JP2542396B2

JP2542396B2 - グリセリン誘導体

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Publication number: JP2542396B2
Application number: JP62201439A
Authority: JP
Inventors: 紀雄中村; 博之小池; 武史大島
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 1987-08-12
Filing date: 1987-08-12
Publication date: 1996-10-09
Anticipated expiration: 2011-10-09
Also published as: JPS6445375A

Description

【発明の詳細な説明】〔目的〕本発明は血小板活性化因子（以下PAFと略称）に対し
て、優れた拮抗作用を有する新規なグリセリン誘導体又
はその分子内塩に関する。

＜産業上の利用分野＞式（上記式中、ｌは15又は17を示す。）で表わされるPAF
はアナフィラキシー状態の因子として、解析・同定され
た化合物で、強力な決勝板活性化・凝集作用、好中球活
性化作用、血圧降下作用及び血管投下性亢進作用を有し
ており、喘息、炎症、エンドトキシンショック等の種々
の病態に於てメディエーターの一種として働いていると
考えられている。従って、PAF拮抗物質は、上記疾患の
優れた治療剤として有用である。

＜従来の技術＞公知のPFA拮抗作用を有するグリセリン誘導体として
は、例えば下記の２つの化合物（III）及び（IV）が知
られているが、そのPAF拮抗作用の強さ及び持続性は、
満足すべきものでない。

＜当該発明が解決しようとする問題点＞本発明者らは、PAF拮抗作用を有する誘導体の合成と
その薬理活性について、長年に亘り鋭意研究を行った結
果、従来のPAF拮抗物質（例えば、上記化合物（III）及
び（IV））とは異なり、特にグリセリンの３位に特異な
置換基を有する新規な誘導体が強力なPAF拮抗作用を有
することを見出し、本発明を完成した。

〔構成〕

本発明の新規なグリセリン誘導体は、一般式［式中、 R¹は、炭素数８乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキル基
を示し、Ａは、式−CONH−を有する基又は置換されていてもよ
い２価のイソキサゾール基（該置換分は低級アルキル
基、ハロゲン原子若しくはハロゲノ低級アルキル基を示
す。）を示し、Ｂは、置換されていてもよい１価のイソキサゾール基
（該置換分は低級アルキル基、ハロゲン原子若しくはハ
ロゲノ低級アルキル基を示す。）を示し、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｅは、式−（CH₂）_ｎ−CH（R²）−を有する基（式
中、ｎは０乃至３の整数を示し、R²は保護されていても
よい水酸基、置換された水酸基、保護されていてもよい
メルカプト基若しくは置換されたメルカプト基を示
す。）、式を有する基（式中、ｎは前記と同意義を示す。）又は置
換されていてもよい２価のイソキサゾール基（該置換分
は低級アルキル基、ハロゲン原子若しくはハロゲノ低級
アルキル基を示す。）を示し、ｍは、０乃至10の整数を示し、Ｑは、窒素原子を含み、硫黄原子を含んでいてもよ
い、１価の５乃至７員複素環基を示し、該基は所望によ
り、低級アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲノ低級アル
キル基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基
若しくはカルバモイル基を置換基として１乃至３個有し
ていてもよく、Ｚはアニオンを示す。］を有する。

上記一般式（Ｉ）において、R¹において定義された
「炭素数８乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキル基」とし
ては、例えばオクチル、ノニル、デシル、３−メチルノ
ニル、８−メチルノニル、３−エチルオクチル、3,7−
ジメチルオクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシ
ル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、１−
メチルペンタデシル、14−メチルペンタデシル、13,13
−ジメチルテトラデシル、ヘプタデシル、15−メチルヘ
イサデシル、オクタデシル、１−メチルヘプタデシル、
ノナデシル、アイコシル、ヘナイコシルおよびドコシル
を挙げることができるが、好適には炭素数13乃至18個の
直鎖または分枝鎖アルキル基である。

A,B,E,R³,R⁴,R⁵及びＱにおいて定義された「低級アル
キル基」とは、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、
ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、２−メチル
ブチル、ネオペンチル、ｎ−ヘキシル、４−メチルペン
チル、３−メチルペンチル、２−メチルペンチル、3,3
−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、1,1−ジメチ
ルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−ジメチルブチ
ル、2,3−ジメチルブチルのような炭素数１乃至６個の
直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、好適には炭素数１乃
至４個のアルキル基である。

A,B,EおよびＱにおいて定義された「ハロゲン原子」
とは、弗素、塩素、臭素又は沃素を示す。

A,B,E及びＱで定義された「ハロゲノ低級アルキル
基」とは、例えばトリフルオロメチル、ジフルオロメチ
ル、フルオロメチル、トリクロロメチル、ジクロロメチ
ル、クロロメチル、トリブロモメチル、ジブロモメチ
ル、ブロモメチル、ペンタフルオロエチル、3,3,3−ト
リフルオロプロピルのようなハロゲン原子で置換された
炭素数１乃至６個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を示し、
好適にはハロゲン原子で置換された炭素数１乃至４個の
アルキル基である。

R²において定義された「保護されていてもよい水酸
基」の保護基としては、反応における保護基及び生体に
投与する際のプロドラツグ化のための保護基を示し、例
えば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、
イソブチリル、ペンタノイル、ピバロイル、バレリル、
イソバレリルのようなアルキルカルボニル基、クロロア
セチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、トリ
フルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカルボニ
ル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシアルキ
ルカルボニル基、（Ｅ）−２−メチル−２−ブテノイル
のような不飽和アルキルカルボニル基等の脂肪族アシル
基；ベンゾイル、α−ナフトイル、β−ナフトイルのよ
うなアリールカルボニル基、２−ブロモベンゾイル、４
−クロロベンゾイルのようなハロゲン化アリールカルボ
ニル基、2,4,6−トリメチルベンゾイル、４−トルオイ
ルのような低級アルキル化アリールカルボニル基、４−
アニソイルのような低級アルコキシ化アリールカルボニ
ル基、４−ニトロベンゾイル、２−ニトロベンゾイルの
ようなニトロ化アリールカルボニル基、２−（メトキシ
カルボニル）ベンゾイルのような低級アルコキシカルボ
ニル化アリールカルボニル基、ｐ−フェニルベンゾイル
のようなアリール化アリールカルボニル基等の芳香族ア
シル基；テトラヒドロピラン−２−イル、３−ブロモテ
トラヒドロピラン−２−イル、４−メトキシテトラヒド
ロピラン−４−イル、テトラヒドロチオピラン−２−イ
ル、４−メトキシテトラヒドロチオピラン−４−イルの
ようなテトラヒドロピラニル又はテトラヒドロチオピラ
ニル基；テトラヒドロフラン−２−イル、テトラヒドロ
チオフラン−２−イルのようなテトラヒドロフラニル又
はテトラヒドロチオフラニル基；トリメチルシリル、ト
リエチルシリル、イソプロピルジメチルシリル、ｔ−ブ
チルジメチルシリル、メチルジイソプロピルシリル、メ
チルジ−ｔ−ブチルシリル、トリイソプロピルシリルの
ようなトリ低級アルキルシリル基、ジフェニルメチルシ
リル、ジフェニルブチルシリル、ジフェニルイソプロピ
ルシリル、フェニルジイソプロピルシリルのような１乃
至２個のアリール基で置換されたトリ低級アルキルシリ
ル基等のシリル基；メトキシメチル、1,1−ジメチル−
１−メトキシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチ
ル、イソプロポキシメチル、ブトキシメチル、ｔ−ブト
キシメチルのような低級アルコキシメチル基、２−メト
キシエトキシメチルのような低級アルコキシ化低級アル
コキシメチル基、2,2,2−トリクロロエトキシメチル、
ビス（２−クロロエトキシ）メチルのようなハロゲン化
低級アルコキシメチル等のアルコキシメチル基;1−エト
キシエチル、１−メチル−１−メトキシエチル、１−
（イソプロポキシ）エチルのような低級アルコキシ化エ
チル基、2,2,2−トリクロロエチルのようなハロゲン化
エチル基、２−（フェニルゼレニル）エチルのようなア
リールゼレニル化エチル基等の置換エチル基；ベンジ
ル、フェネチル、３−フェニルプロピル、α−ナフチル
メチル、β−ナフチルメチル、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチル、α−ナフチルジフェニルメチル、９−
アンスリルメチルのような１乃至３個のアリール基で置
換された低級アルキル基、４−メチルベンジル、2,4,6
−トリメチルベンジル、3,4,5−トリメチルベンジル、
４−メトキシベンジル、４−メトキシフェニルジフェニ
ルメチル、２−ニトロベンジル、４−ニトロベンジル、
４−クロロベンジル、４−ブロモベンジル、４−シアノ
ベンジル、４−シアノベンジルジフェニルメチル、ビス
（２−ニトロフェニル）メチル、ピペロニルのような低
級アルキル、低級アルコキシ、ニトロ、ハロゲン、シア
ノ基でアリール環が置換された１乃至３個のアリール基
で置換された低級アルキル基等のアラルキル基；メトキ
シカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニルのような低級アルコキ
シカルボニル基、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニ
ル、２−トリメチルシリルエトキシカルボニルのような
ハロゲン又はトリ低級アルキルシリル基で置換された低
級アルコキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル
基；ビニルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニル
のようなアルケニルオキシカルボニル基；ベンジルオキ
シカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニ
ル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２−
ニトロベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジル
オキシカルボニルのような、１乃至２個の低級アルコキ
シ又はニトロ基でアリール環が置換されていてもよいア
ラルキルオキシカルボニル基のような反応における保護
基及びピバオイルオキシメチルオキシカルボニルのよう
な生体に投与する際のプロドラツグ化のための生体内で
加水分解され易い保護基を示し、好適には脂肪族アシル
基、芳香族アシル基、テトラヒドロピラニル基、アラル
キル基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカ
ルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基及び生体内
で加水分解され易い保護基である。

R²で定義された「置換された水酸基」の置換基として
は、例えば、前記「低級アルキル基」；カルバモイル、
Ｎ−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイ
ル、Ｎ−エチルカルバモイルのような窒素原子に１乃至
２個の低級アルキル基が置換していてもよいカルバモイ
ル基；メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキ
シ、１−プロパンスルホニルオキシのような低級アルカ
ンスルホニルオキシ基；トリフルオロメタンスルホニル
オキシ、ペンタフルオロエタンスルホニルオキシのよう
なフッ素化された低級アルカンスルホニルオキシ基又は
ベンゼンスルホニルオキシ、４−トルエンスルホニルオ
キシのようなアリールスルホニルオキシ基を挙げること
ができ、好適には低級アルキル基又は窒素原子に１乃至
２個の低級アルキル基が置換していてもよいカルバモイ
ル基である。

R²において定義された「保護されていてもよいメルカ
プト基」の保護基としては、通常メルカプトの保護に用
いられるものであれば限定はないが、好適には、R²の
「保護されていてもよい水酸基」の保護基の定義におけ
る脂肪族アシル基、芳香族アシル基又はアラルキル基と
同様の基である。

R²で定義された「置換されたメルカプト基」の置換基
としては、好適には、前記「低級アルキル基」と同様の
基である。

Ｑにおいて定義された「窒素原子を含み、硫黄原子を
含んでいてもよい、１価の５乃至７員複素環基」は、窒
素原子を少なくとも１個含み、硫黄原子を含んでいても
よい１価の５乃至７員複素環基を示し、例えば、ピロリ
ル、アゼピニル、チオモルホリニル、ピラゾリル、イミ
ダゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、トリアゾリ
ル、テトラゾリル、チアジアゾリル、ピリジル、ピリダ
ジニル、ピリミジニル、ピラジニル及びこれらの基に対
応する、部分若しくは完全還元型の基を挙げることがで
き、好適には、チアゾリルである。

Ｑにおいて定義された「ヒドロキシ低級アルキル基」
とは、前記「低級アルキル基」の１乃至２の水素原子が
水酸基によって置換された基を示す。好適には炭素数１
乃至４個のアルキル基の１個の水素原子が水酸基によっ
て置換された基である。

Ｑにおいて定義された「低級アルコキシ基」として
は、前記定義した「低級アルキル基」が酸素原子に結合
した基を示し、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ
のような炭素数１乃至６個のアルコキシ基を挙げること
ができ、好適には炭素数１乃至４個のアルコキシ基であ
る。

Ｚで示される「アニオン」は特に限定はないが、HZ
として好適には、弗化水素酸、塩酸、臭化水素酸、沃化
水素酸のようなハロゲン化水素酸、硫酸、燐酸等の無機
酸；メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン
酸、エタンスルホン酸のような低級アルキルスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸のよ
うなアリールスルホン酸、修酸、マレイン酸等の有機酸
及びグルタミン酸、アスパラギン酸のようなアミノ酸を
挙げることができる。

本発明化合物（Ｉ）は、分子内に不斉炭素を有し、そ
の各々がＲ−配置、Ｓ−配置である立体異性体が存在す
るが、その各々、或いはそれらの混合体のいずれも本発
明に包含される。

また化合物（Ｉ）において、好適には、（１）Ａが、式−CONH−を有する基又は低級アルキル基
で置換されていてもよい２価のイソキサゾール基である
化合物（２）Ａが、式−CONH−を有する基又は２価のイソキサ
ゾール基である化合物（３）Ｂが、低級アルキル基で置換されていてもよい１
価のイソキサゾール基である化合物（４）Ｂが、メチル基で置換されていてもよい１価のイ
ソキサゾール基である化合物（５）Ｅが、式−（CH₂）_ｎ−CH（R²）−を有する基
（式中、ｎは１乃至２の整数を示し、R²は前記と同意義
を示す。）又は置換されていてもよい２価のイソキサゾ
ール基（該置換分は低級アルキル基を示す。）である化
合物（６）Ｅが、式−（CH₂）_ｎ−CH（R²）−を有する基
（式中、ｎは１乃至２の整数を示し、R²は前記と同意義
を示す。）又は２価のイソキサゾール基である化合物（７）ｍが、１乃至８の整数である化合物（８）Ｑが、チアゾリルである化合物（９）Ｑで定義された所望の置換基が、低級アルキル基
又はヒドロキシ低級アルキル基である化合物を挙げることができる。

本発明の一般式（Ｉ）を有する化合物の具体例として
は、例えば、第１表に記載する化合物を挙げることがで
きるが、本発明はこれら化合物に限定されるものではな
い。

上記例示化合物のうち好適な化合物としては１−2,1
−3,1−4,1−5,1−6,1−8,1−11,1−15,1−26,1−43,1
−44,1−45,1−46,1−47,1−54,1−55,1−56,1−59,1−
61,1−64,1−65,1−72,1−73,1−82,1−83,2−1,2−2,2
−3,2−15,2−26,2−35,2−36,2−37,2−38,2−39,2−4
0,2−41,2−43,2−44,2−45,2−53,2−54,2−55,2−59,
2−60,2−61,2−62及び２−64を挙げることができる。
更に好適な化合物としては、１−3,1−4,1−61,2−35,2
−36,2−37,2−38,2−44,2−59及び２−60である。

本発明の新規なグリセリン誘導体は、以下に記載する
方法によって製造することができる。

上記式中、A,B,E,Q,X,R¹,R³,R⁴,R⁵及びｍは前記と同
意義を示す。Ｇは−Ｇの定義の基に相当する化合物を示
す。

Eaは、Ｅの定義における「置換されていてもよい２価
の５乃至７員複素環基」を示し、Ebは、Ｅの定義におけ
る式を有する基（式中、ｎは前記と同意義を示し、R²′は、
保護された水酸基、置換された水酸基、保護されたメル
カプト基又は置換されたメルカプト基を示す。）を示
し、Edは、Eaとして定義された基又はEbとして定義され
た基と同様の基を示す。Ｙは、塩素，臭素，沃素のよう
なハロゲン原子；脂肪族アシルオキシ基；芳香族アシル
オキシ基；トリクロロメチルオキシのようなトリハロゲ
ノメチルオキシ基；メタンスルホニルオキシ，エタンス
ルホニルオキシのような低級アルカンスルホニルオキシ
基；トリフルオロメタンスルホニルオキシ，ペンタフル
オロエタンスルホニルオキシのようなハロゲン化低級ア
ルカンスルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキ
シ,4−トルエンスルホニルオキシのようなアリールスル
ホニルオキシ基等の脱離基を示す。Ｑ′は、式−Ｏ−R⁶
を有する基（式中、R⁶はR²の定義における「保護されて
いてもよい水酸基」の保護基と同様の基を示す。好適に
は、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、テトラヒドロピ
ラニル基、トリ低級アルキルシリル基、アルコキシメチ
ル基及びアラルキル基である。）又は式−Ｇを有する基
（式中、−Ｇは前記と同意義を示す。）を示し、Ｑ″
は、式Ｙを有する基（式中、Ｙは前記と同意義を示
す。）又は式−Ｇを有する基（式中、−Ｇは前記と同意
義を示す。）を示す。

R⁷は、反応におけるカルボキシ基の保護基を示し、例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、
ヘキシルのような低級アルキル基;2,2,2−トリクロロエ
チル、２−ブロモエチル、２−クロロエチル、２−フル
オロエチル、2,2−ジブロモエチルのようなハロゲノ低
級アルキル基又はベンジル、フェネチル、３−フェニル
プロピル、α−ナフチルメチル、β−ナフチルメチル、
ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、α−ナフチル
ジフェニルメチル、９−アンスリルメチルのような１乃
至３個のアリール基で置換された低級アルキル基、４−
メチルベンジル、2,4,6−トリメチルベンジル、3,4,5−
トリメチルベンジル、４−メトキシベンジル、４−メト
キシフェニルジフェニルメチル、２−ニトロベンジル、
４−ニトロベンジル、４−クロロベンジル、４−ブロモ
ベンジル、４−シアノベンジル、４−シアノベンジルジ
フェニルメチル、ビス（２−ニトロフェニル）メチル、
ピペロニルのような低級アルキル、低級アルコキシ、ニ
トロ、ハロゲン、シアノ基でアリール環が置換された１
乃至３個のアリール基で置換された低級アルキル基等の
アラルキル基をあげることができる。

上記各工程における反応試薬及び反応条件を以下に述
べる。

第１工程は、末端に水酸基を有する化合物（Ｖ）と酸
性水酸基又はメルカプト基を有する化合物（VI）を、光
延反応の条件下に反応させることにより、エーテル又は
チオエーテル化合物（Ｘ）を製造する工程である。

反応は、ジメチルアゾジカルボキシレート、ジエチル
アゾジカルボキシレートのようなジ低級アルキルアゾジ
カルボキシレート及びトリフェニルホスフィンのような
トリアリールホスフィンを試薬として用い、溶媒中で実
施される。

反応溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特
に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエンのよう
な芳香族炭化水素類又は、エチルエーテル、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類を挙げることができる。

反応温度及び反応時間は、主に原料化合物及び試薬の
種類により異なるが、好適には０℃乃至100℃で15分乃
至２時間である。

反応終了後、本反応の目的化合物（Ｘ）は常法に従っ
て反応混合物から採取される。例えば反応混合物に水と
混和しない有機溶剤を加え、水洗後、溶剤を留去するこ
とによって得られる。得られた目的化合物は必要ならば
常法、例えば再結晶、再沈澱またはクロマトグラフイー
などによって更に精製することができる。

第1a′工程は、末端に水酸基を有する化合物（Ｖ）と
酸性水酸基又はメルカプト基を有する化合物（XLVI）
を、第１工程に準じて反応させることにより、化合物
（Ｖ′）を製造する工程である。

第1b′工程は、後記第29〜33工程に準じて、化合部
（Ｖ′）を処理することにより、化合物（Ｘ）を製造す
る工程である。

第２工程は、末端に水酸基又はメルカプト基を有する
化合物（Ｖ″）とアルキル化剤（VII）とを塩基の存在
下反応させ、エーテル又はチオエーテル化合物（Ｘ）を
製造する工程である。

使用される溶媒としては、本反応に関与しないもので
あれば特に限定はなく、例えばエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサンのようなエーテル類；ベンゼン、ト
ルエンのような芳香族炭化水素類;N,N−ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミドのようなアミド
類；ジメチルスルホキサイド又はヘキサメチルホスホロ
トリアミドを挙げることができ、好適にはベンゼン、N,
N−ジメチルホルムアミド又はヘキサメチルホスホロト
リアミドである。

また使用される塩基としては、化合物の他の部分に影
響を与えないものであれば特に限定はないが、好適には
酸結合剤であるトリエチルアミン、1,5−ジアザビシク
ロ〔5.4.0〕ウンデク−５−エン、ピリジン、2,6−ルチ
ジン、ジメチルアニリン、N,N−ジメチルアミノピリジ
ンのような有機塩酸；水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムのようなアルカリ金属水酸化物あるいは水素化ナトリ
ウム、水素化カリウムのようなアルカリ金属水素化物が
あげられ、好適にはアルカリ金属水酸化物である。反応
温度は特に制限はなく、例えば０℃乃至150℃で実施さ
れるが、好適には60℃乃至90℃で行なわれる。反応時間
は主に反応温度、原料化合物の種類によって異なり、例
えば１時間乃至３日であるが、好適には、４乃至16時間
である。

さらに所望により、上記合成した化合物（Ｘ）のR²基
の保護基を、後記第９工程に準じて除去し，次に該水酸
基を酸化（例えば、ジョーンズ酸化）し、カルボニル基
とした後、ヒドロキシアミンと反応させることにより、
Ｅが式を有する基を示すオキシム化合物を製造することができ
る。

第３工程は、末端に水酸基又はメルカプト基を有する
化合物（IX）とアルキル化剤（VIII）とを第２工程と同
様にして反応させ、エーテル又はチオエーテル化合物
（Ｘ）を製造する工程である。

第４工程は、化合物（Ｘ）において、末端のＱ′基が
式−Ｏ−R⁶を有する基（式中、R⁶は前記と同意義を示
す。）である場合にこの−Ｏ−R⁶基を、Ｙ基に変換し、
化合物（XI）を製造する工程である。

まず、ヒドロキシ基の保護基R⁶の除去を行なう。

保護基の除去はその種類によって異なるが、一般にこ
の分野の技術において周知の方法によって以下の様に実
施される。

水酸基の保護基として、シリル基を使用した場合に
は、通常弗化テトラブチルアンモニウムのような弗素ア
ニオンを精製する化合物で処理することにより除去す
る。反応溶媒は反応を阻害しないものであれば特に限定
はないが、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類が好適である。反応温度及び反応時間は特に限
定はないが、通常室温で10乃至18時間反応させる。

水酸基の保護基又はメルカプト基の保護基が、アラル
キルオキシカルボニル基又はアラルキル基である場合に
は、塩化アルミニウム−沃化ナトリウム又はトリメチル
シリルイオダイドのようなアルキシリルハライド類を用
いて、除去することができる。反応は溶媒の存在下に行
なわれ、使用される反応溶媒としては本反応に関与しな
いものであれば特に限定はないが、好適には、アセトニ
トリルのようなニトリル類、メチレンクロリド、クロロ
ホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合
溶媒が使用される。反応温度は出発物質等によって異な
るが、通常は０℃乃至50℃である。反応基質が硫黄原子
を有する場合においては、好適には塩化アルミニウム−
沃化ナトリウムが用いられる。

水酸基の保護基又はメルカプト基の保護基が、脂肪族
アシル基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基
である場合には、塩基で処理することにより除去するこ
とができる。塩基としては、化合物の他の部分に影響を
与えないものであれば特に限定はないが、好適にはナト
リウムメトキシドのような金属アルコラート類は、アン
モニア水、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル
カリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムの
ようなアルカリ金属水酸化物又は濃アンモニア−メタノ
ールを用いて実施される。使用される溶媒としては通常
の加水分解反応に使用されるものであれば特に限定はな
く、水、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノールの
ようなアルコール類若しくはテトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類のような有機溶媒又は水と有
機溶媒との混合溶媒が好適である。反応温度及び反応時
間は出発物質及び用いる塩基等によって異なり特に限定
はないが、副反応を抑制するために、通常は０℃乃至15
0℃で、１乃至10時間である。水酸基の保護基が、アル
コキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒド
ロフラニル基又は置換されたエチル基である場合には、
通常溶媒中で酸で処理することにより除去することがで
きる。使用される酸としては、好適には塩酸、酢酸−硫
酸、ｐ−トルエンスルホン酸又は酢酸等である。使用さ
れる溶媒としては本反応に関与しないものであれば特に
限定はないが、メタノール、エタノールのようなアルコ
ール類；テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエー
テル類又はこれらの有機溶媒と水との混合溶媒が好適で
ある。反応温度及び反応時間は出発物質及び用いる酸の
種類等によって異なるが、通常は０℃乃至50℃で、10分
乃至18時間である。

水酸基の保護基が、アルケニルオキシカルボニル基で
ある場合は、通常前記水酸基の保護基が脂肪族アシル
基、芳香族アシル基又はアルコキシカルボニル基である
場合の除去反応の条件と同様にして塩基と処理すること
により脱離させることができる。尚、アリルオキシカル
ボニルと場合は、特に、パラジウム及びトリフェニルホ
スフィン若しくはビス（メチルジフェニルホスフィン）
（1.5−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）・ヘキ
サフルオロホスフェートを使用して除去する方法が簡便
で、副反応が少なく実施することができる。

次いで、脱保護された水酸基をアシル化、例えばメタ
ンスルホニル、トルエンスルホニル、トリフルオロメタ
ンスルホニルまたはトリフルオロアセチル化しエステル
を合成するか、水酸基をハロゲン原子に置換する。

エステル合成において使用される溶媒としては、本反
応に関与しないものであれば特に限定はなく、例えばク
ロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタンのような
ハロゲン化炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類又はベンゼン、トル
エンのような芳香族炭化水素類を挙げることができ、好
適にはジクロロメタン又はベンゼンである。また使用さ
れる塩基としては特に限定はないが、好適にはトリエチ
ルアミン、ピリジン、2,6−ルチジン、ジメチルアニリ
ンのような有機塩基である。反応温度は特に限定はない
が、好適には０℃乃至25℃で行われ、反応時間は主に、
反応温度又は原料化合物の種類によって異なるが、好適
には0.5乃至24時間である。

ハロゲン置換反応は、通常水酸基をハロゲン原子に置
換できる反応であれば特に限定はないが、好適には、四
ハロゲン化炭素及びトリフェニルホスフイン又は三ハロ
ゲン化リンを用いて実施される。使用される溶媒として
は、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、好適にはクロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロ
エタンのようなハロゲン化炭化水素類又はアセトニトリ
ルのようなニトリル類である。反応温度は特に限定はな
いが、好適には−25℃乃至室温で行われ、反応時間は主
に反応温度又は原料化合物の種類によって異なるが、通
常１乃至60分である。

又、上記合成したエステルをヨウ化ナトリウム、臭化
ナトリウム、塩化カリウムのようなアルカリ金属ハライ
ドと反応させることによっても、ハロゲン置換化合物を
合成することができる。使用される溶媒としては、アル
カリ金属ハライドを溶解させることのできる極性溶媒で
あり、本反応に関与しないものであれば特に限定はない
が、例えば、ジメチルスルホキシドのようなスルホキシ
ド類、N,N−ジメチルホルムアミドのようなアミド類又
はヘキサメチルホスホロトリアミドのようなリン酸トリ
アミド類を挙げることができ、好適にはN,N−ジメチル
ホルムアミドである。反応温度は特に限定はないが、好
適には20℃乃至80℃で行われ、反応時間は、主に反応温
度又は原料化合物の種類によって異なるが、通常１乃至
24時間である。

反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物か
ら単離することができる。例えば、再結晶、分取用薄層
クロマトグラフイー、カラムクロマトグラフイー等によ
り精製して、純品を得ることができる。

尚、第2,3及び４工程において、化合物（Ｘ）又は（X
I）において、ＥがEbを示し、EbにおけるR²′基が保護
された水酸基を示す場合には、選択的にR²′基の保護基
を除去した後、後記第19工程又は第20工程に準じて処理
することにより、R²′基が保護されていてもよいメルカ
プト基又は置換されたメルカプト基である化合物を所望
により製造することができる。

第５工程は、化合物（Ｖ″）の水酸基又はメルカプト
基を溶媒中、塩基の存在下に、アリルクロリド、アリル
ブロミド、アリルイオダイドのようなアリルハライド
（XII）と反応させ、化合物（XIII）を製造する工程で
ある。

使用される溶媒としては、本反応に関与しないもので
あれば特に限定はなく、例えばエーテル、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類；トルエン、ベンゼンのよう
な芳香族炭化水素類又はジメチルホルムアミド、ジメチ
ルアセトアミドのようなアミド類を挙げることができ、
好適にはアミド類である。

使用される塩基としては、通常塩基として使用される
ものであれば限定はなく、例えば水素化カリウム、水素
化ナトリウムのようなアルカリ金属水素化物；水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化
物又はピリジン、N,N−ジメチルアミノピリジン、1,5−
ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデク−５−エン、トリエ
チルアミン、2,6−ルチジン、ジメチルアニリンのよう
な有機塩基を挙げることができ、好適にはアルカリ金属
水素化物である。

反応温度及び反応時間は、主に原料化合物、溶媒、塩
基の種類によって異なるが、通常０℃乃至100℃で、１
乃至24時間である。

第６工程は、化合物（XIII）のアリル基の二重結合
を、溶媒中で酸化してエポキシドに変換し、化合物（XI
V）を製造する工程である。

使用される溶媒としては、本反応に関与しないもので
あれば特に限定はなく、好適にはエーテル、テトラヒド
ロフランのようなエーテル類又はメチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類である。

使用される酸化剤としては限定はないが、好適には過
酢酸、過安息香酸、過酸化ベンゾイル、ｍ−クロロ過安息香酸のような有機過酸化
物が用いられる。

反応温度及び反応時間は、主に原料化合物、溶媒、酸
化剤の種類によって異なるが、通常、−20℃乃至80℃
で、１乃至24時間である。

第７工程は、化合物（Ｖ）とエピクロロヒドリン、エ
ピブロモヒドリン、エピイオドヒドリンのようなエピハ
ロヒドリンとを、第５工程の条件に従って反応させ、化
合物（XIV）を製造する工程である。

第８工程は、化合物（XIV）と常法に従って製造され
る式Ｍ−（CH₂）_m-1−Ｑ′を有する化合物（式中、Ｍは
リチウム、ナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属
原子、ハロゲン化マグネシウム又はハロゲン化亜鉛を示
し、ｍは１乃至10の整数を示し、Ｑ′は前記と同意義を
示す。）とを溶媒中で反応させ、さらに第４工程の記載
に準じて処理することにより、化合物（XV）を製造する
工程である。

使用される溶媒としては、本反応に関与しないもので
あれば特に限定はなく、例えばエーテル、テトラヒドロ
フランのようなエーテル類又はトルエン、ベンゼンのよ
うな芳香族炭化水素類を挙げることができ、好適にはエ
ーテル類である。

反応温度及び反応時間は、主に原料化合物、溶媒、試
薬の種類によって異なるが、通常、−78℃乃至65℃で、
15分乃至24時間である。

第９工程は、前記の様にして製造した化合物（XI）又
は（XV）において、Ｑ″が式Ｙを有する基（式中、Ｙは
塩基と同意義を示す。）を示す場合に、これと、アミン
化合物（XVI）又は式Ｇを有する化合物（XVII）（式
中、Ｇは前記と同意義を示す。）を反応させ、さらに所
望により、R²′の保護された水酸基若しくはメルカプト
基の保護基を第４工程に準じ除去することにより、本願
発明の化合物（Ｉ）を製造する工程である。

使用される反応溶媒としては、反応を阻害せず、出発
原料をある程度溶解するものであれば特に限定はない
が、好適にはメチレンクロリド、クロロホルムのような
ハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコールのような低級アルコール類；ジメチ
ルホルムアミド；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサンのようなエーテル類；アセトニトリルま
たは水、あるいは、例えばクロロホルム−ジメチルホル
ムアミド−イソプロピルアルコール＝3:5:5のような２
〜３種の上記溶媒の混合物が用いられる。

反応温度および反応時間は、用いる出発物質および溶
媒の条件により異なるが、20〜80℃の範囲で、窒素雰囲
気下、密封反応器（例えば、封管）中で、１〜48時間反
応させることが好適である。

反応終了後、目的化合物は常法に従って反応混合物か
ら採取される。例えば反応混合物より析出した不溶物を
去して後、有機溶剤層を水洗、乾燥し、溶媒を留去
し、例えば再結晶、分取用薄層クロマトグラフイー、カ
ラムクロマトグラフイー等により精製して、純品を得る
ことができる。

尚、Ｑ′又はＱ″が、式−Ｇを有する器（式中、−Ｇ
は前記と同意義を示す。）である場合には、化合物
（Ｘ），（XI）及び（XV）が本願発明化合物（Ｉ）であ
るが、この場合、第９工程と同様にして、所望により保
護基を除去し、相当する本願化合物（Ｉ）を製造するこ
とができる。

本発明の原料化合物（Ｖ），（Ｖ″）及び（VIII）は
新規な化合物であり、例えば以下の反応式に示すよう
に、dl体の公知化合物（XVIII）から、dl体として製造
することができ、光学活性体の公知化合物（XVIII）及
びその対掌体から、全ての異性体を光学活性体として各
々製造することができる。

上記式中、A,B,M,Y及びR¹は前記と同意義を示す。
Ａ′はＡの定義における単結合又は置換されていてもよ
い２価の５乃至７員複素環基と同様の基を示し、Ｙ′は
Ｙの定義における脂肪族アシルオキシ基、芳香族アシル
オキシ基、トリハロゲノメチルオキシ基、低級アルカン
スルホニルオキシ基、ハロゲン化低級アルカンスルホニ
ルオキシ基又はアリールスルホニルオキシ基と同様の基
を示す。R⁸は、R²の定義における「保護されていてもよ
い水酸基」の保護基と同様の基を示すが、好適には、ト
リフェニルメチル基又はｔ−ブチルジメチルシリル、ｔ
−ブチルジフェニルシリルのようなシリル基である。

第10工程は、化合物（XVIII）を第４工程後段に準じ
てエステル化し、化合物（XIX）を製造する工程であ
る。

第11工程は、グリセリン誘導体（XVIII）に式Ｙ′−
Ａ′−R¹を有する化合物（XX）を第２工程に準じて反応
させるか、又は光延反応に従って、式HO−Ａ′−R¹で示
される酸性水酸基を有する化合物（XX′）を第１工程に
準じて反応させ、グリセリンの１位水酸基を、式−Ａ′
−R¹を有する基（式中、Ａ′及びR¹は前記と同意義を示
す。）で修飾し、さらに２位,3位の保護基を除去するこ
とにより、化合物（XXIII）を製造する工程である。後
段の脱保護の工程は、第４工程において、R⁶基がテトラ
ヒドロピラニル基又はアルコキシメチル基である場合に
おける、R⁶基の除去工程と同様にして実施される。

第12工程は、グリセリン誘導体（XVIII）とイソシア
ナート化合物（XXI）を反応させ、グリセリンの１位水
酸基をカルバメート化し、さらに２位,3位の保護基を除
去することにより、化合物（XXIII）を製造する工程で
ある。

イソシアナート化合物（XXI）は、式R¹−COOH（式
中、R¹は前記と同意義を示す。）を有する化合物に、DP
PA（ジフェニルホスホリルアジド）をクロロホルム、ト
ルエン、ベンゼン、ジクロロメタン、テトラヒドロフラ
ンのような不活性溶媒中、好適にはトルエン又はベンゼ
ン中、トリエチルアミン、トリブチルアミンのような有
機塩基の存在下、０℃乃至150℃にて反応させることに
より容易に合成でき、この溶液に、直接反応させる化合
物（XVIII）を加え、さらに２乃至24時間、60℃乃至150
℃反応させることにより、目的化合物（XXIII）を製造
することができる。好適には、イソシアナート化合物を
合成した時点で、リン化合物を除去するために飽和炭酸
水素ナトリウム水及び水で洗浄し、溶媒留去、乾燥後、
さらに上記例示の溶媒より選ばれる溶媒（好適にはトル
エン）に溶解し、反応させる化合物を加え反応させる
か、市販のイソシアナート化合物を同様の溶媒中で反応
させる。

後段は第11工程の保護基の除去と同様にして実施され
る。

第13工程は、グリセリンの１位エステル誘導体（XI
X）と金属アルコラート化合物（XXII）を反応させ、さ
らに２位,3位の保護基を除去することにより、化合物
（XXIII）を製造する工程である。使用される溶媒とし
ては、本反応に関与しないものであれば特に限定はな
く、例えばベンゼン、トルエンのような芳香族炭化水素
類;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミドのようなアミド類又はジメチルスルホキシドを挙
げることができ、好適にはベンゼン又はN,N−ジメチル
ホルムアミドである。反応温度は特に限定はないが、例
えば０℃乃至120℃で行われるが、好適には、70℃乃至1
20℃であり、反応時間は、主に反応温度及び原料化合物
の種類により異なるが、好適には１乃至24時間である。

保護基の除去は、第11工程と同様にして実施される。

第14工程は、化合物（XXIII）の３位の１級水酸基を
例えばトリフェニルメチルハライド又はｔ−ブチルジメ
チルシリルハライド、ｔ−ブチルジフェニルシリルハラ
イドのようなシリルハライドを用い、有機塩基の存在下
に選択的に保護し、化合物（XXIV）を製造する工程であ
る。

トリフェニルメチルハライドで保護する場合、使用さ
れる溶媒として特に限定はないが、好適にはクロロホル
ム、ジクロロメタン、ジクロロエタンのようなハロゲン
化炭化水素類又はベンゼン、トルエンのような芳香族炭
化水素類を挙げることができ、使用される塩基は、有機
塩基であれば特に限定はないが、好適にはトリルエチル
アミン又はピリジンであり、０℃乃至130℃で１乃至24
時間実施される。

シリルハライドで保護する場合、使用される溶媒とし
ては特に限定はないが、好適にはエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジオキサンのようなエーテル類又はN,N−ジ
メチルホルムアミドのようなアミド類であり、使用され
る塩基は、有機塩基であれば特に限定はないが、好適に
はイミダゾールであり、０℃乃至50℃で、１乃至24時間
実施される。

第15工程は、化合物（XXIV）の２位の２級水酸基をエ
ステル化し、化合物（XXV）を製造する工程であり、第
４工程後段記載のエステル化の方法と同様にして実施さ
れる。

第16工程は、グリセリンの２位エステル誘導体（XX
V）と金属アルコラート化合物（XXVI）を反応させるこ
とにより、２位が立体反転した化合物を合成し、さらに
３位の水酸基の保護基を除去する工程であり、前段は第
13工程と同様にして実施され、除去反応は第４工程に従
い実施される。

第17工程は、第11工程において記載した光延反応に準
じて、化合物（XXIV）と式Ｂ−OHを有する化合物（XXVI
I）とを反応させ、化合物（XXVIII）を製造する工程で
ある。

第18工程は、第２工程と同様にして、化合物（XXIV）
と化合物（XXIX）とを反応させ、さらに３位の保護基を
第４工程に準じて除去することにより、化合物（XXX）
を製造する工程である。

第19工程及び第20工程は、化合物（XXVIII）又は（XX
X）の３位水酸基を第４工程後段に準じてアシル化、例
えばメタンスルホニル、トルエンスルホニル、トリフル
オロメタンスルホニルまたはトリフルオロアセチル化し
エステルを合成した後、例えばチオ酢酸のアルカリ金属
塩（例えばナトリウム）を反応させ、上記アシルオキシ
基を保護されているメルカプト基に変換し、さらにこの
保護基をアルカリ金属アルコキサイドのような塩基を用
いて除去することにより、化合物（XXXI）又は（XXXI
I）を製造する工程であり、−30℃乃至25℃で0.5乃至24
時間実施される。尚、式（VII）又は（IV）を有する原
料化合物は、例えば以下の様にして製造することができ
る。

上記式中、X,m,R²′,R⁶及びR⁷は前記と同意義を示
す。

化合物（XXXIII）の水酸基を、常法に従って保護し一
方の水酸基のみ保護された化合物（XXXIV）を単離し
（第21工程）、他方の水酸基を通常用いられる酸化剤
（好適には、ピリジニウムクロロクロメートのようなク
ロム系酸化剤）を用いアルデヒドとした後、シアン化ナ
トリウム、シアン化カリウムのようなシアン化金属化合
物と反応させ、化合物（XXXV）を製造する（第22工
程）。この化合物の水酸基を、所望により、第19又は20
工程に準じメルカプト基に変換した後（第23工程）、例
えば塩酸酸性のような酸性条件下に、メタノールのよう
なアルコール類を用い、アルコリシス反応を行ない、さ
らに再度一級アルコールを保護することにより化合物
（XXXVII）を製造する（第24工程）．所望により、式HX
−を有する基を、前記、保護基又は置換基で修飾するこ
とができる。この化合物のエステル基を、例えばリチウ
ムアルミニウムヒドリドのような水素化金属化合物によ
り、水酸基にまで還元し、所望により、第19又は20工程
に準じ、生成した水酸基をメルカプト基に変換して化合
物（XXXVIII）を製造することができる（第25工程）。

化合物（XXXVIII）を、常法に従って増炭することに
より、各々炭素数が２又は１個増加した化合物（XXXI
X）又は（XL）を製造することができる（第26工程）。

化合物（VII）は、上記合成した化合物（XXXVIII），
（XXXIX）,XL）等を用い、以下の様にして製造すること
ができる。

上記式中、X,Y,m,n,R²′及びR⁶は前記と同意義を示
す。

第27工程は、化合物（XLI）を、第４工程後段に準じ
て処理することにより、化合物（XLII）を製造する工程
である。

又、本発明の新規な原料化合物（VI）又は（IX）は、
以下の様にして合成できる。

上記式中、Ea,X,Y,m,R⁶,R⁷,R⁸及び−Ｇは前記と同意
義を示す。

第28及び29工程は、化合物（XLIII）のメチル基のプ
ロトンを、溶媒中、２当量の塩基を用いて引き抜き、カ
ルバニオンを生成させ、これに化合物（XLIV）又は（XL
VI）を反応させて、それぞれ化合物（XLV）又は（XLVI
I）を製造する工程である。

使用される溶媒としては、好適には、エーテル、テト
ラヒドロフランのようなエーテル類であり、塩基として
は、ブチルリチウム、リチウムジイソプロピルアミドの
ような有機リチウム金属化合物が用いられ、好適にはリ
チウムジイソプロピルアミドである。

反応温度及び反応時間は、主に原料化合物の種類によ
って異なるが、通常−78℃乃至０℃で、15分乃至４時間
である。

又、化合物（XLVII）は次の様にして別途製造でき
る。

化合物（XLVIII）の酸性水酸基又はメルカプト基を常
法に従って、保護（好適にはベンジル基等のアラルキル
基）し（第30工程）、化合物（IL）のエステルを、常法
に従って還元し、ヒドロキシメチル基とした後、第４工
程後段に準じて化合物（Ｌ）を製造する（第31工程）。
所望により、化合物（Ｌ）を、常法に従って増炭（金属
シアナイド化合物又は／及びマロン酸誘導体の使用によ
る）し、化合物（LI）を製造する（第32工程）。化合物
（LI）を、化合物（LII）と第28又は29工程に準じて反
応させ化合物（LIII）を製造した後（第33工程）、酸性
水酸基又はメルカプト基の保護基を除去することによ
り、化合物（XLVII）を製造することができる（第34工
程）。

各工程の反応終了後、目的化合物は常法に従って、反
応混合物から単離することができる。例えば、反応混合
物を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーにより精製し、目的化合物の純品を得ることができ
る。

〔効果〕

本発明の新規なグリセリン誘導体は、持続性および生
物学的利用能の優れた強いPAF拮抗作用を有し、新しい
タイプの抗ショック剤、抗血栓剤、抗端喘息および抗ア
レルギー剤として有用である。

本発明の化合物（Ｉ）の投与形態としては、例えば、
錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤な
どによる経口投与、または注射剤若しくは坐剤などによ
る非経口投与を挙げることができる。その使用量は症
状、年令などにより異なるが、１日0.1〜200mg/kg体重
で、１回または数回に分けて投与することができる。

以下に、実施例、参考例および試験例を挙げ、本発明
を更に具体的に説明する。

実施例１３−〔４−〔３−｛（2RS）−３−（Ｎ−ヘプタデシル
カルバモイルオキシ）−２−（３−イソキサゾリルオキ
シ）プロポキシ｝−５−イソキサゾリル〕ブチル〕チア
ゾリウム＝メタンスルホネート参考例36の化合物（0.621g）とトリエチルアミン（0.
30ml）のベンゼン（12ml）溶液に氷冷下でメタンスルホ
ン酸クロリド（0.12ml）を加えた。室温で１時間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮した。残渣をトルエン
（2ml）に溶かし、チアゾール（0.76ml）を加えて80℃
で44時間加熱撹拌した。溶媒を溜去し、残渣をシリカゲ
ル（15g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。メチレンクロリド−メタノール（9:1〜4:1）で溶出
される分画を集めて表記の化合物（0.550g）を粉末とし
て得た。

m.p 47〜49℃ NMRスペクトル（CD₃OD）ppm: 0.7〜2.3（37H,m） 2.68（3H,s） 2.76（2H,t,J＝7Hz） 3.05（2H,m） 4.2〜4.9（6H,m） 5.18（1H,m） 5.87（1H,s） 6.12（1H,d,J＝2Hz） 8.38（1H,d,J＝2Hz） 8.31（1H,d,J＝4Hz） 8.51（1H,d,J＝4Hz） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3470,1725 元素分析:C₃₅H₅₈N₄O₉S₂・4H₂Oとして計算値:C,51.58:H,8.16;N,6.87;S,7.89 実測値:C,51.68;H,7.73;N,6.87;S,8.11 実施例２（2RS）−１−〔５−｛３−（４−メチル−５−チアゾ
リル）プロピル｝−３−イソキサゾリルオキシ〕−２−
（３−イソキサゾリルオキシ）プロピル＝Ｎ−ヘプタデ
シカルバメート参考例12の化合物（0.443g）、参考例41の化合物（0.
271g）およびトリフェニルホスフィン（0.527g）のテト
ラヒドロフラン（8ml）溶液にアゾジカルボン酸ジメチ
ル（0.294g）のテトラヒドロフラン（2ml）溶液を一度
に加えた。室温で２時間撹拌した後、溶媒を留去し、残
渣をシリカゲル（15g）を用いたカラムクロマトグラフ
ィーおよびローバーＢカラムを用いた中圧液体クロマト
グラフィーにかけた。ヘキサン−エーテル（2:3）で溶
出される分画を集めて表記の化合物（0.506g）を固体と
して得た。m.p50〜52℃ NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜2.5（38H,m） 2.37（3H,s） 2.68（2H,t,J＝8Hz） 2.83（2H,t,J＝8Hz） 3.14（2H,m） 4.2〜4.9（5H,m） 5.26（1H,m） 5.66（1H,s） 6.00（1H,d,J＝2Hz） 8.13（1H,d,J＝2Hz） 8.56（1H,s）マススペクトル（m/e）:646（M⁺） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3460,1725 実施例３３−エチル−５−〔３−〔３−｛2RS）−３−（Ｎ−ヘ
プタデシルカルバモイルオキシ）−２−（３−イソキサ
ゾリルオキシ）プロポキシ｝−５−イソキサゾリル〕プ
ロピル〕−４−メチルチアゾリウム＝クロリド実施例２の化合物（0.653g）をヨウ化エチル（13ml）
に溶かし、38時間加熱還流した。ヨウ化エチルを溜去し
た後、残渣をメタノール−水（7:3,60ml）混合液に溶か
し、IRA−410樹脂（Cl型、ローム・アンド・ハース社
製、60ml）のカラムに通じた。カラムを同じ溶媒で洗
い、溶出液と洗液を合わせて濃縮乾固した。残渣をシリ
カゲル（15g）を用いたカラムクロマトグラフィーおよ
びローバーＢカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィ
ーにかけた。メチレンクロリド−メタノール（9:1）で
溶出される分画を集めて表記の化合物（0.422g）を粉末
として得た。

m.p43〜46℃ NMRスペクトル（CD₃OD）ppm: 0.7〜2.4（38H,m） 1.59（3H,t,J＝8Hz） 2.51（3H,s） 2.7〜3.2（6H,m） 2.81（2H,t,J＝8Hz） 3.03（2H,t,J＝8Hz） 4.2〜4.8（6H,m） 4.50（2H,q,J＝8Hz） 5.20（1H,m） 5.91（1H,s） 6.13（1H,d,J＝2Hz） 8.40（1H,d,J＝2Hz） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3470,1725 実施例４３−〔４−〔３−｛２−（５−メチル−３−イソキサゾ
リルオキシ）−３−（５−ペンタデシル−３−イソキサ
ゾリルオキシ）｝プロポキシ〕−５−イソキサゾリル〕
ブチルチアゾリウム＝メタンスルホネート参考例37の化合物（0.245g）とトリエチルアミン（0.
12ml）のベンゼン（7ml）溶液にメタンスルホニルクロ
リド（0.05ml）を氷冷下で加えた。室温で20分間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮した。固体の残渣（0.
285g）をトルエン（2ml）に溶かし、チアゾール（0.295
g）を加えて85℃の油浴上で３日間加熱撹拌した。溶媒
を溜去し、残渣をシリカゲル（20g）を用いたカラムク
ロマトグラフィーにかけた。メチレンクロリド−メタノ
ール（2:1）〜メチレンクロリド−メタノール−水（60:
35:5）で溶出される分画を集めて表記の化合物（0.161
g）を粘稠な油状物として得た。

NMRスペクトル（90MHz,CDCl₃）ppm: 0.7〜2.2（33H,m） 2.33（3H,s） 2.4〜2.95（4H,m） 2.73（3H,s） 4.35〜4.8（4H,m） 4.87（2H,t,J＝7Hz） 5.33（1H,m） 5.65（1H,s） 5.70（1H,s） 5.76（1H,s） 8.31（1H,s） 8.58（1H,s） 11.10（1H,s）実施例５３−〔３−｛（2RS）−２−（５−メチル−３−イソキ
サゾリルオキシ）−３−（５−ペンタデシル−３−イソ
キサゾリルオキシ）プロポキシ｝−５−イソキサゾリ
ル〕メチルチアゾリウム＝メタンスルホネート参考例40の化合物（0.300g）とトリエチルアミン（0.
15ml）のベンゼン（6ml）溶液にメタンスルホン酸クロ
リド（0.06ml）を氷冷下で加えた。室温で１時間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮した。得られた粗メタ
ンスルホネート（0.36g）をトルエン（3ml）に溶かし、
チアゾール（0.39ml）を加えて80℃の油浴上で22時間加
熱撹拌した。溶媒を溜去し残渣をシリカゲル（8g）を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。メチレンクロ
リド−メタノール（9:1〜4:1）で溶出される分画を集め
て表記の化合物（0.256g）を得た。

NMRスペクトル（CD₃OD）ppm: 0.7〜1.8（29H,m） 2.31（3H,s） 2.61（2H,t,J＝7Hz） 2.68（3H,s） 4.4〜4.8（6H,m） 5.82（1H,s） 5.97（1H,s） 6.45（1H,s） 8.37（1H,d,J＝4Hz） 8.57（1H,d,J＝4Hz）元素分析:C₃₃H₅₀N₄O₉S₂.H₂Oとして計算値:C,54.38;H,7.19;N,7.69;S,8.80 実測値:C,54.63;H,7.20;N,7.63;S,8.77 実施例６３−〔７−ヒドロキシ−８−｛（2RS）−２−（５−メ
チル−３−イソキサゾリルオキシ）−３−（５−ペンタ
デシル−３−イソキサゾリルオキシ）プロポキシ｝オク
チル〕チアゾリウム＝ｐ−トルエンスルホネート参考例47の化合物（0.450g）を用い、実施例１と同様
にチアゾール（0.43ml）との反応を行って表記の化合物
（0.209g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CD₃OD）ppm: 0.7〜2.8（47H,m） 2.31（3H,s） 2.35（3H,s） 2.64（2H,t,J＝7Hz） 3.2〜5.3（10H,m） 5.81（2H,s） 7.26（2H,d,J＝8Hz） 7.73（2H,d,J＝8Hz） 8.29（1H,d,J＝4Hz） 8.51（1H,d,J＝4Hz）元素分析:C₄₃H₆₇N₃O₉S₂・1/2 H₂Oとして計算値:C,61.25;H,8.13;N,4.98;S,7.61 実測値:C,61.42;H,8.28;N,4.78;S,7.65 実施例７３−〔７−アセトキシ−８−｛（2RS）−２−（５−メ
チル−３−イソキサゾリルオキシ）−３−（５−ペンタ
デシル−３−イソキサゾリルオキシ）プロポキシ｝オク
チル〕チアゾリウム＝ｐ−トルエンスルホネート参考例48の化合物（0.163g）を用い、実施例１と同様
にチアゾール（0.29ml）との反応を行って、表記の化合
物（0.116g）をロウ状物として得た。

NMRスペクトル（CD₃OD）ppm: 0.7〜2.8（50H,m） 2.00（3H,s） 2.31（3H,s） 2.36（3H,s） 2.65（2H,t,J＝7Hz） 3.4〜5.2（10H,m） 5.82（2H,s） 7.23（2H,d,J＝8Hz） 7.74（2H,d,J＝8Hz） 8.30（1H,d,J＝4Hz） 8.51（1H,d,J＝4Hz） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:1730（−OCO−）元素分析:C₄₅H₆₉N₃O₁₀S₂・1/2 H₂Oとして計算値:C,61.06;H,7.97;N,4.75;S,7.24 実測値:C,60.79;H,7.91;N,4.72;S,7.06 実施例８３−〔７−カルバモイルオキシ−８−｛（2RS）−２−
（５−メチル−３−イソキサゾリルオキシ）−３−（５
−ペンタデシル−３−イソキサゾリルオキシ）プロポキ
シ｝オクチル〕チアゾリウム＝ｐ−トルエンスルホネー
ト参考例49の化合物（0.306g）とチアゾール（0.55ml）
のトルエン（1ml）溶液を80℃の油浴上で65時間加熱撹
拌した。反応液を濃縮乾固し、残渣をシリカゲル（7g）
を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。メチレン
クロリド−メタノール（9:1〜17:3）で溶出される分画
を集めて表記の化合物（0.192g）を得た。

NMRスペクトル（CD₃OD）ppm: 0.7〜2.8（47H,m） 2.30（3H,s） 2.35（3H,s） 2.64（2H,t,J＝7Hz） 3.4〜5.2（10H,m） 5.81（2H,s） 7.22（2H,d,J＝8Hz） 7.74（2H,d,J＝8Hz） 8.28（1H,d,J＝4Hz） 8.50（1H,d,J＝4Hz）実施例９３−〔７−アセチルチオ−８−｛（2RS）−２−（５−
メチル−３−イソキサゾリルオキシ）−３−（５−ペン
タデシル−３−イソキサゾリルオキシ）プロポキシ｝オ
クチル〕チアゾリウム＝メタンスルホネート参考例52の化合物（0.695g）とトリエチルアミン（0.
30ml）のベンゼン（15ml）溶液にメタンスルホン酸クロ
リド（0.12ml）を氷冷下で加えた。室温で１時間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮した。得られた油状の
粗メタンスルホネート（0.77g）をトルエン（2ml）に溶
かし、チアゾール（1.51ml）を加えて80℃の油浴上で39
時間加熱撹拌した。溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル
（18g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
メチレンクロリド−メタノール（9:1〜17:3）で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物（0.690g）を得た。

NMRスペクトル（CD₃OD）ppm: 0.7〜2.8（50H,m） 2.27（3H,s） 2.31（3H,s） 2.69（3H,s） 3.4〜4.9（9H,m） 5.02（1H,m） 5.81（2H,s） 8.32（1H,d,J＝4Hz） 8.52（1H,d,J＝4Hz）元素分析:C₃₉H₆₅N₃O₉S₃・H₂Oとして計算値:C,56.15;H,8.10;N,5.04;S,11.53 実測値:C,56.44;H,7.87;N,5.11;S,11.64 実施例10 ３−〔８−｛（2RS）−２−（５−メチル−３−イソキ
サゾリルオキシ）−３−（５−ペンタデシル−３−イソ
キサゾリルオキシ）プロポキシ｝−７−ヒドロキシイミ
ノオクチル〕チアゾリウム＝Ｐ−トルエンスルホネート参考例54の化合物（0.332g）を用い、実施例１と同様
にチアゾール（0.31ml）との反応を行って、表記の化合
物（0.150g）を得た。

NMRスペクトル（CD₃OD）ppm: 0.7〜2.8（47H,m） 2.31（3H,s） 2.35（3H,s） 2.65（2H,t,J＝7Hz） 3.7〜4.8（8H,m） 5.05（1H,m） 5.83（2H,s） 7.24（2H,d,J＝8Hz） 7.74（2H,d,J＝8Hz） 8.30（1H,d,J＝4Hz） 8.52（1H,d,J＝4Hz）元素分析:C₄₃H₆₆N₄O₉・1/2 H₂Oとして計算値:C,60.32;H,7.89;N,6.54;S,7.49 実測値:C,60.51;H,8.00;N,6.23;S,7.58 参考例１（2RS）−１−Ｏ−オクタデシル−２−Ｏ−（２−チア
ゾリル）グリセリン水素化ナトリウム（55％ 0.287g）のジメチルホルム
アミド（DMF）（15ml）懸濁液に、RS−１−Ｏ−オクタ
デシル−３−Ｏ−トリフェニルメチルグリセリン（3.86
5g）のDMF（25ml）溶液を氷冷下で10分間かけて滴下し
た。混合物を60℃で45分間撹拌した後室温に戻し、２−
ブロモチアゾール（1.080g）のDMF（5ml）溶液を加え
た。反応液を60℃で5.5時間加熱撹拌し、放冷後水中に
注いだ。酢酸エチルで３回抽出し、抽出液を水洗乾燥、
濃縮した。残渣（5.1g）をシリカゲル（150g）を用いた
カラムクロマトグラフィーにかけた。エーテル−石油エ
ーテル（3:100）で溶出する分画より粗（2RS）−１−Ｏ
−オクタデシル−２−Ｏ−（２−チアゾリル）−３−Ｏ
−トリフェニルメチルグリセリン（1.212g）を得、これ
をメチレンクロリド（20ml）に溶かした。トリフルオロ
酢酸（5ml）を加えて室温で１時間撹拌し、冷炭酸水素
ナトリウム水溶液中に注いだ。メチレンクロリドで２回
抽出し、抽出液を水洗、乾燥、濃縮した。残渣（2.2g）
をシリカゲル（40g）を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、ヘキサン−メチレンクロリド−酢酸エチル
（9:1:3）で抽出される分画より、表記の化合物（1.087
g）を白色針状晶として得た。mp65〜67℃（エーテル−
ヘキサン）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（35H,m） 1.53（1H,s,−OH） 3.47（2H,t,J＝7Hz） 3.74（2H,d,J＝5Hz） 3.93（2H,d,J＝5Hz） 5.10（1H,quintet,J＝5Hz） 6.68（1H,d,J＝4.5Hz） 7.07（1H,d,J＝4.5Hz）マススペクトル（m/e）;428（M⁺）元素分析:C₂₄H₄₅NO₃Sとして計算値:C,67.40;H,10.61;N,3.27;S,7.50 実測値:C,67.49;H,10.63;N,3.33;S,7.66 参考例２（2RS）−２−Ｏ−（３−イソキサゾリル）−１−Ｏ−
オクタデシルグリセリン（2RS）−１−Ｏ−オクタデシル−３−Ｏ−トリフェ
ニルメチルグリセリン（3.696g）とトリエチルアミン
（1.23ml）のベンゼン（40ml）溶液にメタンスルホン酸
クロリド（0.58ml）のベンゼン溶液（30ml）を氷冷下５
分間かけて滴下した。室温で１時間撹拌した後、反応液
を水洗、乾燥、濃縮すると粗メシレート（4.18g）が固
体として得られた。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.7（35H,m） 3.02（3H,s） 3.25〜3.80（6H,m） 4.83（1H,m） 7.2〜7.8（15H,m）水素化ナトリウム（0.355g,55％鉱油懸濁物）をDMF
（20ml）中で撹拌し、３−ヒドロキシイソキサゾール
（0.711g）のDMF（20ml）溶液を氷冷下10分間かけて滴
下した。室温で１時間撹拌した後、上記の粗メシレート
（3.704g）のDMF（30ml）溶液を加え、100゜の油浴上で
65時間加熱した。放冷後反応液を水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで２回抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣
（4.61g）をシリカゲル（120g）を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。ヘキサン−エーテル（9:1〜8:
1）で溶出される分画を集めて（2RS）−２−Ｏ−（３−
イソキサゾリル）−１−Ｏ−オクタデシル−３−Ｏ−ト
リフェニルメチルグリセリン（2.120g）を固体として得
た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.7（35H,m） 3.15〜3.65（4H,m） 3.75（2H,d,J＝5Hz） 5.00（1H,m） 5.98（1H,d,J＝2Hz） 7.1〜7.6（15H,m） 8.10（1H,d,J＝2Hz）上記の化合物（2.120g）を95％メタノールに溶かし、
ｐ−トルエンスルホン酸（0.185g）を加えて２時間加熱
還流した。放冷後反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液（20ml）を加え、メタノールを減圧下で溜去した。残
渣を酢酸エチルで抽出し抽出液を水洗、乾燥、濃縮し
た。油状の残渣をシリカゲル（70g）を用いたカラムク
ロマトグラフィーにかけた。エーテル−ヘキサン（1:3
〜1:2）で溶出される分画を集めて表記の化合物（1.313
g）を白色結晶として得た。

mp52〜53℃。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（35H,m） 2.30（1H,m） 3.52（2H,t,J＝6Hz） 3.78（2H,d,J＝5Hz） 3.95（2H,d,J＝5Hz） 4.86（1H,quintet,J＝5Hz） 6.00（1H,d,J＝2Hz） 8.12（1H,d,J＝2Hz）マススペクトル（m/e）;412（M⁺＋１）元素分析:C₂₄H₄₅NO₄として計算値:C,70.03;H,11.02;N,3.40 実測値:C,69.80;H,11.19;N,3.19 参考例３（2RS）−１−Ｏ−ヘキサデシル−２−Ｏ−（３−イソ
キサゾリル）グリセリン（ａ）（2RS）−１−Ｏ−ヘキサデシル−３−Ｏ−ト
リフェニルメチルグリセリン（8.20g）を用い、参考例
２と同様に操作して表記の化合物（2.283g）を白色針状
晶として得た。mp49〜50℃（ヘキサン）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（31H,m） 2.58（1H,t,J＝7Hz） 3.47（2H,t,J＝6Hz） 3.77（2H,d,J＝5Hz） 3.95（2H,dd,J₁＝5,J₂＝7Hz） 4.87（1H,quintet,J＝5Hz） 6.00（1H,d,J＝2Hz） 8.13（1H,d,J＝2Hz）マススペクトル（m/e）:384（M⁺＋１）,383（M⁺）元素分析:C₂₂H₄₁NO₄として計算値:C,68.89;H,10.77;N,3.65 実測値:C,68.71;H,10.78;N,3.62 （ｂ）（2RS）−１−Ｏ−ヘキサデシル−３−Ｏ−ト
リフェニルメチルグリセリン（2.482g）,3−ヒドロキシ
イソシサゾール（0.453g），トリフェニルホスフィン
（2.330g）のテトラヒドロフラン（18ml）溶液にアジゾ
カルボン酸ジメチル（1.289g）のテトラヒドロフラン
（2ml）溶液を一度に加えた。反応液の温度は20℃から3
4℃に上昇した。20〜24℃で30分間撹拌した後、溶媒を
溜去し、残渣をシリカゲル（130g）を用いたカラムクロ
マトグラフィーにかけた。ヘキサン−エーテル（100:7
〜10:1）で溶出される分画を集めて（2RS）−１−Ｏ−
ヘキサデシル−２−Ｏ−（３−イソキサゾリル）−３−
Ｏ−トリフェニルメチルグリセリン（2.669g）を白色結
晶として得た。mp67〜68℃（ヘキサン）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（31H,m） 3.15〜3.65（2H,m） 3.41（2H,t,J＝6Hz） 3.77（2H,d,J＝5Hz） 5.00（1H,m） 5.98（1H,d,J＝1.5Hz） 7.1〜7.7（15H,m） 8.10（1H,d,J＝1.5Hz）マススペクトル（m/e）:625（M⁺）,548,382,366 元素分析:C₄₁H₅₅NO₄として計算値:C,78.68;H,8.86;N,2.24 実測値:C,78.44;H,8.91;N,2.40 上記の化合物（2.404g）,p−トルエンスルホン酸（0.
20g），メタノール（45ml）および水（5ml）の混合物を
１時間加熱還流した。冷却後飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（約30ml）を加え、メタノールを溜去した。残溜液
をメチレンクロリドで３回抽出し、抽出液を合わせて水
洗、乾燥、濃縮した。残渣（2.50g）をシリカゲル（75
g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘキ
サン−エーテル（2:1〜1:1）で溶出される分画を集めて
表記の化合物（1.459g）を得た。

参考例４１−Ｏ−ヘキサデシル−２−Ｏ−（３−イソキサゾリ
ル）−sn−グリセリン３−Ｏ−ヘキサデシル−１−Ｏ−トリフェニルメチル
−sn−グリセリン〔▲〔α〕²⁶ _D▼−2.25゜（Ｃ＝1.02,
CHCl₃）〕（9.021g）を用い、参考例３（ｂ）前半のよ
うに操作して、１−Ｏ−ヘキサデシル−２−Ｏ−（３−
イソキサゾリル）−３−Ｏ−トリフェニルメチル−sn−
グリセリン（8.751g）を結晶として得た。mp67〜68℃
（ヘキサン）、▲〔α〕²⁶ _D▼＋13.6゜（Ｃ＝1.02,CHCl
₃）。

元素分析:C₄₁H₅₅NO₄として計算値:C,78.68;H,8.86;N,2.24 実測値:C,78.61;H,8.80;N,2.21 上記化合物（4.271g）を用い、参考例３（ｂ）後半と
同様にトリフェニルメチル基を除去し、表記の化合物
（2.560g）を結晶として得た。mp50〜51℃（ヘキサ
ン）、▲〔α〕²⁶ _D▼−6.24゜（Ｃ＝1.01,CCl₃）。

元素分析:C₂₂H₄₁NO₄として計算値:C,68.89;H,10.77;N,3.65 実測値:C,68.69;H,10.74;N,3.69 参考例５３−Ｏ−ヘキサデシル−２−Ｏ−（３−イソキサゾリル
−sn−グリセリン参考例４で得た１−Ｏ−ヘキサデシル−２−Ｏ−（３
−イソキサゾリル）−３−Ｏ−トリフェニルメチル−sn
−グリセリン（4.400g）をテトラヒドロフラン（10ml）
とエタノール（90ml）の混合物中に溶かし、10％パラジ
ウム−炭素（4.40g）を加えてパールの装置中で４気圧
の水素ガスと49時間振盪した。触媒を去した後、反応
液に炭酸カリウム（0.635g）を加え、室温で30分間撹拌
した。不溶物を去してから溶媒を溜去し、残渣をシリ
カゲル（100g）を用いたカラムクロマトグラフィーにか
けた。ヘキサン−エーテル（9:1〜9:1）で溶出される分
画を集めて、１−Ｏ−ヘキサデシル−３−Ｏ−トリフェ
ニルメチル−sn−グリセリン（3.327g）を白色結晶とし
て得た。mp49〜50℃、▲〔α〕²⁶ _D▼＋2.25゜（Ｃ＝1.0
2,CHCl₃）。

上記化合物（3.077g）を用い、参考例３（ｂ）前半の
ように操作して３−Ｏ−ヘキサデシル−２−Ｏ−（３−
イソキサゾリル）−１−Ｏ−トリフェニルメチル−sn−
グリセリン（3.070g）を白色結晶として得た。mp67〜68
℃（ヘキサン）、▲〔α〕²⁶ _D▼−13.5゜（Ｃ＝1.02,CH
Cl₃）。

元素分析:C₄₁H₅₅NO₄として計算値:C,78.68;H,8.86;N,2.24 実測値:C,78.54;H,8.81;N,2.31 この化合物（2.921g）を用い、参考例３（ｂ）後半の
ようにしてトリフェニルメチル基を除去して、表記の化
合物（1.736g）を白色結晶として得た。mp50〜51℃、▲
〔α〕²⁶ _D▼＋6.24゜（Ｃ＝1.01,CHCl₃）。

元素分析:C₂₂H₄₁NO₄として計算値:C,68.89;H,10.77;N,3.65 実測値:C,68.87;H,10.75;N,3.72 参考例６（2RS）−１−Ｏ−（２−メトキシエトキシ）メチルグ
リセリン水素化ナトリウム（55％鉱油懸濁物,3.36g）とテトヒ
ドロフラン（300ml）の混合物中に、（4RS）−2,2−ジ
メチル−1,3−ジオキソラン−４−メタノール（9.25g）
のテトラヒドロフラン（100ml）溶液を20〜24℃で30分
間かけて滴下した。この混合物を氷浴中で冷却し、２−
メトキシエトキシメチルクロリド（10.46g）のテトラヒ
ドロフラン（50ml）溶液を滴下した。０〜２℃で３時間
撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽
出した。抽出液を合わせ、水洗、乾燥、濃縮し、残渣を
シリカゲル（200g）を用いたカラムクロマトグラフィー
にかけた。酢酸エチル−ヘキサン（1:5〜1:4）で溶出さ
れる分画を集めて（4RS）−2,2−ジメチル−４−（２−
メトキシエトキシ）メトキシメチル−1,3−ジオキソラ
ン（12.80g）を無色の油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 1.35（3H,s） 1.40（3H,s） 3.50（3H,s） 3.55〜4.00（9H,m） 4.75（2H,s）上記の化合物（12.78g）を酢酸（40ml）と水（20ml）
の混合液に溶かし、50℃で２時間撹拌した。減圧下で溶
媒を溜去し、残渣を減圧蒸溜して表記の化合物（10.38
g）を無色の液体として得た。bp120℃/1mmHg（浴温）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 3.02（2H,s） 3.40（3H,s） 3.45〜4.05（9H,m） 4.77（2H,s）マススペクトル（m/e）:181（M⁺＋１）,149（M⁺−OC
H₃）元素分析:C₇H₁₆O₅として計算値:C,46.66;H,8.95 実測値:C,46.46;H,8.78 参考例７３−Ｏ−（２−メトキシエトキシ）メチル−sn−グリセ
リンＤ−マンニトールより合成した（4S）−2,2−ジメチ
ル−1,3−ジオキソラン−４−メタノール〔▲〔α〕²⁶ _D
▼＋11.1゜（CP1.72,MeOH）〕（9.214g）を用い、参考
例６前半のように操作して（4S）−2,2−ジメチル−４
−（２−メトキシエトキシ）メチル−1,3−ジオキソラ
ン（11.466g）を得た。bp80℃（浴温）/4mmHg▲〔α〕
²⁵ _D▼＋13.8゜（Ｃ＝1.05,CHCl₃）。

元素分析:C₁₀H₂₀O₅として計算値:C,54.53;H,9.15 実測値:C,54.24;H,9.19 上記の化合物（6.480g）を用い、参考例６後半のよう
に操作して。表記の化合物（5.157g）を得た。bp120〜1
30℃（浴温）/1mmHg,▲〔α〕²⁶ _D▼−2.42゜（CP1.65,C
HCl₃）。

元素分析:C₇H₁₆O₅として計算値:C,46.66;H,8.95 実測値:C,46.64;H,9.14 参考例８（2RS）−３−Ｏ−（２−メトキシエトキシ）メチル−
１−Ｏ−トリフェニルメチルグリセリン参考例６の化合物（0.506g）、トリフェニルメチルク
ロリド（0.939g）およびトリエチルアミン（0.94ml）の
トルエン（10ml）溶液を1.5時間加熱還流し、放冷後飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液中に注いだ。有機層を分取
し、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて水
洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲル（25g）を用いた
カラムクロマトグラフィーにかけた。エーテル−ヘキサ
ン（1:3〜1:2）で溶出される分画を集めて表記の化合物
（0.818g）を無色の油状物として得た。

NMR（60MHz,CDCl₃）ppm: 2.75（1H,m） 3.15（2H,d,J＝5.5Hz） 3.32（3H,s） 3.20〜3.75（6H,m） 3.90（1H,m） 4.65（2H,s） 7.0〜7.5（15H,m）参考例９（2RS）−２−Ｏ−（３−イソキサゾリル）−３−Ｏ−
（２−メトキシエトキシ）メチル−１−Ｏ−トリフェニ
ルメチルグリセリン参考例８の化合物（8.68g）とトリエチルアミン（4.0
ml）のベンゼン（170ml）溶液に、メタンスルホン酸ク
ロリド（1.9ml）を氷冷下で滴下した。反応液を室温で
１時間撹拌した後、水洗、乾燥、濃縮する。得られた粗
メタンスルホネートのDMF（40ml）溶液を、参考例２に
示したようにして調製した３−ヒドロキシイソキサゾー
ル（3.50g）のナトリウム塩のDMF（40ml）溶液に加え
た。混合物を100℃の油浴上で16.5時間加熱撹拌し、放
冷後水中に注いだ。酢酸エチルで２回抽出し、抽出液を
合わせて水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲル（23
0g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、酢酸エ
チル−ヘキサン（1:4〜1:3）で溶出される分画を集めて
表記の化合物（6.38g）を油状物として得た。

NMR（60MHz,CDCl₃）ppm: 3.30（3H,s） 3.3〜3.7（6H,m） 3.86（2H,d,J＝5Hz） 4.62（2H,s） 4.96（1H,m） 5.90（1H,d,J＝2Hz） 7.0〜7.5（15H,m） 8.00（1H,d,J＝2Hz）参考例10 （2RS）−２−Ｏ−（３−イソキサゾリル）−３−Ｏ−
（２−メトキシエトキシ）メチルグリセリン参考例９の化合物（6.236g）とｐ−トルエンスルホン
酸（0.727g）を95％メタノール（150ml）中に溶かし、
１時間加熱還流した。放冷後飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（100ml）を加え、メタノールを減圧下で溜去し
た。残留液を酢酸エチルで２回抽出し、抽出液を合わせ
て水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲル（130g）を
用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、酢酸エチルで
溶出される分画を集めて表記の化合物（2.560g）を無色
の液体として得た。

bp130〜140℃/2mmHg（浴温）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 2.71（1H,t,J＝7.5Hz） 3.40（3H,s） 3.45〜3.85（4H,m） 3.85〜4.0（2H,m） 3.93（2H,d,J＝5.5Hz） 4.77（2H,s） 4.90（1H,quintet,J＝5.5Hz） 6.01（1H,d,J＝2Hz） 8.13（1H,d,J＝2Hz）マススペクトル（m/e）:248（M⁺＋１）,172（M⁺−C₃H₇O
₂）。

元素分析:C₁₀H₁₇NO₆として計算値:C,48.58;H,6.93;N,5.67 実測値:C,48.66;H,6.74;N,5.66 参考例11 （2RS）−１−Ｏ−（Ｎ−ヘプタデシル）カルバモイル
−２−Ｏ−（３−イソキサゾリル）−３−Ｏ−（２−メ
トキシエトキシ）メチルグリセリンステアリン酸（5.54g）、ジフェニルホスホリルアジ
ド（3.50ml）およびトリエチルアミン（2.26ml）のベン
ゼン（200ml）溶液を３時間加熱還流した。放冷後、反
応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗い、乾燥
後減圧下に濃縮、乾固した。残渣を再びベンゼン（160m
l）に溶かし、参考例10の化合物（2.007g）を加えてか
ら、40時間加熱還流した。放冷後、反応液を濃縮し、残
渣をシリカゲル（160g）を用いたカラムクロマトグラフ
ィーにかけた。酢酸エチル−ヘキサン（1:4〜1:3）で溶
出される分画を集めて表記の化合物（3.831g）を無色の
油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.7（33H,m） 3.15（2H,dt,J₁＝J₂＝6Hz） 3.38（3H,s） 3.45〜3.80（4H,m） 3.87（2H,d,J＝4.5Hz） 4.15〜4.60（2H,m） 4.65〜4.95（1H,m） 4.76（2H,s） 5.10（1H,m） 6.00（1H,d,J＝2Hz） 8.13（1H,d,J＝2Hz）マススペクトル（m/e）:528（M⁺）参考例12 （2RS）−１−Ｏ−（Ｎ−ヘプタデシル）カルバモイル
−２−Ｏ−（３−イソオキサゾリル）グリセリン参考例11の化合物（3.747g）のメタノール（70ml）溶
液に濃塩酸（17.5ml）を加え、50℃の油浴上で1.5時間
加温した。放冷後反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで２
回抽出した。抽出液を合わせ、炭酸水素ナトリウム水溶
液および水で洗い、乾燥後濃縮した。残渣をエーテルか
ら再結晶して表記の化合物（3.153g）を白色結晶として
得た。mp71〜72℃。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（33H,m） 2.90（1H,m） 3.17（2H,dt,J₁＝J₂＝6Hz） 3.87（2H,m） 4.47（2H,d,J＝4.5Hz） 4.6〜5.1（2H,m） 6.00（1H,d,J＝2Hz） 8.13（1H,d,J＝2Hz） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3460（−OH）、1720（−Ｏ
−CO−NH−）マススペクトル（m/e）:440（M⁺）,356（M⁺−C₃H₂NO₂）元素分析:C₂₄H₄₄N₂O₅として計算値:C,65.42;H,10.07;N,6.36 実測値:C,65.48;H,10.04;N,6.44 参考例13 ｛（4R）−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−４−イ
ル｝メチル＝Ｎ−ヘプタデシルカルバメートステアリン酸（30.30g）、ジフェニルホスホリルアジ
ド（22.9ml）およびトリエチルアミン（14.9ml）のベン
ゼン（550ml）溶液を３時間還流下で加熱した。冷後反
応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および水で洗い、
乾燥、濃縮した。残渣（29.62g）、（4S）−（2,2）−
ジメチル−1,3−ジオキソラン−４−メタノール〔▲
〔α〕²⁶ _D▼＋11.1゜（Ｃ＝1.72,MeOH）〕（5.630g）お
よび４−ジメチルアミノピリジン（1.041g）をトルエン
（330ml）に溶かし、100゜の油浴上で20時間加熱した。
溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル（400g）を用いたカラ
ムクロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル
（9:1〜17:3）で溶出される分画を集めて表記の化合物
（14.26g）を結晶として得た。mp71〜73℃（ヘキサ
ン）、▲〔α〕²⁶ _D▼−5.77゜（Ｃ＝1.04,CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（33H,m） 1.37（3H,s） 1.43（3H,s） 3.17（2H,td,J₁＝J₂＝6Hz） 3.70（1H,dd,J₁＝8Hz,J₂＝6Hz） 3.9〜4.5（4H,m） 4.73（1H,m） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3480,1725 マススペクトル（m/e）:398（M⁺−CH₃）元素分析:C₂₄H₄₇NO₄として計算値:C,69.69;H,11.45;N,3.39 実測値:C,69.58;H,11.44;N,3.47 参考例14 ３−Ｏ−（Ｎ−ヘプタデシカルバモイル）−sn−グリセ
リン参考例13の化合物（14.13g）を酢酸（270ml）に溶か
し、水（30ml）を加えて室温で24時間撹拌した。反応液
を氷水（約１）中に注ぎ、析出する固体を取、水
洗、乾燥すると表記の化合物（12.19g）が得られた。mp
100〜102℃（酢酸エチル） IRスペクトル（KBr）cm^-1:3350,1685 マススペクトル（m/e）;373（M⁺）,342,313 元素分析:C₂₁H₄₃NO₄として計算値:C,67.52;H,11.60;N,3.75 実測値:C,67.06;H,11.55;N,3.89 参考例15 ３−Ｏ−（Ｎ−ヘプタデシルカルバモイル）−１−Ｏ−
トリフェニルメチル−sn−グリセリン参考例14の化合物（12.03g）、トリフェニルメチルクロ
リド（10.77g）およびトリエチルアミン（10.8ml）のト
ルエン（240ml）溶液を1.5時間還流下に加熱した。冷後
反応液を水（0.5）中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出
した。抽出液を水洗、濃縮し、残渣をテトラヒドロフラ
ン（240ml）に溶かし、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（120ml）を加えて室温で１時間撹拌した。反応液を水
中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出し、抽出液を水洗、乾
燥、濃縮した。残渣をシリカゲル（400g）を用いたカラ
ムクロマトグラフィーおよびパックドカラムNQ−３（和
光純薬製）を用いた中圧液体クロマトグラフィーにかけ
た。ヘキサン−エーテル（3:2〜2:3）で溶出される分画
を集めて表記の化合物（15.89g）を粘稠な液体として得
た。▲〔α〕²⁶ _D▼−3.96゜（Ｃ＝1.01,CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（33H,m） 2.77（1H,m） 3.10（2H,m） 3.20（2H,d,J＝5Hz） 4.00（1H,m） 4.20（2H,d,J＝4.5Hz） 4.67（1H,m）マススペクトル（m/e）:372（M⁺CPh₃）,356 元素分析:C₄₀H₅₇NO₄として計算値:C,78.01;N,9.33;N,2.27 実測値:C,78.36;H,9.53;N,2.10 参考例16 １−Ｏ−（Ｎ−ヘプタデシルカルバモイル）−２−Ｏ−
（３−イソキサゾリル）−３−Ｏ−トリフェニルメチル
−sn−グリセリン参考例15の化合物（12.74g）、３−ヒドロキシイソキ
サゾール（2.11g）およびトリフェニルホスフィン（10.
85g）のテトラヒドロフラン（230ml）溶液に、アゾジカ
ルボン酸ジメチル（6.04g）のテトラヒドロフラン（20m
l）溶液を室温で一度に加えた。室温で1.5時間撹拌した
後、反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（約0.5
）中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液を水
洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲル（280g）を用いた
カラムクロマトグラフィーおよびローバーＣカラム（メ
ルク社製）を用いた中圧液体クロマトグラフィーにかけ
た。ヘキサン−エーテル（4:1）で溶出される分画を集
めて表記の化合物（11.13g）を粘稠な液体として得た。
▲〔α〕²⁶ _D▼＋14.8゜（Ｃ＝1.05,CHCl₃） NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.75〜1.75（33H,m） 3.10（2H,m） 3.32（1H,dd,J₁＝10.5,J₂＝4.5Hz） 3.51（1H,dd,J₁＝10.5,J₂＝4.5Hz） 4.44（2H,d,J＝4.5Hz） 4.53（1H,m） 5.08（1H,quintet,J＝4.5Hz） 6.00（1H,d,J＝2Hz） 7.1〜7.8（15H,m） 8.15（1H,d,J＝2Hz）マススペクトル（m/e）:423（M₊−OCPh₃）元素分析:C₄₃H₅₈N₂O₅として計算値:C,75.62;H,8.56;N,4.10 実測値:C,75.51;H,8.47;N,4.22 参考例17 １−Ｏ−（Ｎ−ヘプタデシルカルバモイル）−２−Ｏ−
（３−イソキサゾリル）−sn−グリセリン参考例16の化合物（11.00g）より、参考例３（ｂ）後
半のようにしてトリフェニルメチル基を除去し、表記の
化合物（6.87g）を白色固体として得た。mp89〜91℃
（ヘキサン）、▲〔α〕²⁶ _D▼−13.04゜（Ｃ＝1.02,CHC
l₃）。この化合物のスペクトルは参考例12と同一であ
る。

元素分析:C₂₄H₄₄N₂O₅として計算値:C,65.42;H,10.07;N,6.36 実測値:C,65.14;H,10.07;N,6.34 参考例18 ２−（５−メチル−３−イソキサゾリルオキシ）マロン
酸ジエチル水素化ナトリウム（55％鉱油懸濁物、1.527g）とヘキ
サメチルホスホルアミド（HMPA）（20ml）の混合物中に
３−ヒドロキシ−５−メチルイソキサゾール（3.468g）
のHMPA（35ml）溶液を氷冷下で滴下した。室温で15時間
撹拌した後、反応液を再び氷冷し、２−ブロモマロン酸
ジエチル（8.367g）のHMPA（35ml）溶液を滴下した。室
温で１時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで２回抽出した。抽出液を合わせ、水洗、乾燥、濃縮
して、残渣をシリカゲル（200g）を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。酢酸エチル−ヘキサン（1:10〜
15:100）で溶出される分画を集めて表記の化合物（7.59
3g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 1.30（6H,t,J＝7Hz） 2.32（3H,s） 4.31（4H,q,J＝7Hz） 5.57（1H,s） 5.80（1H,s）マススペクトル（m/e）:257（M⁺）,212（M⁺−OEt）元素分析:C₁₁H₁₅NO₆としての計算値:C,51.36;H,5.88;N,5.44 実測値:C,51.38;H,5.92;N,5.36 参考例19 ２−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾリル）グリセリ
ン水素化リチウムアルミニウム（14.00g）とテトラヒド
ロフラン（140ml）の混合物に、参考例18の化合物（23.
72g）のテトラヒドロフラン（120ml）溶液を氷冷下30分
かけて滴下した。室温で40時間撹拌した後、４％水酸化
ナトリウム水溶液（56ml）を氷冷下30分で滴下した。セ
ライト層を通じて不溶物を去し、液を濃縮した。残
渣をシリカゲル（300g）を用いたカラムクロマトグラフ
ィーにかけた。酢酸エチルで溶出される分画を集めて表
記の化合物（11.26g）を無色油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 2.31（3H,s） 3.47（2H,m） 3.90（4H,m） 4.70（1H,quintet,J＝4.5Hz） 5.70（1H,s）マススペクトル（m/e）:174（M⁺＋１）,156（M⁺−H₂O）参考例20 （2RS）−１−Ｏ−（Ｎ−ヘプタデシル）カルバモイル
−２−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾリル）グリセ
リンステアリン酸（2.96g）、ジフェニルホスホリルアジ
ド（1.87ml）およびトリエチルアミン（1.21ml）のベン
ゼン（90ml）溶液を16時間加熱還流し、放冷後飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液および水で洗った。乾燥後溶媒を
溜去して粗ヘプタデシルイソシアネート（2.40g）を得
た。この化合物（1.95g）、参考例19の化合物（1,000
g）およびトリエチルアミン（1.13ml）をベンゼン（40m
l）に溶かし、15時間加熱還流した。放冷後溶媒を溜去
し、残渣をシリカゲル（60g）を用いたカラムクロマト
グラフィーにかけた。酢酸エチル−ヘキサン（1:4〜1:
1）で溶出される分画を集めて表記の化合物（1.984g）
を白色結晶として得た。mp77〜79℃（エーテル）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.8〜1.7（33H,m） 2.33（3H,s） 2.97（1H,t,J＝6Hz） 3.17（2H,td,J₁＝J₂＝7Hz） 3.83（2H,dd,J₁＝6Hz,J₂＝5Hz） 4.43（2H,d,J＝5Hz） 4.6〜5.1（1H,m） 4.87（1H,quintet,J＝5Hz） 5.67（1H,s） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:340（−NH,−OH）,1720
（−Ｏ−CO−Ｎ）マススペクトル（m/e）:454（M⁺）,356（M⁺−C₃H₄NO₂）元素分析:C₂₅H₄₆N₂O₅として計算値:C,66.05;H,10.20;N,6.16 実測値:C,66.30;H,10.17;N,6.27 参考例21 ３−オキソステアリン酸エチルシクロヘキシルイソプロピルアミン（128ml）のテト
ラヒドロフラン（800ml）溶液にｎ−ブチルリチウムの
ヘキサン溶液（15.12重量％,502ml）を−78℃に於て30
分間かけて滴下した。反応液を30分間放置して０℃とし
た後、再び−78℃に冷却し、酢酸エチル（38ml）を５分
間かけて加えた。−78℃で10分間撹拌した後、パルミチ
ン酸クロリド（75.0g）を５分間かけて滴下した。−78
℃で更に10分間撹拌した後、20％塩酸（250ml）を滴下
し、反応液を室温とした。エーテル（１）を加えて分
液し、水層を再びエーテルで抽出した。有機層を合わ
せ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および食塩水で洗
い、乾燥後濃縮した。残渣を放置し、生成した表記化合
物の結晶（55.61g）を取した。冷エタノールから再結
晶して、mp38〜39℃の白色プリズム晶を得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（32H,m） 2.53（2H,t,J＝7.5Hz） 3.42（2H,s） 8.21（2H,q,J＝7.5Hz） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1 1740（−CO−Ｏ−）,1715（−CO−）マススペクトル（m/e）:326（M⁺）,308（M⁺＋H₂O）元素分析:C₂₀H₃₈O₃として計算値:C,73.57;H,11.73 実測値:C,73.90;H,11.76 参考例22 ３−ヒドロキシ−５−ペンタデシルイロキサゾール（ａ）参考例21の化合物（42.57g）、エチレングリコ
ール（9.71g）およびカンファースルホン酸（1g）のト
ルエン（200ml）溶液を24時間化熱還流し、生成する水
を還流冷却管の側管を通じて除いた。放冷後反応液を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗い、乾燥後濃縮し
た。得られた粗3,3−エチレンジオキシステアリン酸エ
チル（29.66g）をエタノール（200ml）に溶かした。水
酸化ナトリウム（12.60g）を水（80ml）とエタノール
（100ml）の混合液に溶かし、氷冷下にヒドロキシアミ
ン塩酸塩（11.12g）を加えた。この溶液中に上記のエス
テルの溶液を氷冷下で一挙に加え、室温で２時間撹拌し
た。濃塩酸（100ml）を加えて1.5時間還流した。放冷後
生じた固体を取し、メチレンクロリドに溶かして、飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗い、乾燥、濃縮し
た。残渣を吸引過して、表記化合物の結晶（7.19g）
を得た。別された油状物（19g）をアルミナ（グレー
ドIII,250g）を用いたカラムクロマトグラフィーにか
け、メタノール−酢酸（20:1）で溶出される分画を集め
て、更に0.82gの結晶を得た。mp81.5〜82.5℃（冷メチ
レンクロリド）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（29H） 2.63（2H,t,J＝7Hz） 5.67（1H,s） 11.13（1H,s）マススペクトル（m/e）:295（M⁺）元素分析:C₁₈H₃₃NO₂として計算値:C,73.17;H,11.26;N,4.70 実測値:C,72.99;H,11.15;N,4.70 （ｂ）ジイソプロピルアミン（15.42ml）のテトラヒ
ドロフラン（500ml）溶液にブチルリチウムのヘキサン
溶液（15.13重量％,69.1ml）を−10〜−15℃で滴下し、
その温度で15分間撹拌した。続いて３−ヒドロキシ−５
−メチルイソキサゾール（4.95g）のテトラヒドロフラ
ン（50ml）溶液を−10℃で滴下し、その温度で30分間撹
拌した。反応液を−55℃に冷却し、テトラデシルブロミ
ド（41.6g）を一度に加えた。冷浴を取り去って反応液
を３時間撹拌し、エーテル（100ml）を加えてから５％
塩酸（150ml）で洗った。有機層を水洗、乾燥、濃縮
し、残渣にヘキサン（100ml）を加えた。析出した固体
を取し、ヘキサンで洗った後、乾燥すると表記化合物
の粗結晶（13.65g）が得られた。ヘキサン溶液を濃縮
し、残渣をシリカゲル（100g）を用いたカラムクロマト
グラフィーにかけた。メチレンクロリド−エーテル（2:
1）で溶出される分画よりさらに1.40gの粗結晶が得られ
た。粗結晶を合わせ、メチレンクロリドより再結晶し
て、mp82〜83℃の純粋な表記化合物（9.65g）を得た。
母液を濃縮し、さらに3.91gの第二結晶を得た。この化
合物のスペクトルは（ａ）と同一である。

元素分析:C₁₈H₃₃NO₂として計算値:C,73.17;H,11.26;N,4.74 実測値:C,73.26;H,11.21;N,4.73 参考例23 （2RS）−１−Ｏ−（５−ペンタデシル−３−イソキサ
ゾリル）グリセリン（4RS）−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−４−
メタノール（1.342g）とトリエチルアミン（2.83ml）の
ベンゼン溶液に氷冷下でメタンスルホン酸クロリド（1.
18ml）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を水洗、
乾燥、濃縮して粗メシレート（1.708g）を得た。参考例
22の化合物（2,000g）、水素化ナトリウム（55％、0.30
g）とDMF（20ml）の混合物を50℃の油浴上で１時間加熱
し、上記のメシレートのDMF（10ml）溶液を加えて100℃
の油浴上で18時間加熱撹拌した。放冷後反応液を水中に
注ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液を合わせ、水
洗、乾燥、濃縮して、残渣をシリカゲル（70g）を用い
たカラムクロマトグラフィーにかけた。酢酸エチル−ヘ
キサン（1:20）で溶出される分画を集めてRS−３−（2,
2−ジメチル−1,3−ジオキソラン−４−イル）メトキシ
−５−ペンタデシルイソキサゾール（1.862g）を得た。
この化合物を酢酸（12ml）と水（6ml）の混合物に溶か
し、60℃で３時間加熱した。反応液を水中に注ぎ、酢酸
エチルで抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣
をエーテルから再結晶して表記の化合物（1.270g）を得
た。mp84〜85℃。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（29H,m） 2.57（1H,t,J＝5Hz） 2.63（2H,t） 3.03（1H,d,J＝5Hz） 3.70（2H,dd,J₁＝J₂＝5Hz） 4.05（1H,m） 4.33（2H,d,J＝5Hz） 5.63（1H,s）マススペクトル（m/e）:369（M⁺）,338（M⁺＋CH₂OH）元素分析:C₂₁H₃₉NO₄として計算値:C,68.25;H,10.64;N,3.79 実測値:C,68.05;H,10.77;N,3.73 参考例24 （2RS）−１−Ｏ−（５−ペンタデシル−３−イソキサ
ゾリル）−３−Ｏ−トリフェニルメチルグリセリン参考例23の化合物（1.200g）、トリフェニルメチルク
ロリド（1.086g）およびトリエチルアミン（1.09ml）の
トルエン（25ml）溶液を２時間加熱還流した。トルエン
を溜去し、残渣にテトラヒドロフラン（30ml）と飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液を加えて室温で１時間撹拌し
た。反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出し、抽
出液を合わせて水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカゲ
ル（50g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ、
エーテル−ヘキサン（1:3）で溶出される分画を集めて
表記の化合物（1.571g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（29H,m） 2.57（1H,d,J＝4.5Hz） 2.61（2H,t,J＝7Hz） 3.29（2H,d,J＝5Hz） 4.10（1H,m） 4.35（2H,d,J＝5Hz） 5.60（1H,s） 7.1〜7.7（15H,m,−Ｃ（C₆H₅）_３）マススペクトル（m/e）:611（M⁺）,534（M⁺−C₆H₅）元素分析:C₄₀H₅₃NO₄として計算値:C,78.52;H,8.73;N,2.29 実測値:C,78.67;H,8.86;N,2.12 参考例25 （2RS）−１−Ｏ−（５−ペンタデシル−３−イソキサ
ゾリル）−２−Ｏ−メチルグリセリン水素化ナトリウム（55％,0.117g）、参考例24の化合
物（1.094g）およびDMF（10ml）の混合物を室温で１時
間撹拌した後、ヨウ化メチル（0.45ml）を加えてさらに
３時間撹拌した。反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで２
回抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣（1.18
g）を95％メタノール（40ml）に溶かした。ｐ−トルエ
ンスルホン酸（0.142g）を加えて１時間加熱還流し、放
冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（10ml）を加えて
からメタノールを溜去した。残留液を酢酸エチルで２回
抽出し、抽出液を水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシリカ
ゲル（40g）を用いたカラムクロマトグラフィーにか
け、表記の化合物（0.624g）を結晶として得た。mp43〜
44℃（冷ヘキサン）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（29H,m） 2.27（1H,t,J＝6Hz） 2.62（2H,t,J＝7Hz） 3.50（3H,s） 3.5〜3.9（3H,m） 4.35（2H,d,J＝4.5Hz） 5.61（1H,s）マススペクトル（m/e）:383（M⁺）,352（M⁺−OMe）元素分析:C₂₂H₄₁NO₄として計算値:C,68.89;H,10.77;N,3.65 実測値:C,68.76;H,10.59;N,3.64 参考例26 ２−ノナデシン−１−イル２−テトラヒドロピラニル
エーテル２−テトラヒドロピラニルプロパルギルエーテル（1
1.48g）のテトラヒドロフラン（220ml）溶液にｎ−ブチ
ルリチウム・ヘキサン溶液（15重量％,50ml）を−50℃
で滴下し次いでパルミチルブロミド（25.0g）を加え、3
0分間撹拌して室温とした。16時間加熱還流した後、反
応液を水中に注いでエーテルで２回抽出した。抽出液を
水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲル（500g）を用い
たカラムクロマトグラフィーにかけた。エーテル−ヘキ
サン（3:100）で溶出される分画を集めて、表記の化合
物（14.59g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（60MHz,CDCl₃）ppm: 0.7〜2.0（37H,m） 2.20（2H,m） 3.3〜4.1（2H,m） 4.21（2H,t,J＝2.5Hz） 4.80（1H,m）参考例27 ２−ノナデシン酸エチル参考例26の化合物（14.0g）、酢酸（80ml）、テトラ
ヒドロフラン（80ml）および水（40ml）の混合物を50℃
の油浴上で16時間撹拌した。放冷後、析出した２−ノナ
デシン−１−オール（10.33g）を取、水洗、乾燥し
た。この化合物をアセトン（100ml）に溶かし、ジョー
ンズ試薬（1ml中に無水クロム酸0.267gを含有、27.5m
l）を加えて室温で15分間撹拌した。反応液を500mlの水
中に注ぎ、エーテルで２回抽出した。抽出液を水洗、乾
燥、濃縮し、結晶性の残渣（11.14g）を無水エタノール
（150ml）とベンゼン（200ml）の混合液に溶かし、濃硫
酸（2ml）を加えて16時間加熱還流した。放冷後、反応
液を氷水（500ml）中に注ぎ、有機層を分取して飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液と水で洗い、乾燥後濃縮した。
残渣をシリカゲル（60g）を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけ、メチレンクロリド−ヘキサン（1:1）で
溶出される分画を集めて表記の化合物（9.49g）を油状
物として得た。

NMRスペクトル（60MHz,CDCl₃）ppm: 0.7〜1.8（34H,m） 2.28（2H,幅広いt,J＝6Hz） 4.15（2H,q,J＝7Hz）参考例28 ５−ヘキサデシル−３−ヒドロキシイソキサゾール 10％水酸化ナトリウム水溶液（130ml）とエタノール
（100ml）を混合し、氷冷下でヒドロキシルアミン塩酸
塩（13.24g）を加えた。ついで参考例27の化合物（5.08
g）のエタノール（30ml）溶液を滴下し、室温で16時間
撹拌した。濃塩酸を加えてpH3とし、エーテルで３回抽
出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲ
ル（50g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。メチレンクロリド−ヘキサン（1:1）で溶出される
分画を集めて表記の化合物（4.09g）を得た。mp85〜86
℃（冷エーテル）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.8〜1.9（31H,m） 2.60（2H,t,J＝7Hz） 5.65（1H,s） 9.88（1H,m）マスイスペクトル（m/e）:309（M⁺）,277（M⁺−H₂O）元素分析:C₁₉H₃₅NO₂として計算値:C,73.74;H,11.40;N,4.52 実測値:C,73.48;H,11.44;N,4.58 参考例29 （2RS）−１−Ｏ−（５−ヘキサデシル−３−イソキサ
ゾリル）−２−Ｏ−（３−イソキサゾリル）グリセリン参考例10の化合物（1.731g）とトリエチルアミン（1.
95ml）のベンゼン（35ml）溶液にメタンスルホン酸クロ
リド（0.81ml）を氷冷下で加え、室温で30分間撹拌し
た。反応液を水洗、乾燥、濃縮して粗メシレートを得
た。水素化ナトリウム（55％,0.339g）、参考例28の化
合物（2.405g）およびDMF（40ml）の混合物を50℃で１
時間撹拌した後、上記のメシレートのDMF（10ml）溶液
を加えて、100℃の油浴上で16時間撹拌した。放冷後、
反応液を500mlの水中に注ぎ、メチレンクロリドで３回
抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカ
ゲル（70g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけ
た。メチレンクロリド−ヘキサン−酢酸エチル（20:20:
1）で溶出される分画を集め、得られた油状物（2.947
g）をメタノール（70ml）に溶かした。濃塩酸（10ml）
を加えて50℃で３時間撹拌し、メタノールを溜去した。
残渣に水（100ml）を加え、酢酸エチルで２回抽出し
た。抽出液を水洗、乾燥、濃縮して、残渣（2.455g）を
シリカゲル（70g）を用いたカラムクロマトグラフィー
にかけた。ヘキサン−エーテル（2:1〜1:1）で溶出され
る分画を集めて表記の化合物（2.247g）を白色羽毛状晶
として得た。mp54〜57℃（ヘキサン）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（31H,m） 2.61（2H,t,J＝7Hz） 2.90（1H,t,J＝7Hz） 3.96（2H,dd,J₁＝5,J₂＝4.5Hz） 4.59（2H,d,J＝4.5Hz） 5.07（1H,quintet,J＝4.5Hz） 5.63（1H,s） 6.01（1H,d,J＝2Hz） 8.13（1H,d,J＝2Hz）マススペクトル（m/e）:450（M⁺）,366（M⁺＋C₃H₂NO₂）元素分析:C₂₅H₄₂N₂O₅として計算値:C,66.63;H,9.39;N,6.22 実測値:C,66.65;H,9.44;N,6.20 参考例30 （2RS）−１−Ｏ−（２−テトラヒドロピラニル）−２
−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例19の化合物（11.26g）、ジヒドロピラン（5.93
ml）およびｐ−トルエンスルホン酸ピリジン塩（0.15
g）のメチレンクロリド（110ml）溶液を室温で14時間撹
拌した。溶媒を溜去し、残渣をシリカゲル（350g）を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけた。酢酸エチル−
ヘキサン（1:4）によって1,3−ジテトラヒドロピラニル
体（3.32g）が溶出された後、酢酸エチル−ヘキサン
（1:1）によって溶出される分画を集めて表記の化合物
（9.67g）を無色の油状物として得た。

NMRスペクトル（60MHz,CDCl₃）ppm: 1.3〜1.9（6H,m） 2.32（3H,s） 2.85（1H,m） 3.2〜4.2（6H,m） 4.60（1H,m） 4.84（1H,quintet,J＝5Hz） 5.67（1H,s）参考例31 （2RS）−２−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾリ
ル）−１−Ｏ−（５−ペンタデシル−３−イソキサゾリ
ル）グリセリン参考例30の化合物（3.93g）を用い、参考例29冒頭に
述べたようにしてメタンスルホネートを合成した。水素
化ナトリウム（55％,0.606g）、参考例22の化合物（4.1
0g）およびHMPA（40ml）の混合物を50℃で１時間加熱撹
拌した後、上記のメシレートのHMPA（40ml）溶液を加
え、100℃で２時間加熱撹拌した。放冷後、反応液を水
中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液を水洗、
乾燥、濃縮し、残渣をシリカエル（150g）を用いたカラ
ムクロマトグラフィーにかけた。酢酸エチル−ヘキサン
（1:20〜1:10）で溶出される分画より得られた油状物質
（6.81g）を95％メタノール（140ml）に溶かし、ｐ−ト
ルエンスルホン酸（0.73g）を加えて１時間加熱還流し
た。炭酸水素ナトリウム（1.6g）を加えた後メタノール
を溜去し、残渣に酢酸エチルを加えて過した。溶媒を
溜去後、残渣をシリカゲル（120g）を用いたカラムクロ
マトグラフィーにかけた。酢酸エチル−ヘキサン（1:
4）で溶出される分画を集めて表記の化合物（5.50g）を
白色結晶として得た。mp64〜65℃（ヘキサン）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（29H,m） 2.33（3H,s） 2.61（2H,t,J＝7Hz） 2.85（1H,t,J＝6Hz） 3.95（2H,dd,J₁＝6Hz,J₂＝5Hz） 4.57（2H,d,J＝5Hz） 5.03（1H,quintet,J＝5Hz） 5.63,5.69（2H,S×２）マススペクトル（m/e）:450（M⁺）,352（M⁺−C₄H₄NO₂）元素分析:C₂₅H₄₂N₂O₅として計算値:C,66.64;H,9.39;N,6.22 実測値:C,66.49;H,9.19;N,6.21 参考例32 ２−ヒドロキシ−８−（テトラヒドロピラン−２−イル
オキシ）オクタンニトリルピリジニウムクロロクロメート（40.60g）、酢酸ナ
トリウム（3.86g）とメチレンクロリド（200ml）の混合
物中に、７−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）
−１−ヘプタノール（20.37g）のメチレンクロリド（20
0ml）溶液を氷冷下で加えた。０℃で１時間、室温で３
時間撹拌した後、反応液をエーテル（1.5）で希釈
し、シリカゲル（250g）のカラムに通じた。通過液を濃
縮し、残渣をシリカゲル（400g）を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（40:1〜
9:1）で溶出される分画を集めて７−（テトラヒドロピ
ラン−２−イルオキシ）ヘプタナール（14.11g）を無色
油状物として得た。

NMRスペクトル（60MHz,CDCl₃）ppm: 1.1〜2.1（14H,m） 2.42（2H,m） 3.1〜4.1（4H,m） 4.56（1H,m） 9.83（1H,t,J＝2Hz）上記アルデヒド（14.11g）とシアン化カリウム（12.8
6g）をジオキサン−水混合物（1:1,300ml）に溶かし、
氷冷下で６規定塩酸（32.9ml）を10分間かけて滴下し
た。０℃で１時間撹拌した後、反応液を水（600ml）中
に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液を水洗、乾
燥、濃縮し、残渣をシリカゲル（300g）を用いたカラム
クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル
（1:9〜1:4）抽出される分画を集めて表記の化合物（1
1.90g）を無色油状物として得た。

NMRスペクトル（60MHz,CDCl₃）ppm: 1.2〜2.2（16H,m） 3.1〜4.2（5H,m） 4.40（1H,m） 4.58（1H,m） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3600,3360,2250 参考例33 2,8−ジヒドロキシオクタン酸メチル参考例32の化合物（7.73g）をエーテル（80ml）とメ
タノール（80ml）の混合物中に溶かし、氷冷下で塩酸ガ
スを通じて飽和させた。室温で３時間撹拌した後、氷冷
下で水（160ml）を10分間かけて加えた。室温で１時間
撹拌し、反応液を水で稀釈した後、酢酸エチルで６回抽
出した。抽出液を合わせ、水洗、乾燥、濃縮した。残渣
をシリカゲル（120g）を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけ、ヘキサン−酢酸エチル（4:1〜2:1）で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物（3.75g）を無色油状物
として得た。

NMRスペクトル（90MHz,CDCl₃）ppm: 1.2〜2.0（10H,m） 1.67（1H,m） 2.85（1H,m） 3.63（2H,t,J＝7Hz） 4.70（1H,m） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3550,1735 マススペクトル（m/e）:191（M⁺＋１）,131,113 元素分析:C₉H₁₈O₄として計算値:C,56.82;H,9.54 実測値:C,56,46;H,9.45 参考例34 2.8−ビス（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−
１−オクタノール参考例33の化合物（2.71g）、3,4−ジヒドロ−2H−ピ
ラン（3.90ml）およびｐ−トルエンスルホン酸ピリジン
塩（0.072g）をメチレンクロリド（50ml）中に溶かし、
室温で15時間撹拌した。溶媒を溜去した後、残渣をテト
ラヒドロフラン（30ml）に溶かし、リチウム水素化アル
ミニウム（1.081g）とテトラヒドロフラン（30ml）の混
合物中に氷冷下10分間かけて滴下した。室温で１時間撹
拌した後、４％水酸化ナトリウム水溶液4.3ml）を氷冷
下で滴下した。反応液をセライト層に通じて過し、不
溶物をテトラヒドロフラン（100ml）で洗った。過を
濃縮し、残渣をシリカゲル（100g）を用いたカラムクロ
マトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（1:4
〜2:3）で溶出される分画を集めて表記の化合物（4.51
g）を無色油状物として得た。

NMRスペクトル（90MHz,CDCl₃）ppm: 1.1〜2.1（22H,m） 2.18（1H,t,J＝6Hz） 3.15〜4.30（9H,m） 4.35〜4.85（2H,m）マススペクトル（m/e）:331,330（M⁺＋１）,329 元素分析:C₁₈H₃₄O₅として計算値:C,65.42;H,10.37 実測値:C,65.04;H,10.08 参考例35 ３−ヒドロキシ−５−｛４−（２−テトラヒドロピラニ
ルオキシ）｝ブチルイソキサゾールジイソプロピルアミン（3.08ml）のテトラヒドロフラ
ン（100ml）溶液にブチルリチウムのヘキサン溶液（15
重量％、13.95ml）を−25゜〜−15℃で加えた。15分間
撹拌した後、３−ヒドロキシ−５−メチルイソキサゾー
ル（0.990g）のテトラヒドロフラン（10ml）溶液を−20
゜〜−10℃で10分間で滴下した。−10℃で30分間撹拌し
た後、反応液を−50℃に冷却し、１−ブロモ−３−（２
−テトラヒドロピラニルオキシ）プロパン（3.35g）を
一度に加えた。冷浴を取り去って反応液を室温で２時間
撹拌し、酢酸（1.20ml）を加えてから反応液を水中に注
いだ。有機層を分取し、水層を２回エーテルで抽出し
た。有機層を合わせ、水洗、乾燥、濃縮した。残渣を直
ちにシリカゲル（60g）を用いたカラムクロマトグラフ
ィーにかけ、酢酸エチル−ヘキサン（1:3〜1:2）で溶出
される分画を集めて表記の化合物（1.720g）を油状物と
して得た。

NMRスペクトル（90MHz,CDCl₃）ppm: 1.3〜2.1（10H,m） 2.67（2H,t,J＝7Hz） 3.2〜4.1（4H,m） 4.58（1H,m） 5.68（1H,s） 9.91（1H,s）マススペクトル（m/e）:241（M⁺）,224 参考例36 （2RS）−１−Ｏ−ヘプタデシルカルバモイル−２−Ｏ
−（３−イソキサゾリル）−３−Ｏ−｛５−（４−ヒド
ロキシブチル）−３−イソキサゾリル｝グリセリン参考例12の化合物（1,114g）、参考例35の化合物（0.
610g）およびトリフェニルホスフィン（0.796g）のテト
ラヒドロフラン（20ml）溶液にアゾジカルボン酸ジメチ
ル（0.443g）のテトラヒドロフラン（2ml）溶液を一度
に加えた。室温で3.5時間撹拌した後、溶媒を溜去し、
残渣をシリカゲル（35g）を用いたカラムクロマトグラ
フィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（17:3〜3:1）
で溶出される分画を集め、得られた粗ピラニルエーテル
体（1.77g）にｐ−トルエンスルホン酸（0.096g）およ
びメタノール（35ml）を加え、１時間加熱還流した。冷
却後、炭酸水素ナトリウム（0.212g）を加え、メタノー
ルを溜去した。残渣を酢酸エチルに溶かし、不溶物を
去し、液を濃縮した。残渣をシリカゲル（30g）を用
いたカラムクロマトグラフィーおよびローバーＢカラム
を用いた中圧液体クロマトグラフィーにかけた。ヘキサ
ン−酢酸エチル（3:2）で溶出される分画を集めて表記
の化合物（0.656g）を白色結晶として得た。m.p77〜78
℃（エーテル）。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜2.0（38H,m） 2.67（2H,t,J＝7Hz） 3.15（2H,m） 3.70（2H,m） 4.3〜4.9（5H,m） 5.26（1H,m） 5.65（1H,s） 6.01（1H,d,J＝2Hz） 8.13（1H,d,J＝2Hz）マススペクトル（m/e）:579（M⁺） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3470,1725 元素分析:C₃₁H₅₃N₃O₇として計算値:C,64.22;H,9.21;N,7.25 実測値:C,64.10;H,9.09;N,7.26 参考例37 （2RS）−１−Ｏ−（５−ペンタデシル−３−イソキサ
ゾリル）−２−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾリ
ル）−３−Ｏ−｛５−（４−ヒドロキシブチル）−３−
イソキサゾリル）グリセリン参考例31の化合物（0.450g）とトリエチルアミン（0.
28ml）のベンゼン（10ml）溶液にメタンスルホニルクロ
リド（0.12ml）を氷冷下で加えた。室温で15分間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮し、粗メタンスルホネ
ート（0.521g）を固体として得た。

参考例35の化合物（0.265g）、水素化ナトリウム（55
％鉱油懸濁物,0.048g）とヘキサメチルホスホロトリア
ミド（5ml）の混合物を50℃の油浴上で１時間加熱撹拌
した。放冷後この混合物に上記の粗メタンスルホネート
のヘキサメチルホスホロトリアミド（5ml）溶液を室温
で加え、100℃の油浴上で２時間加熱撹拌した。冷後反
応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液
を乾燥、濃縮し、残渣をメタノール（30ml）に溶かし
た。10％塩酸（2.0ml）を加えて室温で4.5時間撹拌した
後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（15ml）を加えた。
メタノールを溜去し、残渣に水（100ml）を加えてから
メチレンクロリドで２回抽出した。抽出液を乾燥、濃縮
し、残渣をシリカゲル（10g）を用いたカラムクロマト
グラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（3:1〜2:
1）で溶出される分画を集めて表記の化合物（0.283g）
を白色固体として得た。mp67〜69℃（ヘキサン−エーテ
ル）。

NMRスペクトル（60MHz,CDCl₃）ppm: 0.7〜2.0（33H,m） 2.30（3H,s） 2.45〜2.90（5H,m） 3.65（2H,t,J＝6Hz） 4.3〜4.9（4H,m） 5.32（1H,m） 5.65（3H,m）マススペクトル（m/e）:589（M⁺）,559,531 元素分析:C₃₂H₅₁N₃O₇として計算値:C,65.17;H,8.72;N,7.13 実測値:C,65.14;H,8.74;N,7.17 参考例38 ３−｛（2RS）−２−（５−メチル−３−イソキサゾリ
ルオキシ）−３−（５−ペンタデシル−３−イソキサゾ
リルオキシ）プロポキシ｝イソキサゾール−５−カルボ
ン酸エチル参考例31の化合物（0.640g）とトリエチルアミン（0.
40ml）のベンゼン（13ml）溶液にメタンスルホン酸クロ
リド（0.16ml）を氷冷下で加えた。室温で１時間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮して固体の粗メタンス
ルホネートを得た。水素化ナトリウム（0.093g,55％）
のHMPA（5ml）懸濁液に３−ヒドロキシイソキサゾール
−５−カルボン酸エチルのHMPA（5ml）溶液を加えた。5
0℃で１時間撹拌した後、上記の粗メタンスルホネート
のHMPA（10ml）溶液を加え、100℃の油浴上で２時間加
熱撹拌した。放冷後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチル
で２回抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣を
シリカゲル（20g）を用いたカラムクロマトグラフィー
にかけた。ヘキサン−酢酸エチル（9:1）で溶出される
分画を集めて表記の化合物（0.617g）を油状物として得
た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（32H,m） 1.38（3H,t,J＝7Hz） 2.32（3H,s） 2.62（2H,t,J＝7Hz） 4.2〜4.8（6H,m） 4.41（2H,q,J＝7Hz） 5.37（1H,m） 5.64（1H,s） 5.67（1H,s） 6.56（1H,s）マススペクトル（m/e）:589（M⁺） IRスペクトル（CHCl₃）cm^1-:1735（−COO−）元素分析:C₃₁H₄₇N₃O₈として計算値:C,63.14;H,8.03;N,7.13 実測値:C,63.12;H,8.15;N,7.05 参考例39 ３−｛（2RS）−２−（５−メチル−３−イソキサゾリ
ルオキシ）−３−（５−ペンタデシル−３−イソキサゾ
リルオキシ）プロポキシ｝イソキサゾール−５−カルボ
ン酸参考例38の化合物（0.780g）のエタノール（8ml）溶
液に10％水酸化カリウム水溶液（8ml）を加え、室温で
１時間撹拌した。反応液に10％塩酸を滴下してpH2と
し、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液を水洗、乾燥、
濃縮して表記の化合物（0.752g）を白色結晶として得
た。m.p96〜98℃（ヘキサン−エーテル） NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（29H,m） 2.31（3H,s） 2.62（2H,t,J＝7Hz） 4.5〜4.9（4H,m） 5.38（1H,m） 5.65（1H,s） 5.69（1H,s） 6.55（1H,s） 9.16（1H,s）マススペクトル（m/e）:517（M⁺＋１） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:1735（−COO−）元素分析:C₂₉H₄₃N₃O₈として計算値:C,62.01;H,7.72;N,7.48 実測値:C,61.84;H,7.69;N,7.56 参考例40 （2RS）−３−Ｏ−（５−ヒドロキシメチル−３−イソ
キサゾリル）−２−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾ
リル）−１−Ｏ−（５−ペンタデシル−３−イソキサゾ
リル）グリセリン参考例39の化合物（0.393g）のテトラヒドロフラン
（THF,8ml）溶液にボランのTHF（1.0M,2.10ml）溶液を
氷冷下で滴下した。室温で16時間撹拌した後、水（32m
l）を氷冷下で滴下して過剰の水素化物を処理した。水
層を炭酸カリウムで飽和し、酢酸エチルで２回抽出し
た。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲル
（8g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。ヘ
キサン−酢酸エチル（4:1〜3:1）で溶出される分画を集
め、ヘキサンから再結晶して表記の化合物（0.314g）を
白色結晶として得た。m.p85〜87℃ NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（29H,m） 2.1〜2.8（6H,m） 2.31（3H,s） 2.61（2H,t,J＝7Hz） 4.4〜4.8（6H,m） 5.34（1H,m） 5.62（1H,s） 5.67（1H,s） 5.91（1H,s）マススペクトル（m/e）:547（M⁺）参考例41 ５−｛３−（４−メチル−５−チアゾリル）プロピル｝
−３−ヒドロキシイソキサゾールジイソプロピルアミン（11.11ml）のTHF（350ml）溶
液にブチルリチウムのヘキサン溶液（15.13重量％、49.
8ml）を−11〜−13℃で滴下し、その温度で15分間撹拌
した。続いて３−ヒドロキシ−５−メチルイソキサゾー
ル（3.57g）のTHF（30ml）溶液を−10℃で滴下し、その
温度で30分間撹拌した。反応液を−50℃に冷却し、５−
ブロモエチル−４−メチルチアゾールを一度に加えた。
冷浴を取り去って２時間撹拌した後、溶媒を溜去し残渣
をシリカゲル（100g）を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにかけた。酢酸エチルで溶出される分画を集めて表記
の化合物（4.56g）を結晶として得た。m.p134〜135℃
（ヘキサン−メチレンクロリド） NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 1.98（2H,m） 2.37（3H,s） 2.67（2H,t,J＝8Hz） 2.82（2H,t,J＝8Hz） 5.68（1H,s） 8.67（1H,s） 10.49（1H,m）マススペクトル（m/e）:224（M⁺）元素分析:C₁₀H₁₂N₂O₂Sとして計算値:C,53.55;H,5.39;N,12.49;S,14.30 実測値:C,53.12;H,5.37;N,12.40;S,14.04 参考例42 ３−ベンジルオキシイソキサゾール−５−カルボン酸水素化ナトリウム（55％鉱油懸濁物,1.72g）とHMPA
（20ml）の混合物中に３−ヒドロキシイソキサゾール−
５−カルボン酸エチル（6.189g）のHMPA（10ml）溶液を
20〜45℃で30分間に滴下した。室温で30分間撹拌した
後、ベンジルクロリド（4.60ml）を加え、室温でさらに
16時間撹拌した。反応液を５％炭酸水素ナトリウム水溶
液（100ml）中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽
出液を水洗、乾燥、濃縮した。残渣をメタノール（200m
l）中に溶かし、10％水酸化ナトリウム水溶液（70ml）
を加えて室温で16時間撹拌した。反応液を水（500ml）
中に注ぎ、ヘキサンで洗った後、水層に濃塩酸を加えて
pH2とした。酢酸エチルで２回抽出し、抽出液を水洗、
乾燥、濃縮した。残渣をヘキサン−酢酸エチルより再結
晶して表記の化合物（6.163g）を得た。mp119〜121℃。

元素分析:C₁₁H₉NO₄として計算値:C,60.28;H,4.14;N,6.39 実測値:C,60.28;H,4.08;N,6.39 参考例43 ３−ベンジルオキシ−５−ブロモメチルイソキサゾール参考例42の化合物（9.813g）のTHF（40ml）溶液にボ
ラン−ジメチルスルフィドコンプレックス（10M,5.13m
l）を17〜22℃で10分間に滴下した。室温で３時間撹拌
した後、上記還元剤（10ml）を再び加え、15時間撹拌し
た。メタノール（30ml）を徐々に滴下して過剰の試薬を
処理した後、溶媒を溜去した。同量のメタノールを再び
加えて溜去をくり返した。油状の残渣（9.83g）と四臭
化炭素（14.59g）をメチレンクロリド（150ml）中に溶
かし、５〜10゜でトリフェニルホスフィン（11.54g）を
徐徐に加えた。30分間撹拌した後溶媒を溜去し、残渣を
シリカゲル（400g）を用いたカラムクロマトグラフィー
にかけた。ヘキサン−エーテル（10:1）で溶出される分
画を集めて表記の化合物（8.457g）を固体として得た。

NMRスペクトル（60MHz,CDCl₃）ppm: 4.30（2H,s） 5.24（2H,s） 5.93（1H,s） 7.2〜7.6（5H,m）参考例44 ３−ベンジルオキシ−５−｛２−（２−ピリジルエチ
ル）｝イソキサゾールジイソプロピルアミン（2.02g）のTHF（100ml）溶液
にブチルリチウム・ヘキサン溶液（15.3重量％,12.55m
l）を−10℃で滴下した。−10℃で15分間撹拌した後、
２−メチルピリジン（1.863g）のTHF（10ml）を−10゜
〜−15℃で10分間に滴下した。−15℃で30分間撹拌した
後、反応液を−58℃に冷却し、参考例43の化合物（4.02
g）のTHF（10ml）溶液を一度に加えた。反応液を放置し
て内温を０℃とした後、再び−40℃に冷却した。水（60
ml）を滴下してから室温に戻し、有機層を分取した。水
層をエーテルで２回抽出し、有機層を合わせて水洗、乾
燥、濃縮した。残渣（4.54g）をエーテルに溶かし、不
溶物を去した。エーテルを溜去し、残渣をシリカゲル
（120g）を用いたカラムクロマトグラフィーにかけた。
メチレンクロリド−エーテル（10:1）で溶出される分画
を集めて、表記の化合物（3.060g）を固体として得た。
mp36.5〜37.5℃（ヘキサン−エーテル）。

NMRスペクトル（60MHz,CDCl₃）ppm: 3.14（4H,s） 5.22（2H,s） 5.58（1H,s） 6.9〜7.8（8H,m） 8.55（1H,m）マススペクトル（m/e）:280（M⁺）元素分析:C₁₇H₁₆N₂O₂として計算値:C,72.83;H,5.75;N,9.99 実測値:C,72.78;H,5.94;N,10.00 参考例45 ３−ヒドロキシ−５−｛２−（２−ピリジルエチル）｝
イソキサゾール参考例44の化合物（2.200g）を酢酸（8ml）と48％臭
化水素酸（5.3ml）の混合物中に溶かし、室温で４日間
放置した。溶媒を溜去した後、残渣を水（30ml）溶かし
て酢酸エチルで洗った。水層を希釈して60mlとし、イオ
ン交換樹脂（ダウエックス50W−X8,H⁺−型100ml）のカ
ラムに通じた。流出液が中性となる迄カラムを水で洗
い、次でトリエチルアミン水溶液（2.5〜5.0％，約100m
l）で溶出を行った。溶出液を集めて溜去すると表記の
化合物（2.017g）が黄色の粉末として得られた。

NMRスペクトル（60MHz,CD₃OD）ppm: 3.02（4H,m） 5.31（1H,s） 7.1〜7.9（3H,s） 8.45（1H,m）参考例46 （2RS）−３−Ｏ−（2,8−ジヒドロキシオクチル）−２
−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾリル）−１−Ｏ−
（５−ペンタデシル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例34の化合物（3.00g）とトリエチルアミン（2.5
3ml）のベンゼン（60ml）溶液にメタンスルホン酸クロ
リド（1.05ml）を氷冷下で加えた。室温で１時間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮して油状の粗メタンス
ルホネート（3.68g）を得た。水素化ナトリウム（0.396
g,55％鉱油懸濁物）のジメチルホルムアミド（DMF,20m
l）懸濁液に、参考例31の化合物（2.727g）のDMF（30m
l）溶液を氷冷下で加えた。室温で１時間撹拌した後、
上記の粗メタンスルホネート（3.68g）のDMF（30ml）溶
液を加え、さらに室温で43時間撹拌した。反応液を水中
に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出し、抽出液を水洗、乾
燥、濃縮した。残渣をシリカゲル（120g）を用いたカラ
ムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン−酢酸エチル
（9:1〜4:1）で溶出される分画を集めた。得られた粗ピ
ラニルエーテル体（3.36g）にメタノール（70ml）およ
びｐ−トルエンスルホン酸（0.23g）を加え、１時間加
熱還流した。冷却後、炭酸水素ナトリウム（0.508g）を
加え、メタノールを溜去した。残渣を酢酸エチルに溶か
し、不溶物を去し、液を濃縮した。残渣をシリカゲ
ル（60g）を用いたカラムクロマトグラフィーおよびロ
ーバーＢカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィーに
かけた。ヘキサン−酢酸エチル（2:1〜1:1）で溶出され
る分画を集めて表記の化合物（1.950g）を油状物として
得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（39H,m） 2.32（3H,s） 2.50（1H,m） 2.63（2H,t,J＝7Hz） 3.2〜4.7（10H,m） 5.17（1H,m） 5.63（2H,s）マススペクトル（m/e）:595（M⁺＋１）元素分析:C₃₃H₅₈N₂O₇として計算値:C,66.63;H,9.83;N,4.71 実測値:C,66.43;H,9.78;N,4.69 参考例47 （2RS）−３−Ｏ−｛２−ヒドロキシ−８−（ｐ−トル
エンスルホニルオキシ）オクチル｝−２−Ｏ−（５−メ
チル−３−イソキサゾリル）−１−Ｏ−（５−ペンタデ
シル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例46の化合物（0.826g）、トリエチルアミン（0.
46ml）および４−ジメチルアミノピリジン（0.009g）の
メチレンクロリド（17ml）溶液にｐ−トルエンスルホン
酸クロリド（0.318g）を氷冷下で加えた。室温で４時間
撹拌した後、反応液を水洗、乾燥、濃縮した。残渣をシ
リカゲル（20g）を用いたカラムクロマトグラフィーお
よびローバーＢカラムを用いた中圧液体クロマトグラフ
ィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（3:1）で溶出さ
れる分画を集めて、表記の化合物（0.861g）を油状物と
して得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（39H,m） 2.2〜2.8（9H,m） 2.32（3H,s） 2.44（3H,s） 3.2〜4.7（9H,m） 4.03（2H,t,J＝6Hz） 5.15（1H,m） 5.66（2H,s） 7.36（2H,d,J＝8Hz） 7.82（2H,d,J＝8Hz）元素分析:C₄₀H₆₄N₂O₉Sとして計算値:C,64.14;H,8.61;N,3.74;S,4.28 実測値:C,64.10;H,8.75;N,3.72;S,4.43 参考例48 （2RS）−３−Ｏ−｛２−アセトキシ−８−（ｐ−トル
エンスルホニルオキシ）オクチル｝−２−Ｏ−（５−メ
チル−３−イソキサゾリル）−１−Ｏ−（５−ペンタデ
シル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例47の化合物（0.200g）のピリジン（4ml）溶液
に無水酢酸（2ml）を加え、室温で３時間撹拌した。反
応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液
を水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲル（5g）を用い
たカラムクロマトグラフィーおよびローバーＢカラムを
用いた中圧液体クロマトグラフィーにかけた。ヘキサン
−酢酸エチル（3:1）で溶出される分画を集めて表記の
化合物（0.166g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃,60MHz）ppm: 0.7〜2.0（39H,m） 2.01（3H,s） 2.30（3H,s） 2.43（3H,s） 2.62（2H,t,J＝7Hz） 3.4〜4.6（8H,m） 4.7〜5.3（2H,m） 5.63（1H,s） 5.64（1H,s） 7.36（2H,d,J＝8Hz） 7.82（2H,d,J＝8Hz） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:1730（−OCO−）参考例49 （2RS）−３−Ｏ−｛２−カルバモイルオキシ−８−
（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）オクチル｝−２−Ｏ
−（５−メチル−３−イソキサゾリル）−１−Ｏ−（５
−ペンタデシル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例47の化合物（0.300g）のメチレンクロリド（6m
l）溶液にトリクロロアセチルイソシアネート（0.048m
l）を氷冷下で加えた。室温で30分間撹拌した後、溶媒
を溜去した。残渣をメタノール（6ml）に溶かし、シリ
カゲル（2g）を加えて室温で15時間撹拌した。反応液を
過し、液を濃縮した。残渣をシリカゲル（6g）を用
いたカラムクロマトグラフィーにかけ、ヘキサン−酢酸
エチル（7:3〜1:1）で溶出される分画を集めて表記の化
合物（0.310g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃,60MHz）ppm: 0.6〜2.0（39H,m） 2.29（3H,s） 2.43（3H,s） 2.60（2H,t,J＝7Hz） 3.4〜5.3（12H,m） 5.63（1H,s） 5.64（1H,s） 7.36（2H,d,J＝8Hz） 7.81（2H,d,J＝8Hz） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:3550,3430,1725（−OCO
−）参考例50 （2RS）−３−Ｏ−（８−ｔ−ブチルジフェニルシリル
オキシ−２−ヒドロキシオクチル）−２−Ｏ−（５−メ
チル−３−イソキサゾリル）−１−Ｏ−（５−ペンタデ
シル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例46の化合物（1.950g）とイミダゾール（0.491
g）のDMF（30ml）溶液にtert−ブチルジフェニルシリル
クロリド（0.991g）のDMF（10ml）溶液を氷冷下で滴下
した。室温で４時間撹拌した後、反応液を水中にそ注
ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液を水洗、乾燥、
濃縮し、残渣をシリカゲル（55g）を用いたカラムクロ
マトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（17:3
〜3:1）で溶出される分画を集めて表記の化合物（2.460
g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（48H,m） 1.04（9H,s） 2.2〜2.8（6H,m） 2.30（3H,s） 3.2〜4.7（9H,m） 5.14（1H,m） 5.61（2H,s） 7.2〜7.9（10H,m）元素分析:C₄₉H₇₆N₂O₇S:として計算値:C,70.63;H,9.19;N,3.36 実測値:C,70.55;H,9.30;N,3.38 参考例51 （2RS）−３−Ｏ−（２−アセチルチオ−８−ｔ−ブチ
ルジフェニルシリルオキシオクチル）−２−Ｏ−（５−
メチル−３−イソキサゾリル）−１−Ｏ−（５−ペンタ
デシル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例50の化合物（1.600g）とトリエチルアミン（0.
54ml）のベンゼン（30ml）溶液にメタンスルホン酸クロ
リド（0.22ml）を氷冷下で加えた。室温で１時間撹拌し
た後、反応液を水洗、乾燥、濃縮し、油状の粗メタンス
ルホネート（1.81g）を得た。水素化ナトリウム（0.168
g、55％）のDMF（3ml）懸濁液にチオ酢酸（0.27ml）のD
MF（3ml）溶液を氷冷下で滴下した。室温で１時間撹拌
した後、上記の粗メタンスルホネート（1.81g）のDMF
（10ml）溶液を加え、80℃の油浴上で16時間加熱撹拌し
た。放冷後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽
出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシリカゲ
ル（40g）を用いたカラムクロマトグラフィーおよびロ
ーバーＣカラムを用いた中圧液体クロマトグラフィーに
かけた。ヘキサン−酢酸エチル（37:3）で溶出される分
画を集めて表記の化合物（1.492g）を油状物として得
た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（48H,m） 1.04（9H,s） 2.28（6H,s） 2.59（2H,t,J＝7Hz） 3.4〜4.7（9H,m） 5.11（1H,m） 5.60（2H,s） 7.2〜7.8（10H,m） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:1685（−Ｓ−CO−）参考例52 （2RS）−３−Ｏ−（２−アセチルチオ−８−ヒドロキ
シオクチル）−２−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾ
リル）−１−Ｏ−（５−ペンタデシル−３−イソキサゾ
リル）グリセリン参考例51の化合物（1.437g）のテトラヒドロフラン
（THF,30ml）溶液にテトラブチルアンモニウムフルオリ
ド（1.0M THF溶液、1.93ml）を氷冷下で滴下した。室温
で３時間撹拌した後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチル
２回抽出した。抽出液を水洗、乾燥、濃縮し、残渣をシ
リカゲル（30g）を用いたカラムクロマトグラフィーお
よびローバーＢカラムを用いた中圧液体クロマトグラフ
ィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（3:1）で溶出さ
れる分画を集めて表記の化合物（0.772g）を油状物とし
て得た。

NMRスペクトル（CDCl₃）ppm: 0.7〜1.9（39H,m） 2.29（3H,s） 2.31（3H,s） 2.61（2H,t,J＝7Hz） 3.4〜4.7（10H,m） 5.11（1H,m） 5.60（2H,s）マススペクトル（m/e）:653（M⁺＋１）元素分析:C₃₅H₆₀N₂O₇Sとして計算値:C,64.38;H,9.26;N,4.29;S,4.91 実測値:C,64.62;H,9.23;N,4.28;S,5.01 参考例53 （2RS）−２−Ｏ−（５−メチル−３−イソキサゾリ
ル）−３−Ｏ−｛２−オキソ−８−（ｐ−トルエンスル
ホニルオキシ）オクチル｝−１−Ｏ−（５−ペンタデシ
ル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例47の化合物（0.352g）のアセトン（7ml）溶液
に氷冷下でジョーンズ試薬（0.35ml;1ml中に無水クロム
酸0.267gを含有）を加えた。室温で30分間撹拌した後、
２−プロパノールを滴下し、過剰の酸化剤を処理した。
反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と水で洗い、乾燥、
濃縮した。残渣をシリカゲル（7g）を用いたカラムクロ
マトグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（4:1
〜7:3）で溶出される分画を集めて表記の化合物（0.350
g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃,60MHz）ppm: 0.7〜2.0（37H,m） 2.2〜2.8（10H,m） 2.31（3H,s） 2.44（3H,s） 3.8〜4.7（8H,m） 5.17（1H,m） 5.63（2H,s） 7.36（2H,d,J＝8Hz） 7.82（2H,d,J＝8Hz） IRスペクトル（CHCl₃）cm^-1:1715（−CO−）参考例54 （2RS）−３−Ｏ−｛２−ヒドロキシイミノ−８−（ｐ
−トルエンスルホニルオキシ）オクチル｝−２−Ｏ−
（５−メチル−３−イソキサゾリル）−１−Ｏ−（５−
ペンタデシル−３−イソキサゾリル）グリセリン参考例53の化合物（0.345g）と塩酸ヒドロキシルアミ
ン（0.321g）のメタノール−ジオキサン−水（4:4:1,9m
l）混合液を室温で14時間撹拌した。反応液を水中に注
ぎ、酢酸エチルで２回抽出した。抽出液を水洗、乾燥、
濃縮し、残渣をシリカゲル（7g）を用いたカラムクロマ
トグラフィーにかけた。ヘキサン−酢酸エチル（4:1〜
7:3）で溶出される分画を集めて表記の化合物（0.340
g）を油状物として得た。

NMRスペクトル（CDCl₃,60MHz）ppm: 0.7〜1.9（37H,m） 2.1〜2.8（10H,m） 2.30（3H,s） 2.43（3H,s） 3.7〜4.6（8H,m） 5.14（1H,m） 5.63（2H,s） 7.37（2H,d,J＝8Hz） 7.83（2H,d,J＝8Hz） 8.18（1H,m）試験例１ PAF血圧降下作用の抑制試験動物として、イナクチン（90mg/kg腹腔内投与）
で麻酔したウィスター今道ラット（体重350〜450g）を
使用した。血圧は、大腿動脈に挿入したカニューレより
連続的に測定し、薬物は、大腿静脈に挿入したカニュー
レより静注した。まず、PAF（ｌ−Ｃ_16:0型）10ng/kgを
５分間隔で静注し、その降圧反応の大きさが一定するま
で繰り返した。次に、被検薬を静注し、その１分後に再
びPAFの同じ用量を投与した。被検薬は、累積的に投与
し、そのPAF降圧作用の抑制率により、50％抑制用量（I
D₅₀）を決定し、PAF拮抗活性の指標とした。尚、PAFお
よび被検薬は0.25％牛血清アルブミン（BSA）を含有す
る生理食塩液に溶解して使用し、この溶媒に不溶の被検
液のみ20％エタノールを含有する生理食塩水に溶解し
た。

試験例２ in vitroにおける血小板PAF凝集抑制作用ウサギより採血し、直ちに1/9容の3.8％クエン酸ソー
ダと混合した。室温下に150gで15分間遠心し、上層より
多血小板血漿（PRP）を得た。残りの血液を1000gにてさ
らに15分間遠心し、上層より乏血小板血漿（PPP）を得
た。PRPとPPPを適量混合し、PRPの最終血小板数をμ
あたり60万個に調整した。血小板の凝集はボーンらの方
法（G.V.R Born,J.Physiol.,62,67−68（1962））によ
りアグリコメーターを用い透過光の増加により測定し
た。250μのPRPに被検薬溶液25μを加えて１分後に
25mlのPAF生理食塩水溶液（C₁₆,終濃度10^-8〜３×10
^-8M）を添加し、その後５分間観察し凝集抑制作用をみ
た。抑制率は検液のかわりに生理食塩液を用いた場合の
PAFによる凝集をもとに求め、用量反応曲線によりIC₅₀
を算出した。

試験１および２の結果を表に示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｄ 417/12 ２６１Ｃ０７Ｄ 417/12 ２６１ 417/14 ２６１ 417/14 ２６１ // Ａ６１Ｋ 31/42 ＡＣＢＡ６１Ｋ 31/42 ＡＣＢ 31/425 ＡＣＤ 31/425 ＡＣＤ 31/44 ＡＢＥ 31/44 ＡＢＥ 31/505 ＡＢＦ 31/505 ＡＢＦ 31/54 ＡＢＡ 31/54 ＡＢＡ 31/55 31/55 (56)参考文献特開昭60−104066（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−243047（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−146894（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式［式中、 R¹は、炭素数８乃至22個の直鎖又は分枝鎖アルキル基を
示し、Ａは、式−CONH−を有する基又は置換されていてもよい
２価のイソキサゾール基（該置換分は低級アルキル基、
ハロゲン原子若しくはハロゲノ低級アルキル基を示
す。）を示し、Ｂは、置換されていてもよい１価のイソキサゾール基
（該置換分は低級アルキル基、ハロゲン原子若しくはハ
ロゲノ低級アルキル基を示す。）を示し、Ｘは、酸素原子又は硫黄原子を示し、Ｅは、式−（CH₂）_ｎ−CH（R²）−を有する基（式中、
ｎは０乃至３の整数を示し、R²は保護されていてもよい
水酸基、置換された水酸基、保護されていてもよいメル
カプト基若しくは置換されたメルカプト基を示す。）、式を有する基（式中、ｎは前記と同意義を示す。）又は置
換されていてもよい２価のイソキサゾール基（該置換分
は低級アルキル基、ハロゲン原子若しくはハロゲノ低級
アルキル基を示す。）を示し、ｍは、０乃至10の整数を示し、Ｑは、窒素原子を含み、硫黄原子を含んでいてもよい、
１価の５乃至７員複素環基を示し、該基は所望により、
低級アルキル基、ハロゲン原子、ハロゲノ低級アルキル
基、ヒドロキシ低級アルキル基、低級アルコキシ基若し
くはカルバモイル基を置換基として１乃至３個有してい
てもよく、Ｚはアニオンを示す。］を有するグリセリン誘導体及びその塩。