁性
    材料と磁性複合材料とを磁路方向に積層した磁極片を配
    置したことを特徴とする磁界発生装置。
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