JP2543200B2 - レンズ評価装置 - Google Patents
レンズ評価装置Info
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- JP2543200B2 JP2543200B2 JP1237797A JP23779789A JP2543200B2 JP 2543200 B2 JP2543200 B2 JP 2543200B2 JP 1237797 A JP1237797 A JP 1237797A JP 23779789 A JP23779789 A JP 23779789A JP 2543200 B2 JP2543200 B2 JP 2543200B2
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- Japan
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- reticle
- diffraction grating
- lens
- projection lens
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、半導体の露光等に用いられる高解像力レン
ズの光学特性評価に用いられるレンズ評価装置に関する
ものである。
ズの光学特性評価に用いられるレンズ評価装置に関する
ものである。
従来の技術 最近、レンズ評価装置は超高分解能が要求されてい
る。特に、半導体の微細パターンを投影するステッパ装
置に使用されるレンズは、解像力が１ミクロン以下、空
間周波数で500本/mm以下の超高解像性が要求されている
ことから、前記レンズ評価装置の性能は非常に重要であ
る。従来、レンズの評価手法としてMTF法が用いられて
いる。その一例として、写真レンズとレスポンス関数、
久保田広監修、光学技術組合編、P28〜P41、昭和36年10
月、に記載されている構成が一般的に知られている。
る。特に、半導体の微細パターンを投影するステッパ装
置に使用されるレンズは、解像力が１ミクロン以下、空
間周波数で500本/mm以下の超高解像性が要求されている
ことから、前記レンズ評価装置の性能は非常に重要であ
る。従来、レンズの評価手法としてMTF法が用いられて
いる。その一例として、写真レンズとレスポンス関数、
久保田広監修、光学技術組合編、P28〜P41、昭和36年10
月、に記載されている構成が一般的に知られている。
以下、第８図、及び第９図を参照して、従来のMTF法
について説明する。
について説明する。
第８図は走査スリットを用いたMTF法の測定原理を示
す測定装置の構成図である。101は検査する被検レンズ
であり、103は光源、102は格子チャート、104は幅の狭
い走査スリット、105は光電管からなるホトディテクタ
である。
す測定装置の構成図である。101は検査する被検レンズ
であり、103は光源、102は格子チャート、104は幅の狭
い走査スリット、105は光電管からなるホトディテクタ
である。
以上のような構成において、まず、被検レンズ101の
レンズ倍率をβとした場合、評価する空間周波数の1/β
倍の格子チャート102が、物体面上に置かれ、背後の光
源103に依り照明され、被検レンズ101を通し結像する。
像面上には、評価する空間周波数より十分に幅の狭い走
査スリット104が置かれており走査スリット104を通過し
た光の強度がホトディテクタ105により検出される。
レンズ倍率をβとした場合、評価する空間周波数の1/β
倍の格子チャート102が、物体面上に置かれ、背後の光
源103に依り照明され、被検レンズ101を通し結像する。
像面上には、評価する空間周波数より十分に幅の狭い走
査スリット104が置かれており走査スリット104を通過し
た光の強度がホトディテクタ105により検出される。
次に、ホトディテクタで検出される光強度は第９図に
示すように、スリットの走査によりモデュレーションさ
れる。横軸をスリット移動量（Ｘ）縦軸を光強度（Ｉ）
とすると、MTFは、（Imax−Imin）／（Imax＋Imin）で
与えられるが、この時、レンズの解像力が十分であれ
ば、検出されるMTFは、破線に示すように１に近つく
が、解像力の劣化にともない０に近づく。以上の方法に
より、レンズの解像度を測定することができる。
示すように、スリットの走査によりモデュレーションさ
れる。横軸をスリット移動量（Ｘ）縦軸を光強度（Ｉ）
とすると、MTFは、（Imax−Imin）／（Imax＋Imin）で
与えられるが、この時、レンズの解像力が十分であれ
ば、検出されるMTFは、破線に示すように１に近つく
が、解像力の劣化にともない０に近づく。以上の方法に
より、レンズの解像度を測定することができる。
発明が解決しようとする課題 しかし、以上の構成では空間周波数が高くなるととも
にスリット幅が狭くなり、特に１μｍ以下の解像性能を
測ろうとするとスリット幅は、サブμｍとなる。そのた
めスリットの製作ができず、MTFの直接測定は不可能と
なる。このため格子像をレンズで拡大してその拡大像を
スリットで走査して測定する方法などが取られている
が、介在させるレンズの収差を含んだ測定となり、正確
な値を得ることが困難という課題を有していた。
にスリット幅が狭くなり、特に１μｍ以下の解像性能を
測ろうとするとスリット幅は、サブμｍとなる。そのた
めスリットの製作ができず、MTFの直接測定は不可能と
なる。このため格子像をレンズで拡大してその拡大像を
スリットで走査して測定する方法などが取られている
が、介在させるレンズの収差を含んだ測定となり、正確
な値を得ることが困難という課題を有していた。
本発明は上記課題に鑑み、高い空間周波数領域におい
ても高精度に投影レンズ解像性能測定を可能とするレン
ズ評価装置を提供するものである。
ても高精度に投影レンズ解像性能測定を可能とするレン
ズ評価装置を提供するものである。
課題を解決するための手段 本発明は、評価するレンズの物像位置に置かれる等ピ
ッチの第１の回折格子と、回折格子を照明するコヒーレ
ント光源と、第１の回折格子からの回折光を再回折する
評価レンズと、第１の回折格子からの０次回折光を遮断
する空間フィルタと、評価レンズの結像位置に置かれる
等ピッチの第２の回折格子と、第２の回折格子上に構成
される再回折像と第２の格子とで生ずるモアレ縞を観察
する手段を設けたものである。
ッチの第１の回折格子と、回折格子を照明するコヒーレ
ント光源と、第１の回折格子からの回折光を再回折する
評価レンズと、第１の回折格子からの０次回折光を遮断
する空間フィルタと、評価レンズの結像位置に置かれる
等ピッチの第２の回折格子と、第２の回折格子上に構成
される再回折像と第２の格子とで生ずるモアレ縞を観察
する手段を設けたものである。
作 用 本発明は上記構成により、第１の格子からの回折光の
内±１次回折光を投影レンズにより結像面上で干渉させ
ることにより干渉縞を形成させ、この干渉縞と結像面上
に置いた第２の格子パターンとのモアレ縞の歪みを観察
することにより、空間周波数の高い領域において投影レ
ンズの収差測定をすることができる。
内±１次回折光を投影レンズにより結像面上で干渉させ
ることにより干渉縞を形成させ、この干渉縞と結像面上
に置いた第２の格子パターンとのモアレ縞の歪みを観察
することにより、空間周波数の高い領域において投影レ
ンズの収差測定をすることができる。
実施例 以下、第１図から第７図を参照しながら本発明の一実
施例について説明する。第１図は、本発明によるレンズ
評価装置の全体構成図である。第１図において１は、投
影レンズ９の使用波長と同波長のコヒーレント光源であ
り、２、３、４は全体で照明光学系を構成するもので、
それぞれ２は集光光学系、３は光路変換ミラー、４はコ
ンデンサーレンズである。
施例について説明する。第１図は、本発明によるレンズ
評価装置の全体構成図である。第１図において１は、投
影レンズ９の使用波長と同波長のコヒーレント光源であ
り、２、３、４は全体で照明光学系を構成するもので、
それぞれ２は集光光学系、３は光路変換ミラー、４はコ
ンデンサーレンズである。
５は第一の回折格子が形成されたレチクルであり、投
影レンズ９の物体面上に配置されている。６は前記レチ
クル５を水平面内で移動可能に保持するマスクステージ
である。７はレチクル５上の第１の回折格子からの回折
光の内、±１次光のみを選択的に透過する空気フィルタ
ーであり、移動手段８により水平面内において移動可能
に保持されている。９は解像性能を評価しようとする投
影レンズであり、本実施例では投影倍率1/5、使用波長2
48nm、NA＝0.355の投影レンズを用いている。ここで、
レチクル５上の第１回折格子のピッチP1は、投影レンズ
の開口数をNAとし、使用波長λとすると、P1≧λ/NAに
なる条件が良い。10は第２の回折格子が形成された基準
レチクルであり、投影レンズ９の結像面上に置かれてい
る。11は上記基準レチクル10を載置し、水平面内及び光
軸方向に移動可能にしたステージである。ステージ11
は、投影レンズ９の露光エリアに開口12を有しており、
開口12の下には、基準レチクル10上に形成されるモアレ
縞を拡大観察する対物レンズ13、及び光路変換ミラー14
を介し、結像レンズ15、さらに、コヒーレント光源の波
長に関して感度を有する撮像デバイス16が設けられてい
る。
影レンズ９の物体面上に配置されている。６は前記レチ
クル５を水平面内で移動可能に保持するマスクステージ
である。７はレチクル５上の第１の回折格子からの回折
光の内、±１次光のみを選択的に透過する空気フィルタ
ーであり、移動手段８により水平面内において移動可能
に保持されている。９は解像性能を評価しようとする投
影レンズであり、本実施例では投影倍率1/5、使用波長2
48nm、NA＝0.355の投影レンズを用いている。ここで、
レチクル５上の第１回折格子のピッチP1は、投影レンズ
の開口数をNAとし、使用波長λとすると、P1≧λ/NAに
なる条件が良い。10は第２の回折格子が形成された基準
レチクルであり、投影レンズ９の結像面上に置かれてい
る。11は上記基準レチクル10を載置し、水平面内及び光
軸方向に移動可能にしたステージである。ステージ11
は、投影レンズ９の露光エリアに開口12を有しており、
開口12の下には、基準レチクル10上に形成されるモアレ
縞を拡大観察する対物レンズ13、及び光路変換ミラー14
を介し、結像レンズ15、さらに、コヒーレント光源の波
長に関して感度を有する撮像デバイス16が設けられてい
る。
次に、第２図から第４図を参照して、レチクル５と基
準レチクル10について説明する。第２図はレチクル５の
平面図である。第２図において、投影レンズ９の評価
は、投影エリア20の全体にわたり評価する必要があるた
め、レチクル５はＡ×Ａで示す微小領域毎に分離した例
えば3.5μｍピッチの直線回折格子21が形成されてい
る。第３図は第２図に示したＡ×Ａ部の回折格子21の拡
大を示す回折格子21の平面図である。第４図は基準レチ
クル10の平面図である。第４図において、投影エリア30
内に設けられる基準レチクル10には、投影レンズ９の倍
率、すなわち×1/5と、回折格子21の3.5μｍピッチから
生じる0.7μｍピッチの直線回折格子31が１個形成され
ている。
準レチクル10について説明する。第２図はレチクル５の
平面図である。第２図において、投影レンズ９の評価
は、投影エリア20の全体にわたり評価する必要があるた
め、レチクル５はＡ×Ａで示す微小領域毎に分離した例
えば3.5μｍピッチの直線回折格子21が形成されてい
る。第３図は第２図に示したＡ×Ａ部の回折格子21の拡
大を示す回折格子21の平面図である。第４図は基準レチ
クル10の平面図である。第４図において、投影エリア30
内に設けられる基準レチクル10には、投影レンズ９の倍
率、すなわち×1/5と、回折格子21の3.5μｍピッチから
生じる0.7μｍピッチの直線回折格子31が１個形成され
ている。
以上のような構成において、第５図を参照して測定の
原理について説明する。
原理について説明する。
第５図において、コヒーレント光源から出た光は、レ
チクル５上に設けられた第１の回折格子21は通過後回折
され＋１次回折光5A、０次回折光5C、−１次回折光5Bと
なり、空間フィルタ７を通過する。空間フィルタ７は、
０次回折光5Cをカットし、投影レンズ９には、±１次回
折光のみが入射する。
チクル５上に設けられた第１の回折格子21は通過後回折
され＋１次回折光5A、０次回折光5C、−１次回折光5Bと
なり、空間フィルタ７を通過する。空間フィルタ７は、
０次回折光5Cをカットし、投影レンズ９には、±１次回
折光のみが入射する。
投影レンズ９に入射した±１次回折光は、再回折され
基準レチクル10上に設けられた２次の回折格子31上に干
渉縞を形成する。この時の干渉縞の強度Ｉ（ｘ）は、早
水良走による光機器の光学、光学技術コンタクト、Vol2
3、No.3、P174〜P183、1985年に記載されているよう
に、 Ｉ（ｘ）＝b2/2（１＋cos（４πx/P）） b:第１の回折格子の透過振幅分布 p:第１の回折格子ピッチＰに投影レンズの倍率βを掛け
た値 式で与えられ、形成される干渉縞のピッチは、本来の幾
何光学的な像の1/2となり、コントラストは１となる。
すなわち、第２の回折格子31のピッチを本来の幾何光学
的に形成されるβ×Ｐで与えられるピッチの1/2倍のピ
ッチに形成することにより、基準レチクル10上の干渉縞
と第２の回折格子31の重ね合わせによるモアレ縞を観察
することが可能となる。
基準レチクル10上に設けられた２次の回折格子31上に干
渉縞を形成する。この時の干渉縞の強度Ｉ（ｘ）は、早
水良走による光機器の光学、光学技術コンタクト、Vol2
3、No.3、P174〜P183、1985年に記載されているよう
に、 Ｉ（ｘ）＝b2/2（１＋cos（４πx/P）） b:第１の回折格子の透過振幅分布 p:第１の回折格子ピッチＰに投影レンズの倍率βを掛け
た値 式で与えられ、形成される干渉縞のピッチは、本来の幾
何光学的な像の1/2となり、コントラストは１となる。
すなわち、第２の回折格子31のピッチを本来の幾何光学
的に形成されるβ×Ｐで与えられるピッチの1/2倍のピ
ッチに形成することにより、基準レチクル10上の干渉縞
と第２の回折格子31の重ね合わせによるモアレ縞を観察
することが可能となる。
また、投影レンズ９に収差がない場合には、形成され
る干渉縞が±１次回折光の理想的な平面波の干渉となる
ため、第６図に示すように干渉縞は直線となるが、投影
レンズに収差がある場合には、±１次回折光が平面波と
ならないため、干渉縞に曲がりが生じ、第７図に示すよ
うにモアレ縞にも曲がりが生じることとなる。このモア
レ縞の曲がりを定量的に測定することにより、レンズの
収差測定が可能となる。
る干渉縞が±１次回折光の理想的な平面波の干渉となる
ため、第６図に示すように干渉縞は直線となるが、投影
レンズに収差がある場合には、±１次回折光が平面波と
ならないため、干渉縞に曲がりが生じ、第７図に示すよ
うにモアレ縞にも曲がりが生じることとなる。このモア
レ縞の曲がりを定量的に測定することにより、レンズの
収差測定が可能となる。
モアレ縞の曲がりを測定するためには、実用上は第２
の回折格子31のピッチは、ｎ×β×Ｐ、または1/n×β
×Ｐ（ｎは整数）であれば良い。というのは、1/n×β
×Ｐが1/2×β×Ｐのときには、第２の回折格子31上に
形成される第１の回折格子21の干渉縞の縞の数及びピッ
チと第２の回折格子31の格子の数及びピッチとが等しく
なってモアレ縞を発生する場合に対応するが、第１の回
折格子21の干渉縞の縞の数及びピッチと第２の回折格子
31の格子の数及びピッチが、必ずしも一致していなくと
もモアレ縞を発生し得るからである。つまり、第１の回
折格子21と干渉縞と第２の回折格子31の格子とが、全部
は一致していないが部分的に複数一致している場合で
も、その複数一致した縞と格子によって、それらが互い
に重なった状態から相対位置がわずかに偏位すれば、原
理上モアレ縞が発生することになる。例えば、本実施例
では0.7μｍとしている。
の回折格子31のピッチは、ｎ×β×Ｐ、または1/n×β
×Ｐ（ｎは整数）であれば良い。というのは、1/n×β
×Ｐが1/2×β×Ｐのときには、第２の回折格子31上に
形成される第１の回折格子21の干渉縞の縞の数及びピッ
チと第２の回折格子31の格子の数及びピッチとが等しく
なってモアレ縞を発生する場合に対応するが、第１の回
折格子21の干渉縞の縞の数及びピッチと第２の回折格子
31の格子の数及びピッチが、必ずしも一致していなくと
もモアレ縞を発生し得るからである。つまり、第１の回
折格子21と干渉縞と第２の回折格子31の格子とが、全部
は一致していないが部分的に複数一致している場合で
も、その複数一致した縞と格子によって、それらが互い
に重なった状態から相対位置がわずかに偏位すれば、原
理上モアレ縞が発生することになる。例えば、本実施例
では0.7μｍとしている。
次に実際の評価手順について第１図及び第２図をもと
に説明する。
に説明する。
照明光学系（1.2.3.4からなる）により、レチクル５
の第１の回折格子21が形成されている投影エリア20全体
が照明され、すべての第１の回折格子21からの回折光が
生じる。投影レンズ９の特定の領域の収差を評価する方
法について、領域（1,1）を例に、説明する。
の第１の回折格子21が形成されている投影エリア20全体
が照明され、すべての第１の回折格子21からの回折光が
生じる。投影レンズ９の特定の領域の収差を評価する方
法について、領域（1,1）を例に、説明する。
空間フィルタ７の遮光部分は、領域（1,1）の真下に
移動し、領域（1,1）からの回折光の内０次回折光を遮
断し、±１次回折光のみを投影レンズ９に入射させる。
そのため、投影レンズの像面上には、領域（1,1）に対
応する位置にのみ干渉縞が生じる。基準レチクル10は、
領域（1,1）が投影レンズ９により、正規に結像する位
置にステージ11により移動され、基準レチクル10上の第
２の回折格子31と、領域（1,1）からの±１次回折光に
よる干渉縞とのモアレ縞が観察可能となる。観察光学系
は、基準レチクル10上のモアレ縞を観察視野の中央に位
置するように移動しモアレ縞の形状観察を行う。
移動し、領域（1,1）からの回折光の内０次回折光を遮
断し、±１次回折光のみを投影レンズ９に入射させる。
そのため、投影レンズの像面上には、領域（1,1）に対
応する位置にのみ干渉縞が生じる。基準レチクル10は、
領域（1,1）が投影レンズ９により、正規に結像する位
置にステージ11により移動され、基準レチクル10上の第
２の回折格子31と、領域（1,1）からの±１次回折光に
よる干渉縞とのモアレ縞が観察可能となる。観察光学系
は、基準レチクル10上のモアレ縞を観察視野の中央に位
置するように移動しモアレ縞の形状観察を行う。
上記方法により、１μｍ以下の空間周波数領域におい
ても投影レンズの収差測定が可能となる。
ても投影レンズの収差測定が可能となる。
発明の効果 以上のように本発明は、レチクルからの回折光の内、
空間フィルタにより選択的に±１次回折光のみを投影レ
ンズに入射させ再回折により、基準レチクル上に干渉縞
を形成し、この干渉縞と基準レチクル上の回折格子との
モアレ縞を観察することにより、評価すべき再回折像の
高い空間周波数をモアレ縞の低周波数領域に変換するこ
とにより、１μｍ以下の空間周波数領域においても高精
度に投影レンズの収差測定が可能となる。
空間フィルタにより選択的に±１次回折光のみを投影レ
ンズに入射させ再回折により、基準レチクル上に干渉縞
を形成し、この干渉縞と基準レチクル上の回折格子との
モアレ縞を観察することにより、評価すべき再回折像の
高い空間周波数をモアレ縞の低周波数領域に変換するこ
とにより、１μｍ以下の空間周波数領域においても高精
度に投影レンズの収差測定が可能となる。
第１図は本発明の一実施例におけるレンズ評価装置の全
体構成図、第２図は第１の回折格子が形成されたレチク
ルの平面図、第３図はレチクルの部分拡大図、第４図は
基準レチクルの平面図、第５図は測定原理を説明するた
めのレンズ評価装置の一部構成図、第６図はレンズに収
差のない場合のモアレ縞形状を示すモアレの形状図、第
７図はレンズに収差のある場合のモアレ縞形状を示すモ
アレの形状図、第８図、及び第９図は従来のMTFによる
レンズ解像度の測定法を示す構成図、及び測定データ図
である。 １……コヒーレント光源、５……レチクル、７……空間
フィルタ、９……投影レンズ、10……基準レチクル、16
……撮像デバイス。
体構成図、第２図は第１の回折格子が形成されたレチク
ルの平面図、第３図はレチクルの部分拡大図、第４図は
基準レチクルの平面図、第５図は測定原理を説明するた
めのレンズ評価装置の一部構成図、第６図はレンズに収
差のない場合のモアレ縞形状を示すモアレの形状図、第
７図はレンズに収差のある場合のモアレ縞形状を示すモ
アレの形状図、第８図、及び第９図は従来のMTFによる
レンズ解像度の測定法を示す構成図、及び測定データ図
である。 １……コヒーレント光源、５……レチクル、７……空間
フィルタ、９……投影レンズ、10……基準レチクル、16
……撮像デバイス。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 杉山 吉幸 神奈川県川崎市多摩区東三田３丁目10番 １号 松下技研株式会社内 (72)発明者 中西 淑人 神奈川県川崎市多摩区東三田３丁目10番 １号 松下技研株式会社内 (72)発明者 竹内 宏之 神奈川県川崎市多摩区東三田３丁目10番 １号 松下技研株式会社内 (56)参考文献 光機器の光学、光学技術コンタクト、 Ｖｏｌ．23，Ｎｏ．３，Ｐ．174〜183 （1985)
Claims (3)
- 【請求項１】複数の第１の回折格子が形成されたレチク
ルと、前記レチクルを載置するマスクステージと、前記
レチクルの回折格子が形成された全領域を照明するコヒ
ーレント光源と、前記レチクルからの回折光を再回折す
る評価用投影レンズと、前記レチクルと前記投影レンズ
との間に配され、前記第１の回折格子からの回折光の
内、０次光を選択的に遮断する空間フィルタと、前記空
間フィルタを水平面内で移動させる手段と、前記投影レ
ンズの像位置に置かれる第２の回折格子が形成された基
準レチクルと、前記基準レチクルを前記投影レンズの投
影範囲内で移動させるステージと、再回折により前記基
準レチクル上に形成される干渉縞と前記第２の格子とで
生ずるモアレ縞を観察する手段からなるレンズ評価装
置。 - 【請求項２】第１の回折格子が直線回折格子であり、そ
のピッチＰが投影レンズの開口数をNAとし、使用波長λ
とした場合、Ｐ≧λ/NAである請求項１記載のレンズ評
価装置。 - 【請求項３】第２の回折格子が直線回折格子であり、そ
のピッチｐ、投影レンズの倍率をβとした場合、ｐ＝ｎ
・β・Ｐ、もしくはｐ＝1/n・β・Ｐ（ただしｎは整
数）である請求項１記載のレンズ評価装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1237797A JP2543200B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | レンズ評価装置 |
| US07/580,752 US5062705A (en) | 1989-09-13 | 1990-09-11 | Apparatus for evaluating a lens |
| EP90309976A EP0418054B1 (en) | 1989-09-13 | 1990-09-12 | Apparatus for evaluating a lens |
| DE69014180T DE69014180T2 (de) | 1989-09-13 | 1990-09-12 | Auswertungsapparat für Objektive. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1237797A JP2543200B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | レンズ評価装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100432A JPH03100432A (ja) | 1991-04-25 |
| JP2543200B2 true JP2543200B2 (ja) | 1996-10-16 |
Family
ID=17020564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1237797A Expired - Fee Related JP2543200B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | レンズ評価装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2543200B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100730245B1 (ko) * | 2003-01-15 | 2007-06-20 | 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. | Ｅｕｖ 파면 센서용 체커보드 구성 내의 투과 층밀림 격자 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102014226269A1 (de) * | 2014-12-17 | 2016-06-23 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Wellenfrontmesseinrichtung, Projektionsobjektiv mit einer solchen Messeinrichtung und mit einer solchen Messeinrichtung zusammenwirkender optischer Wellenfrontmanipulator |
-
1989
- 1989-09-13 JP JP1237797A patent/JP2543200B2/ja not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| 光機器の光学、光学技術コンタクト、Ｖｏｌ．２３，Ｎｏ．３，Ｐ．１７４〜１８３（１９８５） |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100730245B1 (ko) * | 2003-01-15 | 2007-06-20 | 에이에스엠엘 홀딩 엔.브이. | Ｅｕｖ 파면 센서용 체커보드 구성 내의 투과 층밀림 격자 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03100432A (ja) | 1991-04-25 |
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