JP2553146B2 - グリコールエーテルの精製法 - Google Patents
グリコールエーテルの精製法Info
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- JP2553146B2 JP2553146B2 JP63105045A JP10504588A JP2553146B2 JP 2553146 B2 JP2553146 B2 JP 2553146B2 JP 63105045 A JP63105045 A JP 63105045A JP 10504588 A JP10504588 A JP 10504588A JP 2553146 B2 JP2553146 B2 JP 2553146B2
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- glycol ether
- reaction
- butyl carbitol
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はグリコールエーテルの精製法に関する。グリ
コールエーテルは塗料，印刷インキ，染料，洗剤等の溶
剤等として用いられている。
コールエーテルは塗料，印刷インキ，染料，洗剤等の溶
剤等として用いられている。
従来の技術 グリコールエーテルの精製法として、グリコールエー
テルを塩基性化合物と接触させた後、又は該塩基性化合
物の存在下に蒸留分離する方法が知られている（特公昭
57-288号公報）。該方法によると、グリコールエーテル
中の有機過酸化物が低減される。
テルを塩基性化合物と接触させた後、又は該塩基性化合
物の存在下に蒸留分離する方法が知られている（特公昭
57-288号公報）。該方法によると、グリコールエーテル
中の有機過酸化物が低減される。
発明が解決しようとする課題 従来、製造されているグリコールエーテルは、オキシ
ラン化合物のアルコールへの付加反応に由来するため
か、また構造上本質的にエーテル結合を持つためか、製
造後、経時的に過酸化物濃度が増大したり、酸価が上昇
するなど保存時に若干の経時変化があるものが多い。
ラン化合物のアルコールへの付加反応に由来するため
か、また構造上本質的にエーテル結合を持つためか、製
造後、経時的に過酸化物濃度が増大したり、酸価が上昇
するなど保存時に若干の経時変化があるものが多い。
又、ごく微量の不純物質の共存のために本来のグリコ
ールエーテル臭とは異なる臭気が含まれる場合が多い。
これらグリコールエーテルの紫外線吸収スペクトルをと
ると、一様に200nmから300nmにかけて、幅広い大きな吸
収が見られ、この波長の吸収を持つ物質（以下、UV吸収
物質と略記する）が混在することが明らかとなった。
ールエーテル臭とは異なる臭気が含まれる場合が多い。
これらグリコールエーテルの紫外線吸収スペクトルをと
ると、一様に200nmから300nmにかけて、幅広い大きな吸
収が見られ、この波長の吸収を持つ物質（以下、UV吸収
物質と略記する）が混在することが明らかとなった。
これら品質上の問題点を解決し、UV吸収物質が少な
い、改善された臭気の高品質製品を得る為の精製の方法
が求められている。
い、改善された臭気の高品質製品を得る為の精製の方法
が求められている。
課題を解決するための手段 本発明方法によると、グリコールエーテルの精製法に
おいて、精製工程に水素化反応工程を加えることによ
り、グリコールエーテル中のUV吸収物質を減少させ、か
つ快い臭気を有するものへ改善させることができる。
おいて、精製工程に水素化反応工程を加えることによ
り、グリコールエーテル中のUV吸収物質を減少させ、か
つ快い臭気を有するものへ改善させることができる。
本発明に用いるグリコールエーテルとしては、例え
ば、アルコールと酸化エチレン及び／又は酸化プロピレ
ンとを付加反応することによって得られたものがあげら
れる。
ば、アルコールと酸化エチレン及び／又は酸化プロピレ
ンとを付加反応することによって得られたものがあげら
れる。
アルコールとしては、メタノール，エタノール,n−プ
ロパノール，イソプロパノール,n−ブタノール，イソブ
タノール，ターシャリーブタノール，アミルアルコー
ル，ヘキサノール,n−オクタノール,2−エチルヘキサノ
ールなど，炭素１から10までの脂肪族アルコールがあげ
られる。
ロパノール，イソプロパノール,n−ブタノール，イソブ
タノール，ターシャリーブタノール，アミルアルコー
ル，ヘキサノール,n−オクタノール,2−エチルヘキサノ
ールなど，炭素１から10までの脂肪族アルコールがあげ
られる。
酸化エチレン又は酸化プロピレンの使用量としては、
アルコール１モルに対して0.05〜１モル、好ましくは0.
1〜0.5モルの範囲である。
アルコール１モルに対して0.05〜１モル、好ましくは0.
1〜0.5モルの範囲である。
アルコールと酸化エチレン及び／又は酸化プロピレン
との付加反応は50〜200℃で、0.1〜５時間行われる。
との付加反応は50〜200℃で、0.1〜５時間行われる。
水素化反応工程は、付加反応工程後の精製工程の任意
の工程に加えることができる。
の工程に加えることができる。
付加反応は酸化オキシランの高次付加物の生成を抑制
するため、アルコール過剰系で行われる。そのため、反
応系から過剰のアルコールを蒸留で回収した後の精製工
程に水素化反応工程を加える。しかし、水素化反応条件
によっては、分離を必要とする副生成物が生じることも
あるので、この場合には、水素化反応工程は付加反応工
程のすぐ次に加える方がよい。
するため、アルコール過剰系で行われる。そのため、反
応系から過剰のアルコールを蒸留で回収した後の精製工
程に水素化反応工程を加える。しかし、水素化反応条件
によっては、分離を必要とする副生成物が生じることも
あるので、この場合には、水素化反応工程は付加反応工
程のすぐ次に加える方がよい。
水素化反応の形成としては、特に制限はなく、液相懸
濁相反応，固定床流通式反応，気相反応等の方法が適用
される。いずれの反応方法を選択するかは主として時間
当りの処理量によるのであって、規模が大きくなれば固
定床流通式反応が適用される。
濁相反応，固定床流通式反応，気相反応等の方法が適用
される。いずれの反応方法を選択するかは主として時間
当りの処理量によるのであって、規模が大きくなれば固
定床流通式反応が適用される。
水素化反応工程は、それ自体公知の水素化試薬によっ
てもよく、また水素化触媒を用いた水素添加方法によっ
てもよい。水素化試薬としては、たとえばLiAlH4,NaHな
どを用いることができる。
てもよく、また水素化触媒を用いた水素添加方法によっ
てもよい。水素化試薬としては、たとえばLiAlH4,NaHな
どを用いることができる。
水素化触媒としては、市販品として入手可能なニッケ
ル系，銅クロム系等の触媒の他、パラジウム，ルテニウ
ム，ロジウム，白金等の白金属元素を各種担体に担持し
た触媒の中から適宜選択することができる。
ル系，銅クロム系等の触媒の他、パラジウム，ルテニウ
ム，ロジウム，白金等の白金属元素を各種担体に担持し
た触媒の中から適宜選択することができる。
担体としては、活性炭，ケイソウ土，シリカ，アルミ
ナ等が用いられる。
ナ等が用いられる。
水素化反応条件は、水素化後の物質の紫外線吸収スペ
クトルが大幅に改善されるように、即ち、吸収が極小に
なるように諸条件を相関させればよい。例えば、水素圧
力は高いほどよいが、設備費の面からは低いほど好まし
いので、大気圧から50kg/cm2の圧力が選択される。反応
温度は採用される触媒にもよるが、低すぎれば効果が少
なく、一方高すぎると、水素化反応は良く行われるもの
の、分解反応等、好ましくない反応をもひき起こされる
ので、一般には20〜150℃、好ましくは50〜130℃の範囲
である。
クトルが大幅に改善されるように、即ち、吸収が極小に
なるように諸条件を相関させればよい。例えば、水素圧
力は高いほどよいが、設備費の面からは低いほど好まし
いので、大気圧から50kg/cm2の圧力が選択される。反応
温度は採用される触媒にもよるが、低すぎれば効果が少
なく、一方高すぎると、水素化反応は良く行われるもの
の、分解反応等、好ましくない反応をもひき起こされる
ので、一般には20〜150℃、好ましくは50〜130℃の範囲
である。
以下に実施例を示す。
実施例1. オートクレーブに、ノルマルブタノール588重量部
（以下、部は重量部を表す）及び酸化エチレン50部を加
えた後、さらにトリエチルアミン1.3部をすばやく加
え、ついでチッソガスで置換した後、密封し、加熱炉
上、100℃で３時間反応させた。反応終了後、精留して
得た製品は、エチレングリコールモノブチルエーテル
（以下、ブチルセロソルブと称す）94部，ジエチレング
リコールモノブチルエーテル（以下、ブチルカルビトー
ルと称す）18部及びポリエチレングリコールモノブチル
エーテル類3.3部であった。ついで、得られたブチルセ
ロソルブ10部をオートクレーブに入れ、５％担持ルテニ
ウム−活性炭粉末触媒を１部加え、チッソガスで置換し
た後、水素ガスを30kg/cm2まで圧入して、100℃の油浴
上で２時間反応させた。
（以下、部は重量部を表す）及び酸化エチレン50部を加
えた後、さらにトリエチルアミン1.3部をすばやく加
え、ついでチッソガスで置換した後、密封し、加熱炉
上、100℃で３時間反応させた。反応終了後、精留して
得た製品は、エチレングリコールモノブチルエーテル
（以下、ブチルセロソルブと称す）94部，ジエチレング
リコールモノブチルエーテル（以下、ブチルカルビトー
ルと称す）18部及びポリエチレングリコールモノブチル
エーテル類3.3部であった。ついで、得られたブチルセ
ロソルブ10部をオートクレーブに入れ、５％担持ルテニ
ウム−活性炭粉末触媒を１部加え、チッソガスで置換し
た後、水素ガスを30kg/cm2まで圧入して、100℃の油浴
上で２時間反応させた。
水素化反応前（以下、水添前と称す）のブチルセロソ
ルブと水素反応後（以下、水添後と称す）のブチルセロ
ソルブとの分析結果を第１表に、それらの紫外線吸収ス
ペクトルを第１図にそれぞれ示す。
ルブと水素反応後（以下、水添後と称す）のブチルセロ
ソルブとの分析結果を第１表に、それらの紫外線吸収ス
ペクトルを第１図にそれぞれ示す。
第１図から明らかな如く、水添後のブチルセロソルブ
は水添前のそれに比べてUV吸収物質が非常に減少してい
ることが判る。
は水添前のそれに比べてUV吸収物質が非常に減少してい
ることが判る。
実施例2. 実施例１で得られたブチルカルビトール10部をオート
クレーブに入れ、50％担持ニッケル−ケイソウ土粉末触
媒１部を加え、チッソガスで置換した後、水素ガスを30
kg/cm2まで圧入して、100℃の油浴上で２時間反応させ
た。水添前のブチルカルビトールと水添後とのブチルカ
ルビトールの分析結果を第１表に、それらの紫外線吸収
スペクトルを第２図にそれぞれ示す。
クレーブに入れ、50％担持ニッケル−ケイソウ土粉末触
媒１部を加え、チッソガスで置換した後、水素ガスを30
kg/cm2まで圧入して、100℃の油浴上で２時間反応させ
た。水添前のブチルカルビトールと水添後とのブチルカ
ルビトールの分析結果を第１表に、それらの紫外線吸収
スペクトルを第２図にそれぞれ示す。
第２図から明らかな如く、水添後のブチルカルビトー
ルは水添前のそれに比べてUV吸収物質が非常に減少して
いることが判る。
ルは水添前のそれに比べてUV吸収物質が非常に減少して
いることが判る。
第１表の明らかな如く、実施例１及び２で得られた水
添物は水添前のものに比べてカルボニル化合物（Ｃ＝０
％と表示）が非常に減少し、過酸化物濃度の経時増加率
の低いことがあげられる。
添物は水添前のものに比べてカルボニル化合物（Ｃ＝０
％と表示）が非常に減少し、過酸化物濃度の経時増加率
の低いことがあげられる。
実施例3. 市販のブチルカルビトールを選択し、固定床流通式反
応器を用いて水素化反応を行った。反応器は直径1.5イ
ンチで触媒充填の高さは400mmとし、これに55％担持ニ
ッケル−ケイソウ土成型触媒（5mm直径×5mm高）を充填
した。水素ガスで圧力を20kg/cm2に保ち、120℃に予熱
したブチルカルビトールを700ml/毎時の速度で供給し、
水添ブチルカルビトールを得た。水添前のブチルカルビ
トールと水添後のブチルカルビトールとの紫外線吸収ス
ペクトルを第３図に示す。第３図から明らかな如く、水
添後のブチルカルビトールは水添前のそれに比べてUV吸
収物質が非常に減少していることが判る。又、水添後の
ブチルカルビトールの臭気は水添前のブチルカルビトー
ルのそれに比べて軽い、快い臭気に改善されていた。
応器を用いて水素化反応を行った。反応器は直径1.5イ
ンチで触媒充填の高さは400mmとし、これに55％担持ニ
ッケル−ケイソウ土成型触媒（5mm直径×5mm高）を充填
した。水素ガスで圧力を20kg/cm2に保ち、120℃に予熱
したブチルカルビトールを700ml/毎時の速度で供給し、
水添ブチルカルビトールを得た。水添前のブチルカルビ
トールと水添後のブチルカルビトールとの紫外線吸収ス
ペクトルを第３図に示す。第３図から明らかな如く、水
添後のブチルカルビトールは水添前のそれに比べてUV吸
収物質が非常に減少していることが判る。又、水添後の
ブチルカルビトールの臭気は水添前のブチルカルビトー
ルのそれに比べて軽い、快い臭気に改善されていた。
発明の効果 本発明方法により、経時変化が小さく、臭気も改善さ
れ、かつUV吸収物質の減少した高品位のグリコールエー
テルが得られる。
れ、かつUV吸収物質の減少した高品位のグリコールエー
テルが得られる。
第１〜３図は、実施例１〜３で得られた水添後のグリコ
ールエーテルと水添前のグリコールエーテルの紫外線吸
収スペクトルをそれぞれ示す。 図中：水添後のグリコールエーテル：− 水添前のグリコールエーテル：…
ールエーテルと水添前のグリコールエーテルの紫外線吸
収スペクトルをそれぞれ示す。 図中：水添後のグリコールエーテル：− 水添前のグリコールエーテル：…
Claims (1)
- 【請求項１】グリコールエーテルの精製法において、精
製工程に水素化反応工程を加えることを特徴とするグリ
コールエーテルの精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63105045A JP2553146B2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | グリコールエーテルの精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63105045A JP2553146B2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | グリコールエーテルの精製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01275544A JPH01275544A (ja) | 1989-11-06 |
| JP2553146B2 true JP2553146B2 (ja) | 1996-11-13 |
Family
ID=14397032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63105045A Expired - Fee Related JP2553146B2 (ja) | 1988-04-27 | 1988-04-27 | グリコールエーテルの精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2553146B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106660914B (zh) * | 2014-07-30 | 2019-06-04 | 昭和电工株式会社 | 烷撑二醇单烷基醚的分离回收方法、抗蚀剂组合物处理废液的再利用方法和抗蚀剂组合物处理液的循环使用方法 |
| WO2023120361A1 (ja) * | 2021-12-21 | 2023-06-29 | ダウ・東レ株式会社 | アリル基含有不純物の含有量が低減されたオキシプロピレン基含有グリコールエーテル類の製造方法 |
-
1988
- 1988-04-27 JP JP63105045A patent/JP2553146B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01275544A (ja) | 1989-11-06 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |