JP2543578B2 - ポリアルキレングリコ―ルナフチル−3−スルホプロピルジエ―テル化合物およびその塩、その調製方法並びにこれらを含有する電気めっき浴 - Google Patents
ポリアルキレングリコ―ルナフチル−3−スルホプロピルジエ―テル化合物およびその塩、その調製方法並びにこれらを含有する電気めっき浴Info
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Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の概要〕 次に式の新規なポリアルキレングリコールナフチル−
3−スルホプロピルジエーテルおよびその塩 (式中、R1〜R3=H、CpH2p-1;p=1〜4、A=(PO)m−
(EO)n−、(EO)n−(PO)m、−(EO)nEO=エチレンオキシド
残基、PO=プロピレンオキシド残基、m=0〜15、n=
1〜40、B=H、アルカリ金属、アルカリ土類金属、NR
5R6R7R8(式中、R5〜R8=H、C1〜C4のアルキル、アリ
ール、アラルキル)は、対応するポリアルキレングリコ
ールナフチルエーテルをプロパン−1,3−スルトンと反
応させることにより調製される。この化合物は、特にZ
n,Sn,Cu,Ag,Ni並びにこれらの合金を付着させる電気め
っき浴の界面活性剤として好適である。
3−スルホプロピルジエーテルおよびその塩 (式中、R1〜R3=H、CpH2p-1;p=1〜4、A=(PO)m−
(EO)n−、(EO)n−(PO)m、−(EO)nEO=エチレンオキシド
残基、PO=プロピレンオキシド残基、m=0〜15、n=
1〜40、B=H、アルカリ金属、アルカリ土類金属、NR
5R6R7R8(式中、R5〜R8=H、C1〜C4のアルキル、アリ
ール、アラルキル)は、対応するポリアルキレングリコ
ールナフチルエーテルをプロパン−1,3−スルトンと反
応させることにより調製される。この化合物は、特にZ
n,Sn,Cu,Ag,Ni並びにこれらの合金を付着させる電気め
っき浴の界面活性剤として好適である。
本発明は、新規なポリアルキレングリコールナフチル
−3−スルホプロピルジエーテルおよびその塩並びにこ
れらの化合物を調製する方法並びにこれらの化合物を界
面活性剤として含有する電気めっき浴に関する。
−3−スルホプロピルジエーテルおよびその塩並びにこ
れらの化合物を調製する方法並びにこれらの化合物を界
面活性剤として含有する電気めっき浴に関する。
電気めっき浴から金属を付着させるに際し界面活性剤
としてエトキシβ−ナフトールを使用することは知られ
ている。これらの化合物は、溶液状態で化学光沢剤を保
持し、陰極表面の湿潤剤として作用し、亜鉛、カドミウ
ム、銅、銀並びに類似物のような付着すべき金属と共に
陰極金属表面に水素が固定される際に生成するいわゆる
水素孔の形成を回避するのに特に適切である。しかしな
がら、これらの非イオン性化合物の溶解性は、pH、塩濃
度、温度並びに分子の鎖長に強く依存する。この化合物
は、約150A/dm2に至る高電流密度および約79℃に至る高
温で使用する高性能電気めっき浴には適切ではない。
としてエトキシβ−ナフトールを使用することは知られ
ている。これらの化合物は、溶液状態で化学光沢剤を保
持し、陰極表面の湿潤剤として作用し、亜鉛、カドミウ
ム、銅、銀並びに類似物のような付着すべき金属と共に
陰極金属表面に水素が固定される際に生成するいわゆる
水素孔の形成を回避するのに特に適切である。しかしな
がら、これらの非イオン性化合物の溶解性は、pH、塩濃
度、温度並びに分子の鎖長に強く依存する。この化合物
は、約150A/dm2に至る高電流密度および約79℃に至る高
温で使用する高性能電気めっき浴には適切ではない。
公知化合物の硫酸塩誘導体はドイツ特許公告第343295
6号から公知である。しかしながら、これらの化合物
は、高加水分解に耐容性でなく光沢剤としてもほとんど
適合性に欠ける。
6号から公知である。しかしながら、これらの化合物
は、高加水分解に耐容性でなく光沢剤としてもほとんど
適合性に欠ける。
類似するアルコキシル化ナフトールのプロパン−1,3
−スルトンとの反応生成物である新規な化合物を使用す
れば、従来技術の化合物の欠点が除去されることをこの
度突き止めた。β−ナフトールのプロパン−1,3−スル
トンとの反応生成物はドイツ特許公告第1963818号から
公知であるが、この化合物は薬剤であり、未だかつて電
気めっき浴に使用されるには至っていない。
−スルトンとの反応生成物である新規な化合物を使用す
れば、従来技術の化合物の欠点が除去されることをこの
度突き止めた。β−ナフトールのプロパン−1,3−スル
トンとの反応生成物はドイツ特許公告第1963818号から
公知であるが、この化合物は薬剤であり、未だかつて電
気めっき浴に使用されるには至っていない。
本発明のポリアルキレングリコールナフチル−3−ス
ルホプロピルジエーテルは次の一般式を有する: 式中、R1、R2並びにR3は水素または低級アルキル基CpH
2p+1(式中、pは1〜4である)であり、Aは基−(PO)
m−(EO)nまたは−(EO)n−(PO)m−または−(EO)(PO)n
−(式中、EOは基−CH2CH3−O−であり、POは基 mは0〜15の整数を意味し、nは1〜40の整数である)
であり、Bは水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属ま
たはアンモニウム陽イオンNR4R5R6R7(式中、R4〜R7は
水素、C1〜C4のアルキル、アリールまたはアラルキルで
ある)である)。
ルホプロピルジエーテルは次の一般式を有する: 式中、R1、R2並びにR3は水素または低級アルキル基CpH
2p+1(式中、pは1〜4である)であり、Aは基−(PO)
m−(EO)nまたは−(EO)n−(PO)m−または−(EO)(PO)n
−(式中、EOは基−CH2CH3−O−であり、POは基 mは0〜15の整数を意味し、nは1〜40の整数である)
であり、Bは水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属ま
たはアンモニウム陽イオンNR4R5R6R7(式中、R4〜R7は
水素、C1〜C4のアルキル、アリールまたはアラルキルで
ある)である)。
式Iの化合物は、対応するα−またはβ−ナフトール
をエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシド
を用いて公知様式でアルコキシル化し、次の式IIの化合
物 をプロパン−1,3−スルトンと水酸化アルカリ、水酸化
アルカリ土類または水酸化第4アンモニウムNR4R5R6R7O
H(式中、R4〜R7は前記した意味を有するが水素を除
く)の存在下で反応させ、その後必要に応じて陽イオン
Bを公知様式により水素で置換することによって製造す
る。
をエチレンオキシドおよび/またはプロピレンオキシド
を用いて公知様式でアルコキシル化し、次の式IIの化合
物 をプロパン−1,3−スルトンと水酸化アルカリ、水酸化
アルカリ土類または水酸化第4アンモニウムNR4R5R6R7O
H(式中、R4〜R7は前記した意味を有するが水素を除
く)の存在下で反応させ、その後必要に応じて陽イオン
Bを公知様式により水素で置換することによって製造す
る。
陽イオンBの水素交換は、例えばイオン交換樹脂によ
り行う。B=NR4R5R6R7(式中、R4、R5、R6並びにR7は
水素でないか一部水素である)である化合物は、公知様
式でこの酸を中和することにより調製する。
り行う。B=NR4R5R6R7(式中、R4、R5、R6並びにR7は
水素でないか一部水素である)である化合物は、公知様
式でこの酸を中和することにより調製する。
式IIの化合物のプロパン−1,3−スルトンとの反応
は、アルコキシ基の鎖長および望む反応速度により0〜
100℃の範囲の温度で行う。
は、アルコキシ基の鎖長および望む反応速度により0〜
100℃の範囲の温度で行う。
R1、R2並びにR3が水素およびCH3であり、nが2〜10
であり、mが1〜5であり、Bがカリウムまたはナトリ
ウムである化合物が好適である。これらの場合、プロパ
ン−1,3−スルトンとの反応温度は35〜50℃が好適であ
る。
であり、mが1〜5であり、Bがカリウムまたはナトリ
ウムである化合物が好適である。これらの場合、プロパ
ン−1,3−スルトンとの反応温度は35〜50℃が好適であ
る。
電気めっき浴の界面活性剤としての本発明の化合物の
使用は、m=0を有する化合物を用いても可能である。
特に好適なのは、m=1〜5でn=2〜24(特に6〜1
0)の化合物である。ガルバノ技術的目的に有用なの
は、α−およびβ−ナフトールの誘導体ばかりでなく、
1〜3置換のこれらの置換誘導体であって、特にメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル並びにイ
ソブチルが存在し得る同等もしくは相違するものであ
る。この種の置換の存在はこの種の化合物の安定性に不
利を与えない。
使用は、m=0を有する化合物を用いても可能である。
特に好適なのは、m=1〜5でn=2〜24(特に6〜1
0)の化合物である。ガルバノ技術的目的に有用なの
は、α−およびβ−ナフトールの誘導体ばかりでなく、
1〜3置換のこれらの置換誘導体であって、特にメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル並びにイ
ソブチルが存在し得る同等もしくは相違するものであ
る。この種の置換の存在はこの種の化合物の安定性に不
利を与えない。
βが、プロトンまたはナトリウムもしくはカリウムの
ようなアルカリ金属の1つまたはカルシウムのようなア
ルカリ土類金属の1つまたはアミンまたはアンモニウム
陽イオンのいずれであるかという点は特に重要ではな
い。電気めっき浴中では、これらの化合物は遊離イオン
で分解するからである。
ようなアルカリ金属の1つまたはカルシウムのようなア
ルカリ土類金属の1つまたはアミンまたはアンモニウム
陽イオンのいずれであるかという点は特に重要ではな
い。電気めっき浴中では、これらの化合物は遊離イオン
で分解するからである。
式NR4R5R6R7のようなアンモニウム陽イオンとして、R
4〜R7が水素、C1〜C4の低級アルキル基、アリール基ま
たはアラルキル基であれば適切である。
4〜R7が水素、C1〜C4の低級アルキル基、アリール基ま
たはアラルキル基であれば適切である。
電気めっき浴で使用する本発明の化合物の量は0.01〜
20g/lである。この種の浴は、亜鉛およびその合金、ニ
ッケル、銅およびその合金、錫およびその合金、並びに
銀を付着するのに使用すれば好適である。この化合物は
着色浴のような無電気めっき浴にも適切である。
20g/lである。この種の浴は、亜鉛およびその合金、ニ
ッケル、銅およびその合金、錫およびその合金、並びに
銀を付着するのに使用すれば好適である。この化合物は
着色浴のような無電気めっき浴にも適切である。
本発明の化合物は曇り点を有さず、グリースや油に容
易に分散する。したがって、これらは、0.1〜100g/lの
濃度の脱グリース浴で界面活性剤として有用である。
易に分散する。したがって、これらは、0.1〜100g/lの
濃度の脱グリース浴で界面活性剤として有用である。
電気めっき浴で本発明の化合物を使用すれば、驚くべ
きことに陰極表面は不活性化されない。その作用は非イ
オン性およびイオン性界面活性剤の配合物に相当する
が、それに加えて広範囲の電流密度に渡り極めて良好な
展性を備えた光沢のある付着物が与えられる。高性能浴
にて温度および電流密度を上げてもこの化合物は極めて
安定である。極めて限られた量でのみさらに発泡が起こ
る。したがって、この化合物は、例えばニッケルを付着
させる際の通気下での電気めっき浴に使用し得る。
きことに陰極表面は不活性化されない。その作用は非イ
オン性およびイオン性界面活性剤の配合物に相当する
が、それに加えて広範囲の電流密度に渡り極めて良好な
展性を備えた光沢のある付着物が与えられる。高性能浴
にて温度および電流密度を上げてもこの化合物は極めて
安定である。極めて限られた量でのみさらに発泡が起こ
る。したがって、この化合物は、例えばニッケルを付着
させる際の通気下での電気めっき浴に使用し得る。
以下の実施例により本発明を説明する 実施例1 ポリエチレングリコール−(2−ナフチル)−(3−
スルホプロピル)ジエーテルの二カリウム塩の製造: 0.5モルの2−ナフトールエトキシラート(n=6〜2
4)に40〜50℃で0.505モルの水酸化カリウム(カリ化合
物および他の不純物を含有しない純粋KOHに基き計算)
を撹拌しつつ0.5時間以内で加える。これにより冷却を
必要とし得る僅かな発熱反応が生起する。その後同じ条
件下で0.5モルの溶融プロパン−1,3−スルトン(融点40
〜50℃)を冷却しつつ1時間以内で加える。反応を完遂
すべく混合物を40〜50℃で3時間さらに撹拌する。次の
特性を有する95〜105%の明茶〜暗茶色の粘性液体(n
=6〜15)またはワックス状(n=24)生成物が得られ
る: 化合物の含量:75〜87%(2相滴定による) 水 2〜5%(カール・フッシャ滴定) pH 9〜12(10%水溶液) 生成物は水および10%硫酸水溶液に可溶性である。
スルホプロピル)ジエーテルの二カリウム塩の製造: 0.5モルの2−ナフトールエトキシラート(n=6〜2
4)に40〜50℃で0.505モルの水酸化カリウム(カリ化合
物および他の不純物を含有しない純粋KOHに基き計算)
を撹拌しつつ0.5時間以内で加える。これにより冷却を
必要とし得る僅かな発熱反応が生起する。その後同じ条
件下で0.5モルの溶融プロパン−1,3−スルトン(融点40
〜50℃)を冷却しつつ1時間以内で加える。反応を完遂
すべく混合物を40〜50℃で3時間さらに撹拌する。次の
特性を有する95〜105%の明茶〜暗茶色の粘性液体(n
=6〜15)またはワックス状(n=24)生成物が得られ
る: 化合物の含量:75〜87%(2相滴定による) 水 2〜5%(カール・フッシャ滴定) pH 9〜12(10%水溶液) 生成物は水および10%硫酸水溶液に可溶性である。
以下の実施例は、電気めっき浴で界面活性剤としてこ
の化合物を使用するものを示す: 実施例2 a.亜鉛電気めっき浴 構成成分を亜鉛末と混合後全ての電気めっき浴を洗浄
した。
の化合物を使用するものを示す: 実施例2 a.亜鉛電気めっき浴 構成成分を亜鉛末と混合後全ての電気めっき浴を洗浄
した。
2a.アンモニアを含有する酸性亜鉛電気めっき浴 塩化亜鉛 90 g/l 塩化アンモニウム 160 g/l pH 4.9〜5.8 実施例1の化合物(n=24) 6 g/l 安息香酸ナトリウム 3 g/l ベンザルアセトン 0.2 g/l フル(Hull)・セル 1A−15分 光沢付着範囲 0.1〜5A/dm2 2b.アンモニアを含有しない酸性亜鉛電気めっき浴 塩化亜鉛 90 g/l 塩化カリウム 200 g/l ホウ酸 25 g/l pH 4.9〜5.8 実施例1の化合物(n=12) 4 g/l 安息香酸ナトリウム 2 g/l ベンザルアセトン 0.1 g/l フル・セル 1A−15分 光沢付着範囲 0.1〜5A/dm2 2c.シアンを含有しない亜鉛電気めっき浴 酸化亜鉛 12.5 g/l 水酸化ナトリウム 120 g/l ロッシェル塩 4 g/l ジメチルアミノプロピルアミンとエピクロロヒドリンと
の反応生成物 (分子比 2:1) 1.5 g/l n−ベンジルニコチナート 0.1 g/l 実施例1の化合物(n=12) 0.2 g/l フル・セル 1A−15分 光沢付着範囲 0.2〜7A/dm2 2d.シアン系亜鉛電気めっき浴 実施例3 ニッケル電気めっき浴 硫酸ニッケル七水和物 330 g/l 塩化ニッケル六水和物 70 g/l ホウ酸 50 g/l pH 3.5〜4.6 ピリジニウムプロピル スルホベタイン 0.2 g/l サッカリン 4 g/l プロパルギルアルコール 0.01〜0.1 g/l 実施例1の化合物(n=24) 0.4 g/l フル・セル 2A−10分 温度 60℃ 実施例4 亜鉛/ニッケル電気めっき浴 塩化亜鉛 100 g/l 塩化ニッケル六水和物 130 g/l 塩化アンモニウム 200 g/l 実施例1の化合物(n=15) 4 g/l ベンザルアセトン 0.1 g/l pH 5.1〜6.1 フル・セル 1A−15分 温度 35〜45℃ 光沢付着範囲 0.2〜8A/dm2 実施例5 高性能電気めっき浴 5a.亜鉛電気めっき浴 硫酸亜鉛七水和物 790 g/l 塩化亜鉛 4 g/l ホウ酸 6 g/l pH 3 実施例1の化合物(n=12) 0.1〜10 g/l 硫酸アルミニウム 24 g/l 電流密度 110A/dm2まで 温度60℃ 5b.亜鉛/ニッケル電気めっき浴 硫酸亜鉛七水和物 162 g/l 硫酸ニッケル七水和物 316 g/l ナフタレンスルホン酸 1 g/l 実施例1の化合物(n=12) 0.1〜2 g/l 電流密度100A/dm2まで 温度60℃ 全ての浴について、光沢があり延性のある付着物が得ら
れ、これらはふき取りや磨滅に対し抵抗性であった。
の反応生成物 (分子比 2:1) 1.5 g/l n−ベンジルニコチナート 0.1 g/l 実施例1の化合物(n=12) 0.2 g/l フル・セル 1A−15分 光沢付着範囲 0.2〜7A/dm2 2d.シアン系亜鉛電気めっき浴 実施例3 ニッケル電気めっき浴 硫酸ニッケル七水和物 330 g/l 塩化ニッケル六水和物 70 g/l ホウ酸 50 g/l pH 3.5〜4.6 ピリジニウムプロピル スルホベタイン 0.2 g/l サッカリン 4 g/l プロパルギルアルコール 0.01〜0.1 g/l 実施例1の化合物(n=24) 0.4 g/l フル・セル 2A−10分 温度 60℃ 実施例4 亜鉛/ニッケル電気めっき浴 塩化亜鉛 100 g/l 塩化ニッケル六水和物 130 g/l 塩化アンモニウム 200 g/l 実施例1の化合物(n=15) 4 g/l ベンザルアセトン 0.1 g/l pH 5.1〜6.1 フル・セル 1A−15分 温度 35〜45℃ 光沢付着範囲 0.2〜8A/dm2 実施例5 高性能電気めっき浴 5a.亜鉛電気めっき浴 硫酸亜鉛七水和物 790 g/l 塩化亜鉛 4 g/l ホウ酸 6 g/l pH 3 実施例1の化合物(n=12) 0.1〜10 g/l 硫酸アルミニウム 24 g/l 電流密度 110A/dm2まで 温度60℃ 5b.亜鉛/ニッケル電気めっき浴 硫酸亜鉛七水和物 162 g/l 硫酸ニッケル七水和物 316 g/l ナフタレンスルホン酸 1 g/l 実施例1の化合物(n=12) 0.1〜2 g/l 電流密度100A/dm2まで 温度60℃ 全ての浴について、光沢があり延性のある付着物が得ら
れ、これらはふき取りや磨滅に対し抵抗性であった。
実施例6 酸性アンモニウム含有亜鉛電気めっき浴 塩化亜鉛 90 g/l 塩化アンモニウム160 g/l 2−ナフチル− (ポリプロピレングリコール)2.5 (ポリエチレングリコール)6− 3−スルホプロピル ジエーテルカリウム (実施例1に従って調製) 6 g/l 安息香酸ナトリウム 3 g/l ベンザルアセトン 0.2 g/l フル・セル 1A−15分 光沢付着範囲 0.1〜5A/dm2 実施例7 アンモニウムを含有しない酸性亜鉛電気めっき浴 塩化亜鉛 90 g/l 塩化カリウム 200 g/l ホウ酸 25 g/l pH 4.9〜5.8 2−ナフチル− (ポリプロピレングリコール)2.5− (ポリエチレングリコール)8− 3−スルホプロピル ジエーテルカリウム (実施例1に従って調製) 4 g/l 安息香酸ナトリウム 2 g/l ベンザルアセトン 0.1 g/l フル・セル 1A−15分 光沢付着範囲 0.1〜5A/dm2 実施例8 シアンを含有しない亜鉛電気めっき浴 酸化亜鉛 12.5 g/l 水酸化ナトリウム 120 g/l ロッシェル塩 4 g/l ジメチルアノミプロピルアミンとエピクロロヒドリンと
の反応生成物 (分子比 2:1) 1.5 g/l n−ベンジルニコチナート 0.1 g/l 2−ナフチル− (ポリプロピレングリコール)2.5− (ポリエチレングリコール)8− 3−スルホプロピル ジエーテルカリウム (実施例1に従って調製) 0.2 g/l フル・セル 1A−15分 光沢付着範囲 0.2〜7A/dm2
の反応生成物 (分子比 2:1) 1.5 g/l n−ベンジルニコチナート 0.1 g/l 2−ナフチル− (ポリプロピレングリコール)2.5− (ポリエチレングリコール)8− 3−スルホプロピル ジエーテルカリウム (実施例1に従って調製) 0.2 g/l フル・セル 1A−15分 光沢付着範囲 0.2〜7A/dm2
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C25D 3/26 C25D 3/26 3/38 3/38 3/46 3/46 (72)発明者 クラウス−ペーター クロス ドイツ連邦共和国、デー‐6097 トレビ ュール 2、ハインリッヒ ハイネ シ ュトラーセ 3番
Claims (4)
- 【請求項1】式(I)のポリアルキレングリコールナフ
チル−3−スルホプロピルジエーテルおよびその塩 (式中、R1、R2並びにR3は水素またはpが1〜4である
低級アルキル基CpH2p+1であり、Aは基−(PO)m−(EO)n
−または−(EO)n−(PO)m−または−(EO)(PO)n(式
中、EOは基−CH2CH2−O−であり、POは基 mは0〜15の整数であり、nは1〜40の整数である)で
あり、Bは水素、アルカリ金属、アルカリ土類金属また
はアンモニウム陽イオンNR4R5R6R7(式中、R4〜R7は水
素、C1〜C4のアルキル、アリールまたはアラルキルであ
る)である)。 - 【請求項2】請求項1記載の式Iの化合物を調製するに
際し、式IIの化合物: (式中、R1、R2、R3並びにAは前記した意味を有する)
を水酸化アルカリ、水酸化アルカリ土類または式NR4R5R
6R7OH(式中、R4〜R7は水素以外の前記した意味を有す
る)の水酸化アンモニウムの存在下でプロパン−1,3−
スルトンと反応させ、必要に応じてこの化合物をさらに
反応させて水素でないB陽イオンを公知様式により水素
で置換し、得られる酸をさらに必要に応じて公知様式に
より式NR4R5R6R7(式中、R4〜R7は請求項1に記載した
意味を有する)の塩基で中和することを特徴とする請求
項1記載の式Iの化合物の調製方法。 - 【請求項3】請求項1記載の式Iの化合物(式中、R1、
R2、R3、A並びにBは前記した意味を有する)の1また
は複数を界面活性剤として含有することを特徴とする電
気めっき浴または無電気クロムめっき浴。 - 【請求項4】請求項1記載の式Iの化合物(式中、Aは
前記した意味を有し、nは2〜24かつm=1〜5であ
る)の1つまたは複数を含有し亜鉛、錫、ニッケル、
銅、銀並びにこれらの合金を付着する請求項3記載の無
電気めっき浴としての電気めっき浴。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3722778.5 | 1987-07-09 | ||
DE19873722778 DE3722778A1 (de) | 1987-07-09 | 1987-07-09 | Polyalkylenglykol-naphthyl-3-sulfopropyl- diether und deren salze, verfahren zur herstellung dieser verbindungen und ihre verwendung als netzmittel in der galvanotechnik |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01146860A JPH01146860A (ja) | 1989-06-08 |
JP2543578B2 true JP2543578B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=6331274
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63167016A Expired - Lifetime JP2543578B2 (ja) | 1987-07-09 | 1988-07-06 | ポリアルキレングリコ―ルナフチル−3−スルホプロピルジエ―テル化合物およびその塩、その調製方法並びにこれらを含有する電気めっき浴 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4820388A (ja) |
EP (1) | EP0298296B1 (ja) |
JP (1) | JP2543578B2 (ja) |
AT (1) | ATE75729T1 (ja) |
DE (2) | DE3722778A1 (ja) |
ES (1) | ES2042651T3 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4976826A (en) * | 1990-02-16 | 1990-12-11 | Furukawa Circuit Foil Co., Ltd. | Method of making electrodeposited copper foil |
DE4126502C1 (ja) * | 1991-08-07 | 1993-02-11 | Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin, De | |
US5525207A (en) * | 1994-10-14 | 1996-06-11 | Mac Dermid, Incorporated | Polyalkylene glycol bis-phenyl-a-sulfopropyl diether compound and their salts, and process for their use |
US6268016B1 (en) | 1996-06-28 | 2001-07-31 | International Business Machines Corporation | Manufacturing computer systems with fine line circuitized substrates |
US7314543B2 (en) * | 2003-10-14 | 2008-01-01 | Intel Corporation | Tin deposition |
JP4872407B2 (ja) * | 2006-03-30 | 2012-02-08 | Jfeスチール株式会社 | 亜鉛めっき液、亜鉛めっき方法および鋼材の水素脆化感受性評価方法 |
US7534289B1 (en) * | 2008-07-02 | 2009-05-19 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Electroless gold plating solution |
DE102014207778B3 (de) | 2014-04-25 | 2015-05-21 | Kiesow Dr. Brinkmann GmbH & Co. KG | Verwendung einer Mischung zur Verwendung in einem galvanischen Bad oder eines galvanischen Bades zur Herstellung einer Glanznickelschicht sowie Verfahren zur Herstellung eines Artikels mit einer Glanznickelschicht |
US10611725B2 (en) | 2015-05-22 | 2020-04-07 | Basf Se | Beta-naphthol ether sulfonates, processes for preparing them and use thereof as brightness improvers |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4099537A (en) * | 1976-03-08 | 1978-07-11 | Texaco Inc. | Method for transportation of viscous hydrocarbons by pipeline |
IT1109006B (it) * | 1978-12-14 | 1985-12-16 | Menarini Sas | Acidi 2 i alogeno naft 2 ilossi propionoici forme otticamente attive e forme racemiche loro derivati e procedimenti di fabbricazione relativi |
DE3432956A1 (de) * | 1984-09-06 | 1986-03-13 | Schering AG, 1000 Berlin und 4709 Bergkamen | Sulfate und sulfoderivate der ss - naphtholpolyglykolaether und saure zinkbaeder enthaltend diese verbindungen |
-
1987
- 1987-07-09 DE DE19873722778 patent/DE3722778A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-06-13 US US07/205,631 patent/US4820388A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-21 ES ES88109826T patent/ES2042651T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-21 EP EP88109826A patent/EP0298296B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-21 DE DE8888109826T patent/DE3870730D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-06-21 AT AT88109826T patent/ATE75729T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-07-06 JP JP63167016A patent/JP2543578B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3870730D1 (de) | 1992-06-11 |
US4820388A (en) | 1989-04-11 |
DE3722778A1 (de) | 1989-03-09 |
EP0298296B1 (de) | 1992-05-06 |
JPH01146860A (ja) | 1989-06-08 |
ATE75729T1 (de) | 1992-05-15 |
ES2042651T3 (es) | 1993-12-16 |
EP0298296A1 (de) | 1989-01-11 |
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