JP2538044B2 - Metal silicon decarburizing lance and decarburizing method - Google Patents

Metal silicon decarburizing lance and decarburizing method

Info

Publication number
JP2538044B2
JP2538044B2 JP1086795A JP8679589A JP2538044B2 JP 2538044 B2 JP2538044 B2 JP 2538044B2 JP 1086795 A JP1086795 A JP 1086795A JP 8679589 A JP8679589 A JP 8679589A JP 2538044 B2 JP2538044 B2 JP 2538044B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon
decarburizing
lance
silica
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP1086795A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH02267110A (en
Inventor
憲吉 湯下
俊 須原
真 深井
復夫 荒谷
賢 長橋
Original Assignee
川崎製鉄株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 川崎製鉄株式会社 filed Critical 川崎製鉄株式会社
Priority to JP1086795A priority Critical patent/JP2538044B2/en
Publication of JPH02267110A publication Critical patent/JPH02267110A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2538044B2 publication Critical patent/JP2538044B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/037Purification

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は金属シリコンに含有される炭素を除去するた
めにガスを吹込む脱炭用ランスおよび金属シリコンの脱
炭方法に関するものであり、電子材料用とりわけ太陽電
池用原料である多結晶シリコンを効率よくかつ安価に製
造するため、これに含有される炭素を除去する技術に関
するものである。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a decarburizing lance for blowing a gas to remove carbon contained in metallic silicon and a method for decarburizing metallic silicon. The present invention relates to a technique for removing carbon contained in materials, in particular, for producing polycrystalline silicon, which is a raw material for solar cells, efficiently and inexpensively.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来より、電子材料用シリコン例えば太陽電池用原料
として使用する多結晶シリコンは、珪石(SiO2)および
炭素から得た冶金シリコン(MG−Si)を例えば、次の
(1)、(2)、(3)に示すようなガス化のプロセス
を経て精製している。
Conventionally, as the silicon for electronic materials, for example, the polycrystalline silicon used as a raw material for solar cells, metallurgical silicon (MG-Si) obtained from silica stone (SiO 2 ) and carbon is used, for example, in the following (1), (2), It is refined through a gasification process as shown in (3).

MG−Si+3HCl→SiHCl3+H2 ……(1) SiHCl3+H2→Si+3HCl ……(2) 4SiHCl3→ Si+3SiCl4+2H2 ……(3) このようにして得られたシリコンは、ガス化というプ
ロセスが入ることにより、エネルギー消費量の増大、プ
ロセス管理・品質管理等の必要といった問題があり、こ
のプロセスで得られる高純度シリコンが高価となる要因
の一つであった。
MG-Si + 3HCl → SiHCl 3 + H 2 (1) SiHCl 3 + H 2 → Si + 3HCl (2) 4SiHCl 3 → Si + 3SiCl 4 + 2H 2 (3) The silicon obtained in this way is called a gasification process. However, the increase in energy consumption and the need for process control and quality control have been one of the factors that make the high-purity silicon obtained in this process expensive.

これに対して、特開昭61−117110に開示されているよ
うな、炭材を用いてアーク炉によりSiO2を還元して金属
シリコンを製造する方法によれば、ガス化のプロセスを
経ることなく効率よくかつ安価に高純度シリコンを得る
ことができる。
On the other hand, according to the method for producing metallic silicon by reducing SiO 2 in an arc furnace using a carbonaceous material, as disclosed in JP-A-61-117110, a gasification process is performed. High-purity silicon can be obtained efficiently and inexpensively.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

しかしながら、特開昭61−117110に開示される方法に
よって得たシリコンは、原料あるいは炉材から炭素が混
入することをまぬがれることができず、これを除去する
必要がある。
However, the silicon obtained by the method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 61-117110 cannot prevent carbon from being mixed in from raw materials or furnace materials, and it is necessary to remove it.

金属シリコン中の炭素は固溶状態あるいは炭化珪素
(SiC)の状態で存在するものと考えられるが、電子材
料用とりわけ太陽電池用原料として使用する金属シリコ
ンでは、SiCのような析出物が存在すると製品の特性を
悪化させる原因となるため予め脱炭する必要がある。
It is considered that carbon in metallic silicon exists in a solid solution state or in a state of silicon carbide (SiC), but in the case of metallic silicon used as a raw material for electronic materials, especially for solar cells, precipitates such as SiC are present. It is necessary to decarburize in advance because it causes deterioration of product characteristics.

本発明の目的は、金属シリコン中の炭素を効率よく除
去する方法を提供し、ガス化プロセスを経ずに高純度シ
リコンを得ることができるようにすることにある。
An object of the present invention is to provide a method for efficiently removing carbon in metallic silicon, so that high-purity silicon can be obtained without a gasification process.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明は高純度シリコン脱炭用のランスとして耐火性
芯管をシリカで被覆したランスを開発したものである。
The present invention has developed a lance in which a refractory core tube is coated with silica as a lance for decarburizing high-purity silicon.

また、本発明方法によれば溶融シリコン表面に不活性
ガスを吹付けることと、溶融シリコン内に耐火性芯管を
シリカで被覆した脱炭用ランスを用いて不活性ガスと共
に酸化剤を吹込むことを特徴とする金属シリコンの脱炭
方法が提供される。
Further, according to the method of the present invention, an inert gas is blown onto the surface of the molten silicon, and an oxidant is blown together with the inert gas by using a decarburizing lance in which the refractory core tube is covered with silica in the molten silicon. A method for decarburizing metallic silicon is provided.

この場合、酸化剤が酸素または水あるいはシリカであ
ることが好ましく、酸化剤の供給量が次式のいずれかを
満足するようにするとよい。
In this case, the oxidizing agent is preferably oxygen, water, or silica, and the supply amount of the oxidizing agent may satisfy one of the following expressions.

2≦O2換算酸化性ガス% ……(4) 0.05≦シリカ(g)/シリコン(kg) ……(5) 〔作用〕 金属シリコン中の炭素は固溶状態あるいは炭化珪素
(SiC)の状態で存在するものと考えられる。
2 ≦ O 2 equivalent oxidizing gas% (4) 0.05 ≦ silica (g) / silicon (kg) (5) [Function] Carbon in metallic silicon is in solid solution state or silicon carbide (SiC) state It is thought to exist in.

電子材料用原料、例えば太陽電池用原料に使用する場
合はSiCのような析出物は製品の特性を損なう原因とな
り得ると考えられるため、予め脱炭する必要がある。
When used as a raw material for electronic materials, for example, a raw material for solar cells, a deposit such as SiC is considered to be a cause of impairing the characteristics of the product, and therefore needs to be decarburized in advance.

溶融シリコンの脱炭は次の式(6)で進行すると考え
る。
It is considered that decarburization of molten silicon proceeds according to the following equation (6).

[C]+[O]=CO(g) ……(6) Nozakiら(J.Rad.Chem,32(1976)p43−50)によれ
ば、(6)式のCOの分圧は、シリコンの融点直上で、 PCO=2×10-7[C]・[O] ……(7) で与えられる。
[C] + [O] = CO (g) (6) According to Nozaki et al. (J.Rad. Chem, 32 (1976) p43-50), the partial pressure of CO in equation (6) is silicon. Immediately above the melting point of P CO = 2 × 10 -7 [C] · [O] (7)

ただし、 PCO:気相中のCOの分圧(atm) [C]:溶融シリコン中のCの濃度(ppm) [O]:溶融シリコン中のOの濃度(ppm) である。However, P CO : partial pressure of CO in gas phase (atm) [C]: concentration of C in molten silicon (ppm) [O]: concentration of O in molten silicon (ppm).

従って、溶融シリコン中の炭素濃度[C](ppm)は [C]=PCO/2×10-7[O] ……(8) となる。(8)式より、溶融シリコン中の炭素濃度は気
相中のCO分圧を小さくするか、溶融シリコン中の酸素濃
度を高くすれば炭素濃度は小さくなることが明らかであ
る。気相中のCO分圧を小さくするのは、例えば溶融シリ
コンに不活性ガスを吹付けて表面を不活性ガスで覆うか
あるいは不活性ガスを吹付けながら減圧状態にすること
などにより行うことができる。
Therefore, the carbon concentration [C] (ppm) in the molten silicon is [C] = P CO / 2 × 10 −7 [O] (8). From the equation (8), it is clear that the carbon concentration in the molten silicon is reduced by reducing the CO partial pressure in the gas phase or increasing the oxygen concentration in the molten silicon. The CO partial pressure in the gas phase can be reduced by, for example, spraying an inert gas on molten silicon to cover the surface with the inert gas, or reducing the pressure while spraying the inert gas. it can.

溶融シリコン中の酸素濃度を大きくするには、例えば
溶融シリコンに酸化剤を添加すればよい。酸化剤として
は構成する元素に酸素を含むものであればよい。この場
合酸化剤の添加法としては例えばH2O、O2などの酸化性
ガスを吹付けるか、またはシリコン中に吹込むか、また
はその両者を併用することなどがある。またはシリカを
溶融シリコン表面におくことおよび/またはシリコン中
にガスと共に吹込むことなどでもよい。シリコン中に吹
込む場合には、シリカに多量の水分を吸着させたものも
使用することができる。またシリカ坩堝あるいはシリカ
をスタンプした坩堝内で溶融シリコンを保持することな
どでもよい。
To increase the oxygen concentration in the molten silicon, for example, an oxidizing agent may be added to the molten silicon. Any oxidant may be used as long as it contains oxygen as a constituent element. In this case, as the method of adding the oxidizing agent, for example, an oxidizing gas such as H 2 O, O 2 or the like may be sprayed, or may be sprayed into silicon, or both may be used in combination. Alternatively, silica may be placed on the surface of the molten silicon and / or blown with gas into the silicon. In the case of blowing into silicon, silica having a large amount of water adsorbed thereon can also be used. Alternatively, the molten silicon may be held in a silica crucible or a silica stamped crucible.

次に溶融シリコン中に酸化剤を吹込むランスについて
説明する。電子材料用シリコン例えば太陽電池用原料と
して使用する多結晶シリコンは、99.999重量%以上の純
度が必要であるため、炭素以外の不純物濃度も低く抑え
る必要がある。従って、上述のガス吹込みによる脱炭を
行う際には、シリコンを汚染しないように吹込み管の材
質を選択する必要がある。
Next, the lance for blowing the oxidizer into the molten silicon will be described. Silicon for electronic materials, for example, polycrystalline silicon used as a raw material for solar cells, needs to have a purity of 99.999% by weight or higher, and therefore the concentration of impurities other than carbon must also be kept low. Therefore, when performing the above-mentioned decarburization by gas injection, it is necessary to select the material of the injection tube so as not to contaminate the silicon.

そこで、まず、汚染のおそれのない石英(SiO2)管を
用いてガス吹込を試みたが、石英が軟化して石英管がシ
リコン浴面に浮上し、継続した吹込みができなかった。
Therefore, first, an attempt was made to blow gas by using a quartz (SiO 2 ) tube that was free from the risk of contamination, but quartz was softened and the quartz tube floated on the silicon bath surface, and continuous blowing was not possible.

次いで、ムライト管(主成分:3Al2O3・2SiO2)および
マグネシア管(主成分:MgO)を用いて吹込みを試みた。
その結果、3時間以上の吹込みに成功した。しかしシリ
コン中には第3図に曲線21、22で示すように、ムライト
管、マグネシア管の主成分であるAl、Mgが入り、シリコ
ンが汚染されていることが判明した。
Then, injection was tried using a mullite tube (main component: 3Al 2 O 3 .2SiO 2 ) and a magnesia tube (main component: MgO).
As a result, it succeeded in blowing for 3 hours or more. However, as shown by curves 21 and 22 in FIG. 3, Al and Mg, which are the main components of the mullite tube and the magnesia tube, enter the silicon, and it has been found that the silicon is contaminated.

ここで、本発明者らは、シリコンを汚染することがな
く、長時間安定したガス吹込みが可能となる脱炭用ラン
スを開発した。すなわち、本発明のランスはムライト
管、マグネシア等の耐火性芯管の外壁を石英で被覆した
吹込みランスである。このランスはシリコンの融点以上
で軟化等が起らず、安定にガス吹込みを行うことができ
る、例えば、簡便なものではムライト管11の内・外を石
英管12で覆う三重管(第2図(a)、(b))でよい。
この場合、1/minのガス吹込みで1時間以上の安定し
た吹込みが可能となり、シリコン中のAl濃度も第3図に
曲線23で示したように変化なく、汚染が認められなかっ
た。石英管12はシリコン浴中に浸った部分では肉薄とな
っており、これは軟化とシリコン浴の運動に起因するも
のである。第2図(a)、(b)の構造では耐火性芯管
としてムライト管の他にはアルミナ管、窒化アルミニウ
ム管、窒化硼素管、マグネシア管、黒鉛管などでもよ
い。
Here, the present inventors have developed a decarburizing lance that does not contaminate silicon and enables stable gas injection for a long time. That is, the lance of the present invention is a blow lance in which the outer wall of a refractory core tube such as a mullite tube or magnesia is coated with quartz. This lance does not soften above the melting point of silicon and allows stable gas injection. For example, in a simple case, a triple tube (the second tube in which the inside and the outside of the mullite tube 11 are covered with the quartz tube 12) The drawings (a) and (b)) may be used.
In this case, stable gas injection for 1 hour or more was possible with 1 / min gas injection, the Al concentration in silicon did not change as shown by the curve 23 in FIG. 3, and no contamination was observed. The quartz tube 12 is thin in the portion immersed in the silicon bath, which is due to softening and movement of the silicon bath. In the structure shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b), an alumina tube, an aluminum nitride tube, a boron nitride tube, a magnesia tube, a graphite tube or the like may be used as the refractory core tube other than the mullite tube.

また、この他には第2図(c)、(d)に示すよう
に、ムライト、アルミナ、マグネシア、窒化アルミニウ
ム、窒化硼素黒鉛等の耐火性芯管11の周囲をシリカ(Si
O2)スタンプにより被覆した構造でもよい。
In addition, as shown in FIGS. 2 (c) and 2 (d), silica (Si) is formed around the refractory core tube 11 made of mullite, alumina, magnesia, aluminum nitride, boron nitride graphite or the like.
A structure covered with an O 2 ) stamp may be used.

〔実施例〕〔Example〕

次に本発明の実施例について以下説明する。 Next, examples of the present invention will be described below.

第1図はシリコンの脱炭に用いた装置の縦断面図であ
る。黒鉛坩堝2に支えられた石英坩堝1内にシリコン溶
湯3を保持している。上吹きランス4から不活性ガス5
を溶湯上面に吹付け、本発明に係る脱炭用ランス6から
酸化剤を不活性ガスと共にシリコン溶湯3中に吹込む。
8はヒータである。
FIG. 1 is a vertical sectional view of an apparatus used for decarburizing silicon. A molten silicon 3 is held in a quartz crucible 1 supported by a graphite crucible 2. Top blowing lance 4 to inert gas 5
Is sprayed on the upper surface of the molten metal, and an oxidizing agent is blown into the molten silicon 3 together with an inert gas from the decarburizing lance 6 according to the present invention.
8 is a heater.

外径178mm、高さ178mm、肉厚5mmの石英坩堝1を外径2
20mm、高さ200mmの黒鉛坩堝2内に装入した第1図に示
すような容器に、溶融シリコンを5kg装入し、1500℃に
昇温した。第2図(a)、(b)に示す金属シリコン脱
炭用ランスを溶融シリコン中に浸漬して酸化剤を含む不
活性ガスを供給するとともに浴面にArを20/min吹付
け、脱炭精練を80〜120min行った。脱炭用ランスは耐火
芯管11が内径、外径がそれぞれ6mm、10mmのムライト管
であり、それを被覆する管に石英管を用いたガス吹込み
ランスとした。その結果を次の表に示す。
The outer diameter is 178 mm, the height is 178 mm, and the wall thickness is 5 mm.
5 kg of molten silicon was charged into a container as shown in FIG. 1 charged in a graphite crucible 2 having a height of 20 mm and a height of 200 mm, and the temperature was raised to 1500 ° C. The metal silicon decarburizing lance shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b) is immersed in molten silicon to supply an inert gas containing an oxidizer, and Ar is sprayed onto the bath surface at 20 / min for decarburization. Scouring was carried out for 80 to 120 minutes. The decarburizing lance was a mullite tube having a refractory core tube 11 having an inner diameter and an outer diameter of 6 mm and 10 mm, respectively, and a quartz tube was used as a tube for covering the mullite tube. The results are shown in the following table.

表中の純度は、シリコン以外の金属元素を不純物とし
て取扱った場合の値を示している。
The purity in the table indicates the value when a metal element other than silicon is treated as an impurity.

まず、吹込ガスに酸化性ガスを用いた場合について説
明する。
First, the case where an oxidizing gas is used as the blowing gas will be described.

シリコン3の上吹きランス4から表面にArを50Nl/min
で吹付けたときのシリコン中の炭素濃度は第4図中の曲
線31のようになった。同一条件において、シリコン中に
Arを5Nl/min吹込んだとき、Ar−10%O2を5Nl/min吹込ん
だときのそれぞれのシリコン中の炭素濃度の変化は第1
図中の曲線32、33のようになった。溶融シリコン3中に
ガスを吹込むことにより、効率よく脱炭が進行する。と
りわけ、酸素ガスを不活性ガスと共に吹込むことによ
り、さらに効率よく脱炭が進行する。吹込みガス中に混
入させるガスのO2換算ガス濃度(%)と、脱炭中の炭素
濃度が初期濃度の半分になるときの時間(τ)との関係
を第5図に示す。
50 Nl / min of Ar from the top blowing lance 4 of silicon 3 to the surface
The carbon concentration in silicon when sprayed at was as shown by curve 31 in FIG. Under the same conditions, in silicon
The change in carbon concentration in each silicon when Ar is blown at 5 Nl / min and Ar-10% O 2 is blown at 5 Nl / min is the first.
It became like curves 32 and 33 in the figure. By blowing gas into the molten silicon 3, decarburization proceeds efficiently. In particular, by blowing oxygen gas together with an inert gas, decarburization proceeds more efficiently. FIG. 5 shows the relationship between the O 2 equivalent gas concentration (%) of the gas mixed in the blown gas and the time (τ) when the carbon concentration during decarburization becomes half the initial concentration.

O2換算ガス濃度が2%以上ではほぼ同程度の効果があ
った。なお、Ar−20%O2ガス吹込では、吹込口にシリカ
が生成し、安定したガス供給を行うことができなかっ
た。
When the O 2 -converted gas concentration was 2% or more, there was almost the same effect. In addition, when Ar-20% O 2 gas was blown, silica was generated at the blow-in port, and stable gas supply could not be performed.

次に、吹込ガスにシリカを酸化剤として混入した場合
について述べる。このときの吹込シリカ(g)/シリコ
ン(kg)と、脱炭中の炭素濃度が半分になるときの時間
との関係を第6図に示す。
Next, a case where silica is mixed as an oxidant in the blown gas will be described. FIG. 6 shows the relationship between the blown silica (g) / silicon (kg) at this time and the time when the carbon concentration during decarburization becomes half.

シリカ(g)とシリコン(kg)との比が0.05以上でほ
ぼ同じ脱炭効果がある。シリカ(g)/シリコン(kg)
が0.5を越えた場合はシリコン表面に浮上するシリカ粉
が急激に増加し、脱炭反応に寄与するシリカ粉の割合が
少なくなる。
If the ratio of silica (g) to silicon (kg) is 0.05 or more, there is almost the same decarburizing effect. Silica (g) / Silicon (kg)
When exceeds 0.5, the amount of silica powder floating on the silicon surface increases rapidly, and the ratio of silica powder contributing to the decarburization reaction decreases.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の金属シリコンの脱炭用ランスはシリコン中の
炭素をガス吹込みにより除去する際に用いられるもの
で、Si溶湯中において耐久性を有すると共にSi溶湯を汚
染しない。従って、溶融シリコン表面に不活性ガスを吹
付けることと、この脱炭用ランスを用いて溶融シリコン
中に酸化剤を含む不活性ガス吹込みを併用する脱炭方法
により効率よく金属シリコン中の炭素を除去することが
可能となった。
The metal silicon decarburizing lance of the present invention is used when carbon in silicon is removed by gas blowing, has durability in a Si molten metal, and does not contaminate the Si molten metal. Therefore, the decarburization method in which the inert gas is blown onto the surface of the molten silicon and the inert gas containing the oxidizing agent is blown into the molten silicon by using this decarburizing lance, is used to efficiently remove the carbon in the metallic silicon. Can be removed.

従って、電子材料用原料、例えば太陽電池用原料に使
用するシリコンとして、炭材を用いたアーク炉でSiO2
還元して得たものを本発明方法によって脱炭して使用す
ることが可能となった。このことにより高純度シリコン
をガス化プロセスによらず安価に製造することができる
ようになり、産業界に寄与するところがすこぶる大であ
る。
Therefore, as raw material for electronic materials, for example, silicon used as raw material for solar cells, it is possible to decarburize and use the one obtained by reducing SiO 2 in an arc furnace using a carbonaceous material. became. This makes it possible to produce high-purity silicon at a low cost regardless of the gasification process, which is a great contribution to the industry.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明方法を説明するための坩堝の縦断面図、
第2図は本発明の実施例のシリコン脱炭用ランスの構造
を示す説明図、第3図は吹込みランスの材質とシリコン
中の不純物濃度変化との関係を示すグラフ、第4図はシ
リコン中の炭素濃度などを示すグラフ、第5図は吹込み
ガス中のO2換算酸化ガス濃度と、シリコンの脱炭を始め
てから炭素濃度が半分になるときの時間との関係を示す
グラフ、第6図は吹込むシリカ(g)/シリコン(kg)
に対するシリコンの脱炭を始めてから炭素濃度が半分に
なるときの時間との関係を示すグラフである。 1……石英坩堝、2……黒鉛坩堝 3……シリコン溶湯、4……上吹きランス 5……不活性ガス、6……脱炭ランス 7……酸化剤を含む不活性ガス 8……ヒータ、11……耐火性芯管 12……石英管、13……シリカスタンプ
FIG. 1 is a vertical sectional view of a crucible for explaining the method of the present invention,
2 is an explanatory view showing the structure of the silicon decarburizing lance of the embodiment of the present invention, FIG. 3 is a graph showing the relationship between the material of the blowing lance and the impurity concentration change in silicon, and FIG. 4 is the silicon. Fig. 5 is a graph showing the carbon concentration in the inside, and Fig. 5 is a graph showing the relationship between the O 2 equivalent oxidizing gas concentration in the blown gas and the time when the carbon concentration becomes half after starting the decarburization of silicon. Figure 6 shows blown silica (g) / silicon (kg)
2 is a graph showing a relationship with time when the carbon concentration becomes half after starting decarburization of silicon with respect to. 1 ... Quartz crucible, 2 ... Graphite crucible, 3 ... Molten silicon, 4 ... Top blowing lance, 5 ... Inert gas, 6 ... Decarburizing lance, 7 ... Inert gas containing oxidant, 8 ... Heater , 11 …… Fireproof core tube 12 …… Quartz tube, 13 …… Silica stamp

フロントページの続き (72)発明者 荒谷 復夫 千葉県千葉市川崎町1番地 川崎製鉄株 式会社技術研究本部内 (72)発明者 長橋 賢 千葉県千葉市川崎町1番地 川崎製鉄株 式会社技術研究本部内 (56)参考文献 特公 昭33−9860(JP,B1)Front page continuation (72) Inventor Fumio Araya 1 Kawasaki-cho, Chiba-shi, Chiba Kawasaki Steel Co., Ltd. Technical Research Division (72) Inventor Ken Nagahashi 1 Kawasaki-cho, Chiba-shi Kawasaki Steel Co., Ltd. Research Headquarters (56) References Japanese Patent Publication Sho 33-9860 (JP, B1)

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】耐火性芯管の内外面をシリカで被覆した浸
漬部を有する金属シリコン脱炭用ランス。
1. A metal silicon decarburizing lance having a dipping portion in which the inner and outer surfaces of a refractory core tube are coated with silica.
【請求項2】溶融シリコンの脱炭方法において、溶融シ
リコン表面に不活性ガスを吹きつけるとともに、該溶融
シリコン内に請求項1記載のランスを浸漬して該ランス
より酸化剤を含む不活性ガスを吹込むことを特徴とする
溶融シリコンの脱炭方法。
2. A method for decarburizing molten silicon, wherein an inert gas is blown onto the surface of the molten silicon, and the lance according to claim 1 is immersed in the molten silicon, and the inert gas containing an oxidant is introduced from the lance. A method for decarburizing molten silicon, which comprises blowing.
【請求項3】酸化剤が酸素、水またはシリカである請求
項2記載の方法。
3. The method according to claim 2, wherein the oxidant is oxygen, water or silica.
【請求項4】酸化剤の供給量が次式を満足するいずれか
である請求項2または3記載の方法。 2≦O2換算酸化性ガス% 0.05≦シリカ(g)/シリコン(kg)
4. The method according to claim 2, wherein the supply amount of the oxidant satisfies any of the following expressions. 2 ≦ O 2 equivalent oxidizing gas% 0.05 ≦ silica (g) / silicon (kg)
JP1086795A 1989-04-07 1989-04-07 Metal silicon decarburizing lance and decarburizing method Expired - Fee Related JP2538044B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1086795A JP2538044B2 (en) 1989-04-07 1989-04-07 Metal silicon decarburizing lance and decarburizing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1086795A JP2538044B2 (en) 1989-04-07 1989-04-07 Metal silicon decarburizing lance and decarburizing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02267110A JPH02267110A (en) 1990-10-31
JP2538044B2 true JP2538044B2 (en) 1996-09-25

Family

ID=13896719

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1086795A Expired - Fee Related JP2538044B2 (en) 1989-04-07 1989-04-07 Metal silicon decarburizing lance and decarburizing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2538044B2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5972107A (en) * 1997-08-28 1999-10-26 Crystal Systems, Inc. Method for purifying silicon
JP4741860B2 (en) * 2005-03-07 2011-08-10 新日鉄マテリアルズ株式会社 Method for producing high purity silicon
JPWO2006104107A1 (en) * 2005-03-29 2008-09-11 京セラ株式会社 Polycrystalline silicon substrate and manufacturing method thereof, polycrystalline silicon ingot, photoelectric conversion element, and photoelectric conversion module
DE102010001093A1 (en) 2010-01-21 2011-07-28 Evonik Degussa GmbH, 45128 Process for the coarse decarburization of a silicon melt
DE102010001094A1 (en) 2010-01-21 2011-07-28 Evonik Degussa GmbH, 45128 Method for decarburizing a silicon melt
US10167199B2 (en) 2012-03-08 2019-01-01 Silicio Ferrosolar S.L. Method for manufacturing highly pure silicon, highly pure silicon obtained by this method, and silicon raw material for manufacturing highly pure silicon

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02267110A (en) 1990-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4523274B2 (en) High purity metallic silicon and its smelting method
US4837376A (en) Process for refining silicon and silicon purified thereby
US5972107A (en) Method for purifying silicon
US20090274608A1 (en) Calcium-silicate based slag for treatment of molten silicon
US6368403B1 (en) Method and apparatus for purifying silicon
US4676968A (en) Melt consolidation of silicon powder
JP2538044B2 (en) Metal silicon decarburizing lance and decarburizing method
US20100178195A1 (en) Method of solidifying metallic silicon
JPH04193706A (en) Refining method for silicon
US4272488A (en) Apparatus for producing and casting liquid silicon
US4176166A (en) Process for producing liquid silicon
JPH05262512A (en) Purification of silicon
US4004920A (en) Method of producing low nitrogen steel
JPH05330815A (en) Method for refining silicon
JP2009190945A (en) Method for manufacturing boron-doped silicon
JP5084144B2 (en) Manufacturing method of high purity silicon
EP1262567B1 (en) Molten steel producing method
JPH0476330B2 (en)
JPH06115922A (en) Method for purifying silicon
HU196632B (en) Process for producing high-purity steels
JP2006104030A (en) Method of purifying silicon
US3434824A (en) Reduction of aluminum oxide by elemental silicon
JP3138495B2 (en) Silicon refining equipment
KR100325116B1 (en) Dehydrogenation of iron melt by powder injection under atmospheric pressure
JP2003286536A (en) Process for producing low-carbon ferroboron

Legal Events

Date Code Title Description
S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees